JP2007153854A - アクリロキシ−γ−ブチロラクトンの精製方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 高い回収率でGBLMAやBMGBLのごときアクリロキシ−γ−ブチロラクトンを得る、経済性に優れた精製方法を提供する。
【解決手段】 重合禁止剤としてN−オキシル化合物を添加し、アクリロキシ−γ−ブチロラクトンを蒸留する。
【選択図】 なし
【解決手段】 重合禁止剤としてN−オキシル化合物を添加し、アクリロキシ−γ−ブチロラクトンを蒸留する。
【選択図】 なし
Description
本発明は、医農薬、機能性高分子等の原料として有用なアクリロキシ−γ−ブチロラクトンの精製方法に関するものである。例えば、α−メタクリロキシ−γ−ブチロラクトン(以降、GBLMAと略す)は、ArFエキシマレーザー用のレジスト原料として極めて有用であることが知られ、また、β−メタクリロキシ−γ−ブチロラクトン(以降、BMGBLと略す)もレジスト原料として有用であることが知られている。
GBLMAやBMGBLのごときアクリロキシ−γ−ブチロラクトンは、高沸点アクリル系化合物の一つであり、一般に光や熱などによって重合することが知られている。例えば、GBLMAは、α−ブロモ−γ−ブチロラクトンをトリエチルアミン等の塩基存在下、メタクリル酸と反応させる方法、もしくは、α−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンと塩化メタクリロイルを塩基存在下に反応させる方法等により得られるが、いずれの製造方法においても沸点が極めて高いため、カラムによる分離精製が行われている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、カラムによる分離精製は、極めて効率が悪く、量産規模での製造には適していないことは明らかである。そこで、上記のようなカラム精製を避けるため、精製工程を除き、反応溶媒のみを濃縮して生成物を得る方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。しかし、この方法では厳密な精製工程がないため、微量不純物が生成物中に混入し、レジストに影響を及ぼす可能性がある。
また、蒸留による精製を試みると、これらのラクトン骨格を有するアクリル酸類は極めて沸点が高いため、一般的なアクリル酸系のモノマーに使用されるt−ブチルカテコールに代表されるフェノール系安定化剤、ニトロ基またはニトロソ基を有する安定化剤では、蒸留時の安定化効果が十分ではなく、熱により重合してポリマー状物質を形成するため、精製品の収率が著しく低下するという問題がある。さらに、蒸留釜内および蒸留塔内において、高粘性のポリマー状物質が生成するため、工業的な精製方法としては満足できるものではない。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、従来の方法では満足できなかったGBLMAやBMGBLのごときアクリロキシ−γ−ブチロラクトンの精製方法を提供することにある。すなわち、本発明は、高い回収率でGBLMAやBMGBLのごときアクリロキシ−γ−ブチロラクトンを得る、経済性に優れた精製方法を提供することにある。
本発明者らは、従来の課題を解決すべく鋭意検討した結果、GBLMAやBMGBLのごときアクリロキシ−γ−ブチロラクトンの精製工程において、重合禁止剤としてN−オキシル化合物を添加することにより、アクリロキシ−γ−ブチロラクトンのポリマー状物質が生成することなく、高い回収率で蒸留精製可能となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、重合禁止剤としてN−オキシル化合物を添加し、下記一般式(1)
[式中、Rは水素原子またはメチル基を表す]
で表されるアクリロキシ−γ−ブチロラクトンを蒸留することを特徴とするアクリロキシ−γ−ブチロラクトンの精製方法に関するものである。
で表されるアクリロキシ−γ−ブチロラクトンを蒸留することを特徴とするアクリロキシ−γ−ブチロラクトンの精製方法に関するものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の方法において、重合禁止剤としてN−オキシル化合物が用いられる。該化合物としては各種のものが使用可能であり、例えば、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル(以降、TEMPOと略す)、4−ヒドロキシ−TEMPO、4−フルオロ−TEMPO、4−クロロ−TEMPO、4−ブロモ−TEMPO、4−ヨード−TEMPO、4−メチル−TEMPO、4−エチル−TEMPO、4−n−プロピル−TEMPO、4−イソプロピル−TEMPO、4−n−ブチル−TEMPO、4−イソブチル−TEMPO、4−sec−ブチル−TEMPO、4−tert−ブチル−TEMPO、4,4−ジメチル−TEMPO、4−クロロメチル−TEMPO、4−トリフロロメチル−TEMPO、4−ブロモメチル−TEMPO、4−ヨードメチル−TEMPO、4−メトキシ−TEMPO、4−エトキシ−TEMPO、4−n−プロピルオキシ−TEMPO、4−イソプロピルオキシ−TEMPO、4−n−ブチルオキシ−TEMPO、4−イソブチルオキシ−TEMPO、4−sec−ブチルオキシ−TEMPO、4−tert−ブチルオキシ−TEMPO、4−ホルミル−TEMPO、4−アセチルオキシ−TEMPO、4−プロピオニルオキシ−TEMPO、4−n−ブチリルオキシ−TEMPO、4−イソブチリルオキシ−TEMPO、4−ピバロイルオキシ−TEMPO、4−クロロアセチルオキシ−TEMPO、4−ブロモアセチルオキシ−TEMPO、4−ヨードアセチルオキシ−TEMPO、4−ヒドロキシアセチルオキシ−TEMPO、4−フェニルアセチルオキシ−TEMPO、4−トリフルオロアセチルオキシ−TEMPO、4−メトキシアセチルオキシ−TEMPO、4−ベンゾイルオキシ−TEMPO、4−(p−トルイルオキシ)−TEMPO、4−(m−トルイルオキシ)−TEMPO、4−(o−トルイルオキシ)−TEMPO、4−(p−クロロベンゾイルオキシ)−TEMPO、4−(m−クロロベンゾイルオキシ)−TEMPO、4−(o−クロロベンゾイルオキシ)−TEMPO、4−(p−ニトロベンゾイルオキシ)−TEMPO、4−(2−ピリジンカルボニルオキシ)−TEMPO、4−(3−ピリジンカルボニルオキシ)−TEMPO、4−(4−ピリジンカルボニルオキシ)−TEMPO、4−フェニル−TEMPO、4−(p−トリル)−TEMPO、4−(m−トリル)−TEMPO、4−(o−トリル)−TEMPO、4−(p−クロロフェニル)−TEMPO、4−(m−クロロフェニル)−TEMPO、4−(o−クロロフェニル)−TEMPO、4−(p−ヒドロキシフェニル)−TEMPO、4−(m−ヒドロキシフェニル)−TEMPO、4−(o−ヒドロキシフェニル)−TEMPO、4−(p−メトキシフェニル)−TEMPO、4−(m−メトキシフェニル)−TEMPO、4−(o−メトキシフェニル)−TEMPO、4−アミノ−TEMPO、4−アセトアミド−TEMPO、4−(2−クロロアセトアミド)−TEMPO、4−(2−ブロモアセトアミド)−TEMPO、4−(2−ヨードアセトアミド)−TEMPO、4−カルバモイル−TEMPO、4−カルボキシル−TEMPO、4−シアノ−TEMPO、4−マレイミド−TEMPO、4−ホスホリル−TEMPO、4−オキソ−TEMPO等のN−オキシルラジカル類が挙げられるが、重合禁止能力の高さおよび入手の容易さから4−ヒドロキシ−TEMPO、4−ベンゾイルオキシ−TEMPOの使用が好ましい。
本発明の方法におけるN−オキシル化合物の添加量は、アクリロキシ−γ−ブチロラクトンに対し、1ppm〜10重量%、好ましくは5〜100ppmの範囲が選ばれる。添加量が1ppm未満では重合禁止効果が十分に発揮されず、また、10重量%を越えると添加量の割には効果の向上が見られず、着色が起こるなど、むしろ経済的に不利となる。
本発明の方法において、重合禁止剤を含むアクリロキシ−γ−ブチロラクトンの蒸留温度は、特に制限はないが、通常、50〜150℃の範囲である。蒸留温度がこの範囲内であれば、重合防止効果が十分に発揮される。また、本蒸留は、通常、減圧下で実施され、圧力としては0.1〜200mmHgの範囲が選ばれる。さらに、本蒸留においては、気流同伴を伴わない無気条件下、または窒素あるいは空気等の気流同伴を行う有気条件下のいずれで蒸留を実施してもよい。
本発明の方法において使用される蒸留装置に格別の制限はなく、減圧単蒸留装置、流下式薄膜蒸留装置、遠心式薄膜蒸留装置等の蒸留装置が用いられる。
本発明の方法においては、重合防止効果をさらに向上させるため、所望に応じて他の重合禁止剤、例えばp−t−ブチルカテコール、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール等を共存させることもできる。
以上の説明から明らかなように、本発明の方法によれば、従来の課題を解決し、ポリマー状物質を生成することなく、アクリロキシ−γ−ブチロラクトンを高い回収率で蒸留精製することが可能となる。
以下に、本発明の方法を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
なお、ポリマーの収率は、液体クロマトグラフィー(東ソー製)、カラム:G2000HXl(東ソー製)、溶離液:テトラヒドロフランを用いて分析することにより求めた。
実施例1
100mlフラスコに、GBLMA10gと重合禁止剤として4−ヒドロキシ−TEMPO 0.01gを添加した。次に、このフラスコに窒素吹込み管、還流コンデンサーを取り付けて、100℃、0.13kPaの減圧条件下で、24時間連続して加熱還流した。
100mlフラスコに、GBLMA10gと重合禁止剤として4−ヒドロキシ−TEMPO 0.01gを添加した。次に、このフラスコに窒素吹込み管、還流コンデンサーを取り付けて、100℃、0.13kPaの減圧条件下で、24時間連続して加熱還流した。
加熱終了後、フラスコ内のGBLMAをサンプリングし、液体クロマトグラフィー(カラム:GPC−2000)で分析し、ポリマーの収率を求めた。結果を表1に示す。
実施例2〜4
実施例1で使用した4−ヒドロキシ−TEMPOに代えて、表1に示した重合禁止剤を用いた以外は、実施例1に準じて加熱を行った。結果を表1に示す。
実施例1で使用した4−ヒドロキシ−TEMPOに代えて、表1に示した重合禁止剤を用いた以外は、実施例1に準じて加熱を行った。結果を表1に示す。
比較例1〜3
実施例1で使用した4−ヒドロキシ−TEMPOに代えて、表1に示した重合禁止剤を所定量用いた以外は、実施例1に準じて加熱を行った。結果を表1に示す。
実施例1で使用した4−ヒドロキシ−TEMPOに代えて、表1に示した重合禁止剤を所定量用いた以外は、実施例1に準じて加熱を行った。結果を表1に示す。
Claims (3)
- 重合禁止剤が、下記一般式
(R1は置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルカノイル基、または置換もしくは非置換のアロイル基を示す)、
置換もしくは非置換のフェニル基、R4R5N−基
(R4とR5はそれぞれ独立して、水素原子、XCH2C(=O)−基
{XはCl、BrまたはIを示す}
を示す)、
カルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、マレイミド基またはホスホリル基を表す、あるいはR2とR3はこれらが結合する炭素と共に1個のカルボニル基を表す]
で表されるN−オキシル化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載のアクリロキシ−γ−ブチロラクトンの精製方法。
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JP2005355411A JP2007153854A (ja) | 2005-12-08 | 2005-12-08 | アクリロキシ−γ−ブチロラクトンの精製方法 |
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JP2005355411A Pending JP2007153854A (ja) | 2005-12-08 | 2005-12-08 | アクリロキシ−γ−ブチロラクトンの精製方法 |
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JP2009256402A (ja) * | 2008-04-11 | 2009-11-05 | Toyota Motor Corp | 脂肪族ポリエステル樹脂組成物及び成形体 |
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2005
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