JP2007114515A - マルチビーム光走査装置及び該装置を備えた画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体レーザからなる複数の発光点を有する光源と、複数の発光点から射出された複数の光束を偏向する偏向手段に導く第1光学系と、偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面に導く第2光学系と、をそれぞれ複数備え、偏向手段を少なくとも1以上備えたマルチビーム光走査装置において、第1光学系には回折面を有する樹脂レンズを少なくとも1つ設け、第2光学系には樹脂製光学素子を少なくとも1つ設け、上記複数の光束を、この複数の光束に対応する上記第1光学系及び上記第2光学系とを通過させ、|Δm’1+Δm’2+Δm’3|<Wm/2 ・・・式(A)を満足するマルチビーム光走査装置とする。
【選択図】図1
Description
|Δm’1+Δm’2+Δm’3|<Wm/2 ・・・式(A)
Δm’1:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの屈折部のパワー変化に よる主走査ビームウェスト位置変化
Δm’2:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの回折部のパワー変化に よる主走査ビームウェスト位置変化
Δm’3:第2光学系において、光源波長が1nm増加したときのパワー変化による主走 査ビームウェスト位置変化
Wm:被走査面上における主走査ビーム径の深度
Δm’1+Δm’2+Δm’3<0 ・・・式(B)
|Δm1+Δm2+Δm3−Δd1×(f2/f1)^2|<Wm/40 ・・・式(C)
Δm1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの屈折部のパワー変化による主走査 ビームウェスト位置変化
Δm2:第1光学系における、1℃温度上昇したときの回折部のパワー変化による主走査 ビームウェスト位置変化
Δm3:第2光学系における、1℃温度上昇したときのパワー変化による主走査ビームウ
ェスト位置変化
f1:第1光学系の主走査方向焦点距離
f2:第2光学系の主走査方向焦点距離
Δd1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの光源と第1光学系の主走査方向の 前側主点間の距離の変化
|Δs’1+Δs’2+Δs’3|<Ws/2 ・・・式(E)
Δs’1:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの屈折部のパワー変化に よる副走査ビームウェスト位置変化
Δs’2:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの回折部のパワー変化に よる副走査ビームウェスト位置変化
Δs’3:第2光学系において、光源波長が1nm増加したときのパワー変化による副走 査ビームウェスト位置変化
Ws:被走査面上における副走査ビーム径の深度
Δs’1+Δs’2+Δs’3<0 ・・・式(F)
|Δs1+Δs2+Δs3−Δd1×(β2×β1)^2|<Ws/40・・・式(D)
Δs1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの屈折部のパワー変化による副走査 ビームウェスト位置変化
Δs2:第1光学系における、1℃温度上昇したときの回折部のパワー変化による副走査 ビームウェスト位置変化
Δs3:第2光学系における、1℃温度上昇したときのパワー変化による副走査ビームウ
ェスト位置変化
β1:第1光学系の副走査方向横倍率
β2:第2光学系の副走査方向横倍率
Δd1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの光源と第1光学系の主走査方向の 前側主点間の距離の変化
L2<L/2 ・・・式(G)
L:カップリングレンズとアパーチャの像側にある光学素子との距離
L2:アパーチャとアパーチャの像側にある光学素子との距離
|Δs’1+Δs’2+Δs’3|<Ws/2 ・・・式(E)
Δs’1:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの屈折部のパワー変化に よる副走査ビームウェスト位置変化
Δs’2:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの回折部のパワー変化に よる副走査ビームウェスト位置変化
Δs’3:第2光学系において、光源波長が1nm増加したときのパワー変化による副走 査ビームウェスト位置変化
Ws:被走査面上における副走査ビーム径の深度
Δs’1+Δs’2+Δs’3<0 ・・・式(F)
|Δs1+Δs2+Δs3−Δd1×(β2×β1)^2|<Ws/40・・・式(D)
Δs1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの屈折部のパワー変化による副走査 ビームウェスト位置変化
Δs2:第1光学系における、1℃温度上昇したときの回折部のパワー変化による副走査 ビームウェスト位置変化
Δs3:第2光学系における、1℃温度上昇したときのパワー変化による副走査ビームウ
ェスト位置変化
β1:第1光学系の副走査方向横倍率
β2:第2光学系の副走査方向横倍率
Δd1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの光源と第1光学系の主走査方向の 前側主点間の距離の変化
L2<L/2 ・・・式(G)
L:カップリングレンズとアパーチャの像側にある光学素子との距離
L2:アパーチャとアパーチャの像側にある光学素子との距離
|Δm’1+Δm’2+Δm’3|<Wm/2 ・・・式(A)
Δm’1:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの屈折部のパワー変化に
よる主走査ビームウェスト位置変化
Δm’2:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの回折部のパワー変化に
よる主走査ビームウェスト位置変化
Δm’3:第2光学系において、光源波長が1nm増加したときのパワー変化による主走
査ビームウェスト位置変化
Wm:被走査面上における主走査ビーム径の深度
まず、本実施形態のマルチビーム光走査装置について説明する前に、比較例として、従来のマルチビーム光走査装置について図8を用いて以下に説明する。図8は、従来のマルチビーム光走査装置について説明するための図である。以下に説明する従来のマルチビーム光走査装置では、回折光学面を設けていない走査光学系が用いられる。
カップリングレンズ12については以下の通りである。光源側面形状は、式(1)で表される共軸非球面である。
x=(h^2/R)/[1+√[1-(1+K)(h/R)^2]]+A4・h^4+A6・h^6+A8・h^8+A10・h^10 ・・式(1)
R= 86.09118
K= 361.987634
A4= -.827025E-04
A6= -.413360E-05
A8= 0.942600E-06
A10= -.936986E-07
R= -8.71000
K= -0.310240
A4= 0.592273E-04
A6= 0.250465E-06
A8= 0.119847E-06
A10= -.563217E-08
x=[(1/Rm)・y^2+(1/Rs)・z^2]/[1+√[1- (y/Rm)^2-(z/Rs)^2]]・・・式(2)
ここで、光軸からの主走査方向距離をy、副走査方向距離をz、主走査方向曲率半径をRm、副走査方向曲率半径をRs、光軸方向のデプスをxとする。係数は以下の通りである。像面側面形状は平面である。
Rm= 500
Rs= 35.83
R= -312.6
K= 2.667
A4= 1.79E-07
A6= -1.08E-12
A8= -3.18E-14
A10= 3.74E-18
R= -83.0
K= 0.02
A4= 2.50E-07
A6= 9.61E-12
A8= 4.54E-15
A10= -3.03E-18
また、両面の頂点は、図8の主光線に対して、図上方へ1.16mmずれている。
x=(y^2/Rm)/[1+√[1-(1+K)(y/Rm)^2]]+A4・y^4+A6・y^6+A8・y^8+A10・y^10 ・式(3)
ここで、光軸からの主走査方向距離をy、主走査近軸曲率半径をRm、円錐定数をK、高次の係数をA4,A6,A8,A10、光軸方向のデプスをxとする。
Rs(y)=Rs+Σbj・y^j (j=1,2,3,…)・・・式(4)
Rm= -500K= -71.73
A4= 4.33E-08
A6= -5.97E-13
A8= -1.28E-16
A10= 5.73E-21
Rs=-47.7
b2= 1.60E-03
b4=-2.32E-07
b6= 1.60E-11
b8=-5.61E-16
b10= 2.18E-20
b12=-1.25E-24
x=(z^2/Rs)/[1+√[1- (z/Rs)^2]]・・・式(5)
ここで、光軸からの主走査方向距離をy、副走査近軸曲率半径をRs、光軸方向のデプスをxとする。係数は以下の通りである。
Rm= -1000
Rs= -23.38
また、両面の頂点は、図8の主光線に対して、図上方へ1.21mmずれている。
d1=12.843
d2=3.8
d3=102.8
d4=3.0
d5=69.3
d6=51.7
d7=31.4
d8=78.0
d9=3.5
d10=143.62
レンズは全て同一の樹脂材料から成り、屈折率は、光線波長780.1nmかつ温度25℃で1.523946、光線波長786.5nmかつ温度45℃で1.522105、線膨張係数は7.0E-05K-1とした。
第1レンズ4は、光源側の面に副走査方向にのみ負のパワーを持つ屈折面が、像側の面に副走査方向のみに正のパワーを持つ回折面が設けられている樹脂製レンズである。
更に、温度上昇により全系の焦点距離が正の方向に伸びるのに対して、凹面は熱膨張で焦点距離が負の方向に伸びるため、これによる温度変化による像面ずれ低減効果もある。第1レンズ4の回折光学素子の格子は副走査方向に直線の格子が刻まれている。
|2(Δm’1+Δm’2+Δm’3)| ・・・式(6)
|2(Δm’1+Δm’2+Δm’3)|<Wm・・・式(7)
そして、式(7)を変形すると、以下に示す式(A)となる。(請求項1)
|Δm’1+Δm’2+Δm’3|<Wm/2・・・式(A)
1)熱膨張による相似変形により、屈折面の曲率半径が大きくなり、焦点距離が長くなる。
2)温度上昇による屈折率低下により、屈折面ではさらに焦点距離が長くなる。
3)熱膨張による相似変形により、回折面の格子間隔が広がり、焦点距離が長くなる。
上記1)〜3)は、いずれもピント位置が像面側にずれる方向である。
従って、これらを光源波長が伸びることによって相殺しなければならないので、以下に示す式(B)を満足する必要がある。(請求項2)
Δm’1+Δm’2+Δm’3<0・・・式(B)
|2(Δs’1+Δs’2+Δs’3)|・・・式(9)
|2(Δs’1+Δs’2+Δs’3)|<Ws・・・式(10)
そして、式(10)を変形すると、以下に示す式(E)となる。(請求項4、10)
|Δs’1+Δs’2+Δs’3|<Ws/2・・・式(E)
1)熱膨張による相似変形により、屈折面の曲率半径が大きくなり、焦点距離が長くなる。
2)温度上昇による屈折率低下により、屈折面ではさらに焦点距離が長くなる。
3)熱膨張による相似変形により、回折面の格子間隔が広がり、焦点距離が長くなる。
上記1)〜3)は、いずれもピント位置が像面側にずれる方向である。従って、これらを光源波長が伸びることによって相殺しなければならないので、以下に示す式(F)を満たす必要がある。(請求項5、11)
Δs’1+Δs’2+Δs’3<0 ・・・式(F)
L2<L/2・・・式(G)
<実施例1>
光源1は互いに14μm離れた2つの発光点を持つ半導体レーザアレイである。光源波長は25℃で655nm、45℃で659nmとした。
カップリングレンズ2については以下の通りである。
光源側面形状は、同心円格子の回折光学素子である。回折光学素子の位相関数φ(h)は、以下の式(11)で表される。
φ(h)=C1・h^2・・・式(11)
ここで、光軸からの距離をh、位相係数をC1とする。係数は以下の通りである。
C1=-1.127e-02
像面側面形状は、式(1)で表される非球面であり、係数は以下の通りである。
R= -34.32865
K= -71.517137
A4= -0.208422E-03
A6= 0.651475E-05
A8=-0.238199E-05
A10= 0.770435E-08
x=(z^2/Rs)/[1+√[1-(1+K)(z/Rs)^2]]+B4・z^4+B6・z^6+B8・z^8+B10・z^10・・・
・・・式(12)
ここで、光軸からの副走査方向距離をz、副走査方向近軸曲率半径をRs、円錐定数をK、高次の係数をA4,A6,A8,A10、光軸方向のデプスをxとする。
係数は以下の通りである。
Rs= -54.46507
K= -0.072542
B4= 0.577350E-07
B6= 0.474038E-07
B8= -0.190253E-07
B10= 0.247352E-08
回折光学面の位相関数φ(z)は、以下に示す式(13)で表される。
φ(z)=C1・z^2・・・式(13)
ここで、光軸からの副走査方向距離をz、位相係数をC1とする。
係数は以下の通りである。
C1= -8.8148E-03
光源側面形状は、主走査面内における面形状は式(14)で表される非円弧形状をなしている。
x=(y^2/Rs)/[1+√[1-(1+K)(y/Rs)^2]]+A4・y^4+A6・y^6+A8・y^8+A10・y^10
・・・式(14)
Cs(Y)=1/Rs(0)+B1・Y+ B2・Y^2+ B3・Y^3+ B4・Y^4+ B5・Y^5+・・・式(15)
Rm=-279.9、Rs= -61.
K=-2.900000E+01
A4= 1.755765E-07
A6=-5.491789E-11
A8= 1.087700E-14
A10= -3.183245E-19
A12= -2.635276E-24
B2= 5.727737E-06
B3= 3.152201E-08
B4= 2.280241E-09
B5=-3.729852E-11
B6= -3.283274E-12
B7= 1.765590E-14
B8= 1.372995E-15
B9= -2.889722E-18
B10= -1.984531E-19
R=-83. 6
K= -0.549157
A4= 2.748446E-07
A6= -4.502346E-12
A8= -7.366455E-15
A10= 1.803003E-18
A12= 2.727900E-23
Rm=6950 、Rs= 110.9
K= 0.000000E+00
A4= 1.549648E-08
A6= 1.292741E-14
A8= -8.811446E-18
A10= -9.182312E-22
B2= -2.135322E-07
B3= -8.079549E-12
B4= 2.390609E-12
B5= 2.881396E-14
B6= 3.693775E-15
B7= -3.258754E-18
B8= 1.814487E-20
B9= 8.722085E-23
B10= -1.340807E-23
Rm=766 、Rs= -68.22
K= 0.000000E+00
A4= -1.150396E-07
A6= 1.096926E-11
A8= -6.542135E-16
A10= 1.984381E-20
A12= -2.411512E-25
B2= 3.644079E-07
B4= -4.847051E-13
B6= -1.666159E-16
B8= 4.534859E-19
B10= -2.819319E-23
d1=26.07144
d2=3.8
d3=92.8
d'3=10.0
d4=3.0
d5=121.7448
d6=64.007
d7=22.6
d8=75.85
d9=4.9
d10=158.71
なお、このガラスの屈折率は、光線波長655nm、温度25℃で1.514371、光線波長659nm、温度45℃で1.514291、光線波長656nm、温度25℃で1.514327、線膨張係数は7.5E-06K-1とした。
レンズは全て同一の樹脂材料から成り、屈折率は、光線波長655nmかつ温度25℃で1.527257、光線波長659nmかつ温度45℃で1.525368、光線波長656nm、温度25℃で1.527222、線膨張係数は7.0E-05K-1とした。光源1とカップリングレンズ2の保持部材の線膨張係数は4.0E-05K-1とした。
光源1は、互いに14μm離れた2つの発光点を持つ半導体レーザアレイである。光源波長は25℃で655nm、45℃で659nmとした。
カップリングレンズ2はガラス製であり、以下の通りである。光源側面形状は平面である。像面側形状は、式(1)で表される非球面であり、係数は波面収差を補正するように最適化されている。
R=-18.49
回折面の位相関数φ(z)、以下に示す式(16)で表される。
φ(y,z)=C3・y^2+C4・z^2・・・式(16)
C3= -0.009027
C4= -0.001065
面間隔は以下の通りである。
d1=24.25
d2=4.5
d3=51.71
d'3=10.0
d4=3.0
d5=121.7448
d6=64.007
d7=22.6
d8=75.85
d9=4.9
d10=158.71
光源1は、互いに14μm離れた2つの発光点を持つ半導体レーザアレイである。光源波長は25℃で655nm、45℃で659nmとした。
カップリングレンズ2は、ガラス製であり、以下の通りである。光源側面形状は平面である。像面側形状は、式(1)で表される非球面であり、係数は波面収差を補正するように最適化されている。
R=-18.49
C1= -0.00107
像面側面形状は副走査方向にのみパワーを有するシリンドリカル面基板上に副走査方向に格子を持つの回折格子を付けた形状であり、基板の副走査方向の曲率半径が69.16である。回折面の位相関数φ(z)は、以下に示す式(17)で表される。
φ(z)=C2・z^2・・・式(17)
C4= -0.001069
d1=24.25
d2=4.5
d3=51.71
d'3=10.0
d4=3.0
d5=121.7448
d6=64.007
d7=22.6
d8=75.85
d9=4.9
d10=158.71
カップリングレンズ2はガラス製であり、このガラスの屈折率は、光線波長655nm、温度25℃で1.689631、光線波長659nm、温度45℃で1.689528、光線波長656nm、温度25℃で1.689581、線膨張係数は7.5E-06K-1とした。光源1とカップリングレンズ2の保持部材の線膨張係数は2.3E-05K-1とした。
2 カップリングレンズ
3 アパーチャ
4 第1レンズ
5 ポリゴンミラー
6 偏向器側走査レンズ
7 像面側走査レンズ
8 防塵ガラス
9 像面
10 防音ガラス
Claims (16)
- 半導体レーザからなる複数の発光点を有する光源と、
前記複数の発光点から射出された複数の光束を偏向する偏向手段に導く第1光学系と、
前記偏向手段により偏向された前記複数の光束を被走査面に導く第2光学系と、をそれ
ぞれ複数備え、前記偏向手段を少なくとも1以上備えたマルチビーム光走査装置であって、
前記第1光学系は、回折面を有する樹脂レンズを少なくとも1つ有し、
前記第2光学系は、樹脂製光学素子を少なくとも1つ有し、
前記複数の光束は、該複数の光束に対応する前記第1光学系及び前記第2光学系とを通過し、以下の式(A)を満足することを特徴とするマルチビーム光走査装置。
|Δm’1+Δm’2+Δm’3|<Wm/2 ・・・式(A)
Δm’1:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの屈折部のパワー変化に
よる主走査ビームウェスト位置変化
Δm’2:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの回折部のパワー変化に
よる主走査ビームウェスト位置変化
Δm’3:第2光学系において、光源波長が1nm増加したときのパワー変化による主走
査ビームウェスト位置変化
Wm:被走査面上における主走査ビーム径の深度 - 以下の式(B)満足することを特徴とする請求項1記載のマルチビーム光走査装置。
Δm’1+Δm’2+Δm’3<0 ・・・式(B) - 以下の式(C)を満足することを特徴とする請求項2記載のマルチビーム光走査装置。
|Δm1+Δm2+Δm3−Δd1×(f2/f1)^2|<Wm/40 ・・・式(C)
Δm1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの屈折部のパワー変化による主走査
ビームウェスト位置変化
Δm2:第1光学系における、1℃温度上昇したときの回折部のパワー変化による主走査
ビームウェスト位置変化
Δm3:第2光学系における、1℃温度上昇したときのパワー変化による主走査ビームウ
ェスト位置変化
f1:第1光学系の主走査方向焦点距離
f2:第2光学系の主走査方向焦点距離
Δd1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの光源と第1光学系の主走査方向の
前側主点間の距離の変化 - 半導体レーザからなる複数の発光点を有する光源と、
前記複数の発光点から射出された複数の光束を偏向する偏向手段に導く第1光学系と、
前記偏向手段により偏向された前記複数の光束を被走査面に導く第2光学系と、をそれぞれ複数備え、前記偏向手段を少なくとも1以上備えたマルチビーム光走査装置であって、
前記第1光学系は、回折面を有する樹脂レンズを少なくとも1つ有し、
前記第2光学系は、樹脂製光学素子を少なくとも1つ有し、
前記複数の光束は、該複数の光束に対応する前記第1光学系及び前記第2光学系を通過し、以下の式(E)を満足することを特徴とするマルチビーム光走査装置。
|Δs’1+Δs’2+Δs’3|<Ws/2 ・・・式(E)
Δs’1:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの屈折部のパワー変化に
よる副走査ビームウェスト位置変化
Δs’2:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの回折部のパワー変化に
よる副走査ビームウェスト位置変化
Δs’3:第2光学系において、光源波長が1nm増加したときのパワー変化による副走
査ビームウェスト位置変化
Ws:被走査面上における副走査ビーム径の深度 - 以下の式(F)を満足することを特徴とする請求項4記載のマルチビーム光走査装置。
Δs’1+Δs’2+Δs’3<0 ・・・式(F) - 以下の式(D)を満足することを特徴とする請求項5記載のマルチビーム光走査装置。
|Δs1+Δs2+Δs3−Δd1×(β2×β1)^2|<Ws/40 ・・・式(D)
Δs1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの屈折部のパワー変化による副走査
ビームウェスト位置変化
Δs2:第1光学系における、1℃温度上昇したときの回折部のパワー変化による副走査
ビームウェスト位置変化
Δs3:第2光学系における、1℃温度上昇したときのパワー変化による副走査ビームウ
ェスト位置変化
β1:第1光学系の副走査方向横倍率
β2:第2光学系の副走査方向横倍率
Δd1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの光源と第1光学系の主走査方向の
前側主点間の距離の変化 - 半導体レーザからなる複数の発光点を有する光源と、
前記複数の発光点から射出された複数の光束を偏向する偏向手段に導く第1光学系と、
前記偏向手段により偏向された前記複数の光束を被走査面に導く第2光学系と、をそれぞれ複数備え、前記偏向手段を少なくとも1以上備えたマルチビーム光走査装置であって、
前記第1光学系は、回折面を有する樹脂レンズを少なくとも1つ有し、
前記第2光学系は、樹脂製光学素子を少なくとも1つ有し、
前記複数の光束は、該複数の光束に対応する前記第1光学系及び前記第2光学系とを通過し、光学系全系の主走査方向横倍率の絶対値が副走査方向横倍率の絶対値より大きく、副走査ビーム径が主走査ビーム径より大きく、かつ、回折部の副走査方向のパワーが回折部の主走査方向のパワーより大きいことを特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 副走査方向にパワーを持ち、かつ、副走査断面形状が主走査方向の位置によらず同一である光学素子を第1光学系に有することを特徴とする請求項7記載のマルチビーム光走査装置。
- 半導体レーザからなる複数の発光点を有する光源と、
前記複数の発光点から射出された複数の光束を偏向する偏向手段に導く第1光学系と、
前記偏向手段により偏向された前記複数の光束を被走査面に導く第2光学系と、をそれぞれ複数備え、前記偏向手段を少なくとも1以上備えたマルチビーム光走査装置であって、
前記第1光学系は、回折面を有する樹脂レンズを少なくとも1つ有し、
前記第2光学系は、樹脂製光学素子を少なくとも1つ有し、
前記複数の光束は、該複数の光束に対応する前記第1光学系及び前記第2光学系とを通過し、
前記第1光学系は、
前記光源からの発散光束をカップリングする回折面を有する樹脂製のカップリングレンズを少なくとも1つと、
前記カップリングレンズを出射した光束を制限するアパーチャと、
前記アパーチャからの光束を少なくとも副走査方向に集光する、回折面を有するアナモフックなレンズと、を有し、
以下の式(G)を満足すること特徴とするマルチビーム光走査装置。
L2<L/2 ・・・式(G)
L:カップリングレンズとアパーチャの像側にある光学素子との距離
L2:アパーチャとアパーチャの像側にある光学素子との距離 - 以下の式(E)を満足することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のマルチビーム光走査装置。
|Δs’1+Δs’2+Δs’3|<Ws/2 ・・・式(E)
Δs’1:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの屈折部のパワー変化に
よる副走査ビームウェスト位置変化
Δs’2:第1光学系において、光源波長が1nm増加したときの回折部のパワー変化に
よる副走査ビームウェスト位置変化
Δs’3:第2光学系において、光源波長が1nm増加したときのパワー変化による副走
査ビームウェスト位置変化
Ws:被走査面上における副走査ビーム径の深度 - 以下の式(F)を満足することを特徴とする請求項10記載のマルチビーム光走査装置。
Δs’1+Δs’2+Δs’3<0 ・・・式(F) - 以下の式(D)を満足することを特徴とする請求項11記載のマルチビーム光走査装置。
|Δs1+Δs2+Δs3−Δd1×(β2×β1)^2|<Ws/40 ・・・式(D)
Δs1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの屈折部のパワー変化による副走査
ビームウェスト位置変化
Δs2:第1光学系における、1℃温度上昇したときの回折部のパワー変化による副走査
ビームウェスト位置変化
Δs3:第2光学系における、1℃温度上昇したときのパワー変化による副走査ビームウ
ェスト位置変化
β1:第1光学系の副走査方向横倍率
β2:第2光学系の副走査方向横倍率
Δd1:第1光学系における、1℃温度上昇したときの光源と第1光学系の主走査方向の
前側主点間の距離の変化 - 光学系全系の主走査方向横倍率の絶対値が副走査方向横倍率の絶対値より大きく、副走査ビーム径が主走査ビーム径より大きく、かつ、回折部の副走査方向のパワーが回折部の主走査方向のパワーより大きいことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のマルチビーム光走査装置。
- 副走査方向にパワーを持ち、かつ、副走査断面形状が主走査方向の位置によらず同一である光学素子を第1光学系に有することを特徴とする請求項13記載のマルチビーム光走査装置。
- 光源からの光束を偏向手段に導く第1光学系と、
前記偏向手段により偏向された光束を被走査面に導く第2光学系と、
1つ以上の被走査面と、を備えたマルチビーム光走査装置であって、
前記第1光学系は、
前記光源からの発散光束をカップリングする回折面を有する樹脂製のカップリングレンズを少なくとも1つと、
前記カップリングレンズから出射した光束を制限するアパーチャと、
前記アパーチャからの光束を少なくとも副走査方向に集光する、回折面を有するアナモフックなレンズと、を有し、
以下の式(G)を満足すること特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のマルチビーム光走査装置。
L2<L/2 ・・・式(G)
L:カップリングレンズとアパーチャの像側にある光学素子との距離
L2:アパーチャとアパーチャの像側にある光学素子との距離 - 請求項1から15のいずれか1項に記載のマルチビーム光走査装置を備えた画像形成装置。
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