JP2007148358A - レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法 - Google Patents

Abstract

【課題】一つのステージの移動速度を適切な速度に決定するレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法を提供する。
【解決手段】レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置は、基板を保持するステージ２と、基板の面に対して直交する垂線の垂線回りとなる回転方向、移動方向および移動方向に直交する直交方向に、ステージを移動する移動搬送機構３と、この移動搬送機構の移動経路上において基板の上方となる位置に設けられ、レーザビームを照射するレーザビームユニット５と、周辺領域に紫外線を含む光を照射口から照射する紫外線照射ユニット９と、レーザビームを照射する際にステージを移動させる第一移動速度と、紫外線を含む光を照射する際にステージを移動させる第二移動速度とのいずれか一方に合わせて、移動搬送機構を制御する制御手段と、を有する。
【選択図】図２

Description

本発明は、基板のパターン領域の周辺に形成される周辺領域にレーザビームを照射して記号、文字等の識別マークを露光（マーキング）すると共に、周辺領域に紫外線を含む光を照射して周辺露光を行うレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法に関するものである。

一般的に、露光装置においてパターンを露光される基板は、例えば、液晶基板において、当時５００ｍｍ×５００ｍｍ程度の寸法だったものが、現在では、２１６０ｍｍ×２４６０ｍｍという大型に拡大された寸法のものが扱われるようになっている。この大型の基板から予め設定された各個片に切断・分離されて通常の受像機器に搭載する基板が製作されている。基板が大型の状態から切断・分離された場合、その管理と製造工程の管理のために、各個片となる基板に文字、または記号あるいは図形、もしくはそれらの組み合わせからなる識別記号、分離する位置を判別するための切断位置識別コード、あるいは、アライメントマーク等（以下、識別マークという）を、予め分離前の基板にレーザビーム等により露光して形成している。

また、基板においてパターン領域の周辺である周辺領域に存在する不要なフォトレジストインクは、後工程にて支障となるので、予め露光させておく必要がある。不要なフォトレジストインクを含む周辺領域には、前記したように識別マークを表示する必要があり、この周辺領域は、所定の幅で設定されている。そして、その周辺領域において識別マークを形成する位置は、周辺領域の中央部に配置される場合だけではなく、ある場所ではパターン領域の近くであったり、ある部分では基板のエッジ側や、あるいは、反対側のパターン領域の近くであったりする。

基板は、パターン領域が露光され、その後、周辺領域を露光することで不要なフォトレジストインクを除去し、個片に切断・分離するときに処理し易くなるように周辺露光装置により露光されている（例えば、特許文献１、２参照）。

そして、基板の製造工程では、パターン領域を露光する露光装置、周辺領域のフォトレジストインクを露光する周辺露光装置、識別マークを露光（表示）する露光装置等、各種の露光装置が製造ラインに存在しており、はじめに、パターン領域を露光装置により露光した後に、レーザ照射露光装置により、基板の周辺領域においてレーザを照射して識別マークをマーキング（露光）し、つぎに、周辺露光装置により基板の周辺領域を所定波長の紫外線を含む光により照射して露光することが一般的に行われている。

レーザの照射により識別マークをマーキングする露光装置は、一例として、つぎのような動作を行っている。すなわち、基板の周辺領域に形成される識別マークをマーキングする場所に対して、基板を載置したステージの上方に配置した露光ユニットからレーザビームを出力する。そして、基板を載置したステージと、露光ユニットとを相対移動するように、直線方向とその直線方向に直交する直交方向に時系列的に順次走査させると共に、その照射位置を相対移動方向にずらすことで、基板上の照射点を直交座標となる平面に整列させて識別マークをマーキングしている（例えば、特許文献３参照）。

この識別マークの形成方法（表示方法）は、フォトレジストインクを塗布した基板とレーザビームは常に相対的に位置した場所に、レーザビームによるドットを露光することになり、識別マークが所定の幅においてマーキングされるので、ステージが直線移動する方向に直交する直交方向に、常に微小なレーザビームをスキャンしながら識別マークを露光している。

また、基板の周辺領域の不要なフォトレジストインクを露光させるための光源は、ライトガイドの射出端の倍率を変化させて形状を設定される構成の露光装置が提案されている（例えば、特許文献４参照）。この露光装置では、調整の過程で、レーザビームを投影する像の大きさを変化させる方式を採用しており、局所的に投影する光路を拡大または縮小することにより、ライトガイドから射出した光の幅を制御するので、照射される露光光は、光路の中心に対して対称に拡大若しくは縮小する幅となる。

さらに、周辺露光ユニットが、基板の上方に設置された固定ガイドレールまたは移動ガイドレールの少なくとも一方のガイドレールに設けられている露光装置についても提案されている（例えば、特許文献５参照）。
特許第２９１０８６７号公報 特許第３４１８６５６号公報 特許第３５４７４１８号公報 特許第３１７５０５９号公報 特許第３０９１４６０号公報

しかし、従来の周辺露光装置あるいは識別マークの露光装置では、以下に示すような問題点が存在した。
（１）基板を露光する製造工程では、基板のサイズが大型化することに伴い、製造ラインが長くなるため、従来のような識別マークの露光装置と、周辺領域を露光する周辺露光装置とを別々の構成から一体化することで製造ラインの短縮化が望まれている。

（２）また、識別マークを露光する処理と、周辺領域を露光する処理とを連続して行う場合には、基板の移動速度はいずれかの露光工程の露光速度に影響される。このとき、フォトレジストインクは、紫外線の波長に近い波長に、感度が高くなるように調整されているため、一定速度で移動する基板に対して、紫外線の波長よりレーザビームのエネルギーが低く、しかも一定照度で照射されるので、周辺領域のフォトレジストインクを露光する範囲によっては、照射する紫外線の光量が強すぎて、オーバー露光となる可能性がありこれらの問題を解決する必要があった。

本発明は、前記した問題点に鑑み創案されたものであり、レーザビームの照射および周辺領域の紫外線を含む光の照射を一つのステージを有する露光装置に設置でき、かつ、一つのステージの移動速度を適切な速度に決定するレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法を提供する。

上記課題を解決するために、第１の観点によるレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置（以下本装置という）は、基板を保持するステージと、基板の面に対して直交する垂線の垂線回りとなる回転方向、移動方向および移動方向に直交する直交方向に、ステージを移動する移動搬送機構と、この移動搬送機構の移動経路上において基板の上方となる位置に設けられ、レーザビームを照射するレーザビームユニットと、このレーザビームユニットに隣り合う位置で基板の上方となる位置に設けられ、周辺領域に紫外線を含む光を照射口から照射する紫外線照射ユニットと、レーザビームを照射する際にステージを移動させる第一移動速度と、紫外線を含む光を照射する際にステージを移動させる第二移動速度とのいずれか一方に合わせて、移動搬送機構を制御する制御手段と、を有する。

このように構成した本装置は、レーザビームを照射する際にステージを移動させる第一移動速度と、紫外線を含む光を照射する際にステージを移動させる第二移動速度とのいずれか一方に合わせて、ステージを制御することができる。このため、識別マークの露光といわゆる周辺露光とを同時に、ステージを移動させながら行うことができる。つまり、レーザビームによる識別マークの露光と紫外線を含む光による周辺領域の露光を連続して行うことも可能となる。識別マークの露光と紫外線照射の露光を連続してそれぞれの基板の周辺領域で同時に行うことができ、作業性、生産性の向上を達成でき、かつ、歩留まりを上げることができる。

また、第２の観点による本装置において、紫外線照射ユニットは、第一移動速度に基づいて、照射面積を調整する照射面積調整シャッタ機構を有する。
このように構成した本装置は、レーザビームを照射する際のステージの移動速度に合わせて、紫外線照射の照射量を調整することができる。すなわち、基板の移動速度に対応して照射面積を調整することができるため、過剰露光あるいは露光不足の状態を起こすことなく基板の周辺領域の露光作業を行うことができる。

さらに、第３の観点による本装置において、照射面積調整シャッタ機構は、照射口を部分的に遮光する幅調整遮光板と、この幅調整遮光板を移動させる幅調整遮光板移動部とを備える。
このように構成した本装置は、幅調整遮光板移動部を介して幅調整遮光板を移動させ、照射口から照射される単位面積当たりの照射量を調整している。

また、第４の観点による本装置において、レーザビームユニットは、第二移動速度に基づいてレーザビームの強度を変更する変更手段を備える。
このように構成した本装置は、紫外線を含む光を照射する際のステージの移動速度に合わせて、レーザービ−ムの照射量を調整することができる。すなわち、基板の移動速度に対応してレーザビーム強度を調整することができるため、過剰露光あるいは露光不足の状態を起こすことなく基板に識別マークを形成することができる。

また、第５の観点による本装置において、変更手段は、レーザビームへの電力の変更、レーザビームのパスル間隔の変更、またはレーザビームの変調の変更の少なくとも一つの変更により、レーザビームの強度を変更する。
このように構成した本装置は、紫外線を含む光により周辺領域を露光する作業をできるだけ早く行ってスループットを上げたい場合には、照射口を遮光することなくステージを移動させる。このステージの移動速度に合うように、レーザビームユニットが備えている各種方法によりレーザビームの強度を変更できる。もちろん、すべての組み合わせでレーザビームの強度を変更しても、いずれか一つの変更であってもよい。

さらに、第６の観点によるレーザビーム・紫外線照射周辺露光方法は、識別マークを露光する際の基板の第一移動速度を演算する第一演算ステップと、紫外線を照射する際の基板の第二移動速度を演算する第二演算ステップと、第一移動速度に基づいてレーザビームの強度を決定して基板の周辺領域に識別マークを露光する、または第二移動速度に基づいて紫外線を含む光の照射面積を決定するステップと、を含む。

このように構成した本方法は、基板の周辺領域に識別マークを露光するとともに、形当該周辺領域に紫外線を含む光を照射して露光する周辺露光の作業を一体に構成することが可能となる。また、識別マークの露光と紫外線照射の露光を連続してそれぞれの基板の周辺領域で同時に行うことができ、作業性、生産性の向上を達成でき、かつ、歩留まりを上げることができる。

本発明により、一体の装置で、識別マークの露光をレーザビームで行い、且つ紫外線を含む光で周辺領域の露光を行うことができるため、製造ラインの短縮化を図ることができる。また、本発明は、識別マークの露光と周辺領域の露光とを連続して行った場合でも、基板の移動速度に影響を受けることなく、両方とも適切な露光を行うことができる。

以下、本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法を実施するための最良の形態について図面を参照して説明する。
図１は、レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の一部を省略して側面方向から装置内を模式的に示す断面図、図２は、レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の一部を省略して背面方向からの装置内を模式的に示す断面図、図３（ａ）、（ｂ）は、レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置で使用される基板の一例を示す平面図、図４はレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置のステージを示す側面図である。

図１に示すように、レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置（以下、「本装置」という）１は、搬入される基板Ｗを保持するステージ２と、このステージ２に保持された基板Ｗおよびステージ２の所定位置を撮像する撮像手段４と、ステージ２に保持された基板Ｗを搬送あるいは移動させる移動搬送機構３と、この移動搬送機構３により搬送された基板Ｗのパターン領域Ｗｐの周辺である周辺領域Ｗｃにおいて識別マークＭを露光するレーザビームユニット５と、基板Ｗの周辺領域Ｗｃに露光された識別マークＭを遮蔽してその他の周辺領域Ｗｃに所定波長の紫外線を含む光（以下、「紫外線光」という）を照射する紫外線照射ユニット９と、移動搬送機構３、レーザビームユニット５、紫外線照射ユニット９を制御する制御機構２０と、を主に備えている。

図３（ａ）、（ｂ）に示すように、基板Ｗは、四角形状に形成され、例えば、２行３列のパターン領域Ｗｐを形成し、かつ、各パターン領域Ｗｐの周辺に周辺領域Ｗｃを形成している。そして、基板Ｗの周辺領域Ｗｃは、各パターン領域Ｗｐを切断して切り離すときの切断代となるとともに、記号、文字、図形、あるいは、それらの組み合わせたもの等（以下、識別マークという）が形成される領域である。なお、ここでは、基板Ｗの周辺領域Ｗｃは、縦横にそれぞれ識別マークＭ（Ｍ１，Ｍ２）が形成され、かつ、それぞれの識別マークＭの照射面積が等しくなるように、ここでは形成されている。

図１および図４に示すように、ステージ２は、基板Ｗを保持するためのものであり、移動搬送機構３に支持された基台２ａと、この基台２ａに立設した支持柱２ｂと、この支持柱２ｂと基板Ｗとの対面する位置に形成された吸着用開口部２ｃと、当該ステージ２の位置を検出するための位置決めマーク２ｄとを備えている。

基台２ａは、ここでは、取り扱う基板Ｗの面積と同等あるいはそれ以上の面積の平面を有する扁平な直方体に形成されており、複数の支持柱２ｂを当該基台２ａの平面に直交する方向（垂直方向）に支持するものである。この基台２ａは、複数の支持柱２ｂを垂直方向に支持することができるものであれば、例えば円盤形状にする等、特にその形状について限定されるものではない。なお、基台２ａは、碁盤の目状に支持柱２ｂを着脱自在に設置する部位を予め設けておき、基板Ｗの大きさに応じて支持柱２ｂの数と位置を調整できるようにすると都合がよい。

支持柱２ｂは、基板Ｗに当接して基板を水平（垂直方向に対して直交する平面）保持するためのものであり、基台２ａから所定高さの位置で、基台２ａに複数が設置されている。この支持柱２ｂは、ここでは、基板Ｗの搬入にロボットハンド（図示せず）を想定しているため、基板Ｗの裏面をロボットハンドの２本のフォーク（図示せず）で保持した状態で搬入されて来た時に、そのフォークによる受け渡しができる直線的な空間をあけた状態で、かつ、基板Ｗの水平が保つことができる間隔に複数が整列して配置されている。

また、支持柱２ｂは、その基板Ｗに当接する先端位置の形状を、ここでは、平面状に形成しており、その平面部分に、当該基板Ｗを真空吸着して保持するための吸着用開口部２ｃを有している。この吸着用開口部２ｃは、図示しない真空吸着機構から連通された状態に設けられている。なお、この吸着用開口部２ｃは、全ての支持柱２ｂに形成してもよく、また、基板Ｗを保持することができれば、所定位置の支持柱２ｂに形成するようにしてもよい。

位置決めマーク２ｄは、撮像手段４の基準位置に対応するように、ステージ２の基台２ａの平面側に立設して、あるいは、基台２ａの側面に沿って立設（図２参照）した支柱の先端に形成されている。この位置決めマーク２ｄは、例えば、支柱の先端となる基板側に十字マーク等として形成されており、少なくとも３箇所に形成されているが、撮像手段４の数に対応した数（ここでは４基）設置しても構わない。なお、位置決めマークの形状、設置高さは、特に限定されるものではない。また、ここでは、位置決めマーク２ｄは、基板Ｗが透明であるため、基板面の内側に配置されているものもあるが、基板Ｗがレジストインク等で覆われているために透明でない場合には、もちろん、基板Ｗの周辺となる位置でステージ２に設置されることになる。

ステージ２は、以上説明したように構成されていることで、支持柱２ｂと基台２ａとにより基板Ｗを基台２ａから所定間隔あけた位置に平面を保った状態で保持することができる。そのため、新たな搬入手段を配置する必要がなく、図示しないロボットハンド等の基板Ｗを装置間で搬送するような機構からそのまま受取ることができなかったことが解消される。

撮像手段４は、基板Ｗの上方から基板Ｗの所定位置およびステージの位置決めマーク２を撮像するためのものである。この撮像手段４は、支持フレームＡ１に案内レール等（図示せず）によりＸ方向およびＹ方向に移動自在に設置されており、例えば、ＣＣＤカメラ等が使用されている。この撮像手段４は、予め設定された基準位置で位置決めマーク２ｄを撮像し、その後、一直線方向であるＸ方向およびこのＸ方向に直交するＹ方向に自在に移動して基板Ｗのアライメントマークあるいは基板Ｗの角部（エッジ）のいずれか予め設定されている所定位置を撮像するように動作して、それぞれの画像データを取得して後記する制御機構２０に出力している。

そして、撮像手段４により取得した画像データを解析して得られる基板位置と、ステージ位置とに基づいて、制御機構２０からの指令により移動搬送機構３を介して整合作業が相対的に行われる。

移動搬送機構３は、基板Ｗの整合作業を行うとともに、移動経路Ｌに沿って基板Ｗを搬送し、かつ、露光時（レーザビームの照射時および紫外線光の照射時）に基板Ｗを所定速度で移動させるものである。この移動搬送機構３は、一方の直線方向であるＸ直線方向にステージ２を移動させる第１移動ガイド機構３Ａと、このＸ直線方向に直交する直線方向であるＹ直線方向にステージ２を移動させる第２移動ガイド機構３Ｂと、ステージ２に保持された基板面に直交する垂線の垂線回りとなる回転方向（θ方向）にステージ２を移動させる第３移動ガイド機構３Ｃとを備えている。なお、ここで使用される第１ないし第３移動ガイド機構３Ａ〜３Ｃは、直線方向に移動させるもの、あるいは、回転方向にステージ２を移動させるものであり、設置される位置、ガイドの長さ等の違いはあるが共通の構成を備えているため、第１移動ガイド機構３Ａを主に説明することとする。

図２に示すように、第１移動ガイド機構３Ａは、Ｓ極、Ｎ極を交互に配列した磁力ガイド（一次側ガイド）に沿って移動するリアクティングプレートを有するリニアモータ３ａと、このリニアモータ３ａに沿って設置した移動レール３ｂ，３ｂとを備えている。なお、この第１移動ガイド機構３Ａは、リニアモータ３ａの両側に移動レール３ｂ，３ｂを設置した構成としているが、移動レール３ｂはどちらか一方でもよく、当該移動レール３ｂの代わりにエア等による流体軸受けを用いる等であっても構わない。また、第１移動ガイド機構３Ａは、リニアモータ３ａを用いる構成であることが望ましいが、一定の精度で移動制御できるものであれば、サーボモータと送りネジによる移動機構等であってもよく、特に限定されるものではない。

移動搬送機構３は、ここでは、Ｘ直線方向にステージ２を移動させる第１移動ガイド機構３Ａと、Ｙ直線方向にステージを移動させる第２移動ガイド機構３Ｂとの間に回転方向にステージ２を回転移動させる第３移動ガイド機構３Ｃを設置しているが、第２移動ガイド機構３Ｂと第３移動ガイド機構３Ｃの上下位置を入れ替えて設置しても構わない。この移動搬送機構３により基板Ｗの整合作業を相対的に行う場合は、次のようにしている。

はじめに、移動搬送機構３は、搬入された基板Ｗを保持するステージ２を、Ｙ直線方向に移動する第２移動ガイド機構３Ｂにより、予め設定された基準位置に移動する。そして、撮像手段４によりステージ２の位置決めマーク２ｄ，２ｄ，２ｄを撮像して後記する制御機構２０に画像データを送る。さらに、撮像手段４により基板Ｗのエッジ（またはアライメントマーク（図示せず））を撮像して制御機構２０に画像データを送る。後記する制御機構２０は、送られて来た画像データを解析して、基板位置とステージ位置とを比較するとともに、基板Ｗの整合位置を演算して移動搬送機構３を移動制御することで相対的に整合作業を行っている。なお、整合作業を行うとともに、予め入力された当該基板Ｗの品種データである識別マークＭ（図３参照）の形状および位置に基づいて、搬送先（レーザビームの露光位置（照射開始位置））に搬送できる位置にステージ２の位置を調整しても構わない。

移動搬送機構３は、制御機構２０からの信号により、ここでは、主に第３移動ガイド機構３Ｃおよび第２移動ガイド機構３Ｂを用いて基板Ｗの整合作業を行っている。もちろん、第３移動ガイド機構３Ｃ、第２移動ガイド機構３Ｂあるいは第１移動ガイド機構３Ａを用いて、基板Ｗの整合作業を行っても構わない。また、整合作業を行った後に、レーザビームユニット５の所定位置にＸ直線方向に搬送してから、Ｙ直線方向に第２移動ガイド機構３Ｂを用いて露光位置に、位置調整するように移動する構成としても構わない。

つぎに、レーザビームユニット５について説明する。図１および図２に示すように、レーザビームユニット５は、基板Ｗの周辺領域Ｗｃに識別マークＭをレーザビームにより露光するためのものである。そして、このレーザビームユニット５は、図５に示すように、ここでは、支持フレームＡ１に支持されて固定され、レーザビームの光路長を調整する光路長調整ユニット６と、この光路長調整ユニット６で光路長を調整されたレーザビームを基板Ｗの周辺領域Ｗｃに照射するレーザ照射ユニット７とを備えている。なお、図５は、本装置のレーザビームユニットの構成を模式的に示す模式図である。図５に示すように、レーザビームユニット５は、ここでは、レーザ照射ユニット７を３基有しており、一つのレーザビーム光源５ａから照射されたレーザビームを分岐してそれぞれのレーザ照射ユニット７から基板Ｗの周辺領域Ｗｃの三箇所にレーザビームを照射するように構成されている。

図５に示すように、光路長調整ユニット６は、レーザビーム光源５ａと、光路調整反射鏡５ｂと、レーザビームの分岐手段６ａを介して設置されたＣＣＤ撮像素子６ｂおよびパワーメータ６ｃとを備えている。
レーザビーム光源５ａは、基板Ｗの周辺領域Ｗｃに塗布されているレジストインクの露光領域に対応する波長が選択され、例えば、パルス出力するものであり、発光および消光を高速で交互に繰り返すものが使用されている。このため、繰り返し周波数を可変することで、所定時間内(sec)のレーザビームの積算強度を可変することが可能である。

光路調整反射鏡５ｂは、レーザビーム光源５ａから照射されたレーザビームの光路長を
レーザ照射ユニット７，７，７に入射するまでに調整するために所定位置に設置されるものである。この光路調整反射鏡５ｂは、レーザビームを全反射する全反射鏡と、当該レーザビームを分岐して反射する分岐反射鏡（ビームスプリッタ）とをそれぞれ所定の位置に設置している。そして、レーザビーム光源５ａから光路を第１および第２のレーザ照射ユニット７，７に分岐する位置に、光路調整反射鏡５ｂの内、分岐反射鏡が設置されており、第３のレーザ照射ユニット７に反射する位置およびその他の位置には、全反射鏡が配置されている。この光路調整反射鏡５ｂは、レーザビーム光源５ａからレーザ照射ユニット７のそれぞれに入射するレーザビームの光路長が全て等しくなる位置に設置されており、かつ、レーザビーム光源５ａからはじめに反射されてから２回の反射により各レーザ照射ユニット７に反射する位置に設置されている。

なお、光路長調整ユニット６内の光路中には、レーザビームを分岐するビームスプリッタ等の分岐手段６ａを介して、レーザビームの照射径および照射位置を測定するためのＣＣＤ撮像素子６ｂおよびレーザビームのパワーを測定するパワーメータ６ｃが設置されている。ここで測定された測定結果は、後記する制御機構２０に送られる。そして、制御機構２０に送られた当該測定結果は、レーザビーム光源５ａの調整を行うために反映させている。

図５に示すように、レーザ照射ユニット７は、光路調整反射鏡５ｂから反射されたレーザビームを回折する音響光学素子７ａと、この音響光学素子７ａで回折されたレーザビームを所定方向に反射する反射鏡７ｂ，７ｂと、この反射鏡７ｂ，７ｂで反射されたレーザビームを偏向走査するガルバノミラユニット７ｃと、このガルバノミラユニット７ｃからのレーザビームを基板Ｗの周辺領域に照射するｆθレンズ７ｄとを備えている。なお、レーザ照射ユニット７の音響光学素子７ａからｆθレンズ７ｄまでの光路には、レーザビームを測定して調整するためのレーザビーム測定調整機構８が設置されている。

音響光学素子７ａは、レーザビームを回折するものであり、振幅変調あるいは周波数変調によりレーザビームの強度（輝度）を調整するものである。この音響光学素子７ａは、反射鏡７ｂ，７ｂで光路を変更した後の位置に設置する構成としても構わない。

反射鏡７ｂは、レーザビームの光路の向きを調整するものであり、ここではレーザビームを全反射させている。この反射鏡７ｂは、レーザビームを反射することができるものであれば、特に限定されるものではない。

ガルバノミラユニット７ｃは、ガルバノミラーを有し、レーザビームを偏向走査するものであり、後記する制御機構２０からの信号により識別マークＭをレーザビームにより露光できるように、当該レーザビームを偏向走査している。なお、このガルバノミラユニット７ｃは、ガルバノミラーを制御する構成について、限定されるものではない。

ｆθレンズ７ｄは、ガルバノミラユニット７ｃのガルバノミラーで偏向されたレーザビームを平らな像面に集光し、走査することができるものである。このｆθレンズ７ｄは、入射瞳径、走査角、走査範囲、テレセントリック性等の構成を、ガルバノミラーおよびレーザビームの波長等に対応させたものであれば、特に限定されるものではい。

図５に示すように、レーザビーム測定調整機構８は、反射鏡７ｂからのレーザビームをビームスプリッタ等の分岐手段により分岐してパワーを測定するパワーメータ８ａと、レーザビームのスポット径あるいはコリメーションの範囲を広げる等の操作を行うビームエキスパンダ８ｃと、分岐手段によりレーザビームを分岐してレーザビーム径および照射位置を測定するＣＣＤ撮像素子８ｂを備えている。そして、このレーザビーム測定調整機構８で測定された結果は、後記する制御機構２０に送られ、適切なレーザビームの状態になるように、音響光学素子７ａあるいはビームエキスパンダ８ｃを介して調整されるように反映される。

以上の構成を備えるレーザビームユニット５は、以下のように動作する。すなわち、基板Ｗがレーザビーム照射開始位置に移動すると、レーザビーム光源５ａを点灯してレーザビームを光路長調整ユニット６の各光路調整反射鏡５ｂを介して各レーザ照射ユニット７，７，７の音響光学素子７ａ，７ａ，７ａに導き、当該音響光学素子７ａ，７ａ，７ａからガルバノミラユニット７ｃ，７ｃ，７ｃおよびｆθレンズ７ｄ，７ｄ，７ｄを介してレーザビームヘッド５Ａ，５Ａ，５Ａにより、レーザビームを基板Ｗの周辺領域に照射して識別マークＭ１（図３参照）を露光する。このとき、照射されるレーザビームは、基板Ｗの移動方向に対して直交する方向に走査して、かつ、基板Ｗを所定速度で移動しながら識別マークＭ１を露光している。なお、レーザビームユニット５は、そのレーザビームヘッド５Ａ，５Ａ，５Ａの設置間隔は固定されているため、ガルバノミラユニット７ｃ，７ｃ，７ｃによるレーザビームの振り幅の範囲で、基板Ｗのサイズあるいは識別マークの形成位置に対応している。

図１、図２および図６に示すように、紫外線照射ユニット９は、基板Ｗの移動経路の上方において、レーザビームユニット５に隣り合う位置に設置されており、基板Ｗの周辺領域Ｗｃに紫外線光を照射するためのものである。この紫外線照射ユニット９は、ここでは、基板ＷのＸ直線方向に直交する方向に移動できるように、２基が移動機構１２を介して設置されている。なお、図６は、本装置の紫外線照射ユニットの構成を、一部を切欠いて示す断面図である。

なお、図６に示すように、移動機構１２は、すでに説明した第１移動ガイド機構３Ａと同じようにリニアモータ１２ａおよびＬＭガイド（移動レール）１２ｂ、１２ｂを備えており、迅速にかつ精密な移動制御を行うことができるものである。

図６に示すように、紫外線照射ユニット９は、紫外線光を照射する放電灯９ａと、この放電灯９ａに設けられ光を集光するように反射する楕円反射鏡９ｂと、この楕円反射鏡９ｂにより集光された光路中に設置された光路シャッタ機構９ｃと、この光路シャッタ機構９ｃより基板Ｗ側の光路で楕円反射鏡９ｂからの光の集光位置に設置されたフライアイレンズ９ｄと、このフライアイレンズ９ｄを透過してくる光を平行光として基板Ｗの周辺領域Ｗｃに照射するための照射用レンズ９ｅと、この照射用レンズ９ｅからの光の少なくとも一部を遮光（隠蔽）する構成を有する照射領域調整シャッタ機構１０と、照射面積を変更する照射面積調整シャッタ機構１３と、を備えている。

なお、紫外線照射ユニット９は、前記した放電灯９ａ等の各構成を筐体９ｋ内に設置しており、筐体９ｋの下面となる基板Ｗと対面する位置で、照射用レンズ９ｅからの照射光の光路となる位置に照射口９ｍを形成している。さらに、紫外線照射ユニット９は、照射する照射光を計測する計測器１１を筐体９ｋに備えるか、あるいは、紫外線照射ユニット９が所定位置に移動機構１２を介して移動して停止したときに、照射口９ｍに対応して計測できる位置に計測器１１が設置されている。

放電灯９ａは、基板Ｗの周辺領域Ｗｃに塗布されているレジストインクを露光させる紫外線光（所定波長の紫外線を含む光）を照射するものであり、例えば、アーク放電により点灯する水銀ランプが用いられている。

楕円反射鏡９ｂは、放電灯９ａから照射された光を所定位置に集光する曲面（楕円回転曲面の一部）を備えるものである。なお、この楕円反射鏡９ｂは、赤外線を透過して基板Ｗ側に照射させない構成であっても構わない。

光路シャッタ機構９ｃは、光源（放電灯９ａおよび楕円反射鏡９ｂ）側からの光を遮断あるいは通過させるものであり、擬似光源の役割を果すものである。この光路シャッタ機構９ｃは、光路に対面して遮光（遮蔽）する遮光板９ｃ１と、この遮光板９ｃ１を光路または光路から外れた退避位置に移動させる駆動部９ｃ２とを備えている。この光路シャッタ機構９ｃは、基板Ｗの周辺領域Ｗｃを露光するときと、照射光を測定するときに遮光板９ｃ１を光路から退避位置に移動させている。

フライアイレンズ９ｄは、光の照度分布を整えるものである。このフライアイレンズ９ｄは、複数のレンズがアレー状に整列されたレンズ群、あるいは、当該レンズ群が光軸方向に複数配置されたものである。このフライアイレンズ９ｄは、例えば、光源からの照射光の集光位置に配置されている。

照射用レンズ９ｅは、フライアイレンズ９ｄを透過して照度分布が整えられた紫外線光を、平行光として基板Ｗの周辺領域Ｗｃに照射するためのものである。この照射用レンズ９ｅは、凸レンズがここでは使用されており、フライアイレンズ９ｄから拡散された状態で送られてくる光を平行光にすることができれば、単レンズあるいは複合レンズのいずれであっても構わない。

つぎに、図７および図８を参照して、照射領域調整シャッタ機構１０の構成を説明する。図７は、本装置の照射領域調整シャッタ機構の全体を筐体の一部を切欠いて模式的に示す斜視図、図８は本装置の照射領域調整シャッタ機構のＸ直線方向における移動を行う構成部分を模式的に示す分解斜視図である。

照射領域調整シャッタ機構１０は、基板Ｗのパターン領域Ｗｐおよび識別マークＭの位置に紫外線光が照射されないように照射口９ｍの開口幅を調整するものである。この照射領域調整シャッタ機構１０は、ここでは、３枚の隠蔽板Ｔ１（パターン領域隠蔽板），Ｔ２（第１識別マーク隠蔽板），Ｔ３（第２識別マーク隠蔽板）と、この隠蔽板Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３を所定方向に移動させるように設置された隠蔽板移動手段１０Ａ（第３移動手段），１０Ｂ（第１移動手段），１０Ｃ（第４移動手段）およびＹ方向移動手段１０Ｄ（第２移動手段）と、を備えている。なお、ここでは、照射領域調整シャッタ機構１０は、１枚の隠蔽板Ｔ１をＹ直線方向に移動制御し、かつ、２枚の隠蔽板Ｔ２，Ｔ３をＸ直線方向およびＹ直線方向に移動制御するようにしている。

隠蔽板移動手段１０Ａは、第１フレーム体１０Ａ１に設けられており、第１フレーム体１０Ａ１に設置された第１駆動モータ１０Ａ２と、この第１駆動モータ１０Ａ２からの回転を伝達する送りネジ１０Ａ３と、この送りネジ１０Ａ３に沿って移動する移動ベース１０Ａ４と、この移動ベース１０Ａ４に固定された後記する第２フレーム体１０Ｂ１をスライドさせるためのスライド機構１０Ａ５と、を備えている。

第１フレーム体１０Ａ１は、紫外線照射ユニット９の筐体９ｋ内に、その一部を固定させた状態で設置されている。この第１フレーム体１０Ａ１は、送りネジ１０Ａ３に沿って配置された板フレーム１０ａに所定面積の開口が形成されており、移動ベース１０Ａ４が、その開口の範囲において移動できるように構成されている。そして、第１フレーム体１０Ａ１は、第１駆動モータ１０Ａ２を固定して、かつ、送りネジ１０Ａ３を支持するように対面する位置に板フレーム１０ｂ，１０ｃを有している。また、第１フレーム体１０Ａ１は、板フレーム１０ｂ，１０ｃを所定間隔で離間した位置に対面して設置される構成であれば、板フレーム１０ａを設けなくても構わない（例えば、板フレーム１０ａに対面する位置に板フレーム（図示せず）を設ける構成、あるいは、板フレーム１０ｂ、１０ｃを筐体９ｋ側に固定する構成）。

第１駆動モータ１０Ａ２は、サーボモータ等の回転制御を行うことができるものであり、その構成は限定されるものではない。
送りネジ１０Ａ３は、第１駆動モータ１０Ａ２の回転を伝達できるものであれば、その構成を限定されるものではない。
移動ベース１０Ａ４は、送りネジ１０Ａ３の回転により、当該送りネジ１０Ａ３に沿って移動するように雌ネジが対応する位置に形成されており、後記する第２フレーム体１０Ｂ１を支持するように構成されている。

スライド機構１０Ａ５は、第１フレーム体１０Ａ１（板フレーム１０ａ）に案内レール１０Ａ６およびこの案内レール１０Ａ６に沿って移動する移動部１０Ａ７と、を備えており、移動部１０Ａ７が後記する第２フレーム体１０Ｂ１側に固定されている。このスライド機構１０Ａ５は、送りネジ１０Ａ３の左右に配置される構成としても構わない。

以上の構成の隠蔽板移動手段１０Ａは、第１駆動モータ１０Ａ２を駆動させ、送りネジ１０Ａ３を所定数回転させると、移動ベース１０Ａ４が送りネジ１０Ａ３に沿って移動することで、後記する第２フレーム体１０Ｂ１をスライド機構１０Ａ５の案内レールに沿ってＹ直線方向に移動させることができるものである。なお、ここでは、第１フレーム体１０Ａ１により、第２フレーム体１０Ｂ１を懸架してＹ直線方向にスライドさせて所定位置に移動させるように構成している。

隠蔽板移動手段１０Ｂおよび隠蔽板移動手段１０Ｃは、第２フレーム体１０Ｂ１に設けられており、それぞれ第２駆動モータ１０Ｂ２、第３駆動モータ１０Ｃ２と、送りネジ１０Ｂ３，１０Ｃ３と、この送りネジ１０Ｂ３，１０Ｃ３に沿って移動する移動ベース１０Ｂ４，１０Ｃ４と、この移動ベース１０Ｂ４，１０Ｃ４の移動方向に沿って配置されたスライド機構１０Ｂ５，１０Ｃ５とを備えており、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３がスライド機構１０Ｂ５，１０Ｃ５に沿って移動するように設置されている。

第２フレーム体１０Ｂ１は、前記したように第１フレーム体１０Ａ１にＹ直線方向に自在にスライドできるように懸架されている。このフレーム体１０ｂ１は、第１フレーム体１０Ａ１側に設置した板フレーム１０ｄと、この板フレーム１０ｄの両端側に対面するように設けた板フレーム１０ｅ，１０ｆとを備えている。なお、隠蔽板Ｔ１をＹ直線方向に移動するＹ方向移動手段１０Ｄは、板フレーム１０ｄの所定位置に設けられている。

第２駆動モータ１０Ｂ２および第３駆動モータ１０Ｃ２は、サーボモータ等の回転制御を行うことができるものであり、その構成は限定されるものではない。
送りネジ１０Ｂ３，１０Ｃ３は、送りネジ１０Ａ３に直交する方向に所定間隔に並列して配置されており、第２駆動モータ１０Ｂ２および第３駆動モータ１０Ｃ２の回転を伝達できるものであれば、その構成を限定されるものではない。

移動ベース１０Ｂ４，１０Ｃ４は、送りネジ１０Ｂ３，１０Ｃ３の回転により、当該送りネジ１０Ｂ３，１０Ｃ３に沿って移動するベース本体ｂ１，ｃ１と、このベース本体ｂ１，ｃ１に設けられた接続片ｂ２、ｃ２と、を備えている。そして、移動ベース１０Ｂ４，１０Ｃ４は、送りネジ１０Ｂ３，１０Ｃ３に沿って移動するベース本体ｂ１，ｃ１の所定位置に雌ネジが形成されており、ここでは、接続片ｂ２，ｃ２は、当該ベース本体ｂ１，ｃ１の上端と下端にそれぞれ配置され、送りネジ１０Ｂ３，１０Ｃ３に沿って移動するときに接続片ｂ２，ｃ２が互いに交差して移動できるように構成されている。

スライド機構１０Ｂ５，１０Ｃ５は、送りネジ１０Ｂ３，１０Ｃ３と平行に配置された案内レール１０Ｂ６，１０Ｃ６と、この案内レール１０Ｂ６，１０Ｃ６に沿って移動する
移動部１０Ｂ７，１０Ｃ７とを有している。このスライド機構１０Ｂ５，１０Ｃ５は、案内レール１０Ｂ６，１０Ｃ６を段違いに配置しており、接続片ｂ２，ｃ２の先端に、案内レール１０Ｂ６，１０Ｃ６上をスライドする移動部１０Ｂ７，１０Ｃ７が接続されている。なお、移動部１０Ｂ７，１０Ｃ７には、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３が着脱自在に取り付けられている。

また、隠蔽板Ｔ２、Ｔ３の配置されている側となる第２フレーム体１０Ｂ１の位置（板フレーム１０ｄ）には、Ｙ方向移動手段１０Ｄを介して隠蔽板Ｔ１が設けられている。このＹ方向移動手段１０Ｄは、サーボモータ等の回転制御を行うことができる第４駆動モータ１０Ｄ２と、この第４駆動モータ１０Ｄ２の回転を伝達させる送りネジ１０Ｄ３と、この送りネジ１０Ｄ３に沿って移動する移動部１０Ｄ４とを主に備え、隠蔽板Ｔ１を照射口９ｍに対して平行に移動できるように構成されている。なお、移動部１０Ｄ４には隠蔽板Ｔ１が着脱自在に取り付けられている。

隠蔽板Ｔ１は、ここでは、紫外線光が照射しても軟化あるいは劣化し難い金属板により形成されるとともに、照射口９ｍの開口幅より広い面積になるように形成されている。また、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３は、先端側に隠蔽部ｔ２ａ，ｔ３ａが形成されており、その隠蔽部ｔ２ａ，ｔ３ａに連続して開口部ｔ２ｂ、ｔ３ｂが形成されている。この隠蔽板Ｔ２，Ｔ３は、照射口９ｍの開口幅より狭い幅で、かつ、同じ大きさに形成されており、露光される識別マークＭの大きさに対応して予め設定された寸法に隠蔽部ｔ２ａ，ｔ３ｂが形成されている。なお、識別マークＭの大きさがいろいろ異なる場合には、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３は同じ大きさに形成されている必要がなく、識別マークＭに合わせて適宜変更してよい。また、図７に示すように、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３は、隠蔽部ｔ２ａ，ｔ３ａを開口部ｔ２ｂ，ｔ３ｂを介して支えるときに、なるべく隠蔽部ｔ２ａ，ｔ３ａの位置以外では光を遮蔽したくないことと、高速で移動させることに耐えられるように、開口部ｔ２ｂ，ｔ３ｂに亘って細線状の支持線部ｔ２ｃ（ｔ３ｃ）を設ける構成にすると都合がよい。隠蔽部ｔ２ａ，ｔ３ａは、移動したときに水平状態が維持されれば、この細線状の支持線部ｔ２ｃ（ｔ３ｃ）の複数のみで支持する構成としても構わない。なお、隠蔽板Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３は、ここでは、異なる高さにそれぞれは位置されており、交差して移動することができるように構成されている。

以上のように構成された照射領域調整シャッタ機構１０は、隠蔽板移動手段１０Ｂおよび隠蔽板移動手段１０ＣならびにＹ方向移動手段１０Ｄが、以下のように動作する。
すなわち、第２駆動モータ１０Ｂ２および第３駆動モータ１０Ｃ２の駆動により送りネジ１０Ｂ３，１０Ｃ３を回転させることで移動ベース１０Ｂ４，１０Ｃ４を移動させスライド機構１０Ｂ５，１０Ｃ５に沿って隠蔽板Ｔ２、Ｔ３を、照射口９ｍを横切るように移動させる。隠蔽板Ｔ２，Ｔ３の移動は、基板Ｗと同じ速度で同じ方向に移動させ、照射口９ｍを横切ったとき、所定のタイミングで、今まで移動した方向とは反対方向に高速で移動させて照射口９ｍを横切るようにする。なお、Ｙ直線方向における隠蔽板Ｔ２、Ｔ３の位置決めは、隠蔽板移動手段１０Ａにより、第２フレーム体Ｂ１を移動させることにより行っている。また、隠蔽板Ｔ１は、基板Ｗの周辺領域Ｗｃに識別マークが形成されていない場合か、あるいは、移動機構１２による移動により照射口９ｍの一端辺側を位置調整して、かつ、照射口９ｍの他端辺側に紫外線光を照射したくない領域がある場合に当該隠蔽板Ｔ１が使用される。

つぎに、図９を参照して、照射面積調整シャッタ機構１３について説明する。図９は、本装置の照射面積調整シャッタ機構を筐体の一部を切り欠いて模式的に示す断面図である。図９に示すように、照射面積調整シャッタ機構１３は、照射光の照射面積を変更するためのものである。この照射面積調整シャッタ機構１３は、照射用レンズ９ｅを支持する支持体９ｆ側に対面して配置した同じ構成のシャッタ機構１３Ａ，１３Ａが設置されている。そして、シャッタ機構１３Ａは、照射用レンズ９ｅから照射される照射光の幅を調整する幅調整遮光板１３ａと、この幅調整遮光板１３ａを直線的に移動させる幅調整遮光板移動部１３ｂと、この幅調整遮光板移動部１３ｂの駆動力を伝達する送りネジ１３ｃと、この送りネジ１３ｃおよび幅調整遮光板移動部１３ｂを支持して支持体９ｆに固定するフレーム１３ｄと、を備えている。

この照射面積調整シャッタ機構１３は、基板Ｗの移動速度に対応して照射面積が適正な状態となるように、予め制御機構２０からの制御により幅調整遮光板１３ａ，１３ａを移動させる。つまり、一辺側の幅調整遮光板１３と他辺側の幅調整遮光板１３ａとの空間幅を調整する。例えば、レーザビームによって識別マークＭを露光する照射時間相当の移動速度が、紫外線光により周辺領域Ｗｃを露光するときの基準となる移動速度より遅く、過剰露光となる場合には照射面積を基準より小さくする。すなわち、照射面積調整シャッタ機構１３は、照射口９ｍの一辺側あるいは一辺側と他辺側の幅調整遮光板１３ａ，１３ａで覆う面積を多くして、基板Ｗの周辺領域Ｗｃに照射される照射面積を狭くし、基板の移動速度においてトータルの時間で周辺領域Ｗｃの単位面積当たりに紫外線光を照射する総合の照射エネルギーが基準で設定された値と等しくなるように、制御できるように設定されている。
なお、調整遮光板１３ａ，１３ａの基準位置は、例えば、照射口９ｍの一辺側あるいは一辺側と他辺側から一部を覆う位置とすることで、照射面積を大きくあるいは小さく調整することができる。
また、照射面積調整シャッタ機構１３は、どちらか一方のシャッタ機構１３Ａを備える構成としても構わない。照射面積調整シャッタ機構１３は、後記する制御機構２０により基板Ｗの移動速度が設定されたときに当該制御機構２０からの信号により照射面積が決定される。この照射面積の決定を行う具体的な動作については後記する。

つぎに、紫外線光の計測器１１について説明する。図１に示すように、計測器１１は、紫外線照射ユニットから照射される紫外線光の照度を計測するものである。この計測器１１は、照度計測部１１ａと、この照度計測部１１ａを照射光路上となる計測位置、および、退避位置に移動させる照度計測部移動機構１１ｂとを備えている。そして、計測器１１は、計測した計測結果を後記する制御機構２０に送っている。この計測器１１により計測した計測結果は、紫外線照射ユニットの放電灯９ａに印加する電圧あるいは電流を調整することで、照射光を調整するために反映される。計測器１１は、例えば、基板Ｗの周辺領域Ｗｃに対する露光作業が終了したときに、制御機構２０からの信号により計測作業を行い、照射光の計測およびその結果による放電灯９ａの調整が行われて動作するようにここでは構成されている。

図１０を参照して、制御機構２０の構成を説明する。図１０は本装置の制御機構を示すブロック図である。制御機構２０は、図１０に示すように、入力手段２１と、カメラ駆動制御手段２２と、画像データ入力手段２３と、位置検出手段２４と、整合手段２５と、基板位置演算手段２６と、移動搬送機構駆動制御手段２７と、レーザビーム照射駆動制御手段２８と、紫外線照射駆動制御手段２９と、計測手段３０と、記憶手段３１と、を備えている。

入力手段２１は、基板Ｗの品種データ等を入力するためのものである。この入力手段２１は、キーボード、スキャナ、マウス等のデータを入力することができるものであれば、特にその構成を限定されるものではない。

なお、ここで入力される品種データは、基板Ｗのサイズ、パターン領域Ｗｐのサイズおよび位置、周辺領域Ｗｃのサイズおよび位置、識別マーク（文字、記号、図形等）の種類、サイズ、露光位置、露光照度および露光速度、周辺領域Ｗｃ（一方の直線方向と、他方の直線方向）の露光照度（レーザビームおよび紫外線光）等であり、予め入力手段２１から入力されて記憶手段３１に記憶されている。また、本装置１において、レーザビームユニット５の露光速度、露光照度、あるいは、紫外線照射ユニット９の単位面積あたりの露光照度等、周辺露光作業に必要となるデータは入力手段２１から予め入力され記憶手段３１に記憶されている。

カメラ駆動制御手段２２は、撮像手段４を駆動制御するためのものであり、基板Ｗがステージ２に搬入されて保持されることでセンサ等（図示せず）により生じる始動信号、および、位置検出手段２４の信号により、撮像手段４を移動制御している。

画像データ入力手段２３は、撮像手段４により撮像された画像データを入力するためのものであり、入力した画像データを位置検出手段２４に出力している。

位置検出手段２４は、画像データ入力手段２３から送られて来る画像データを解析して位置データとし、基板位置およびステージ位置とを検出するものである。この位置検出手段２４により検出された基板位置およびステージ位置の位置データは、整合手段２５に出力されるとともに、検出が終了したことを示す信号をカメラ駆動制御手段２２に出力している。

整合手段２５は、位置検出手段２４から送られて来た基板位置データおよびステージ位置データに基づいて、移動搬送機構３をどれだけ整合移動すればよいかを演算するため、演算した整合位置データを移動搬送機構駆動制御手段２７に出力している。

基板位置演算手段２６は、整合手段２５から送られてきた基板Ｗの整合位置データと、記憶手段３１に記憶されている基板Ｗの品種データとに基づいて、基板Ｗのレーザビーム照射開始位置、紫外線照射開始位置、移動速度、基板の９０度回転移動位置、９０度回転移動後における移動速度、レーザビーム照射開始位置、紫外線照射開始位置等を演算するものである。

例えば、基板位置演算手段２６は、基板Ｗの品種データである基板サイズ、パターン領域サイズ、周辺領域サイズ、識別マークのサイズ、識別マークの位置を示す各データと、基板Ｗの整合位置データとにより基板Ｗをレーザビームユニット５においてレーザビーム照射開始位置を演算している。また、基板位置演算手段２６は、基板Ｗの移動速度を、識別マークのサイズと、識別マークの露光照度とにより演算している。この基板位置演算手段２６で演算された結果は、移動搬送機構駆動制御手段２７に出力されている。

また、基板位置演算手段２６は、移動搬送機構駆動制御手段２７から送られてくる基板位置データを反映させて、前記した各位置および移動速度等を演算している。

移動搬送機構駆動制御手段２７は、整合手段２５または基板位置演算手段２６から送られて来る各データに基づいて、移動搬送機構３を駆動制御する。この移動搬送機構駆動制御手段２７は、移動搬送機構３を駆動制御した結果、レーザビームを照射するタイミング及び紫外線を照射するタイミング、シャッタ機構１０を制御するタイミング等を示す移動指示データをレーザビーム照射駆動制御手段２８および紫外線照射駆動制御手段２９に送っている。

レーザビーム照射駆動制御手段２８は、記憶手段３１に予め記憶されている基板Ｗの品種データと、移動搬送機構駆動制御手段２７から送られてくる基板Ｗの位置データに基づいて、レーザビームユニット５を駆動制御する。このレーザビーム照射駆動制御手段２８は、レーザビームの照射を終了することを示す照射停止信号をレーザビームユニット７に出力するとともに、計測手段３０から送られて来る計測結果データに基づいて、レーザビームユニット７を調整する。なお、レーザビーム照射駆動制御手段２８は、計測結果データに基づいて、具体的には、レーザビームユニット７のレーザビーム光源５ａ，音響光学素子７ａあるいはビームエキスパンダ８ｃをそれぞれ予め設定されたレーザビームの状態（照度、照射面積等）になるように適宜調整することも行っている。

紫外線照射駆動制御手段２９は、記憶手段に予め記憶されている基板Ｗの品種データと、移動搬送機構駆動制御手段２７から送られてくる基板Ｗの位置データに基づいて、紫外線照射ユニット９（照射領域調整シャッタ機構１０および照射面積調整シャッタ機構１３を含む）を駆動制御するものである。この紫外線照射駆動制御手段２９は、紫外線光の照射を停止する（光路シャッタ機構による光路の遮断）照射停止信号を紫外線照射ユニット９に出力するとともに，計測手段３０から送られて来る計測結果データに基づいて、紫外線照射ユニット９を調整する。なお、紫外線照射駆動制御手段２９は、計測結果データに基づいて、放電灯９ａの入力電圧あるいは入力電流を調整することで予め設定された光照度の状態に調整する。

計測手段３０は、光路長調整ユニット６、レーザビーム測定調整機構８および計測器１１からの計測データをレーザビーム照射駆動制御手段２８と紫外線照射駆動制御手段２９に出力するものである。

また、記憶手段３１は、基板Ｗの品種データを記憶するためのものであり、ハードディスク等のデータを記憶することができるものであれば、その構成を限定されるものではない。

つぎに、本装置１の動作について、図１１、図１２、図１３を主として適宜図１から図１０を参照して説明する。なお、図１１は、レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の動作を示すフローチャート、図１２は基板の端部側における周辺領域を所定波長の紫外線を含む光で露光している状態を模式的に示す斜視図、図１３は、基板の中央側における周辺領域を所定波長の紫外線を含む光で露光している状態を模式的に示す斜視図である。ここで示す図１３では、分かりやすいように、隠蔽板Ｔ１の上下方向における位置が、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３より下に示して説明するが、実際の構成は、図７および図８に示すように、隠蔽板Ｔ１が隠蔽板Ｔ２，Ｔ３より上に配置されている。

図１１に示すように、本装置１は、はじめに、図示しないハンドラ等により基板の底面を吸着保持された状態でステージ２に基板Ｗがステージ２上に搬入される（Ｓ１）。そして、ステージ２に基板Ｗが搬入されると、支持柱２ｂの先端に形成されている吸着用開口部２ｃにより基板Ｗが吸着されることでステージ２に基板Ｗが保持される（搬入ステップＳ２）。なお、ここでは、基板Ｗの搬入が行われるときには、移動搬送機構３は、その第２移動ガイド機構３ＢによりＹ直線方向にステージ２を移動させて基板Ｗを受取りに行くようにしている。

ステージ２に基板Ｗが保持されると、始動信号が制御機構２０のカメラ駆動制御手段２２に送られ撮像手段４を予め設定された基準位置に移動させるとともに、移動搬送機構３を基準位置に移動させ、撮像手段４によりステージ２の位置決めマーク２ｄを撮影するとともに、基板Ｗの予め設定された位置に撮像手段４を移動させ、例えば、基板エッジ部分（あるいはアライメントマーク（図示せず））を撮影して、画像データを制御機構２０に画像データ入力手段２３により入力するとともに、位置検出手段２４により、入力された画像データを解析して基板位置およびステージ位置を検出する（検出ステップＳ３）。

基板Ｗおよびステージ２の位置が検出されると、それぞれの位置に基づいてステージ２を整合移動して整合手段２５、移動搬送機構駆動制御手段２７等を介して移動搬送機構３を作動させ整合作業が行われる（整合ステップＳ４）。この整合作業では、基板Ｗのθ方向における整合移動を行っており、その後、基板ＷをＸ直線方向およびＹ直線方向に移動したときにレーザビームの照射および紫外線光の照射が行うことができる相対的な位置に基板Ｗを整合移動させている。

そして、制御機構２０の整合手段２５は、整合された基板Ｗの整合位置を基板位置演算手段２６に出力するとともに、移動搬送機構駆動制御手段２７に出力している。基板位置演算手段２６では、送られて来た基板Ｗの整合位置データと、記憶手段３１に記憶されている基板Ｗの品種データに基づいて、基板Ｗのレーザビーム照射における移動位置（レーザビーム照射開始位置）および移動速度を演算する（演算ステップＳ５）。このとき、後記する基板Ｗを９０度回転移動したときの移動位置および移動速度についても演算している。

基板Ｗの移動位置および移動速度が演算されると、移動搬送機構駆動制御手段２７により移動搬送機構の第１移動ガイド機構３Ａ（あるいは第２移動ガイド機構３Ｂ）を介して、Ｘ直線方向（あるいはＹ直線方向）に基板Ｗを保持したステージ２を移動させ、レーザビームユニット５の直下における所定位置（例えば基板Ｗの周辺領域Ｗｃにおける識別マークの先頭位置）に搬送する（Ｓ６）。基板Ｗが所定位置に搬送されると、基板Ｗを所定速度で移動させるとともに、レーザビームユニット５を作動させ、各レーザビームヘッド５Ａ,５Ａ、５Ａからレーザビームを照射して識別マークを順次露光していく（レーザビーム照射ステップＳ７）。

レーザビームを照射する際には、基板Ｗを移動させる移動搬送機構３の移動速度と、レーザビームによる露光を行う露光スピードとを同期させて行うようにしている。つまり、音響光学素子７ａ（ＡＯＭ）とガルバノミラユニット７ｃ（ガルバノミラー）とを同期させ、ＡＯＭが高速シャッタからの１次光を回折してマーキング光を確保することで、高速露光を可能にしている。そのため、レーザビームの照射を行っているときに基板Ｗを停止することなく所定の速度で移動させることができる。

このとき、本装置１は、紫外線照射ユニット９側では、制御機構２０により、記憶手段３１に記憶されている基板Ｗの品種データと、移動搬送機構駆動制御手段２７から送られる基板Ｗの位置データに基づいて、移動機構１２を介して筐体９ｋをＹ直線方向に移動させ、照射口９ｍの一端辺側が、基板Ｗのパターン領域Ｗｐを隠蔽して周辺領域Ｗｃ側に光照射できる位置に位置合わせされて調整される（Ｓ８）（図１２（ａ）参照）。それとともに、制御機構２０は、基板Ｗの周辺領域Ｗｃに識別マークＭ１がレーザビームの照射により露光されて紫外線照射ユニット９側に送られて来たときに、紫外線光の照射場所が、基板Ｗの両側における周辺領域Ｗｃである場合には、照射領域調整シャッタ機構１０の隠蔽板Ｔ１を使用せずに、隠蔽板Ｔ２、Ｔ３を使用するように照射領域調整シャッタ機構１０を制御して周辺露光を行う準備をする。そして、実際に基板Ｗが紫外線照射ユニット９の紫外線光の照射開始位置に到達したときに、光路シャッタ機構９ｃを動作させ、紫外線光を基板Ｗの周辺領域Ｗｃに隠蔽板Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３のいずれかを使用して紫外線光を照射する（紫外線照射ステップＳ１０）。

基板ＷのＸ直線方向における識別マークＭ１およびその周辺領域Ｗｃが露光されると、基板Ｗは、Ｘ直線方向（一方の直線方法）と、Ｙ直線方向（他方の直線方向）と、の両方の周辺領域Ｗｃが露光終了したかを判定して（Ｓ１１）（例えば、第３移動ガイド機構３Ｃの基板Ｗ一枚に対する作動状態により）「Ｎｏ」であるときには、Ｘ直線方向における移動終端あるいは整合作業を行った移動始端まで一旦もどされて、その移動終端あるいは移動始端のいずれかにおいて、移動搬送機構３の第３移動ガイド機構３Ｃにより、ステージ２を９０度回転させ、基板Ｗを９０度回転移動させる（Ｓ１２）。そして、前記したよ
うに、ステップ６（Ｓ６）からステップ１０（Ｓ１０）までの作業を同様に行うことで基板Ｗの周辺領域Ｗｃにおいて識別マークＭ２を露光するとともに、残りの周辺領域Ｗｃを露光することで基板Ｗの全ての周辺領域Ｗｃについての周辺露光を終了する。

基板Ｗの周辺露光が終了すると、基板Ｗは、基板Ｗの移動終端側に形成した搬出口側（図示せず）から、あるいは、基板Ｗを搬入した搬入口側からロボットハンド（図示せず）により搬出される（Ｓ１３）。そして、新たな基板Ｗが搬入され、前記した各ステップＳ１〜Ｓ１３を繰り返すことで、適宜基板Ｗの周辺露光作業を行う。

ここで、ステージ２の移動速度について説明する。
制御機構２０の移動搬送機構駆動制御手段２７は、あらかじめ設定された照射エネルギー基づいて基板Ｗの移動速度を決定する。しかし、識別マークＭの領域が大きかったり、レジストインクの必要露光量が大きかったりすると、レーザビームユニット５によるマーキングに時間がかかることがある。このような場合には、移動搬送機構駆動制御手段２７は、レーザビームユニット５のマーキングに必要な時間を計算して、基板Ｗの移動速度Ｓａを決定する。一方、基板Ｗの移動速度Ｓａでは、紫外線照射ユニット９における周辺露光が過剰露光になってしまう場合がある。このため、紫外線照射駆動制御手段２９は、基板Ｗの移動速度Ｓａを移動搬送機構駆動制御手段２７から受け取る。そして、照射領域調整シャッタ機構１０は、幅調整遮光板１３ａの位置を調整する。
逆に、紫外線に対するレジストインクの必要露光量の関係で、移動搬送機構駆動制御手段２７は、紫外線照射ユニット９における露光時の基板Ｗの移動速度Ｓｂを決定することもある。この場合には、レーザビーム照射駆動制御手段２８は、基板Ｗの移動速度Ｓｂを移動搬送機構駆動制御手段２７から受け取る。そして、レーザビームユニット５は、移動速度Ｓｂに合わせたレーザビームの強度を決定する。

たとえば、移動搬送機構駆動制御手段２７から送られて来た信号が移動速度Ｓａであった場合は、その移動速度Ｓａに対応して照射面積調整シャッタ機構１３の照射面積を、紫外線照射駆動制御手段２９を介して制御する。すなわち、移動速度Ｓａに対して照射面積がどれだけあれば適正な露光状態となるのかを、紫外線照射駆動制御手段２９は、例えば、予め設定されている演算式の中に移動速度Ｓａを代入することで、照射面積を演算しその演算結果から幅調整遮光板１３ａの移動量（移動位置）を求め、幅調整遮光板移動部１３ｂを制御している。

また、移動搬送機構駆動制御手段２７から送られて来た信号が移動速度Ｓｂであった場合は、レーザビーム照射駆動制御手段２８は、レーザビーム光源５ａへ励起光量を変えることによってレーザビーム強度を変更したり、またはレーザビームの繰り返し周波数を変えることによってレーザビームの積算強度を変更したり、音響光学素子７ａの変調によりレーザビーム強度を変えて、移動速度Ｓｂに対応することができる。さらに、その移動速度Ｓｂに対応してガルバノミラユニット７ｃにおけるレーザビームの反射方向を、移動速度Ｓｂに対応するように、レーザビーム照射駆動制御手段２８を介して制御している。
このようにして、レーザビーム照射駆動制御手段２８と、紫外線照射駆動制御手段２９とは、基板Ｗの移動速度に対応して動作するように構成されている。なお、移動速度Ｓａと移動速度Ｓｂが同じ場合には、それぞれのユニット５，９において、基準として設定されている動作により露光作業が行われるように制御される。

つぎに、具体的に基板Ｗの周辺領域Ｗｃを露光する場合について、図１２および図１３を参照してさらに説明する。すなわち、図１２（ａ）、（ｂ）に示すように、照射領域調整シャッタ機構１０は、隠蔽板Ｔ２を隠蔽板移動手段１０ＡによりＹ直線方向にスライド機構１０Ａ５を介して位置合わせを行い、隠蔽板Ｔ２の隠蔽部ｔ２ａの位置を、識別マークＭ１の位置に重なり光を遮光する位置とする。なお、ここでは、隠蔽部ｔ２ａは、識別マークＭ１，Ｍ２と同じ面積となるものが予め取り付けられている。紫外線照射ユニット９は、基板Ｗの周辺領域Ｗｃが照射口９ｍに近づいたら、光路シャッタ機構９ｃを作動させ遮光板９ｃ１を光路から退避するように移動させることで、放電灯９ａ側からの紫外線光を周辺領域Ｗｃに照射している。

そして、識別マークＭ１の位置が基板Ｗの移動とともに送られてくると、その識別マークの位置に重なっている隠蔽板Ｔ２の隠蔽部ｔ２ａが、基板Ｗの移動速度と同期した速度
で照射口９ｍを横切るように移動し、識別マークＭ１を隠蔽した状態で、残りの周辺領域Ｗｃに紫外線光が照射されて周辺露光を行っている。

また、図１２（ｃ）に示すように、基板Ｗの周辺領域Ｗｃにおいて、つぎの識別マークＭ１が照射口９ｍに連続しているときのために、隠蔽板Ｔ３が隠蔽板Ｔ２と同様に識別マークＭ１と重なる位置として、基板Ｗの移動速度と同期させて移動することで、つぎの識別マークＭ１を隠蔽した状態で、残りの周辺領域Ｗｃに紫外線光を照射して周辺露光を行っている。

さらに、図１２（ｄ）に示すように、すでに一度、照射口９ｍを横切って識別マークＭ１を隠蔽した隠蔽板Ｔ２は、所定のタイミングで基板Ｗの移動方向とは反対方向で照射口９ｍを再び横切るように高速で移動させる。なお、このとき、基板Ｗの周辺領域Ｗｃの露光作業が行われているが、照射口９ｍを横切るときに高速で移動させることから、周辺領域Ｗｃに対する露光作業の妨げになることはない。そして、隠蔽板Ｔ２は、先ほどと同じように、３つめの識別マークＭ１に重なる位置に位置決めされ、基板Ｗと同じ移動速度で照射口９ｍを横切るように移動することで、識別マークＭ１を隠蔽して他の周辺領域Ｗｃを露光することができる。

このように、照射領域調整シャッタ機構１０は、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３により識別マークを隠蔽（遮光）するときには、基板Ｗと同じ移動速度で移動して照射口９ｍを横切り、つぎの識別マークに対応するときには、基板Ｗの移動方向とは反対方向に高速で照射口９ｍを横切るように移動することを繰り返し行うことで、識別マークＭ１（Ｍ２）の数が増えても対応することが可能となる。

また、図１３（ａ）〜（ｄ）に示すように、基板Ｗの周辺領域Ｗｃの両側にパターン領域が存在する場合には隠蔽板Ｔ１を、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３と合わせて使用することで対応している。

図１３（ａ）に示すように、はじめに、移動機構１２を介して筐体９ｋをＹ直線方向に移動させ、照射口９ｍの一端が、基板Ｗのパターン領域Ｗｐを隠蔽できる位置に調整する。そして、隠蔽板Ｔ１を使用するときには、第２フレーム体１０Ｂ１をスライド機構１０Ａ５に沿って所定位置に移動させ、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３のＹ直線方向の位置決めを行う。さらに、Ｙ方向移動手段１０Ｄを介して、隠蔽板Ｔ１をＹ直線方向に移動させてパターン領域Ｗｐが隠蔽できる位置まで送り出し、周辺領域Ｗｃの反対側のパターン領域Ｗｐに光照射できないように照射口９ｍのＹ直線方向における所定幅を遮光する。

そして、照射口９ｍの照射面積を隠蔽板Ｔ１で狭めた状態において、隠蔽板Ｔ２，Ｔ３を使用して、図１２（ｂ）〜（ｄ）ですでに説明したようにして、識別マークＭ１を遮蔽しながら周辺領域Ｗｃを露光することで、周辺領域Ｗｃの両側にパターン領域Ｗｐが配置された状態の周辺露光を行っている。なお、照射領域調整シャッタ機構１０の制御は、制御機構２０の紫外線照射駆動制御手段２９により、基板Ｗの品種データおよび基板Ｗの位置データに基づいて、適宜行われている。

基板ＷのＸ直線方向における識別マークＭ１およびその周辺領域Ｗｃが露光されると、基板Ｗは、Ｘ直線方向（一方の直線方法）と、Ｙ直線方向（他方の直線方向）と、の両方の周辺領域Ｗｃが露光終了したかを判定して（Ｓ１１）（例えば、第３移動ガイド機構３Ｃの基板Ｗ一枚に対する作動状態により）「Ｎｏ」であるときには、Ｘ直線方向における移動終端あるいは整合作業を行った移動始端まで一旦もどされて、その移動終端あるいは移動始端のいずれかにおいて、移動搬送機構３の第３移動ガイド機構３Ｃにより、ステージ２を９０度回転させ、基板Ｗを９０度回転移動させる。そして、前記したように、ステ
ップ６（Ｓ６）からステップ１０（Ｓ１０）までの作業を同様に行うことで基板Ｗの周辺領域Ｗｃにおいて識別マークＭ２を露光するとともに、残りの周辺領域Ｗｃを露光することで基板Ｗの全ての周辺領域Ｗｃについての周辺露光を終了する。

基板Ｗの周辺露光が終了すると、基板Ｗは、基板Ｗの移動終端側に形成した搬出口側（図示せず）から、あるいは、基板Ｗを搬入した搬入口側からロボットハンド（図示せず）により搬出される。

なお、基板Ｗの種類によっては、図３で示す基板Ｗの真ん中の周辺領域Ｗｃに識別マークが形成されないものもあり、その場合には、図１３において、隠蔽板Ｔ１のみによりＹ直線方向における照射口９ｍの光の遮蔽を行うことで周辺露光を終了することができる。

なお、基板Ｗの種類によっては、９０度回転させたときに、図３に示すような、識別マークＷ２がない状態のものがある。そのような識別マークＭ２がない基板Ｗでは、レーザビームを使用することなく、紫外線照射ユニット９側の紫外線光の照射のみでよいため、移動機構１２による筐体９ｋの位置合わせと、照射領域調整シャッタ機構１０の隠蔽板１の位置合わせとにより、紫外線光の露光作業を行うことができる。そのため、基板Ｗの移動速度が基板Ｗのはじめの状態と変えて行うように、制御機構２０が基板Ｗの品種データにより制御している。このように、識別マークＭ２がない状態であるため、９０度回転したときの基板Ｗの移動速度は、照射口９ｍにおいて、照射面積調整シャッタ機構１３による照射面積が最大になる状態において設定され、露光作業の効率が上がるように設定されている。

また、本装置１においては、紫外線照射ユニット９は、基板Ｗの周辺領域Ｗｃにおける周辺露光が終了して、つぎの基板Ｗが搬送される前に、計測器１１により照度が計測されている。
本装置１は、計測器１１の照度計測部移動機構１１ｂにより照度計測部１１ａを退避位置から測定位置に移動させ、照射口９ｍの直下に位置させる。そして、本装置１は、光路シャッタ機構９ｃの遮光板９ｃ１を作動させ照射口９ｍから照度計測部１１ａに光照射を行い光の照度を測定している。そして、測定した測定結果は、制御機構２０の計測手段３０から紫外線照射駆動制御手段２９に送られ、放電灯９ａに対する電流あるいは電圧の調整が行われ照度が調整される。

本装置１は、レーザビームユニット５においても、基板Ｗがレーザビームを照射する位置にないときに、レーザビームの状態を、ＣＣＤ撮像素子６ｂおよびパワーメータ６ｃ、あるいは、パワーメータ８ａおよびＣＣＤ撮像素子８ｂにより行っており、例えば、レーザビーム光源５ａの調整、音響光学素子７ａの調整、あるいは、ビームエキスパンダ８ｃの調整のいずれか一つ以上を行うことで、レーザビームを常に適正な状態に維持している。

なお、本装置１は、図１４に示すように、レーザビームユニット５の代わりにレーザビームユニット１５の構成としても構わない。図１４はレーザビームユニットの他の構成を模式的に示す側面図である。なお、光路長調整ユニット６の構成においては図５で示すものと変わらないため、説明を省略する。

レーザビームユニット１５のレーザ照射ユニット１７（ここでは３基）は、それぞれ同じ構成に形成されており、光路長調整ユニット６から光ファイバ１５ａを介してレーザビームが送られてくるように構成されている。

レーザ照射ユニット１７は、光ファイバ１５ａからのレーザビームを所定方向に反射す
る反射鏡１７ａと、この反射鏡１７ａにより反射されたレーザビームを所定のレーザビーム径として反射するデジタルマイクロミラーディバイス１７ｂと、このデジタルマイクロミラーディバイス１７ｂから反射されたレーザビームを所定のビーム径にして基板Ｗの周辺領域Ｗｃに照射するためのビーム照射用レンズ１７ｃ、１７ｄとを備えている。

なお、デジタルマイクロミラーディバイス１７ｂは、レーザビームを反射する微小なミラー１７ｂ１と、このミラー１７ｂ１を一端側で支持するトーションピン１７ｂ２と、このトーションピン１７ｂ２の他端側に設けたヨーク１７ｂ３等を備え、トーションピン１７ｂ２支軸により所定角度（例えば、プラス１２度およびマイナス１２度）に傾斜できるように構成されているため、ヨーク１７ｂ３に流れる電流の状態で、トーションピン１７ｂ２がミラー１７ｂ１を所定角度に傾斜させることで、反射光の方向を制御するものである。

このデジタルマイクロミラーディバイス１７ｂを用いることで、レーザ照射ユニット１７は、レーザビームにより所望の識別マークＭを基板Ｗの周辺領域Ｗｃに照射して露光することができるものである。

以上説明したように、本装置１は、各構成において同じ機能を発揮できる状態であれば、その設置位置等が変更されていても構わない。例えば、照射面積調整シャッタ機構１３は、筐体９ｋの照射口９ｍの外側に設置され、その照射口９の下側から遮光する構成としても構わない。また、紫外線照射ユニット９の数は、１つ、あるいは、３つ、４つとしても構わない。さらに、レーザビームユニット９のレーザ照射ユニット７は、３つ以上としてもよく、レーザビーム光源５ａは、複数として、レーザ照射ユニット７を３つ以上としても構わない。

本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の一部を省略して側面方向から装置内を模式的に示す断面図である。 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の一部を省略して背面方向からの装置内を模式的に示す断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置で使用される基板の一例を示す平面図である。 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置のステージを示す斜視図である。 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置のレーザビームユニットの構成を模式的に示す模式図である。 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の紫外線照射ユニットの構成を、一部を切欠いて示す断面図である。 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の照射領域調整シャッタ機構の全体を筐体の一部を切り欠いて模式的に示す斜視図である。 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の照射領域調整シャッタ機構のＸ直線方向における移動を行う構成部分を模式的に示す分解斜視図である。 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の照射面積調整シャッタ機構を筐体の一部を切り欠いて模式的に示す断面図 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の制御機構を示すブロック図である。 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の動作の流れを示すフローチャートである。 （ａ）〜（ｄ）は、本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の周辺露光作業の状態を模式的に示す斜視図である。 （ａ）〜（ｄ）は、本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の周辺露光作業の状態を模式的に示す斜視図である。 本発明に係るレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置のレーザビームユニットの他の構成を模式的に示す側面図である。

符号の説明

１…レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置（本装置）
２…ステージ
２ａ…基台 ２ｂ…支持柱 ２ｃ…吸着用開口部
２ｄ…位置決めマーク
３…移動搬送機構
３Ａ…第１移動ガイド機構 ３Ａ…第３移動ガイド機構 ３Ｂ…第２移動ガイド機構
３Ｃ…第３移動ガイド機構 ３ａ…リニアモータ ３ｂ…移動レール
４…撮像手段
５…レーザビームユニット
５Ａ…レーザビームヘッド ５ａ…レーザビーム光源 ５ｂ…光路調整反射鏡
６…光路長調整ユニット
６ａ…分岐手段 ６ｂ…ＣＣＤ撮像素子 ６ｃ…パワーメータ
７…レーザ照射ユニット
７ａ…音響光学素子 ７ｂ…反射鏡 ７ｃ…ガルバノミラユニット
７ｄ…ｆθレンズ
８…レーザビーム測定調整機構
８ａ…パワーメータ ８ｂ…ＣＣＤ撮像素子 ８ｃ…ビームエキスパンダ
９ 紫外線照射ユニット
９ｃ１…遮光板 ９ｃ２…駆動部 ９ａ…放電灯
９ｂ…楕円反射鏡 ９ｃ…光路シャッタ機構 ９ｄ…フライアイレンズ
９ｅ 照射用レンズ ９ｋ…筐体 ９ｍ…照射口
１０…照射領域調整シャッタ機構
１０Ａ…隠蔽板移動手段（第３移動手段） １０Ａ１…第１フレーム体
１０Ａ２…第１駆動モータ １０Ａ３…ネジ １０Ａ４…移動ベース
１０Ａ５…スライド機構１０Ａ６…案内レール １０Ａ７…移動部
１０Ｂ…隠蔽板移動手段（第１移動手段） １０Ｂ１…第２フレーム体
１０Ｂ２…第２駆動モータ １０Ｂ３…ネジ １０Ｂ４…移動ベース
１０Ｂ５…スライド機構１０ｂ１…フレーム体 １０Ｂ６…案内レール
１０Ｂ７…移動部 １０Ｃ…隠蔽板移動手段（第４移動手段）
１０Ｃ２…第３駆動モータ １０Ｄ…Ｙ方向移動手段（第２移動手段）
１０ａ…板フレーム １０ｂ…板フレーム １０ｄ…板フレーム
１０ｅ…板フレーム １０Ｄ２…第４駆動モータ １０Ｄ３…送りネジ
１０Ｄ４…移動部
１１…計測器
１１ａ…照度計測部 １１ｂ…照度計測部移動機構
１２…移動機構
１２ａ…リニアモータ １２ｂ…案内レール
１３…照射面積調整シャッタ機構
１３ａ…幅調整遮光板 １３ｂ…幅調整遮光板移動部
１５…レーザビームユニット
１５ａ…光ファイバ
１７…レーザ照射ユニット
１７ｂ１…ミラー １７ｂ２…トーションピン １７ｂ３…ヨーク
１７ａ 反射鏡 １７ｂ…デジタルマイクロミラーディバイス
１７ｃ ビーム照射用レンズ
２０…制御機構
２１…入力手段 ２２…カメラ駆動制御手段 ２３…画像データ入力手段
２４…位置検出手段 ２５…整合手段 ２６…基板位置演算手段
２７…移動搬送機構駆動制御手段 ２８…レーザビーム照射駆動制御手段
２９…紫外線照射駆動制御手段 ３０…計測手段 ３１…記憶手段
Ａ１…支持フレーム
Ｂ１…第２フレーム体
Ｍ …識別マーク
Ｍ１…識別マーク
Ｍ２…識別マーク
Ｔ１…隠蔽板（パターン領域隠蔽板）
Ｔ２…隠蔽板（第１識別マーク隠蔽板）
Ｔ３…隠蔽板（第２識別マーク隠蔽板）
Ｗ …基板
Ｗｐ…パターン領域
Ｗｃ…周辺領域
ｂ１，ｃ１…ベース本体
ｂ２，ｃ２…接続片
ｔ２ｂ，ｔ３ｂ…開口部
ｔ２ｃ，ｔ３ｃ…支持線部
ｔ２ａ，ｔ３ａ…隠蔽部

Claims (6)

1. 基板を所定の移動方向に沿って移動させ当該基板のパターン領域の周囲に形成される周辺領域にレーザビームを照射して識別マークを露光すると共に、前記周辺領域に紫外線を含む光を照射して露光するレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置において、
   前記基板を保持するステージと、
   前記基板の面に対して直交する垂線の垂線回りとなる回転方向、前記移動方向および前記移動方向に直交する直交方向に、前記ステージを移動する移動搬送機構と、
   この移動搬送機構の移動経路上において前記基板の上方となる位置に設けられ、レーザビームを照射するレーザビームユニットと、
   このレーザビームユニットに隣り合う位置で前記基板の上方となる位置に設けられ、前記周辺領域に紫外線を含む光を照射口から照射する紫外線照射ユニットと、
   前記レーザビームを照射する際に前記ステージを移動させる第一移動速度と、前記紫外線を含む光を照射する際に前記ステージを移動させる第二移動速度とのいずれか一方に合わせて、前記移動搬送機構を制御する制御手段と、
   を有することを特徴とするレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置。
2. 前記紫外線照射ユニットは、前記第一移動速度に基づいて、照射面積を調整する照射面積調整シャッタ機構を有することを特徴とする請求項１に記載のレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置。
3. 前記照射面積調整シャッタ機構は、前記照射口を部分的に遮光する幅調整遮光板と、この幅調整遮光板を移動させる幅調整遮光板移動部とを備えることを特徴とする請求項２に記載のレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置。
4. 前記レーザビームユニットは、前記第二移動速度に基づいて、前記レーザビームの強度を変更する変更手段を備えることを特徴とする請求項１に記載のレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置。
5. 前記変更手段は、前記レーザビームへの励起光量の変更、前記レーザビームのパスル間隔の変更、または前記レーザビームの変調の変更の少なくとも一つの変更により、前記レーザビームの強度を変更することを特徴とする請求項４に記載のレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置。
6. 基板のパターン領域の周囲に形成される周辺領域にレーザビームを照射して識別マークを露光すると共に、前記周辺領域に紫外線を含む光を照射して露光するレーザビーム・紫外線照射周辺露光方法であって、
   前記識別マークを露光する際の前記基板の第一移動速度を演算する第一演算ステップと、
   前記紫外線を照射する際の前記基板の第二移動速度を演算する第二演算ステップと、
   前記第一移動速度に基づいて前記レーザビームの強度を決定して前記基板の周辺領域に識別マークを露光する、または前記第二移動速度に基づいて紫外線を含む光の照射面積を決定するステップと、
   を含むことを特徴とするレーザビーム・紫外線照射周辺露光方法。