JP2007112639A - 光学素子の製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】光学素子の製造装置において、成形型を加熱する加熱ブロックからの放熱を抑え、加熱ブロックから成形型への伝熱の効率を高める。
【解決手段】光学素子材料5が配置された成形型1を加熱ブロック6,7により加熱し、成形型1をプレス成形することにより光学素子を製造する光学素子の製造装置において、加熱ブロック6,7内に断熱部(6a,6b,7a,7b)を設けた構成とする。好ましくは、断熱部(6a,6b,7a,7b)を、加熱ブロック6,7に埋設される発熱体(6c,7c)と、成形型1に当接する加熱ブロック6,7の当接部との間を除く領域に設けた構成とする。
【選択図】図1
【解決手段】光学素子材料5が配置された成形型1を加熱ブロック6,7により加熱し、成形型1をプレス成形することにより光学素子を製造する光学素子の製造装置において、加熱ブロック6,7内に断熱部(6a,6b,7a,7b)を設けた構成とする。好ましくは、断熱部(6a,6b,7a,7b)を、加熱ブロック6,7に埋設される発熱体(6c,7c)と、成形型1に当接する加熱ブロック6,7の当接部との間を除く領域に設けた構成とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、レンズ、プリズム、ミラー等の光学素子を加熱プレスして成形する光学素子の製造装置に関し、さらに詳しくは、成形型を加熱する加熱ブロックからの放熱を抑える技術に関する。
近年、ガラスレンズ等の光学素子の製造に際しては、生産性の良さから加熱プレスによる成形が多く用いられている。光学素子の加熱プレス成形では、成形型に光学素子材料を配置し、成形型を加熱ブロック等により加熱プレスする手法が一般的に用いられている。また、この加熱ブロックの温度分布の均一化を図るべく、例えば特許文献1には以下のガラスレンズ成形装置が開示されている。
図6は、従来のガラスレンズ成形装置を示す断面図である。
同図において、成形型101は上型102、下型103及びスリーブ104からなり、この成形型101の内部にはレンズ素材105が配置されている。また、成形型101は、ヒータ106aが埋設された下側加熱ブロック106上に載置され、同じくヒータ107aが埋設された上側加熱ブロック107がプレス軸108の駆動により降下して当接することで上下から加熱されている。これら加熱ブロック106,107は、熱緩衝板109,110、冷却板111,112が順に積層されて、それぞれベース113,プレス軸108に固設されている。
同図において、成形型101は上型102、下型103及びスリーブ104からなり、この成形型101の内部にはレンズ素材105が配置されている。また、成形型101は、ヒータ106aが埋設された下側加熱ブロック106上に載置され、同じくヒータ107aが埋設された上側加熱ブロック107がプレス軸108の駆動により降下して当接することで上下から加熱されている。これら加熱ブロック106,107は、熱緩衝板109,110、冷却板111,112が順に積層されて、それぞれベース113,プレス軸108に固設されている。
以上の成形装置では、冷却板111,112との当接により生じる加熱ブロック106,107の温度低下を、熱緩衝板109,110を介在させることで防ぎ、加熱ブロック106,107の温度分布の均一化を図っている。
特許第2819866号公報
ところで、上記特許文献1の技術は、加熱ブロックの温度分布の均一化を図っているが、加熱ブロックの表面積が成形型との接触面積よりもはるかに大きいため、加熱ブロックのうち成形型と接触しない表面からの放熱により余計な熱量を要していた。
本発明は、上記従来の実情に鑑みてなされたものであり、成形型を加熱する加熱ブロックからの放熱を抑え、加熱ブロックから成形型への伝熱の効率を高める光学素子の製造装置の提供を課題とする。
上記課題を解決するために、本発明の光学素子の製造装置は、光学素子材料が配置された成形型を加熱ブロックにより加熱し、上記成形型をプレス成形することにより光学素子を製造する光学素子の製造装置において、上記加熱ブロック内に断熱部を設けた構成とする。
好ましくは、上記断熱部を、上記加熱ブロックに埋設される発熱体と、上記成形型に当接する上記加熱ブロックの当接部との間を除く領域に設けた構成とする。
より好ましくは、上記断熱部を、上記加熱ブロックの側部に設けた構成とするとよい。
より好ましくは、上記断熱部を、上記加熱ブロックの側部に設けた構成とするとよい。
また、上記断熱部が空間部である構成としてもよい。
その際、上記空間部が上記加熱ブロックに形成された凹部である構成、又は上記空間部が上記加熱ブロックの中空部分である構成が採用可能である。
その際、上記空間部が上記加熱ブロックに形成された凹部である構成、又は上記空間部が上記加熱ブロックの中空部分である構成が採用可能である。
また、上記空間部に熱を反射する反射部材を挿入した構成、又は上記空間部に上記加熱ブロックよりも熱伝導率の低い部材を挿入した構成としてもよい。
さらに、上記反射部材は、表面がコーティングを施されてなる構成としてもよい。
さらに、上記反射部材は、表面がコーティングを施されてなる構成としてもよい。
また、上記断熱部は、上記加熱ブロックよりも熱伝導率の低い部材が上記加熱ブロックの少なくとも一部を覆うことでなる構成としてもよい。
本発明の光学素子製造装置によれば、加熱ブロックのうち成形型と接触しない表面からの放熱を抑えるように断熱部を設けることで、加熱ブロックからの放熱を抑え、加熱ブロックから成形型への伝熱の効率を高めることができる。
以下、本発明の実施形態に係る光学素子の製造装置について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る光学素子製造装置の主要部を示す断面図である。
図1は、本発明の第1実施形態に係る光学素子製造装置の主要部を示す断面図である。
同図において、成形型1は、上型2、下型3及びこれら型2,3の間に配置される光学素子材料5を覆うように介在するスリーブ4からなる。この成形型1は、下側加熱ブロック6と上側加熱ブロック7との間で加熱プレスされるべく下側加熱ブロック6上に載置されている。また、下側加熱ブロック6は製造装置のベース10に、上側加熱ブロック7はプレス軸11に、それぞれ断熱材8,9を介して固設されている。
ここで、加熱ブロック6,7に埋設される発熱体としてのヒータ6c,7cと、成形型1に当接する加熱ブロック6,7の当接部との間を除く領域として、加熱ブロック6,7の側部及び断熱材8,9側には、空間部としての凹部6a,7a,6b,7bが形成されている。これは、加熱ブロック6,7に埋設されるヒータ6c,7cの熱を成形型1に効率良く伝熱するためであり、加熱ブロック6,7の側部に形成した凹部6a,7aは加熱ブロック6,7のそれぞれに埋設される全てのヒータ6c,7cを囲い込むように、且つヒータ6c,7cと加熱ブロック6,7の外周側面との間に形成されていることが望ましい。
なお、加熱ブロック6,7に形成した凹部6a,7a,6b,7bの形成位置は、ヒータ6c,7cの熱を成形型1に効率良く伝熱することができる位置であればよい。また、凹部6a,7a,6b,7bは、穿設の容易さや断熱性を考慮した形状に形成されればよい。
次に、成形型1の加熱プレスについて説明する。
まず、光学素子材料5が配置された成形型1を下側加熱ブロック6に載置する。そして、プレス軸11の駆動により上側加熱ブロック7が降下して成形型1の上面に当接する。この状態でヒータ6c,7cにより成形型1が加熱され、成形型1内の光学素子材料5が軟化し、さらに成形型1をプレスすることにより光学素子材料5が成形型1により所望の形状を転写されてプレス成形される。
まず、光学素子材料5が配置された成形型1を下側加熱ブロック6に載置する。そして、プレス軸11の駆動により上側加熱ブロック7が降下して成形型1の上面に当接する。この状態でヒータ6c,7cにより成形型1が加熱され、成形型1内の光学素子材料5が軟化し、さらに成形型1をプレスすることにより光学素子材料5が成形型1により所望の形状を転写されてプレス成形される。
この際、加熱ブロック6,7の側部及び断熱材8,9側に凹部6a,7a,6b,7bが形成されているため、加熱ブロック6,7から成形型1への伝熱が効率よく行われる。
成形型1を冷却する際には、例えば、加熱ブロック6,7に埋設されるヒータ6c,7cの温度を下げ、上側加熱ブロック7によるプレスを弱めながらも継続する。このようにして、成形型1に配置された光学素子材料5が成形され、光学素子が製造される。
成形型1を冷却する際には、例えば、加熱ブロック6,7に埋設されるヒータ6c,7cの温度を下げ、上側加熱ブロック7によるプレスを弱めながらも継続する。このようにして、成形型1に配置された光学素子材料5が成形され、光学素子が製造される。
以上のように、本実施形態によれば、加熱ブロック6,7のうち成形型1と接触しない表面からの放熱を抑えるように加熱ブロック6,7の側部及び断熱材8,9側に凹部6a,7a,6b,7bを形成したことで、すなわち、加熱ブロック6,7のうち成形型1と接触しない部分へのヒータ6c,7cからの熱伝導を抑えることができたことで、結果として、加熱ブロック6,7からの放熱を抑え、加熱ブロック6,7から成形型1への伝熱の効率を高めることができる。
図2は、本発明の第2実施形態に係る光学素子製造装置の主要部を示す断面図である。
本実施形態に係る光学素子製造装置は、加熱ブロック6,7の側部に形成した空間部としての凹部6a,7aに熱を反射する反射部材6d,7dを挿入した点のみ上記第1実施形態に係る光学素子製造装置と異なるため、詳細な説明は省略する。
本実施形態に係る光学素子製造装置は、加熱ブロック6,7の側部に形成した空間部としての凹部6a,7aに熱を反射する反射部材6d,7dを挿入した点のみ上記第1実施形態に係る光学素子製造装置と異なるため、詳細な説明は省略する。
同図において、下側加熱ブロック6及び上側加熱ブロック7の側部に形成した凹部6a,7aには、熱を反射する反射部材6d,7dが挿入されている。この反射部材6d,7dは、例えば内周面又は内外周面等の表面に金メッキ等のコーティングが施されてある。
なお、反射部材6d,7dは、コーティングが施されたものでなくとも、熱を反射すればよいため、例えば表面が表面研磨されて鏡面となったステンレス等であってもよい。
本実施形態によれば、加熱ブロック6,7に形成した凹部6a,7aに熱を反射する反射部材6d,7dを挿入したことで、上記第1実施形態よりも加熱ブロック6,7からの放熱を抑えて、加熱ブロック6,7から成形型1への伝熱の効率を一層高めることができる。
本実施形態によれば、加熱ブロック6,7に形成した凹部6a,7aに熱を反射する反射部材6d,7dを挿入したことで、上記第1実施形態よりも加熱ブロック6,7からの放熱を抑えて、加熱ブロック6,7から成形型1への伝熱の効率を一層高めることができる。
図3は、本発明の第3実施形態に係る光学素子製造装置の主要部を示す断面図である。
本実施例に係る光学素子製造装置は、加熱ブロック6,7の側部及び断熱材8,9側に形成した凹部6a,7a,6b,7bに加熱ブロック6,7よりも熱伝導率が低い挿入部材6e,6f,7e,7fを挿入した点のみ上記第1実施形態に係る光学素子製造装置と異なるため、詳細な説明は省略する。
本実施例に係る光学素子製造装置は、加熱ブロック6,7の側部及び断熱材8,9側に形成した凹部6a,7a,6b,7bに加熱ブロック6,7よりも熱伝導率が低い挿入部材6e,6f,7e,7fを挿入した点のみ上記第1実施形態に係る光学素子製造装置と異なるため、詳細な説明は省略する。
同図において、下側加熱ブロック6及び上側加熱ブロック7の側部及び断熱材8,9側に形成した凹部6a,7a,6b,7bには、加熱ブロック6,7よりも熱伝導率が低い部材として例えばステンレスからなる挿入部材6e,6f,7e,7fが挿入されている。
なお、挿入部材6e,6f,7e,7fは加熱ブロック6,7よりも熱伝導率が低い部材であればよいため多孔質の軽石等を用いることも可能であるが、凹部6a,7a,6b,7bに挿入することで空間部としての凹部6a,7a,6b,7bによる断熱性が増す部材であることが望ましい。
本実施例によれば、加熱ブロック6,7に形成した凹部6a,7a,6b,7bに加熱ブロック6,7よりも熱伝導率が低い挿入部材6e,6f,7e,7fを挿入したことで、上記第1実施形態よりも、加熱ブロック6,7からの放熱を抑え、加熱ブロック6,7から成形型1への伝熱の効率を一層高めることができる。
図4は、本発明の第4実施形態に係る光学素子製造装置の主要部を示す断面図である。
本実施形態に係る光学素子製造装置は、加熱ブロック6,7の側部及び断熱材8,9側に、空間部として凹部ではなく中空部6g,7g,6h,7hを形成した点のみ上記第1実施形態に係る光学素子製造装置と異なるため、詳細な説明は省略する。
本実施形態に係る光学素子製造装置は、加熱ブロック6,7の側部及び断熱材8,9側に、空間部として凹部ではなく中空部6g,7g,6h,7hを形成した点のみ上記第1実施形態に係る光学素子製造装置と異なるため、詳細な説明は省略する。
同図において、下側加熱ブロック6及び上側加熱ブロック7の側部及び断熱材8,9側に形成した中空部6g,7g,6h,7hは、例えば加熱ブロック6,7に孔を穿設した後に蓋部6i,7iを覆うことによりなる。
本実施形態によれば、加熱ブロック6,7のうち成形型1と接触しない表面からの放熱を抑えるように加熱ブロック6,7の側部及び断熱材8,9側に中空部6g,7g,6h,7hを形成することでも、加熱ブロック6,7からの放熱を抑え、加熱ブロック6,7から成形型1への伝熱の効率を高めることができる。
図5は、本発明の第5実施形態に係る光学素子製造装置の主要部を示す断面図である。
本実施形態に係る光学素子製造装置は、加熱ブロック6,7を覆うように加熱ブロック6,7の側部に囲繞部6j,7jを形成した点のみ上記第1実施形態に係る光学素子製造装置と異なるため、詳細な説明は省略する。
本実施形態に係る光学素子製造装置は、加熱ブロック6,7を覆うように加熱ブロック6,7の側部に囲繞部6j,7jを形成した点のみ上記第1実施形態に係る光学素子製造装置と異なるため、詳細な説明は省略する。
同図において、下側加熱ブロック6及び上側加熱ブロック7の側部を覆うように形成した囲繞部6j,7jは、加熱ブロック6,7よりも熱伝導率の低い部材からなり、加熱ブロック6,7の例えば外周側部を囲い込んでいる。
本実施形態によれば、加熱ブロック6,7を覆うように囲繞部6j,7jを形成することでも、加熱ブロック6,7のうち成形型1と接触しない例えば外周側部からの放熱を抑えることができ、加熱ブロック6,7から成形型1への伝熱の効率を高めることができる。
なお、本発明における加熱ブロックとは、発熱体としてのヒータ6c,7cを有さない部材、例えば成形型1と、ヒータ6c、7cを有する加熱ブロック6,7との間で成形型1を加熱する役割を果たしている部材も含むものとする。
1 成形型
2 上型
3 下型
4 スリーブ
5 光学素子材料
6 下側加熱ブロック
6a 凹部
6b 凹部
6c ヒータ
6d 反射部材
6e 挿入部材
6f 挿入部材
6g 中空部
6h 中空部
6i 蓋部
6j 囲繞部
7 上側加熱ブロック
8 断熱材
9 断熱材
10 ベース
11 プレス軸
2 上型
3 下型
4 スリーブ
5 光学素子材料
6 下側加熱ブロック
6a 凹部
6b 凹部
6c ヒータ
6d 反射部材
6e 挿入部材
6f 挿入部材
6g 中空部
6h 中空部
6i 蓋部
6j 囲繞部
7 上側加熱ブロック
8 断熱材
9 断熱材
10 ベース
11 プレス軸
Claims (10)
- 光学素子材料が配置された成形型を加熱ブロックにより加熱し、前記成形型をプレス成形することにより光学素子を製造する光学素子の製造装置において、
前記加熱ブロック内に断熱部を設けたことを特徴とする光学素子の製造装置。 - 前記断熱部を、前記加熱ブロックに埋設される発熱体と、前記成形型に当接する前記加熱ブロックの当接部との間を除く領域に設けたことを特徴とする請求項1記載の光学素子の製造装置。
- 前記断熱部を、前記加熱ブロックの側部に設けたことを特徴とする請求項2記載の光学素子の製造装置。
- 前記断熱部が空間部であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項記載の光学素子の製造装置。
- 前記空間部が前記加熱ブロックに形成された凹部であることを特徴とする請求項4記載の光学素子の製造装置。
- 前記空間部が前記加熱ブロックの中空部分であることを特徴とする請求項4記載の光学素子の製造装置。
- 前記空間部に熱を反射する反射部材を挿入したことを特徴とする請求項4記載の光学素子の製造装置。
- 前記反射部材は、表面がコーティングを施されてなることを特徴とする請求項7記載の光学素子の製造装置。
- 前記空間部に前記加熱ブロックよりも熱伝導率の低い部材を挿入したことを特徴とする請求項4記載の光学素子の製造装置。
- 前記断熱部は、前記加熱ブロックよりも熱伝導率の低い部材が前記加熱ブロックの少なくとも一部を覆うことでなることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項記載の光学素子の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005302796A JP2007112639A (ja) | 2005-10-18 | 2005-10-18 | 光学素子の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005302796A JP2007112639A (ja) | 2005-10-18 | 2005-10-18 | 光学素子の製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007112639A true JP2007112639A (ja) | 2007-05-10 |
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ID=38095162
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005302796A Withdrawn JP2007112639A (ja) | 2005-10-18 | 2005-10-18 | 光学素子の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2007112639A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007112638A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Olympus Corp | 光学素子の製造装置及び製造方法 |
JP2009107879A (ja) * | 2007-10-30 | 2009-05-21 | Olympus Corp | 型成形装置、型成形装置の制御方法 |
-
2005
- 2005-10-18 JP JP2005302796A patent/JP2007112639A/ja not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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