JP2007131894A - 導電性金属酸化物薄膜の除去方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材11の表面に形成された導電性金属酸化物薄膜12に対向すべく、正電極13と負電極14を交互に複数対配置する。その後、これらの正電極13、負電極14と導電性金属酸化物薄膜12の間に電解液15を介在させた状態で、両電極13,14に電源16から電圧を印加する。このような操作によって、基材11表面の導電性金属酸化物薄膜12を還元反応により除去する。
【効果】疵や応力変形を生じさせずに導電性金属酸化物薄膜を基材の端部まで効率良く除去でき、高価な機能性ガラス基板などの再生利用が可能になる。
【選択図】図4
Description
基材に擦過痕や応力変形などを残さず、かつ、強酸や強アルカリの化学液を使用しないで、基材の導電性金属酸化物薄膜を基材の端部まで、僅かな残留膜もなく、効率良く除去するために、
基材の表面に形成された導電性金属酸化物薄膜に対向すべく、正電極と負電極を交互に複数対配置した後、
これらの正電極、負電極と前記導電性金属酸化物薄膜間に電解液を介在させた状態で、前記両電極に電圧を印加することで、前記基材表面の導電性金属酸化物薄膜を還元反応により除去することを最も主要な特徴としている。
基材の表面に形成された導電性金属酸化物薄膜に対向すべく、交互に複数対配置された正電極及び負電極と、
これら正電極、負電極と前記基材の表面に形成された導電性金属酸化物薄膜間に電解液を供給する手段、或いは、前記の正電極、負電極と基材を電解液内に浸漬すべく電解液を貯留する電解液槽と、
これらの正電極と負電極に電圧を印加する電源を備えた本発明装置を使用することによって実施できる。
本発明は、基材への疵や応力変形などを残さない加工法で、かつ、強酸や強アルカリを使用しない導電性金属酸化物薄膜の除去方法である。
なお、ここでの電解反応は導電性金属酸化物薄膜界面のごく微量な領域にH2の発生を生じさせるもので良いため、電流はほとんど必要としない。
12 導電性金属酸化物薄膜
12a 導電性金属
13 正電極
14 負電極
15 電解液
16 電源
18 回転スポンジ体
Claims (8)
- 基材の表面に形成された導電性金属酸化物薄膜に対向すべく、正電極と負電極を交互に複数対配置した後、
これらの正電極、負電極と前記導電性金属酸化物薄膜間に電解液を介在させた状態で、前記両電極に電圧を印加することで、前記基材表面の導電性金属酸化物薄膜を還元反応により除去することを特徴とする導電性金属酸化物薄膜の除去方法。 - 前記の正電極及び負電極を、前記導電性金属酸化物薄膜との相対位置を変化すべく、隣接する電極方向に移動させることを特徴とする請求項1に記載の導電性金属酸化物薄膜の除去方法。
- 前記電解液は、抵抗率が103Ω・cmから106Ω・cmのものを使用することを特徴とする請求項1又は2に記載の導電性金属酸化物薄膜の除去方法。
- 請求項1に記載の導電性金属酸化物薄膜の除去方法を実施する装置であって、
基材の表面に形成された導電性金属酸化物薄膜に対向すべく、交互に複数対配置された正電極及び負電極と、
これら正電極、負電極と前記基材の表面に形成された導電性金属酸化物薄膜間に電解液を供給する手段、或いは、前記の正電極、負電極と基材を電解液内に浸漬すべく電解液を貯留する電解液槽と、
これらの正電極と負電極に電圧を印加する電源を備えたことを特徴とする導電性金属酸化物薄膜の除去装置。 - 前記の交互に複数対配置した正電極及び負電極は、線状又は板状のものを1列に配置したものであることを特徴とする請求項4に記載の導電性金属酸化物薄膜の除去装置。
- 前記線状又は板状のものを1列に配置した正電極及び負電極は、基材に対して斜めに配置したものであることを特徴とする請求項5に記載の導電性金属酸化物薄膜の除去装置。
- 前記の交互に複数対配置した正電極及び負電極は、前記導電性金属酸化物薄膜に対向すべく配置された平面状の負電極を複数列の正電極が貫通するように配置したものであることを特徴とする請求項4に記載の導電性金属酸化物薄膜の除去装置。
- 請求項5〜7の何れかに記載の導電性金属酸化物薄膜の除去装置において、
前記の正電極と負電極を、前記導電性金属酸化物薄膜との相対位置を変化すべく、隣接する電極方向に移動させる移動装置を備えたことを特徴とする導電性金属酸化物薄膜の除去装置。
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JPS63186899A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-02 | Asahi Glass Co Ltd | 酸化スズの溶解方法 |
JPH07207500A (ja) * | 1994-01-18 | 1995-08-08 | Nishiyama Stainless Chem Kk | ガラス板の再生方法及びその装置 |
JP2003268600A (ja) * | 2002-03-14 | 2003-09-25 | Nishiyama Stainless Chem Kk | 極性高速反転による電解剥離法 |
JP2004137545A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Nippon Steel Corp | 金属ストリップの連続処理用電極 |
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JPS5175638A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-06-30 | Stanley Electric Co Ltd | Musetsuzokushikidenkaietsuchinguhoho |
JPS63186899A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-02 | Asahi Glass Co Ltd | 酸化スズの溶解方法 |
JPH07207500A (ja) * | 1994-01-18 | 1995-08-08 | Nishiyama Stainless Chem Kk | ガラス板の再生方法及びその装置 |
JP2003268600A (ja) * | 2002-03-14 | 2003-09-25 | Nishiyama Stainless Chem Kk | 極性高速反転による電解剥離法 |
JP2004137545A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Nippon Steel Corp | 金属ストリップの連続処理用電極 |
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