JP2007163919A - 光デバイス及び光結合方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】光デバイス同士又は光デバイスの構成部品同士を高精度且つ容易に光結合することができる光デバイス及び光結合方法を提供する。
【解決手段】光信号が入力される光導波路201aとは別に、位置合わせ用の光が入力される光導波路201bを設けておき、この光導波路201bの延長上に反射ミラー204aを配置する。レーザ光源231から出力された光は、サーキュレータ233及び光ファイバ243を介して光導波路201bに入力され、コリメート部202及び光偏向素子部203を介して反射ミラー204aに到達する。そして、この反射ミラー204aで反射された光は、光導波路201bからサーキュレータ233を介して受光素子232に入力される。受光素子232の出力が最大となるように光偏向素子部203の位置を調整し、光偏向素子部203を基板200上に固定する。
【選択図】図5

Description

本発明は、高速且つ大容量の信号伝送を必要とする光通信システムにおいて使用される光デバイス及び光結合方法に関する。
光通信は高速且つ大容量の信号伝送に適しており、長距離の基幹通信システムでは既に実用化されている。このような通信システムにおいて、信号の伝送経路を切換える信号切換装置は必須のデバイスである。従来の通信システムでは、光信号を一旦電気信号に変換してから半導体スイッチで信号の伝送経路を切換え、その後再び光信号に変換する方式が広く使用されていた。しかし、近年、光通信のより一層の高速化及び大容量化が進んでいるため、半導体スイッチでは対応できなくなってきている。そこで、光信号のままで伝送経路の切換えができる光スイッチの開発が進められている。
本願発明者等は、特許文献1において、電気光学効果を利用して光信号の伝送経路を切換える光スイッチを提案している。図1(a)はその光スイッチを示す平面図、図1(b)は図1(a)のI−I線による断面図である。
この光スイッチは、入射側光導波路部101、コリメート部102、入射側光偏向素子部103、共通導波路104、出射側光偏向素子部105、集光部106及び出射側光導波路部107により構成されている。入射側光導波路部101、コリメート部102、共通導波路104、集光部106及び出射側光導波路部107は基板100上に光学膜を積層することにより形成されている。また、入射側光偏向素子部103及び出射側光偏向素子部105は電気光学効果を示す材料を用いて形成された後、基板100上に搭載される。
入射側光導波路部101は、n本(図1に示す例では、n=4)の光導波路(コア層)101aと、これらの光導波路101aを被覆して屈折率の差により光信号を光導波路101a内に閉じ込めるクラッド層101bとにより構成されている。出射側光導波路部107も、これと同様に、複数本の光導波路(コア層)107aと、これらの光導波路107aを被覆して屈折率の差により光信号を光導波路107a内に閉じ込めるクラッド層107bとにより構成されている。
コリメート部102は、n組のコリメートレンズ102aにより構成されている。これらのコリメートレンズ102aは、コア層とそのコア層を上下方向から挟むクラッド層とを所定の形状にパターニングして形成されている。光導波路101aから出射された光は放射状に広がるが、コリメートレンズ102aによって平行光となる。
入射側光偏向素子部103にはn組の光偏向素子103aが設けられている。各光偏向素子103aは光導波路を上下方向から挟む一対の楔状電極を有しており、電気光学効果を利用して光信号の伝搬方向を変更する。この例では、各伝送経路毎に4個の光偏向素子103aが伝送経路に沿って楔状電極の向きを交互に変えて配置されている。
共通導波路104は、薄膜状のコア層と、そのコア層を上下方向から挟むクラッド層とからなるスラブ(slab)導波路で構成されている。この共通導波路104には入射側光偏向素子部103から出力された複数の光信号が同時に通るが、これらの光信号は共通導波路104内を決められた方向に直進するので、他の光信号と干渉することなく出射側光偏向素子部105に伝達される。
出射側光偏向素子部105にはn組の光偏向素子105aが設けられている。これらの光偏向素子105aは、共通導波路104を通って光偏向素子105aに到達した光を、光導波路107aに平行な方向に偏向する。この出射側光偏向素子部105は、入射側光偏向素子部103と同様の構造を有している。
集光部106は、n組の集光レンズ106aにより構成されている。これらの集光レンズ106aも、コリメートレンズ103aと同様に、コア層とそのコア層を上下方向から挟むクラッド層とを所定の形状にパターニングして形成されている。これらの集光レンズ106aは、光偏向素子105aを通過した光を集光して光導波路107に導くという働きがある。
このように構成された光スイッチにおいて、光偏向素子103a,105aに電圧が印加されていないときには、i番目(iは1〜4の任意の整数)の光導波路101aに入射された光信号は、コリメートレンズ102aにより平行光に変換された後、光偏向素子103a、共通導波路104及び光偏向素子105aを直進し、集光レンズ106aにより集光されて、i番目の光導波路107aに伝達される。
一方、光偏向素子103a,105aに所定の電圧を印加すると、i番目の光導波路101aに入射された光信号は、光偏向素子103aで電圧に応じた角度で進行方向が曲げられる。そして、共通導波路104を直進し、j番目(jは1〜4の任意の整数、但し、i≠j)の光偏向素子105aに伝達される。その後、この光偏向素子105aにより屈折され、j番目の集光レンズ106aを通ってj番目の光導波路107aに伝達される。なお、ここでは光スイッチが4入力4出力(4×4)となっているが、これに限定したものではない。
その他、本発明に関係すると思われる従来技術として、特許文献2及び特許文献3に記載されたものがある。
特開2002−318398号公報 特開2000−241637号公報 特開2003−329864号公報
一般的に、光通信システムは、光ファイバ、光スイッチ及びその他の光デバイスを光結合して構成されている。また、図1(a),(b)に示すように、複数の構成部品を光結合して形成された光デバイスも存在する。そのため、光通信システムを構築するためには、光デバイス同士又は構成部品同士を高精度に位置合わせすることが重要である。例えば、図1(a),(b)に示す光スイッチでは、光偏向素子部103,105を、光導波路101a,107a、コリメートレンズ102a及び集光レンズ106aに対し位置合わせしながら基板100上に搭載する必要がある。複数の構成部品を組み合わせて光デバイスを形成する場合に、各構成部品に予め位置合わせマーク(アライメントマーク)を設けておき、それらの位置合わせマークを用いて各構成部品の位置合わせを行うことが考えられる。しかし、この方法では、水平方向(X方向及びY方向)の位置合わせは可能であるものの、垂直方向(Z方向)の位置合わせを行うことができない。
前述の特許文献2には、各光デバイス構成部品にそれぞれ位置合わせ用チャネル導波路を形成しておき、それらの位置合わせ用チャネル導波路に光を通して結合損失が最小となるように各構成部品を位置合わせすることが記載されている。しかしながら、図1(a),(b)に示すようにスラブ導波路を用いた光デバイスでは、この方法を採用することは困難である。すなわち、特許文献2に記載された技術では、光デバイスを構成する各構成部品にそれぞれ位置合わせ用チャネル導波路を形成する必要がある。しかし、スラブ導波路中に位置合わせ用チャネル導波路を形成するためには、多くの工程を追加する必要がある。また、電気光学材料を用いた光デバイスでは、チャネル導波路の形成は技術的な難度が極めて高い。
更に、以下に示す問題点もある。すなわち、スラブ導波路は横方向の光の閉じ込めがないため、通常は横方向(X方向及びY方向)の位置合わせが不要である。しかし、特許文献2に記載された技術では、スラブ導波路を有する構成部品にもチャネル導波路を形成してそのチャネル導波路を他の構成部品のチャネル導波路と高精度に位置合わせする必要があるので、位置合わせが容易であるというスラブ導波路の利点が失われてしまう。また、特許文献2に記載された技術では、複数の構成部品を組み合わせて光デバイスを製造する場合、全ての構成部品を組み合わせた後でないと光が出力されないため、組み立て途中に位置合わせの適否を確認することができない。
前述の特許文献3には、スラブ導波路内にプリズムを配置して光を外部に取り出し、受光素子により光量を測定しながら位置合わせを行う方法が記載されている。しかし、この方法では、プリズムと受光素子との位置合わせが必要であり、作業が煩雑である。また、この方法では、受光素子に外部の光が入射してノイズとなるという欠点もある。
本発明は、光デバイス同士又は光デバイスの構成部品同士を高精度且つ容易に光結合することができる光デバイス及び光結合方法を提供することを目的とする。
本発明の一観点によれば、光信号を伝送する光信号伝送部と、位置合わせ用の光が入力される位置合わせ光入力部と、前記位置合わせ光入力部の延長上に配置され、前記位置合わせ光入力部から入力された光を前記位置合わせ光入力部に向けて反射する反射部とを有する光デバイスが提供される。
本発明の光デバイスは、光信号を伝送する光信号伝送部とは別に、位置合わせ用の光が入力される位置合わせ光入力部と、該位置合わせ光入力部の延長上に配置された反射部とを備えている。光デバイス同士又は光デバイスを構成する構成部品同士を光結合する場合に、位置合わせ光入力部に光を入力し、反射部で反射されて位置合わせ光入力部に戻る光の量が最大となるように、各光デバイス又は光デバイスを構成する各構成部品を移動させる。これにより、各光デバイス又は光デバイスを構成する各構成部品の最適位置が決定され、光信号の伝搬損失を最小にすることができる。また、本発明においては、光入力部から入力した位置合わせ用の光を反射部で反射させて位置合わせ光入力部に戻すので、例えば光信号入力側及び光信号出力側のいずれか一方のみに他の光デバイス又は光デバイス構成部品を光結合することが可能である。従って、光デバイス又は光通信システムの組み立て途中であっても、光デバイス同士又は構成部品同士の光結合の適否を確認することができる。
本発明の別の観点によれば、第1の光伝送路を有する第1の部材と第2の光伝送路を有する第2の部材とを光結合する光結合方法において、前記第2の光伝送路内又は前記第2の光伝送路の延長上に反射部材を配置し、前記第1の光伝送路の端部から光を入力して、前記第1の光伝送路及び前記2の光伝送路を通り前記反射部材で反射されて、前記第1の光伝送路の端部に戻る光の量が最大となるように、前記第1の部材を前記第2の部材に対し相対的に移動させる光結合方法が提供される。
本発明においては、第1の光伝送路を有する第1の部材と第2の光伝送路を有する第2の部材とを光結合する際に、第2の光伝送路内又は第2の光伝送路の延長上に反射部材を配置する。そして、第1の光伝送路の端部から光を入力し、反射部材で反射してくる光の量が最大となるように、第1の部材を第2の部材に対して相対的に移動させる。これにより、第1の部材と第2の部材とを最適な状態で光結合することができて、光信号の伝搬損失を最小にすることができる。また、第1の部材の端部から入力された光を第1の部材の端部に戻すので、光デバイス又は光通信システムの組み立て途中であっても、光デバイス同士又は構成部品同士の光結合の適否を確認することができる。
以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して説明する。
(第1の実施形態)
図2(a)は本発明の第1の実施形態に係る光デバイスを示す平面図、図2(b)は図2(a)のII−II線による断面図である。なお、本実施形態は、本発明を4入力4出力(4×4)の光スイッチに適用した例について説明している。
本実施形態の光スイッチは、入射側光導波路部201、コリメート部202、入射側光偏向素子部203、共通導波路204、出射側光偏向素子部205、集光部206及び出射側光導波路部207により構成されている。
入射側光導波路部201は、4本の信号伝送用光導波路(コア層)201aと、2本の位置合わせ用光導波路(コア層)201bと、これらの光導波路201a,201bを被覆して屈折率の差により光信号を光導波路201a,201b内に閉じ込めるクラッド層201cとにより構成されている。2本の位置合わせ用光導波路201bは基板200の幅方向の両側に配置されており、4本の信号伝送用光導波路201bはそれらの位置合わせ用光導波路201bの間に所定のピッチで配置されている。
これと同様に、出射側光導波路部207も、4本の信号伝送用光導波路(コア層)207aと、2本の位置合わせ用光導波路(コア層)207bと、これらの光導波路207a,207bを被覆して屈折率の差により光信号を光導波路207a,207b内に閉じ込めるクラッド層207cとにより構成されている。2本の位置合わせ用光導波路207bは基板200の幅方向の両側に配置されており、4本の信号伝送用光導波路207aはそれらの位置合わせ用光導波路207bの間に所定のピッチで配置されている。
コリメート部202は、4組の信号伝送用コリメートレンズ202aと、2組の位置合わせ用レンズ202bとにより構成されている。信号伝送用コリメートレンズ202aは信号伝送用光導波路201aに整合する位置に配置されており、位置合わせ用レンズ202bは位置合わせ用光導波路201bに整合する位置に配置されている。これらのレンズ202a,202bは、コア層とそのコア層を上下方向から挟むクラッド層とを所定の形状にパターニングして形成されている。
これと同様に、集光部206は、4組の信号伝送用集光レンズ206aと、2組の位置合わせ用レンズ206bとにより構成されている。信号伝送用集光レンズ206aは信号伝送用光導波路207aに整合する位置に配置されており、位置合わせ用レンズ206bは位置合わせ用光導波路207bに整合する位置に配置されている。これらのレンズ206a,206bも、コア層とそのコア層を上下方向から挟むクラッド層とを所定の形状にパターニングして形成されている。
入射側光偏向素子部203には4組の光偏向素子203aが設けられている。これらの光偏向素子203aは、信号伝送用コリメートレンズ202aに整合する位置に配置されている。入射側光偏向素子部203の下側には各光偏向素子203a毎に楔状の下部電極が設けられており、入射側光偏向素子部203の上側には各光偏向素子203a共通の上部電極が設けられている。各光偏向素子203aは、電気光学効果により光信号の伝搬方向を変更する。1つの光偏向素子では光信号を曲げることができる角度が小さいため、本実施形態では、光信号の伝送方向に沿って4個の光偏向素子203aを、楔状の下部電極の向きを交互に変えて配置している。なお、光偏向素子部203のうち位置合わせ用レンズ202bに整合する領域には光偏向素子が配置されていない。
これと同様に、出射側光偏向素子部205には、4組の光偏向素子205aが設けられている。これらの光偏向素子205aの構造は、入射側光偏向素子部202の光偏向素子202aと同じである。
共通導波路204は、薄膜状のコア層と、そのコア層を上下方向から挟むクラッド層とからなるスラブ導波路で構成されている。但し、共通導波路204の位置合わせ用レンズ202b,206bに整合する位置には、それぞれ反射ミラー204aが配置されている。本実施形態においては、共通導波路204の幅方向の両側にそれぞれ反射ミラー204aが2個づつ設けられている。これらの反射ミラー204aは、共通導波路204に溝を形成し、溝の内面にAl(アルミニウム)、Cu(銅)又はAu(金)等の金属を被着させて形成されている。なお、共通導波路204の溝内に、表面を鏡面仕上げした部材を嵌め込んで反射ミラーとしてもよい。
このように構成された本実施形態の光スイッチにおいて、光偏向素子203a,205aに電圧が印加されていないときには、i番目(iは1〜4の任意の整数)の信号伝送用光導波路201aに入射された光信号は、信号伝送用コリメートレンズ202aにより平行光に変換された後、光偏向素子203a、共通導波路204及び光偏向素子205aを直進し、信号伝送用集光レンズ206aにより集光されて、i番目の信号伝送用光導波路207aに伝達される。
一方、光偏向素子203a,205aに所定の電圧を印加すると、i番目の信号伝送用光導波路201aに入射された光信号は、光偏向素子203aで電圧に応じた角度で進行方向が曲げられる。そして、共通導波路204を直進し、j番目(jは1〜4の任意の整数、但し、i≠j)の光偏向素子105aに伝達される。その後、この光偏向素子105aにより屈折され、j番目の信号伝送用集光レンズ106aを通ってj番目の信号伝送用光導波路107aに伝達される。
以下、本実施形態の光スイッチの製造方法について説明する。
まず、図3(a)〜(c)を参照して、入射側光偏向素子部203の形成方法について説明する。なお、出射側光偏向素子部205も入射側光偏向素子部203と同様の方法で形成するので、ここでは出射側光偏向素子部205の形成方法の説明は省略する。また、光偏向素子部205は楔状の下部電極が形成された面を下側にして基板200の上に搭載されるが、図3(a)〜(c)では便宜上、下部電極を形成する面を上側にしている。
図3(a)に示すように、Nb(ニオブ)をドープして導電性を付与したSrTiO3 基板211を用意し、そのSrTiO3 基板211の上に、第1のクラッド層(上部クラッド層)212として例えばPLZT(Pbx La1-x (Zry Ti1-y 3 ):但し、0<x<1,0<y<1))膜を、ゾルゲル法、PLD(パルスレーザ堆積)法又はMOCVD(有機金属気相成長)法等により形成する。なお、SrTiO3 基板211は、各光偏向素子203aに共通の上部電極となる。
次に、図3(b)に示すように、第1のクラッド層212の上にコア層213として、クラッド層212よりも屈折率が高く且つ電気光学効果を示す膜、例えばPZT(Pb(Zry Ti1-y 3 )、但し、0<y<1)をゾルゲル法、PLD法又はMOCVD法等により例えば3〜5μmの厚さに形成する。なお、コア層213は、第1のクラッド層212よりも屈折率が高いPLZTにより形成してもよい。
次に、図3(c)に示すように、コア層213の上に、第2のクラッド層(下部クラッド層)214として、例えば第1のクラッド層212と同一組成のPLZT膜を形成する。その後、第2のクラッド層214の上に例えばAu(金)等をスパッタリングして、厚さが約200nmの導電体膜を形成する。そして、この導電体膜をフォトリソグラフィ法によりパターニングして、楔状の下部電極215と位置合わせマーク(図示せず)とを形成する。
このようにして、基板211上に第1のクラッド層212、コア層213及び第2のクラッド層214を形成した後、研磨により所定の大きさに加工する。これにより、入射側光偏向素子部203が完成する。また、同様の方法により、出射側光偏向素子部205を形成する。
次に、図4(a)〜(e)を参照して、入射側光導波路部201、コリメート部202、共通導波路部204、集光部206及び出射側光導波路部206の形成方法を説明する。
まず、図4(a)に示すように、基板200を用意する。本実施形態では、基板200としてシリコン基板を使用する。
次に、図4(b)に示すように、基板200の上に石英(シリカ)系の材料をMOCVD法により堆積させて、下部クラッド層221及びコア層222を形成する。そして、RIE(反応性イオンエッチング)法により入力側光導波路部201及び出力側光導波路部207のコア層222をパターニングして、光導波路201a,201b,207a,207bを形成する(図2参照)。
次に、図4(c)に示すように、基板200の上に石英系の材料をMOCVD法により堆積させて、上部クラッド層223を形成する。なお、下部クラッド層221、コア層222及び上部クラッド層223は、ポリマー系の材料により形成してもよい。
次に、図4(d)に示すように、RIE法により、上部クラッド層223、コア層222及び下部クラッド層221をエッチングして、光偏向素子部203,205を搭載するための溝224と、コリメータレンズ部202のコリメータレンズ202a及び位置合わせ用レンズ202bと、集光部206の集光レンズ206a及び位置合わせ用レンズ206bと、反射ミラー用溝225とを形成する。
その後、スパッタリング法により溝224の底部にAu膜を約200nmの厚さに形成した後、このAu膜をフォトリソグラフィ法によりパターニングし、更にめっき法により厚さを3〜5μmとすることで、入射側光偏向素子203及び出射側光偏向素子205の下部電極に給電する配線パターン(図示せず)と、位置合わせマーク(図示せず)とを形成する。
次いで、上部クラッド層223の上に反射ミラー用溝225のみが露出するマスク(図示せず)を形成した後、Au、Al又はCu等の金属をスパッタリングして、図4(e)に示すように、溝225の壁面に被着した金属からなる反射ミラー204aを形成する。その後、マスクを除去する。なお、反射ミラー204aは、真空蒸着法又はめっき法(無電解めっき及び電解めっき)により形成してもよい。
このようにして、入力側光導波路部201、コリメート部202、共通導波路部204、集光部206及び出射側光導波路部207を有する基板200と光偏向素子部203,205とをそれぞれ個別に形成した後、光偏向素子部203,205を基板200上に搭載する。
図5(a)は光偏向素子部203,205を基板200上に搭載するときの光結合方法を示す模式平面図、図5(b)は同じくその模式断面図である。
まず、図5(a)に示すように、レーザ光源(LD)231及び受光素子(PD)232とサーキュレータ233とを光ファイバ241,242で接続し、更にサーキュレータ233と位置合わせ用光導波路201bとを光ファイバ243で接続する。この図5(a),(b)に示すように、位置合わせ用光導波路201bと接続される光ファイバ243と、信号伝送用導波路201aと接続される信号伝送用光ファイバ246とが一体的に形成されたファイバアレイ240を使用してもよい。
次に、基板200及び光偏向素子部203にそれぞれ形成された位置合わせマークが整合するように光偏向素子部203を基板200上に配置することによって、水平方向の位置合わせを行う。
次に、レーザ光源231に電力を供給する。これによりレーザ光源231から出力されたレーザ光は、サーキュレータ233及び光ファイバ243を介して位置合わせ用光導波路201bに入力され、コリメート部202及び光偏向素子部203を通過した後、反射ミラー204aに到達する。そして、反射ミラー204aで反射されたレーザ光は、光偏向素子部203、コリメート部202、位置合わせ用光導波路201b及び光ファイバ243を通過し、サーキュレータ233で光ファイバ242側に導入され、受光素子232に到達する。この状態で受光素子232の出力が最大となるように光偏向素子部203を基板面に対し垂直な方向に移動する。
光偏向素子部203が最適位置からずれると、光偏向素子部203、光導波路部201及びレンズ部202の構造で決まる関数に応じて受光素子232に到達する光のパワーが減少する。本実施形態では、光導波路201bと反射ミラー204aとの間をレーザ光が往復するため、光偏向素子部203の垂直方向のわずかな位置の変化により受光素子232の出力が大きく変化する。これにより、光偏向素子部203の最適位置を高精度に決定することができる。受光素子232の出力が最大となる位置(最適位置)が決定したら、紫外線(UV)硬化型接着剤又は熱硬化型接着剤等を使用して、光偏向素子部203を基板200上に固定する。
その後、ファイバアレイ204を出力側光導波路部207に接続し、同様の方法により出力側光偏向素子部205を集光部206及び光導波路部207に光結合させて基板200上に固定する。このようにして、本実施形態の光スイッチが完成する。なお、サーキュレータ233の替わりに、3dBカプラ等を使用してもよい。
本実施形態においては、光デバイスを構成する複数の構成部品を高精度で光結合することができる。この場合に、反射ミラー204aを用いてレーザ光を反射させるので、光デバイスとして完成していない状態であっても、個々の構成部品の位置合わせの適否を確認することができる。また、本実施形態においては、反射ミラー204aを形成する工程以外は工程を追加する必要がなく、光デバイスの製造が容易である。
なお、上記実施形態では光スイッチを構成する構成部品同士の光結合に本発明の光結合方法を適用した場合について説明したが、本発明の光結合方法は光デバイス同士の光結合に適用することも可能である。
(第2の実施形態)
図6(a)は本発明の第2の実施形態の光デバイス(光スイッチ)を示す平面図、図6(b)は図6(a)のIII −III 線による断面図である。また、図7(a)は光偏向素子部203,205を基板200上に搭載する際の光結合方法を示す模式平面図、図7(b)は同じくその模式断面図である。
本実施形態が第1の実施形態と異なる点は、入射側光偏向素子部を光結合する際に使用する反射ミラーと出射側光偏向素子部を光結合する際に使用する反射ミラーとを共通化したことにあり、その他の基本的な構造は第1の実施形態と同様であるので、図6(a),(b)において図2(a),(b)と同一物には同一符号を付し、図7(a),(b)において図5(a),(b)と同一物には同一符号を付している。
本実施形態においては、図6(a)に示すように、スラブ導波路204の幅方向の両側にそれぞれ反射ミラー204bが1個づつ設けられている。入射側光偏向素子部203を光結合するときには、図7(a)に示すように光ファイバ243から入力された光が位置合わせ用光導波路201b、位置合わせ用レンズ202b及び光偏向素子部203を通って共通導波路204の反射ミラー204bに到達する。そして、反射ミラー204bの第1面で反射されて、光偏向素子部203、位置合わせ用レンズ202b及び位置合わせ用光導波路201bを通り、光ファイバ243に入力される。この反射光は、第2の実施形態と同様にサーキュレータを介して受光素子に入力される(図5参照)。本実施形態においても、受光素子の出力が最大となるように光偏向素子部203を移動させて光偏向素子部203の最適位置を検出し、その最適位置で光偏向素子部203を基板200上に固定する。
一方、出射側光偏向素子部205を光結合する場合は、ファイバアレイ240を出射側光導波路部207に接続する。そして、光ファイバ243から位置合わせ用光導波路207bにレーザ光を入力する。このレーザ光は、位置合わせ用レンズ206b及び光偏向素子部205を通って反射ミラー204bに到達する。そして、反射ミラー204bの第2面で反射された後、光偏向素子部205及び位置合わせ用レンズ206bを通り、位置合わせ用光導波路207bを介して光ファイバ243に出力される。この反射光の光量が最大となるように光偏向素子部205を移動させて光偏向素子部205の最適位置を検出し、その最適位置で光偏向素子部205を基板200上に固定する。
本実施形態は、第1の実施形態の光スイッチと同様の工程で製造することができる。また、本実施形態の光スイッチは、第1の実施形態と同様の効果を有している。
以下、本発明の諸態様を、付記としてまとめて記載する。
(付記1)光信号を伝送する光信号伝送部と、
位置合わせ用の光が入力される位置合わせ光入力部と、
前記位置合わせ光入力部の延長上に配置され、前記位置合わせ光入力部から入力された光を前記位置合わせ光入力部に向けて反射する反射部と
を有することを特徴とする光デバイス。
(付記2)前記位置合わせ光入力部と前記反射部との間の少なくとも一部がスラブ導波路で構成されていることを特徴とする付記1に記載の光デバイス。
(付記3)前記反射部が、前記スラブ導波路内に形成されていることを特徴とする付記2に記載の光デバイス。
(付記4)前記光信号伝送部には、電気光学効果により光信号の伝送経路を切換える光偏向素子部が設けられていることを特徴とする付記1に記載の光デバイス。
(付記5)第1の光伝送路を有する第1の部材と第2の光伝送路を有する第2の部材とを光結合する光結合方法において、
前記第2の光伝送路内又は前記第2の光伝送路の延長上に反射部材を配置し、
前記第1の光伝送路の端部から光を入力して、
前記第1の光伝送路及び前記2の光伝送路を通り前記反射部材で反射されて、前記第1の光伝送路の端部に戻る光の量が最大となるように、前記第1の部材を前記第2の部材に対し相対的に移動させることを特徴とする光結合方法。
(付記6)前記第1の光伝送路の端部と光源との間に入力光と反射光とを分離する光分離部を配置し、前記光源から出力された光を前記光分離部を介して前記第1の光伝送路の端部に伝達し、前記反射部材で反射された光を前記光分離部で分離して受光素子に伝達することを特徴とする付記5に記載の光結合方法。
(付記7)前記光分離部として、サーキュレータ又はカプラを使用することを特徴とする付記6に記載の光結合方法。
(付記8)前記第1の部材及び前記第2の部材が、同一の光デバイスの構成部材であることを特徴とする付記5に記載の光結合方法。
(付記9)前記第1の部材及び前記第2の部材が、それぞれ独立した光デバイスであることを特徴とする付記5に記載の光結合方法。
図1(a)は従来の光スイッチを示す平面図、図1(b)は図1(a)のI−I線による断面図である。 図2(a)は本発明の第1の実施形態に係る光デバイス(光スイッチ)を示す平面図、図2(b)は図2(a)のII−II線による断面図である。 図3(a)〜(c)は、第1の実施形態の光デバイスの入射側光偏向素子部の形成方法を示す断面図である。 図4(a)〜(e)は、第1の実施形態の光デバイスの入射側光導波路部、コリメート部、共通導波路部、集光部及び出射側光導波路部の形成方法を示す断面図である。 図5(a)は光偏向素子部を基板上に搭載するときの光結合方法を示す模式平面図、図5(b)は同じくその模式断面図である。 図6(a)は本発明の第2の実施形態の光デバイス(光スイッチ)を示す平面図、図6(b)は図6(a)のIII −III 線による断面図である。 図7(a)は光偏向素子部を基板上に搭載する際の光結合方法を示す模式平面図、図7(b)は同じくその模式断面図である。
符号の説明
100,200…基板、
101,201…入射側光導波路部、
101a,107a…光導波路、
101b,107b,201c,207c…クラッド層、
102,202…コリメート部、
102a,202a…コリメートレンズ、
103,203…入射側光偏向素子部、
103a,105a,203a,205a…光偏向素子、
104,204…共通導波路部、
105,205…出射側光偏向素子部、
106,206…集光部、
106a,206a…集光レンズ、
107,207…出射側光導波路部、
201a,207a…信号伝送用光導波路、
201b,207b…位置合わせ用光導波路、
202b,206b…位置合わせ用レンズ、
204a,204b…反射ミラー、
211…SrTiO3 基板、
212…第1のクラッド層、
213,222…コア層、
214…第2のクラッド層、
221…下部クラッド層、
223…上部クラッド層、
231…レーザ光源、
232…受光素子部、
233…サーキュレータ、
240…ファイバアレイ、
241,242,243…光ファイバ。

Claims (5)

  1. 光信号を伝送する光信号伝送部と、
    位置合わせ用の光が入力される位置合わせ光入力部と、
    前記位置合わせ光入力部の延長上に配置され、前記位置合わせ光入力部から入力された光を前記位置合わせ光入力部に向けて反射する反射部と
    を有することを特徴とする光デバイス。
  2. 前記位置合わせ光入力部と前記反射部との間の少なくとも一部がスラブ導波路で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の光デバイス。
  3. 前記反射部が、前記スラブ導波路内に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の光デバイス。
  4. 前記光信号伝送部には、電気光学効果により光信号の伝送経路を切換える光偏向素子部が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の光デバイス。
  5. 第1の光伝送路を有する第1の部材と第2の光伝送路を有する第2の部材とを光結合する光結合方法において、
    前記第2の光伝送路内又は前記第2の光伝送路の延長上に反射部材を配置し、
    前記第1の光伝送路の端部から光を入力して、
    前記第1の光伝送路及び前記2の光伝送路を通り前記反射部材で反射されて、前記第1の光伝送路の端部に戻る光の量が最大となるように、前記第1の部材を前記第2の部材に対し相対的に移動させることを特徴とする光結合方法。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0212226A (ja) * 1988-06-30 1990-01-17 Nec Corp マトリクス光スイッチ
JPH0346604A (ja) * 1989-07-15 1991-02-27 Shimadzu Corp 光集積回路
JP2003329864A (ja) * 2002-05-16 2003-11-19 Fujitsu Ltd スラブ型光導波路を有する光基板及びハイブリッド型光集積回路装置
JP2004029632A (ja) * 2002-06-28 2004-01-29 Nec Tokin Corp 光導波路と光ファイバの接続構造
JP2005514650A (ja) * 2001-10-24 2005-05-19 インテル・コーポレーション 光ファイバスイッチの校正および制御用光学系
JP2007041512A (ja) * 2005-06-30 2007-02-15 Topcon Corp 光部品およびその製造方法
JP2007156307A (ja) * 2005-12-08 2007-06-21 Fujitsu Ltd 光モジュール及びその製造方法、並びに、スラブ光導波路基板

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0212226A (ja) * 1988-06-30 1990-01-17 Nec Corp マトリクス光スイッチ
JPH0346604A (ja) * 1989-07-15 1991-02-27 Shimadzu Corp 光集積回路
JP2005514650A (ja) * 2001-10-24 2005-05-19 インテル・コーポレーション 光ファイバスイッチの校正および制御用光学系
JP2003329864A (ja) * 2002-05-16 2003-11-19 Fujitsu Ltd スラブ型光導波路を有する光基板及びハイブリッド型光集積回路装置
JP2004029632A (ja) * 2002-06-28 2004-01-29 Nec Tokin Corp 光導波路と光ファイバの接続構造
JP2007041512A (ja) * 2005-06-30 2007-02-15 Topcon Corp 光部品およびその製造方法
JP2007156307A (ja) * 2005-12-08 2007-06-21 Fujitsu Ltd 光モジュール及びその製造方法、並びに、スラブ光導波路基板

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