JP2007123608A - デバイス製造処理システム、露光装置及び露光方法、測定検査装置及び測定検査方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】各デバイス製造処理装置(露光装置13、インライン事前測定検査装置14a、インライン事後測定検査装置14b等)は、オプティカルチャネルボード20を備えており、このオプティカルチャネルボード20を介して高速通信ネットワークN2に接続されている。各オプティカルチャネルボード20は、CPU22、共有メモリ23、及び共有ディスク24を備えており、各CPU22の制御によって共有メモリ23及び共有ディスク24の内容が各デバイス製造処理装置間で共有される。
【選択図】図2
Description
上記課題を解決するために、本発明の第1の観点によるデバイス製造処理システムは、所定のデバイス製造処理動作を制御する第1制御部(MC)を備え、前記所定のデバイス制御処理動作を実行する第1デバイス製造処理装置(13)と、前記第1デバイス製造処理装置の外部に配置されて、前記デバイス製造処理動作に関係する情報を記憶する第1記憶装置(23、24、63、64)と、前記第1制御部と前記第1デバイス製造処理装置外部の前記第1記憶装置との間を接続する高速通信ネットワーク(N2)とを含むことを特徴としている。
この発明によると、第1デバイス製造処理装置に設けられた第1制御部と、第1デバイス製造処理装置の外部に配置されて所定のデバイス製造処理動作に関する情報を記憶する第1記憶装置とが高速通信ネットワークによって接続されており、所定のデバイス製造処理動作に関する情報が第1制御部から高速通信ネットワークを介して第1記憶装置に送信されて記憶される。
上記課題を解決するために、本発明の露光装置は、所定パターン(DP)を基板(W)上に露光する露光動作を制御する第1制御部(MC)を備え、前記露光動作を実行する露光装置で(13)あって、前記露光装置の外部に配置されて前記露光動作に関係する情報を記憶する第1記憶装置(23、24、63、64)と前記第1制御部との間を接続する高速通信ネットワーク(N2)を接続可能な接続部(20、50)を備えることを特徴としている。
本発明の露光方法は、上記の露光装置を用いて、所定パターン(DP)を基板(W)上に露光することを特徴としている。
また、本発明のデバイス製造方法は、上記の露光方法を用いて基板(W)にデバイスパターン(DP)を露光する工程(S13)を含むことを特徴としている。
上記課題を解決するために、本発明の測定検査装置は、所定の測定処理及び所定の検査処理の少なくとも一方を制御する第1制御部(C1〜C3)を備え、基板(W)に対して前記所定の測定及び所定の検査の少なくとも一方を行う測定検査装置(14a、14b、16)において、前記測定検査装置の外部に配置されて前記測定処理又は検査処理に関係する情報を記憶する第1記憶装置(23、24、63、64)と前記第1制御部との間を接続する高速通信ネットワーク(N2)を接続可能な接続部(20、50)を備えることを特徴としている。
本発明の測定検査方法は、上記の測定検査装置を用いて、所定の測定処理、及び、所定の検査処理の少なくとも一方を実行することを特徴としている。
また、本発明のデバイス製造方法は、上記の測定検査方法を用いて所定の測定処理、及び、所定の検査処理の少なくとも一方を実行する工程(S12、S15)を含むことを特徴としている。
上記課題を解決するために、本発明の第2の観点によるデバイス製造処理システムは、デバイス製造処理システム(10)であって、基板(W)上に所定パターン(DP)を露光する前に、既に前記基板上に形成されているデバイスパターンの段差の測定検査を実行する事前測定検査装置(14a)と、前記所定パターンを露光された基板上のパターン線幅を測定検査する事後測定検査装置(14b)とを備え、前記事後測定検査装置による測定検査結果から得られるパターン線幅に関する情報に基づいて、前記事前測定検査装置での段差の測定検査を制御することを特徴としている。
この発明によると、事後測定検査装置による測定検査結果から得られるパターン線幅に関する情報に基づいて事前測定検査装置での段差の測定検査が制御され、これにより事前測定検査装置での事前測定検査処理が行われる。即ち、実際に露光された基板に形成されたパターン線幅の測定検査結果が事前測定検査装置に反映された上で事前測定検査が行われる。これにより、例えば線幅異常が生じた場合には、それを防止べく事前測定検査が行われる。
上記課題を解決するために、本発明の第3の観点によるデバイス製造処理システムは、デバイス製造処理システム(10)であって、基板(W)上の欠陥又は異物の有無を測定検査する測定検査装置(14a)と、基板(W)上の所定位置を観察して所定パターン(DP)を露光する露光装置(13)とを含み、前記測定検査装置によって欠陥又は異物の存在が確認された位置を、前記露光装置での観察対象から除外することを特徴としている。
上記課題を解決するために、本発明の第4の観点によるデバイス製造処理システムは、デバイス製造処理システム(10であって、基板(W)上に形成された第1パターンに第2パターンの像を重ね合わせて、前記第2パターン(DP)を基板上に露光する露光装置(13)と、前記露光装置で露光された基板を測定検査し、前記露光装置で前記第1パターンと前記第2パターンとを重ね合わせた結果を測定検査する測定検査装置(14b)とを備え、前記露光装置は、前記測定検査の結果に関する情報に基づいて、前記第1パターンと前記第2パターンの像との重ね合わせを実行することを特徴としている。
図1は、本発明の一実施形態によるデバイス製造処理システムの概略構成を示すブロック図である。図1に示す通り、本実施形態のデバイス製造処理システム10は、ホストコンピュータ又は通信制御装置としての工場内生産管理ホストシステム11、露光工程管理コントローラ12、露光装置13、インライン測定検査装置14、トラック15、オフライン測定検査装置16、解析システム17、及び基板処理装置18を含んで構成される。このデバイス製造処理システム10はデバイス製造工場内に設けられる。
図4は、本発明の一実施形態によるデバイス製造処理装置の一種である露光装置の概略構成を示す側面図である。図4においては、半導体素子を製造するための露光装置であって、マスクとしてのレチクルRと基板としてのウェハWとを同期移動させつつ、レチクルRに形成されたパターンDPを逐次ウェハW上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の縮小投影型の露光装置を例に挙げる。尚、以下の説明においては、必要であれば図中にXYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。このXYZ直交座標系は、XY平面が水平面に平行な面に設定され、Z軸が鉛直上方向に設定される。また、露光時におけるレチクルR及びウェハWの同期移動方向(走査方向)はY方向に設定されているものとする。
図5は、本発明の一実施形態によるデバイス製造処理システムを用いたデバイス製造方法を説明するためのフローチャートである。ここで、図5に示すデバイス製造方法は、ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等を製造する場合の何れにも適用することができるが、ここでは半導体チップを製造する場合を例に挙げて説明する。尚、図5において、白抜き矢印はウェハWに対して行われる処理の遷移を表しており、実線矢印は各処理間における情報の流れを表している。以下のデバイス製造処理は、複数枚(例えば、25枚)のウェハWを単位としたロット単位で行われるとする。
13 露光装置
14 インライン測定検査装置
14a インライン事前測定検査装置
14b インライン事後測定検査装置
15 トラック
15a コータ・デベロッパ
16 測定検査装置
17 解析システム
18 基板処理装置
20 オプティカルチャネルボード
22 CPU
23 共有メモリ
24 共有ディスク
50 オプティカルチャネルボード
63 共有メモリ
64 共有ディスク
AX 光軸
B1 内部バス
B11〜B13 内部バス
DP パターン
MC 主制御系
N1 ネットワーク
N2 高速通信ネットワーク
R1 第1領域
R2 第2領域
R3 第3領域
R4 第4領域
W ウェハ
Claims (40)
- 所定のデバイス製造処理動作を制御する第1制御部を備え、前記所定のデバイス制御処理動作を実行する第1デバイス製造処理装置と、
前記第1デバイス製造処理装置の外部に配置されて、前記デバイス製造処理動作に関係する情報を記憶する第1記憶装置と、
前記第1制御部と前記第1デバイス製造処理装置外部の前記第1記憶装置との間を接続する高速通信ネットワークと
を含むことを特徴とするデバイス製造処理システム。 - 前記第1デバイス製造処理装置の内部に内蔵される第2記憶装置と、
前記第1デバイス製造処理装置の内部で、前記第1制御部と前記第2記憶装置とを接続する内部接続部とを含み、
前記第1デバイス製造処理装置外部の前記第1記憶装置と前記第1制御部とを接続する前記高速通信ネットワークは、前記第1制御部と前記内部接続によって提供される接続環境と同程度の接続環境を提供することを特徴とする請求項1記載のデバイス製造処理システム。 - 前記第1デバイス製造処理装置外部の前記第1記憶装置は、前記第1デバイス製造処理装置とは異なる第2デバイス製造処理装置に内蔵された内蔵記憶装置であり、
前記第2デバイス製造処理装置は、更に、
前記第2デバイス製造処理装置でのデバイス製造処理動作を制御する第2制御部と、
前記第2デバイス製造処理装置内で、前記第2制御部と前記第1記憶装置とを接続する内部接続部とを備え、
前記第1記憶装置に記憶された情報が、前記第1制御部と前記第2制御部とによって共有されることを特徴とする請求項1記載のデバイス製造処理システム。 - 前記第1デバイス製造処理装置は、前記第1デバイス製造処理装置の内部に配置された第2記憶装置と、
前記第1デバイス製造処理装置内で、前記第2記憶装置と前記第1制御部とを接続する内部接続部とを含み、
前記第1及び第2記憶装置に記憶された情報が、前記第1及び第2制御部によって共有されることを特徴とする請求項3記載のデバイス製造処理システム。 - 前記第1デバイス製造処理装置とは別の第2デバイス製造処理装置と、
前記第2デバイス製造処理装置でのデバイス製造処理動作を制御する第2制御部と前記第1記憶装置との間を接続する高速通信ネットワークとを含み、
前記第1記憶装置に記憶された情報が、前記第1制御部と前記第2制御部とによって共有されることを特徴とする請求項1記載のデバイス製造処理システム。 - 前記高速通信ネットワークは、光ファイバケーブルで構成されることを特徴とする請求項1から請求項5の何れか一項に記載のデバイス製造処理システム。
- 前記高速通信ネットワークは、ほぼ10Gbpsの情報伝送速度を有することを特徴とする請求項1から請求項5の何れか一項に記載のデバイス製造処理システム。
- 前記第1記憶装置は、専ら前記第1デバイス製造処理装置でのデバイス処理動作に関係する情報が記録される第1領域と、
専ら前記第2デバイス製造処理装置でのデバイス製造処理動作に関係する情報が記録される第2領域と
を含むことを特徴とする請求項3から請求項5の何れか一項に記載のデバイス製造処理システム。 - 前記第1記憶装置は、第1記憶部と第2記憶部とを含み、
前記第1記憶部は、前記第2記憶部よりも高速で情報の書き込み及び読み出しが可能であることを特徴とする請求項1から請求項5の何れか一項に記載のデバイス製造処理システム。 - 前記第1記憶装置は、第1記憶部と第2記憶部とを含み、
前記第2記憶部は、前記第1記憶部よりも多くの情報を記憶可能であることを特徴とする請求項1から請求項5の何れか一項に記載のデバイス製造処理システム。 - 前記第1デバイス製造処理装置を含む複数のデバイス製造処理装置を統括的に制御するホストコンピュータと、
前記ホストコンピュータと前記複数のデバイス製造処理装置との間を接続する、前記高速通信ネットワークとは異なる第2ネットワークと
を含むことを特徴とする請求項1から請求項5の何れか一項に記載のデバイス製造処理システム。 - 前記高速通信ネットワークによる情報の伝送速度は、ほぼ10Gbpsであり、
前記第2ネットワークによる情報の伝送速度は、ほぼ100Mbpsである
ことを特徴とする請求項11記載のデバイス製造処理システム。 - 前記ホストコンピュータと前記複数のデバイス製造処理装置の何れかとの間、又は前記複数のデバイス製造処理装置間で通信される情報に応じて、通信経路を、前記高速通信ネットワークと前記第2ネットワークとの何れかから選択する通信制御装置を有することを特徴とする請求項11又は請求項12記載のデバイス製造処理システム。
- 情報の通信量に応じて、通信経路を前記高速通信ネットワークと前記第2ネットワークとの何れかから選択することを特徴とする請求項13記載のデバイス製造処理システム。
- 情報の種類及び大きさに応じて、通信経路を前記高速通信ネットワークと前記第2ネットワークとの何れかから選択することを特徴とする請求項13記載のデバイス製造処理システム。
- 前記第1記憶装置に記憶される情報と前記第2記憶装置に記憶される情報とを同一にする記憶制御装置を備えることを特徴とする請求項2記載のデバイス製造処理システム。
- 前記第1記憶装置に記憶される情報と前記第2記憶装置に記憶される情報とを同一にする記憶制御装置を備えることを特徴とする請求項4記載のデバイス製造処理システム。
- 前記第1記憶部の記憶内容と前記第2記憶部の記憶内容とを入れ替える記憶制御装置を備えることを特徴とする請求項9記載のデバイス製造処理システム。
- 所定パターンを基板上に露光する露光動作を制御する第1制御部を備え、前記露光動作を実行する露光装置であって、
前記露光装置の外部に配置されて前記露光動作に関係する情報を記憶する第1記憶装置と前記第1制御部との間を接続する高速通信ネットワークを接続可能な接続部を備えることを特徴とする露光装置。 - 装置内部に内蔵される第2記憶装置と、
装置内部で、前記第1制御部と前記第2記憶装置とを接続する内部接続部と
を備えることを特徴とする請求項19記載の露光装置。 - 前記接続部は、光ファイバケーブルを接続可能であることを特徴とする請求項19又は請求項20記載の露光装置。
- 前記接続部は、ほぼ10Gbpsの情報伝送速度を有するネットワークを接続可能であることを特徴とする請求項19から請求項21の何れか一項に記載の露光装置。
- 請求項19から請求項22の何れか一項に記載の露光装置を用いて、所定パターンを基板上に露光することを特徴とする露光方法。
- 請求項23記載の露光方法を用いて基板にデバイスパターンを露光する工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
- 所定の測定処理及び所定の検査処理の少なくとも一方を制御する第1制御部を備え、基板に対して前記所定の測定及び所定の検査の少なくとも一方を行う測定検査装置において、
前記測定検査装置の外部に配置されて前記測定処理又は検査処理に関係する情報を記憶する第1記憶装置と前記第1制御部との間を接続する高速通信ネットワークを接続可能な接続部を備えることを特徴とする測定検査装置。 - 装置内部に内蔵される第2記憶装置と、
前記装置内部で、前記第1制御部と前記第2記憶装置とを接続する内部接続部と
を備えることを特徴とする請求項25記載の測定検査装置。 - 前記接続部は、光ファイバケーブルを接続可能であることを特徴とする請求項25又は請求項26記載の測定検査装置。
- 前記接続部は、ほぼ10Gbpsの情報伝送速度を有するネットワークを接続可能であることを特徴とする請求項25から請求項27の何れか一項に記載の測定検査装置。
- 請求項25から請求項28の何れか一項に記載の測定検査装置を用いて、所定の測定処理、及び、所定の検査処理の少なくとも一方を実行することを特徴とする測定検査方法。
- 請求項29記載の測定検査方法を用いて所定の測定処理、及び、所定の検査処理の少なくとも一方を実行する工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
- デバイス製造処理システムであって、
基板上に所定パターンを露光する前に、既に前記基板上に形成されているデバイスパターンの段差の測定検査を実行する事前測定検査装置と、
前記所定パターンを露光された基板上のパターン線幅を測定検査する事後測定検査装置とを備え、
前記事後測定検査装置による測定検査結果から得られるパターン線幅に関する情報に基づいて、前記事前測定検査装置での段差の測定検査を制御することを特徴とするデバイス製造処理システム。 - 前記事前測定検査装置は、前記事後測定検査装置で測定検査されたパターン線幅の情報に基づいて、基板上の特定位置に対する前記段差の測定検査の精度を、基板上での他の位置に対する段差の測定検査の精度よりも高めることを特徴とする請求項31記載のデバイス製造処理システム。
- 前記基板上の特定位置に対する段差の測定検査の精度が前記基板上の他の位置に対する段差の測定検査の精度よりも高められた前記事前測定検査装置による測定検査の結果に基づいて、前記基板に所定パターンを露光する露光装置を含むことを特徴とする請求項32記載のデバイス製造処理システム。
- 前記事前測定検査装置、前記露光装置、及び前記事後測定検査装置は、それぞれ、各々でのデバイス製造処理に関する情報を記憶する記憶装置を備え、
更に、前記事前測定検査装置、前記露光装置、及び前記事後測定検査装置の記憶装置に接続される高速通信ネットワークを有することを特徴とする請求項33記載のデバイス製造処理システム。 - デバイス製造処理システムであって、
基板上の欠陥又は異物の有無を測定検査する測定検査装置と、
基板上の所定位置を観察して所定パターンを露光する露光装置とを含み、
前記測定検査装置によって欠陥又は異物の存在が確認された位置を、前記露光装置での観察対象から除外することを特徴とするデバイス製造処理システム。 - 前記露光装置は、基板上の所定位置を観察して前記基板の露光光の光軸方向での前記基板の位置又は前記光軸に対する前記基板の傾きを制御可能であり、更に、前記測定検査によって欠陥又は異物が確認された位置を、前記露光装置での観察対象から除外して、前記基板の位置又は傾きを制御することを特徴とする請求項35記載のデバイス製造処理システム。
- 前記露光装置は、基板上の所定位置を観察して前記基板の露光光の光軸に垂直な方向の基板の位置を制御可能であり、更に、前記測定検査によって欠陥又は異物が確認された位置を、前記露光装置での観察対象から除外して、前記基板の位置を制御することを特徴とする請求項35又は請求項36記載のデバイス製造処理システム。
- 前記測定検査装置及び前記露光装置は、それぞれ、各々でのデバイス製造処理に関する情報を記憶する記憶装置を備え、
更に、前記測定検査装置及び前記露光装置の記憶装置に接続される高速通信ネットワークを有することを特徴とする請求項35から請求項37の何れか一項に記載のデバイス製造処理システム。 - デバイス製造処理システムであって、
基板上に形成された第1パターンに第2パターンの像を重ね合わせて、前記第2パターンを基板上に露光する露光装置と、
前記露光装置で露光された基板を測定検査し、前記露光装置で前記第1パターンと前記第2パターンとを重ね合わせた結果を測定検査する測定検査装置とを備え、
前記露光装置は、前記測定検査の結果に関する情報に基づいて、前記第1パターンと前記第2パターンの像との重ね合わせを実行することを特徴とするデバイス製造処理システム。 - 前記測定検査装置及び前記露光装置は、それぞれ、各々でのデバイス製造処理に関する情報を記憶する記憶装置を備え、
更に、前記測定検査装置及び前記露光装置の記憶装置に接続される高速通信ネットワークを有することを特徴とする請求項39記載のデバイス製造処理システム。
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