JP2007098619A - Film lamination method and lamination device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film lamination method which can properly control the generation of wrinkles when the film is laminated on a thin material by roller rolling and a lamination device. <P>SOLUTION: An insulating substrate W is arranged on the upper surface of clean paper 22 which is permeable and has higher elasticity in the thickness direction than that of the substrate (thin material) W. The clean paper 22 is mounted on a flat surface after the arrangement of the substrate W, and evacuation is carried out from the back side of the substrate W arrangement surface of the clean paper 22. During the evacuation, the clean paper 22 and the substrate W are fixed to each other with adhesive tapes 41 and 42. After the fixing with the adhesive tapes 41 and 42, protective films 63 are laid on the upper surface of the substrate W to overlap each other, and the protective films 63 are roller-rolled and laminated on the substrate W. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、薄材にフィルムをラミネート加工する方法、及びそのラミネート加工装置に関する。   The present invention relates to a method for laminating a film on a thin material, and an apparatus for laminating the same.

近年、製品に対する高機能化への要求に応えるために、製品に搭載される回路基板においても、更なる多層化や回路パターンの微細化が図られている。例えば特許文献1には、片面に銅箔等からなる回路パターンの形成された樹脂フィルムを複数積層して形成された多層回路基板が記載されている。   In recent years, in order to meet the demand for higher functionality of products, circuit boards mounted on products have been further multilayered and circuit patterns have been miniaturized. For example, Patent Document 1 describes a multilayer circuit board formed by laminating a plurality of resin films each having a circuit pattern made of copper foil or the like on one side.

この多層回路基板の製造は大きくは、以下の工程1.〜工程6.を通じて行われる。
1.熱可塑性の樹脂フィルム100の片面に銅箔等の導体膜を貼着し、その導体膜にエッチング処理を施すことで回路パターン101を形成する(図4(a))。
2.上記樹脂フィルム100の回路パターン形成面の裏面に保護フィルム102をラミネートする(図4(b))。この保護フィルム102は、PET(ポリエチレンテレフタレート)等の樹脂により形成されており、その一面には紫外線硬化型の粘着剤がコーティングされている。なお保護フィルム102は、重ね合わせ位置のずれに拘わらず確実に樹脂フィルム100の上面全体を覆うように、樹脂フィルム100よりもひと回り大きく形成されている。
3.樹脂フィルム100にその保護フィルム102側からレーザ光を照射して、樹脂フィルム100を貫通して回路パターン101に達するビアホール103を形成する(図4(c))。
4.上記形成されたビアホール103の内部に導電ペースト104を充填する(図4(d))。これにより、多層回路基板の各層を構成する基材105が形成される。なお導電ペースト104は、錫や銀等の金属粒子に有機溶剤を加え、ミキサーにより混練してペースト状としたものが用いられる。
5.上記工程1.〜工程4.を通じて形成された基材105の保護フィルム102側の面に紫外線を照射して上記粘着材の粘着力を低下させた上で、樹脂フィルム100から保護フィルム102を剥離する(図4(e))。
6.保護フィルム102の剥離された基材105を複数重ね合わせ、その上面側及び下面側を、熱可塑性樹脂材料からなるカバーレイヤー106a、106bにより挟み込んだ後、真空加熱プレス機により加熱加圧する(図4(f))。これにより、基材105及びカバーレイヤー106a、106bは、熱融着にて一体化され、ビアホール103内の導電ペースト104は、焼結されて一体化した導電性組成物107となって、各層の回路パターン101が導電性組成物107により電気的に相互接続された多層回路基板が形成される。
The production of this multilayer circuit board is roughly divided into the following steps 1. -Step 6. Done through.
1. A conductor film such as a copper foil is attached to one surface of the thermoplastic resin film 100, and the conductor film is etched to form the circuit pattern 101 (FIG. 4A).
2. The protective film 102 is laminated on the back surface of the circuit pattern forming surface of the resin film 100 (FIG. 4B). The protective film 102 is formed of a resin such as PET (polyethylene terephthalate), and one surface thereof is coated with an ultraviolet curable adhesive. The protective film 102 is formed to be slightly larger than the resin film 100 so as to reliably cover the entire upper surface of the resin film 100 regardless of the displacement of the overlapping position.
3. The resin film 100 is irradiated with laser light from the protective film 102 side to form a via hole 103 that penetrates the resin film 100 and reaches the circuit pattern 101 (FIG. 4C).
4). A conductive paste 104 is filled into the formed via hole 103 (FIG. 4D). Thereby, the base material 105 which comprises each layer of a multilayer circuit board is formed. The conductive paste 104 is a paste obtained by adding an organic solvent to metal particles such as tin and silver and kneading them with a mixer.
5. Step 1 above. -Step 4. The protective film 102 is peeled from the resin film 100 after irradiating the surface on the protective film 102 side of the base material 105 formed through the ultraviolet ray to reduce the adhesive strength of the adhesive material (FIG. 4E) .
6). A plurality of base materials 105 from which the protective film 102 has been peeled are overlapped, and the upper surface side and the lower surface side are sandwiched between cover layers 106a and 106b made of a thermoplastic resin material, and then heated and pressurized by a vacuum heating press (FIG. 4). (F)). As a result, the base material 105 and the cover layers 106a and 106b are integrated by thermal fusion, and the conductive paste 104 in the via hole 103 is sintered and integrated into the conductive composition 107. A multilayer circuit board is formed in which the circuit pattern 101 is electrically interconnected by the conductive composition 107.

なお一般に、上記工程2.での樹脂フィルム100への保護フィルム102のラミネート加工は、図5に示すようなローラ圧延装置を用いて行われている。このローラ圧延装置は、互いに押圧された2つのローラ110、111を備え、それらの間を通過させることで、樹脂フィルム100に保護フィルム102を圧着するように構成されている。
特開2004−127970号公報
Generally, in the above step 2. Lamination of the protective film 102 to the resin film 100 is performed using a roller rolling apparatus as shown in FIG. This roller rolling device includes two rollers 110 and 111 pressed against each other, and is configured to press the protective film 102 against the resin film 100 by passing between them.
JP 2004-127970 A

ところで近年には、上述したような多層化や回路パターンの微細化の要求により、多層回路基板の各層を構成する基材105の更なる薄層化が進められており、厚さ50μm以下の極めて薄い基材105を用いた多層回路基板が実用されるに至っている。ところが、こうした基材105の薄層化に伴い、以下のようなローラ圧延に際しての基材105の皺の発生が問題となっている。   By the way, in recent years, due to the demands for multilayering and circuit pattern miniaturization as described above, the base material 105 constituting each layer of the multilayer circuit board has been further thinned, and the thickness of the substrate is extremely 50 μm or less. A multilayer circuit board using a thin base material 105 has come into practical use. However, with the thinning of the base material 105, the occurrence of wrinkles on the base material 105 during the following roller rolling has become a problem.

図6に示すように、ローラ圧延中の基材105に作用する荷重pは、厚さの段差のある樹脂フィルム100の両側部に集中した偏った分布となる。そのため、基材105の圧延中の断面には、その両側部を中央部に寄せるように圧縮する応力σが発生する。   As shown in FIG. 6, the load p acting on the base material 105 during the roller rolling has a biased distribution concentrated on both sides of the resin film 100 having a thickness difference. Therefore, a stress σ that compresses both side portions toward the center portion is generated in the cross section during rolling of the base material 105.

一方、樹脂フィルム100とローラ110との当接面は、上記回路パターン101による凹凸のため、全面的に密接しておらず、樹脂フィルム100はローラ110表面を比較的容易に滑ってしまう。また上記のような50μm以下の薄い基材105では、自身の剛性のみで、上記応力σによる圧縮に抗して自身を平坦に保持することも難しい。そのため、ローラ圧延時に樹脂フィルム100には、上記圧縮力によって、図7に示すような皺が比較的容易に発生してしまい、歩留まりの悪化を招く大きい要因となっている。   On the other hand, the contact surface between the resin film 100 and the roller 110 is not close to the entire surface due to the unevenness of the circuit pattern 101, and the resin film 100 slides on the surface of the roller 110 relatively easily. Further, it is difficult for the thin base material 105 having a thickness of 50 μm or less as described above to hold itself flat against the compression due to the stress σ only by its own rigidity. Therefore, wrinkles as shown in FIG. 7 are relatively easily generated in the resin film 100 during the roller rolling due to the compression force, which is a major factor that causes a deterioration in yield.

なおこうしたローラ圧延時の皺の発生は、上述のような多層回路基板の基材105を構成する樹脂フィルム100のラミネート加工に限らず、自らの剛性のみでは自身を平坦に保持できない程、薄い材料(薄材)の表面にローラ圧延にてフィルムをラミネート加工する場合には、同様に生じ得る。   The occurrence of wrinkles at the time of roller rolling is not limited to the laminating process of the resin film 100 constituting the base material 105 of the multilayer circuit board as described above, but a material that is so thin that it cannot be held flat only by its own rigidity. When the film is laminated on the surface of the (thin material) by roller rolling, it can occur similarly.

本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ローラ圧延による薄材へのフィルムのラミネート加工に際しての皺の発生を好適に抑制することのできるフィルムのラミネート加工方法及びラミネート加工装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a film laminating method and a laminating method that can suitably suppress generation of wrinkles when laminating a film on a thin material by roller rolling. It is to provide a processing apparatus.

こうした目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、薄材にフィルムをラミネート加工する方法として、通気性を有するとともに上記薄材よりも厚さ方向の弾性の高いシート材の上面に上記薄材を配設する工程と、上記薄材の配設後の上記シート材を平坦面上に載置するとともに、そのシート材における上記薄材の配設面の裏面側から真空吸引する工程と、その真空吸引中に上記シート材と上記薄材とを粘着テープにて固定する工程と、上記粘着テープの固定後に上記薄材の上面に上記フィルムを重ね合わせた上でそれらをローラ圧延する工程と、を備えるようにした。   In order to achieve such an object, in the invention described in claim 1, as a method of laminating a film on a thin material, the sheet has air permeability and has a higher elasticity in the thickness direction than the thin material. A step of disposing a thin material, a step of placing the sheet material after the disposition of the thin material on a flat surface, and a vacuum suction from the back side of the disposition surface of the thin material in the sheet material; , A step of fixing the sheet material and the thin material with an adhesive tape during the vacuum suction, and a step of rolling the film on the upper surface of the thin material after fixing the adhesive tape and then rolling them. And so on.

このような方法によれば、通気性を有するシート材の上面に薄材が配設されることから、真空吸引の際には、その吸引力がこのシート材を通じて薄材にも作用することとなり、シート材と薄材とが共に平坦面上に吸着される。またこのとき、薄材に凹凸があったとしても、薄材とシート材とはこのシート材の有する弾性によって密着する。そして、このように密着した状態で薄材とシート材とが粘着テープにより固定された後、薄材の上面にフィルムが重ね合わせられてローラ圧延される。すなわち、シート材と圧延ローラとの密着性、及び粘着テープによる薄材とシート材との一体性が共に保持された状態でローラ圧延されることとなる。このため、ローラ圧延に際しても、上述のようなローラ圧延中の荷重分布の偏りによる圧縮力に抗して薄材を平坦に保持することができ、ローラ圧延による薄材へのフィルムのラミネート加工に際しての皺の発生を好適に抑制することができるようになる。   According to such a method, since the thin material is disposed on the upper surface of the air-permeable sheet material, at the time of vacuum suction, the suction force also acts on the thin material through the sheet material. Both the sheet material and the thin material are adsorbed on the flat surface. At this time, even if the thin material has irregularities, the thin material and the sheet material are in close contact with each other due to the elasticity of the sheet material. Then, after the thin material and the sheet material are fixed by the adhesive tape in such a close contact state, the film is superposed on the upper surface of the thin material and is rolled. That is, the roller rolling is performed in a state where the adhesion between the sheet material and the rolling roller and the integrity of the thin material and the sheet material by the adhesive tape are both maintained. For this reason, even during roller rolling, the thin material can be held flat against the compressive force due to the uneven load distribution during roller rolling as described above, and when the film is laminated on the thin material by roller rolling. The generation of wrinkles can be suitably suppressed.

また、請求項1に記載のフィルムのラミネート加工方法において、請求項2に記載の発明によるように、上記粘着テープが、矩形状に形成された上記薄材の対向する2側辺に沿って貼り付けられるようにすれば、薄材をシート材により確実に固定することができるようになる。   Further, in the film laminating method according to claim 1, as in the invention according to claim 2, the adhesive tape is attached along two opposing sides of the thin material formed in a rectangular shape. If attached, the thin material can be securely fixed by the sheet material.

また、請求項1または請求項2に記載のフィルムのラミネート加工方法における上記粘着テープの貼り付け方向としては、請求項3に記載の発明によるように、上記ローラ圧延の供給方向に直交する方向とすることが望ましい。このようにすれば、粘着テープの厚さによる圧延断面の局所的な厚さの増大を回避することができるため、薄材へのフィルムのラミネート加工に際しての皺の発生をより好適に防止することができるようになる。   Moreover, as a sticking direction of the said adhesive tape in the laminating method of the film of Claim 1 or Claim 2, as the invention of Claim 3, and the direction orthogonal to the supply direction of the said roller rolling, It is desirable to do. In this way, since it is possible to avoid an increase in the local thickness of the rolled section due to the thickness of the adhesive tape, it is possible to more suitably prevent the occurrence of wrinkles when laminating a film on a thin material. Will be able to.

なお、上記シート材としては、例えば請求項4に記載の発明によるように、クリーンペーパを用いることができる。
他方、請求項1〜4のいずれかに記載のフィルムのラミネート加工方法は、請求項5に記載のような、その一面に回路パターンが形成されるとともに、多層回路基板の一層を構成する絶縁基材のラミネート加工に採用することで、特に顕著な効果が奏せられる。すなわち、こうした多層回路基板の絶縁基材は、近年の多層化や回路バターンの微細化への要求に応えるべく、その厚さが非常に薄く形成されている。そのため、絶縁基材自身の剛性で平坦を保持することが非常に困難となっており、絶縁基材に保護フィルムを貼り付ける際に皺の発生する確率が非常に高く、生産性や品質の面からも無視できないものとなっている。そこで、上述のフィルムのラミネート加工方法を採用することとすれば、ローラ圧延時における絶縁基材及び保護フィルムの皺の発生が好適に抑制されるようになり、その効果は大きい。また、上記請求項4に記載の発明によるように、上記シート材としてクリーンペーパを使用することとすれば、このクリーンペーパによって絶縁基材の片面に形成された回路パターンの保護も併せて図られるようになる。
As the sheet material, for example, clean paper can be used as in the invention described in claim 4.
On the other hand, the method for laminating a film according to any one of claims 1 to 4 has a circuit pattern formed on one surface thereof as described in claim 5 and an insulating group constituting one layer of the multilayer circuit board. By adopting the material for laminating, particularly remarkable effects can be obtained. That is, the insulating base material of such a multilayer circuit board is formed to be very thin in order to meet the recent demand for multilayering and miniaturization of circuit patterns. For this reason, it is very difficult to maintain flatness due to the rigidity of the insulating base material itself, and there is a very high probability that wrinkles will occur when a protective film is applied to the insulating base material. Can not be ignored. Therefore, if the above-described film laminating method is adopted, generation of wrinkles of the insulating base material and the protective film during roller rolling is suitably suppressed, and the effect is great. If clean paper is used as the sheet material as in the invention described in claim 4, protection of the circuit pattern formed on one side of the insulating substrate by the clean paper is also achieved. It becomes like this.

また、請求項6に記載の発明では、薄材にフィルムをラミネート加工する装置として、通気性を有するとともに上記薄材よりも厚さ方向の弾性の高いシート材を平坦面に供給するシート材供給手段と、上記平坦面に供給される上記シート材の上面に上記薄材を配設する薄材配設手段と、上記平坦面において上記シート材をその上面に配設された上記薄材と共に、同薄材の配設面の裏面側から真空吸引する吸引手段と、上記平坦面において上記シート材と上記薄材とを粘着テープを貼り付けて固定するテープ貼付手段と、上記粘着テープの貼り付けられた上記薄材の上面に重ね合わせるように上記フィルムを供給するフィルム供給手段と、上記フィルムの重ね合わされた上記薄材が供給されてその圧延を行う圧延ローラと、を備えるようにした。   Further, in the invention according to claim 6, as a device for laminating a film on a thin material, a sheet material supply that supplies a flat surface with a sheet material having air permeability and higher elasticity in the thickness direction than the thin material. Means, thin material disposing means for disposing the thin material on the upper surface of the sheet material supplied to the flat surface, and the thin material disposed on the upper surface of the sheet material on the flat surface, Vacuum means for vacuum suction from the back side of the thin material arrangement surface, tape application means for attaching the sheet material and the thin material to the flat surface by attaching an adhesive tape, and application of the adhesive tape A film supply means for supplying the film so as to be superposed on an upper surface of the thin material, and a rolling roller for supplying the thin material on which the film is superimposed and rolling the film.

ラミネート加工装置としてこのような構成によれば、通気性を有するシート材がシート材供給手段によって平坦面に供給され、このシート材の上面に薄材が配設される。このため、吸引手段による真空吸引の際には、その吸引力がこのシート材を通じて薄材にも作用することとなり、シート材と薄材とが共に平坦面上に吸着される。またこのとき、薄材に凹凸があったとしても、薄材とシート材とはこのシート材の有する弾性によって密着する。そして、このように密着した状態で薄材とシート材とが、テープ貼付手段を通じて粘着テープにより固定された後、フィルム供給手段によってフィルムが薄材の上面に重ね合わせるように供給され、このフィルムの重ね合わせられた薄材が圧延ローラにより圧延される。すなわち、シート材と圧延ローラとの密着性、及び粘着テープによる薄材とシート材との一体性が共に保持された状態でローラ圧延されることとなる。このため、ローラ圧延に際しても、上述のようなローラ圧延中の荷重分布の偏りによる圧縮力に抗して薄材を平坦に保持することができ、ローラ圧延による薄材へのフィルムのラミネート加工に際しての皺の発生を好適に抑制することができるようになる。   According to such a configuration as the laminating apparatus, a sheet material having air permeability is supplied to the flat surface by the sheet material supply means, and a thin material is disposed on the upper surface of the sheet material. For this reason, at the time of vacuum suction by the suction means, the suction force also acts on the thin material through the sheet material, and both the sheet material and the thin material are adsorbed on the flat surface. At this time, even if the thin material has irregularities, the thin material and the sheet material are in close contact with each other due to the elasticity of the sheet material. Then, after the thin material and the sheet material are fixed by the adhesive tape through the tape applying means in such a close contact state, the film is supplied by the film supply means so as to be superimposed on the upper surface of the thin material. The superposed thin material is rolled by a rolling roller. That is, the roller rolling is performed in a state where the adhesion between the sheet material and the rolling roller and the integrity of the thin material and the sheet material by the adhesive tape are both maintained. For this reason, even during roller rolling, the thin material can be held flat against the compressive force due to the uneven load distribution during roller rolling as described above, and when the film is laminated on the thin material by roller rolling. The generation of wrinkles can be suitably suppressed.

また、請求項6に記載のラミネート加工装置において、請求項7に記載の発明によるように、上記テープ貼付手段を、矩形状に形成された上記薄材の対向する2側辺に沿って上記粘着テープの貼り付けを行う構成とすれば、上記請求項2に記載のフィルムのラミネート加工方法の実施のもと、薄材をシート材により確実に固定することができるようになる。   Further, in the laminating apparatus according to claim 6, as in the invention according to claim 7, the tape sticking means is arranged to adhere the adhesive along two opposing sides of the thin material formed in a rectangular shape. If it is the structure which affixes a tape, based on the implementation of the film laminating method of the said Claim 2, a thin material can be reliably fixed now with a sheet | seat material.

また、請求項6または請求項7に記載のラミネート加工装置において、請求項8に記載の発明によるように、上記テープ貼付手段を、上記貼り付けられた粘着テープの延伸方向が、上記薄材の上記圧延ローラへの供給方向に直交する方向となるように上記貼り付けを行うように構成することも有効である。このような構成によれば、上記請求項3に記載のフィルムのラミネート加工方法の実施のもと、薄材へのフィルムのラミネート加工に際しての皺の発生をより好適に防止することができるようになる。   Further, in the laminating apparatus according to claim 6 or claim 7, as in the invention according to claim 8, the tape sticking means is arranged such that the direction of stretching of the stuck adhesive tape is that of the thin material. It is also effective to perform the pasting so as to be in a direction orthogonal to the supply direction to the rolling roller. According to such a configuration, generation of wrinkles during laminating of a film on a thin material can be more suitably prevented under the implementation of the film laminating method according to claim 3. Become.

なお、請求項6〜8のいずれかに記載のラミネート加工装置における上記シート材供給手段により供給されるシート材としては、例えば請求項9に記載の発明によるように、クリーンペーパを用いることができる。   In addition, as the sheet material supplied by the sheet material supply means in the laminating apparatus according to any one of claims 6 to 8, for example, according to the invention according to claim 9, clean paper can be used. .

また、請求項6〜9のいずれかに記載のラミネート加工装置は、請求項10に記載のようなその一面に回路パターンが設けられるとともに多層回路基板の一層を構成する絶縁基材に対するフィルムのラミネート加工に採用することで特に顕著な効果が奏せられる。上述のように、こうした多層回路基板の絶縁基材に保護フィルムを貼り付ける際、絶縁基材及び保護フィルムに皺の発生する確率が非常に高い。そこで、上記ラミネート加工装置を用いて絶縁基材に保護フィルムのラミネート加工を行うようにすれば、ローラ圧延時における絶縁基材及び保護フィルムの皺の発生が好適に抑制されるようになる。また、上記請求項9に記載の発明によるように、シート材供給手段によって供給されるシート材としてクリーンペーパを用いることとすれば、このクリーンペーパによって絶縁基材の片面に形成された回路パターンの保護も併せて図られるようになる。   A laminating apparatus according to any one of claims 6 to 9, wherein a circuit pattern is provided on one surface as in claim 10 and a film is laminated on an insulating base material constituting one layer of a multilayer circuit board. By adopting it for processing, a particularly remarkable effect can be obtained. As described above, when a protective film is affixed to the insulating base material of such a multilayer circuit board, the probability of wrinkles occurring on the insulating base material and the protective film is very high. Therefore, if the protective film is laminated on the insulating base material using the laminating apparatus, generation of wrinkles on the insulating base material and the protective film during roller rolling can be suitably suppressed. Further, as described in the ninth aspect of the invention, if clean paper is used as the sheet material supplied by the sheet material supply means, the circuit pattern formed on one surface of the insulating base material by the clean paper is used. Protection is also planned.

以下、本発明を、前述の多層回路基板の一層を構成する絶縁基材に対する保護フィルムのラミネート加工を行う方法及び装置として具体化した一実施の形態について説明する。
本実施の形態にかかるラミネート加工装置は、多層回路基板の製造ラインに組み込まれ、前工程にて製造された絶縁基材の供給を受け、その絶縁基材に保護フィルムをローラ圧延によってラミネートするとともに、この保護フィルムのラミネートされた絶縁基材を所定の長さ毎に切断するまでの加工を行う。なお、次工程では、こうして切断された保護フィルム付きの絶縁基材に同保護フィルム側からレーザ光が照射され、前述のビアホールが形成される。そして、このビアホールに導電ペーストが充填された後、絶縁基材から上記保護フィルムが剥離されることとなる。以下、このようなラミネート加工装置の側面断面図を図1に示し、まずこの図1を参照しつつその構成について詳細に説明する。なお、本実施の形態においてラミネート加工の対象とする薄材である絶縁基材Wは、矩形状を成しており、その厚さは、回路パターンの厚さを含めて50μmと非常に薄いものとなっている。
Hereinafter, an embodiment in which the present invention is embodied as a method and apparatus for laminating a protective film on an insulating base material constituting one layer of the multilayer circuit board will be described.
The laminating apparatus according to the present embodiment is incorporated in a multilayer circuit board production line, receives supply of an insulating base material manufactured in a previous process, and laminates a protective film on the insulating base material by roller rolling. Then, processing is performed until the insulating base material on which the protective film is laminated is cut every predetermined length. In the next step, the insulating substrate with the protective film thus cut is irradiated with laser light from the protective film side to form the aforementioned via hole. Then, after the via hole is filled with the conductive paste, the protective film is peeled off from the insulating base material. Hereinafter, a side sectional view of such a laminating apparatus is shown in FIG. 1, and the configuration thereof will be described in detail with reference to FIG. In this embodiment, the insulating base material W, which is a thin material to be laminated, has a rectangular shape, and its thickness is as thin as 50 μm including the thickness of the circuit pattern. It has become.

同図1に示されるように、このラミネート加工装置は、支持足10、11によって床面に対してその上面及び下面が水平となるようにその両端が支持された箱状のベース部20を備えて構成されている。このベース部20の上部には、シート材であるクリーンペーパ22に対する絶縁基材Wの固定作業の行われる真空定盤31が設けられている。この真空定盤31の上面31aは、床面に水平な平坦面とされている。なお、こうしたベース部20上において絶縁基材Wは、図中左側(以下、「基材搬入側」と記載する)から搬入され、ラミネート加工及び切断加工を施した後、図中右側(以下、「基材搬出側」と記載する)へと搬出されるようになっている。   As shown in FIG. 1, the laminating apparatus includes a box-like base portion 20 that is supported at both ends by support legs 10 and 11 so that the upper and lower surfaces thereof are horizontal with respect to the floor surface. Configured. A vacuum surface plate 31 is provided on the upper portion of the base portion 20 to perform the fixing operation of the insulating base material W to the clean paper 22 that is a sheet material. The upper surface 31a of the vacuum surface plate 31 is a flat surface horizontal to the floor surface. In addition, on such a base part 20, the insulating base material W is carried in from the left side in the figure (hereinafter referred to as “base material carry-in side”), and after laminating and cutting, the right side in the figure (hereinafter, (Described as “base material unloading side”).

こうしたベース部20においてその真空定盤31の基材搬入側の下方には、クリーンペーパ22が巻回された材料ロール23が回転可能に軸支された状態で配設されている。また材料ロール23の基材搬出側の下方には、材料ロール23に張力を付与するためのテンションローラ24が回転可能、且つ上下方向に移動可能に軸支された状態で配設されている。更にこのテンションローラ24の上方におけるベース部20の上面部分には、固定ローラ25が配設されている。固定ローラ25は、その上端が真空定盤31の上面31aと同じ高さとなる位置に、回転可能に軸支された状態で固定されている。そしてその固定ローラ25の基材搬入側のベース部20の上面には、クリーンペーパ22の幅よりも大きい幅の開口部21aが形成されている。そして材料ロール23から巻き出されたクリーンペーパ22は、上記テンションローラ24、固定ローラ25の順に巻き掛けられた後、上記開口部21aから真空定盤31の上面31aに導出されるようになっている。   In such a base portion 20, a material roll 23 around which a clean paper 22 is wound is disposed in a state of being rotatably supported on the base plate loading side of the vacuum surface plate 31. Further, a tension roller 24 for applying tension to the material roll 23 is disposed below the material roll 23 on the side of the base material carry-out side so as to be rotatable and movable in the vertical direction. Further, a fixed roller 25 is disposed on the upper surface portion of the base portion 20 above the tension roller 24. The fixed roller 25 is fixed at a position where its upper end is at the same height as the upper surface 31 a of the vacuum surface plate 31 in a state where it is rotatably supported. An opening 21 a having a width larger than the width of the clean paper 22 is formed on the upper surface of the base portion 20 on the base material carry-in side of the fixed roller 25. The clean paper 22 unwound from the material roll 23 is wound around the tension roller 24 and the fixed roller 25 in this order, and then led out from the opening 21a to the upper surface 31a of the vacuum surface plate 31. Yes.

クリーンペーパ22は、クリーンルーム等で使用される防塵性の高い紙であり、通気性を有するとともにその厚さ方向に対してある程度の弾性を有している。本実施の形態においては、上述のように絶縁基材Wが回路パターンの厚さを含めて50μmと非常に薄いため、クリーンペーパ22の厚さ方向の弾性は、絶縁基材Wの同方向の弾性よりも高くなっている。具体的には、本実施の形態では、クリーンペーパ22として、100μmの厚さを有するとともに、その幅が絶縁基材Wの幅よりも大きいものを使用している。   The clean paper 22 is a highly dustproof paper used in a clean room or the like, has air permeability, and has some elasticity in the thickness direction. In the present embodiment, since the insulating base W is very thin as 50 μm including the thickness of the circuit pattern as described above, the elasticity of the clean paper 22 in the thickness direction is the same as that of the insulating base W. It is higher than elasticity. Specifically, in the present embodiment, the clean paper 22 having a thickness of 100 μm and a width larger than the width of the insulating substrate W is used.

なお、真空定盤31の基材搬入側には、前工程にて製造された絶縁基材Wを搬入する搬送装置54が配設されている。この搬送装置54は、絶縁基材Wを当該ラミネート加工装置に搬入するとともに、その搬入した絶縁基材Wを1枚ずつ、その回路パターンの形成面側を下として、上記開口部21aから導出されたクリーンペーパ22の上面に配設する。   In addition, the conveyance apparatus 54 which carries in the insulating base material W manufactured at the front process is arrange | positioned at the base material carrying-in side of the vacuum surface plate 31. FIG. The conveying device 54 carries the insulating base material W into the laminating apparatus and is led out from the opening 21a with the carried insulating base materials W one by one with the circuit pattern forming surface side down. It is disposed on the upper surface of the clean paper 22.

また真空定盤31の上面31aには、複数の吸引溝33,34が形成されている。これら吸引溝33,34は、上記クリーンペーパ22上に載置された絶縁基材Wの幅方向に延設されており、その長さは、同絶縁基材Wの幅と同程度とされている。また、吸引溝33及び吸引溝34の底面はそれぞれ、配管35を通じて、真空定盤31の下方に配置された真空ポンプ36に接続されている。   A plurality of suction grooves 33 and 34 are formed on the upper surface 31 a of the vacuum surface plate 31. These suction grooves 33, 34 are extended in the width direction of the insulating base material W placed on the clean paper 22, and the length thereof is approximately the same as the width of the insulating base material W. Yes. The bottom surfaces of the suction groove 33 and the suction groove 34 are connected to a vacuum pump 36 disposed below the vacuum surface plate 31 through a pipe 35.

こうした真空定盤31の上方には、クリーンペーパ22及び絶縁基材Wに対して粘着テープ41,42の貼り付けを行うテープ貼付装置40が配置されている。このテープ貼付装置40にて貼り付けられる粘着テープ41,42には、クリーンペーパ製のテープの一面に接着剤をコーティングしたものが用いられている。なお、この粘着テープ41,42にコーティングされた接着剤は、後述する保護フィルム63に塗布されたものよりも絶縁基材Wに対する接着性が十分に低いものが使用されている。粘着テープ41,42は、ラミネート加工中の短い時間、クリーンペーパ22と絶縁基材Wを一時的に固定するために用いられるものであるため、ある程度粘着性の低い接着剤でも問題なく使用することができる。   Above the vacuum surface plate 31, a tape attaching device 40 for attaching the adhesive tapes 41 and 42 to the clean paper 22 and the insulating substrate W is disposed. As the adhesive tapes 41 and 42 attached by the tape attaching device 40, one surface of a clean paper tape coated with an adhesive is used. Note that the adhesive coated on the adhesive tapes 41 and 42 has a sufficiently lower adhesiveness to the insulating substrate W than that applied to the protective film 63 described later. Since the adhesive tapes 41 and 42 are used for temporarily fixing the clean paper 22 and the insulating substrate W for a short time during the laminating process, even an adhesive having a low adhesiveness should be used without any problem. Can do.

また真空定盤31の上方には、同真空定盤31上における絶縁基材Wの有無を検知するセンサ55が設けられてもいる。なお、後述の基準ローラ51、上記真空ポンプ36及び上記テープ貼付装置40は、このセンサ55の検知信号に基づき作動されるようになっている。   A sensor 55 that detects the presence or absence of the insulating base material W on the vacuum surface plate 31 is also provided above the vacuum surface plate 31. The reference roller 51, the vacuum pump 36, and the tape applicator 40, which will be described later, are operated based on the detection signal of the sensor 55.

更にこうした真空定盤31の基材搬出側には、ローラ圧延による絶縁基材Wのラミネート加工を行うための基準ローラ51と貼付ローラ52とが配設されている。基準ローラ51は、その上端が真空定盤31の上面と同じ高さとなる位置に配置されており、モータ等の動力源によって一定の速度(例えば630mm/min)で回転されるようになっている。一方、貼付ローラ52は、基準ローラ51の上方にて、回転可能、且つ真空定盤31上面の垂直方向に移動可能に軸支された状態で配設されている。本実施形態では、貼付ローラ52は、ローラ表面が、ゴム硬度50のゴムにより構成されたゴムローラとされている。そしてこれら基準ローラ51と貼付ローラ52との間には、上記開口部21aから導出されたクリーンペーパ22が通過されるようになっている。   Further, a reference roller 51 and a sticking roller 52 for laminating the insulating base material W by roller rolling are disposed on the base material carry-out side of the vacuum surface plate 31. The upper end of the reference roller 51 is disposed at the same height as the upper surface of the vacuum surface plate 31, and is rotated at a constant speed (for example, 630 mm / min) by a power source such as a motor. . On the other hand, the sticking roller 52 is disposed above the reference roller 51 so as to be rotatable and pivotally supported so as to be movable in the vertical direction on the upper surface of the vacuum surface plate 31. In this embodiment, the sticking roller 52 is a rubber roller having a roller surface made of rubber having a rubber hardness of 50. The clean paper 22 led out from the opening 21a is passed between the reference roller 51 and the sticking roller 52.

一方、貼付ローラ52の上方には、バックアップローラ53が、回転可能、且つ真空定盤31上面の垂直方向に移動可能に軸支された状態で配設されている。このバックアップローラ53は、ばね等によって貼付ローラ52側に付勢されており、それにより貼付ローラ52を基準ローラ51に向けて押圧している。   On the other hand, above the sticking roller 52, a backup roller 53 is rotatably supported and pivotally supported so as to be movable in the vertical direction on the upper surface of the vacuum surface plate 31. The backup roller 53 is biased toward the sticking roller 52 by a spring or the like, thereby pressing the sticking roller 52 toward the reference roller 51.

一方、貼付ローラ52の上方には、過剰ローラ面圧による同貼付ローラ52表面のゴムの変形を防止するためのバックアップローラ53が、回転可能かつ真空定盤31上面の垂直方向に移動可能に軸支された状態で配設されている。   On the other hand, above the sticking roller 52, a backup roller 53 for preventing deformation of the rubber on the surface of the sticking roller 52 due to excessive roller surface pressure is rotatable and movable in the vertical direction on the upper surface of the vacuum surface plate 31. It is arranged in a supported state.

また基準ローラ51及び貼付ローラ52の基材搬出側のベース部20の上面には、ローラ圧延後のクリーンペーパ22等を切断するカッタ80が配設されている。カッタ80は、上下方向に往復動可能に配設され、更にその下端は鋭利な刃が形成されている。   Further, a cutter 80 for cutting the clean paper 22 and the like after the roller rolling is disposed on the upper surface of the base portion 20 on the substrate carry-out side of the reference roller 51 and the sticking roller 52. The cutter 80 is disposed so as to be able to reciprocate in the vertical direction, and a sharp blade is formed at the lower end thereof.

こうしたカッタ80の上方には、材料シート61がロール状に巻回された供給ロール62が回転自在に軸支されている。材料シート61は、絶縁基材Wにラミネートされる保護フィルム63の接着剤面に離型紙64を貼り合わせたものとなっている。保護フィルム63は絶縁基材Wよりも幅広に形成されており、その接着剤面には紫外線硬化型の接着剤がコーティングされている。ちなみに本実施の形態では、保護フィルムとして、厚さ13μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)製のフィルムが用いられている。   Above the cutter 80, a supply roll 62 around which a material sheet 61 is wound in a roll shape is rotatably supported. The material sheet 61 is obtained by bonding a release paper 64 to the adhesive surface of the protective film 63 laminated on the insulating substrate W. The protective film 63 is formed wider than the insulating substrate W, and the adhesive surface is coated with an ultraviolet curable adhesive. Incidentally, in the present embodiment, a film made of PET (polyethylene terephthalate) having a thickness of 13 μm is used as the protective film.

こうした材料シート61の巻回された供給ロール62の基材搬入側の下方には、回転可能、且つ上下方向に移動可能に軸支された状態で、材料シート61に張力を付与するためのテンションローラ65が配設されており、供給ロール62から巻き出された材料シート61が巻き掛けられている。このテンションローラ65の基材搬入側の上方には、回転可能に軸支された状態で固定ローラ66が設けられ、テンションローラ65から導出された材料シート61が巻き掛けられている。   A tension for applying tension to the material sheet 61 in a state of being pivotally supported so as to be rotatable and movable in the vertical direction below the base material carry-in side of the supply roll 62 around which the material sheet 61 is wound. A roller 65 is provided, and a material sheet 61 unwound from the supply roll 62 is wound around. Above the tension roller 65 on the substrate carrying side, a fixed roller 66 is rotatably supported and a material sheet 61 led out from the tension roller 65 is wound thereon.

固定ローラ66を通過後の材料シート61は、保護フィルム63と離型紙64とに分離されている。そして保護フィルム63は、上記基準ローラ51と貼付ローラ52との間に供給され、離型紙64は、固定ローラ66の基材搬入側の下方に回転可能に軸支された離型紙剥離ローラ67に巻き掛けられている。   The material sheet 61 after passing through the fixed roller 66 is separated into a protective film 63 and a release paper 64. Then, the protective film 63 is supplied between the reference roller 51 and the sticking roller 52, and the release paper 64 is transferred to a release paper peeling roller 67 that is rotatably supported below the substrate carrying side of the fixed roller 66. It is wrapped around.

離型紙剥離ローラ67の基材搬入側の上方には、固定ローラ68が回転可能に軸支されている。また固定ローラ68の基材搬入側の下方には、回転可能且つ上下方向に移動可能に軸支された状態で、離型紙64に張力を付与する離型紙テンションローラ69が配設されている。その離型紙テンションローラ69の基材搬入側の上方には、モータ等の動力源にて回転駆動される離型紙ロール70が配設されている。そして、離型紙剥離ローラ67から導出された離型紙64は、固定ローラ68、離型紙テンションローラ69に巻き掛けられた後、離型紙ロール70によって巻き取られる。   A fixed roller 68 is rotatably supported above the release paper peeling roller 67 on the base material carry-in side. A release paper tension roller 69 for applying tension to the release paper 64 is provided below the fixed roller 68 on the side of the substrate carrying-in side so as to be rotatably supported and movable in the vertical direction. A release paper roll 70 that is rotationally driven by a power source such as a motor is disposed above the substrate carry-in side of the release paper tension roller 69. The release paper 64 led out from the release paper peeling roller 67 is wound around the fixed roller 68 and the release paper tension roller 69 and then taken up by the release paper roll 70.

さて、以上のように構成された本実施形態のラミネート加工装置では、上述したように、上記基準ローラ51、真空ポンプ36及びテープ貼付装置40がセンサ55の検知信号に基づき連動して作動することで、クリーンペーパ22と絶縁基材Wとを粘着テープ41,42によって真空定盤31上で固定する。以下、クリーンペーパ22とともに絶縁基材Wが供給されてからこれらクリーンペーパ22と絶縁基材Wとが粘着テープ41,42により固定されるまでの一連の流れについて説明する。   In the laminating apparatus according to the present embodiment configured as described above, the reference roller 51, the vacuum pump 36, and the tape applicator 40 operate in conjunction with each other based on the detection signal of the sensor 55 as described above. Then, the clean paper 22 and the insulating substrate W are fixed on the vacuum surface plate 31 by the adhesive tapes 41 and 42. Hereinafter, a series of flow from when the insulating base material W is supplied together with the clean paper 22 to when the clean paper 22 and the insulating base material W are fixed by the adhesive tapes 41 and 42 will be described.

まず、クリーンペーパ22上に配設された絶縁基材Wが基準ローラ51の回転によって同クリーンペーパ22と共に基材搬出側に搬送され、絶縁基材Wが真空定盤31上に位置することを上記センサを通じて検知したとき、基準ローラ51の回転を一旦停止させることによってクリーンペーパ22の搬送を停止する。これにより、絶縁基材Wは、クリーンペーパ22を介して、真空定盤31の上面31aに載置された状態となる。   First, the insulating substrate W disposed on the clean paper 22 is conveyed to the substrate unloading side together with the clean paper 22 by the rotation of the reference roller 51, and the insulating substrate W is positioned on the vacuum surface plate 31. When detected through the sensor, the conveyance of the clean paper 22 is stopped by temporarily stopping the rotation of the reference roller 51. As a result, the insulating substrate W is placed on the upper surface 31 a of the vacuum surface plate 31 via the clean paper 22.

その後、真空ポンプ36を作動させる。こうして真空ポンプ36が作動すると、吸引溝33,34内が負圧となって、クリーンペーパ22はその絶縁基材Wの配設面の裏面側から真空吸引されることとなり、真空定盤31の上面31aに密着する。このとき、クリーンペーパ22が通気性を有していることから、この真空吸引による吸引力は、クリーンペーパ22を通じて絶縁基材Wの回路パターンの形成面にも作用する。そのため、絶縁基材Wは、クリーンペーパ22とともに真空定盤31の上面31aに平面吸着されるようになる。また、このときには、クリーンペーパ22の上面はその弾性によって絶縁基材Wに形成された回路パターンの凹凸に倣って変形するため、絶縁基材Wとクリーンペーパ22とは隙間無く密着されるようになる。   Thereafter, the vacuum pump 36 is operated. When the vacuum pump 36 is thus operated, the suction grooves 33 and 34 are negatively pressurized, and the clean paper 22 is vacuum-sucked from the rear surface side of the surface on which the insulating base material W is disposed. Adheres to the upper surface 31a. At this time, since the clean paper 22 has air permeability, the suction force by the vacuum suction also acts on the circuit pattern forming surface of the insulating substrate W through the clean paper 22. Therefore, the insulating base material W is planarly adsorbed on the upper surface 31 a of the vacuum surface plate 31 together with the clean paper 22. At this time, since the upper surface of the clean paper 22 is deformed by the elasticity of the circuit pattern formed on the insulating substrate W, the insulating substrate W and the clean paper 22 are in close contact with each other without any gap. Become.

その後、真空吸引を維持したままの状態で、テープ貼付装置40が作動し、絶縁基材Wとクリーンペーパ22とを粘着テープ41,42にて固定する。このときの粘着テープ41,42の貼付けは、図2に示される態様で行われる。すなわち、粘着テープ41,42は、矩形状に形成された絶縁基材Wにあって、そのローラ圧延の供給方向に直交する側の、対向2側辺に沿って貼り付けられる。これにより、絶縁基材Wは、クリーンペーパ22上にその4隅が固定され、絶縁基材Wとクリーンペーパ22との一体性が確保される。   Thereafter, with the vacuum suction maintained, the tape applicator 40 operates to fix the insulating substrate W and the clean paper 22 with the adhesive tapes 41 and 42. The sticking of the adhesive tapes 41 and 42 at this time is performed in a mode shown in FIG. That is, the adhesive tapes 41 and 42 are in the insulating base material W formed in a rectangular shape, and are attached along the two opposing sides on the side orthogonal to the roller rolling supply direction. As a result, the four corners of the insulating base material W are fixed on the clean paper 22, and the integrity of the insulating base material W and the clean paper 22 is ensured.

こうしたテープ貼付装置40による粘着テープ41,42の貼付けが完了すると、真空ポンプ36はその作動を停止して、絶縁基材W及びクリーンペーパ22の真空吸着を解放する。また基準ローラ51は、その回転を再開し、粘着テープ41,42にて絶縁基材Wが上面に固定されたクリーンペーパ22を、基準ローラ51と貼付ローラ52との間に引き入れる。そして基準ローラ51及び貼付ローラ52は、同様に引き入れられた保護フィルム63とともに、絶縁基材Wが上面に固定されたクリーンペーパ22をローラ圧延して、絶縁基材Wに保護フィルム63をラミネートする。   When the application of the adhesive tapes 41 and 42 by the tape application device 40 is completed, the vacuum pump 36 stops its operation and releases the vacuum suction of the insulating base material W and the clean paper 22. Further, the reference roller 51 resumes its rotation, and the clean paper 22 having the insulating base W fixed on the upper surface by the adhesive tapes 41 and 42 is drawn between the reference roller 51 and the application roller 52. The reference roller 51 and the sticking roller 52 roll the clean paper 22 with the insulating base W fixed on the upper surface together with the protective film 63 drawn in the same manner, and laminate the protective film 63 on the insulating base W. .

その後、保護フィルム63のラミネートされた絶縁基材W及びクリーンペーパ22は、基準ローラ51の回転によって同基準ローラ51から基材搬出側に所定の長さだけ送り出され、カッタ80によって絶縁基材W毎に切断される。   Thereafter, the insulating base material W and the clean paper 22 on which the protective film 63 is laminated are sent out by a predetermined length from the reference roller 51 to the base material unloading side by the rotation of the reference roller 51, and the insulating base material W is cut by the cutter 80. It is cut every time.

このときのカッタ80による切断は、図3に一点鎖線にて示す切断線CT1、CT2に沿って行われる。すなわち、クリーンペーパ22及び保護フィルム63は、上記粘着テープ41,42の貼り付けられた絶縁基材Wの対向する2側辺に沿って切断される。このように切断した場合、上記保護フィルム63のラミネートされた絶縁基材W及びクリーンペーパ22を絶縁基材W毎に切断して形成されたパッケージの側辺に、保護フィルム63が絶縁基材Wやクリーンペーパ22に貼着されていない領域が形成される。この領域では、絶縁基材Wの上面に上述したような粘着性の低い接着剤にて粘着テープ41,42が貼着されているのみであるため、後に絶縁基材Wから同保護フィルム63を剥離させる際にその剥離を容易とする剥離耳として利用することができるようになる。   The cutting by the cutter 80 at this time is performed along cutting lines CT1 and CT2 indicated by a one-dot chain line in FIG. That is, the clean paper 22 and the protective film 63 are cut along two opposing sides of the insulating base material W to which the adhesive tapes 41 and 42 are attached. When cut in this way, the protective film 63 is formed on the side of the package formed by cutting the insulating substrate W and the clean paper 22 laminated with the protective film 63 for each insulating substrate W. As a result, a region not attached to the clean paper 22 is formed. In this region, since the adhesive tapes 41 and 42 are only attached to the upper surface of the insulating base material W with an adhesive having low adhesiveness as described above, the protective film 63 is later removed from the insulating base material W. When peeling, it can be used as a peeling ear that facilitates the peeling.

なお、こうした本実施の形態では、材料ロール23、テンションローラ24、固定ローラ25、基準ローラ51、貼付ローラ52、及びバックアップローラ53等により上述のシート材供給手段が構成されている。また搬送装置54によって薄材配設手段が、真空ポンプ36、吸引溝33,34、及び配管35が吸引手段に、テープ貼付装置40がテープ貼付手段にそれぞれ相当する構成となっている。更に供給ロール62、テンションローラ65、固定ローラ66等によりフィルム供給手段が、基準ローラ51、貼付ローラ52、及びバックアップローラ53により圧延ローラがそれぞれ構成されている。更に、真空定盤31の上面31aが、薄材(絶縁基材W)の配設後のシート材(クリーンペーパ22)が載置される上記平坦面に相当する構成となっている。   In this embodiment, the material roll 23, the tension roller 24, the fixed roller 25, the reference roller 51, the sticking roller 52, the backup roller 53, and the like constitute the above-described sheet material supply means. The conveying device 54 is configured so that the thin material disposing means corresponds to the vacuum pump 36, the suction grooves 33 and 34, and the pipe 35 to the sucking means, and the tape applying device 40 corresponds to the tape applying means. Further, the supply roller 62, the tension roller 65, the fixed roller 66 and the like constitute a film supply means, and the reference roller 51, the sticking roller 52, and the backup roller 53 constitute a rolling roller. Further, the upper surface 31a of the vacuum surface plate 31 has a configuration corresponding to the flat surface on which the sheet material (clean paper 22) after the thin material (insulating base material W) is disposed.

以上説明したように、本実施の形態にかかるフィルムのラミネート加工方法及びラミネート加工装置によれば、以下のような効果を得ることができるようになる。
(1)通気性を有するとともに絶縁基材Wよりも厚さ方向の弾性の高いクリーンペーパ22の上面にこの絶縁基材Wを配設し、真空定盤31の上面31a上にこれら絶縁基材W及びクリーンペーパ22が載置された状態で真空吸引するようにした。このため、真空吸引の際、その吸引力がクリーンペーパ22を通じて絶縁基材Wにも作用することとなり、クリーンペーパ22と絶縁基材Wとが共に上面31a上に吸着される。またこのとき、絶縁基材Wに形成された回路パターンによる凹凸は、クリーンペーパ22がその弾性により変形して吸収するため、絶縁基材Wとクリーンペーパ22とは隙間無く密着する。そして、このように上面31a上に吸着された状態で絶縁基材Wとクリーンペーパ22とを粘着テープ41,42によって固定するようにし、この粘着テープ41,42によりクリーンペーパ22に固定された絶縁基材Wに対して保護フィルム63を重ね合わせてローラ圧延するようにした。このため、クリーンペーパ22と基準ローラ51との密着性、及び粘着テープ41,42による絶縁基材Wとクリーンペーパ22との一体性が共に保持された状態でローラ圧延されることとなり、ローラ圧延中の荷重分布の偏りによる圧縮力に抗して絶縁基材Wを平坦に保持することができる。したがって、ローラ圧延による絶縁基材Wへの保護フィルム63のラミネート加工に際しての皺の発生を好適に抑制することができるようになる。
As described above, according to the film laminating method and laminating apparatus according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
(1) The insulating base material W is disposed on the upper surface of the clean paper 22 which has air permeability and has higher elasticity in the thickness direction than the insulating base material W, and these insulating base materials are disposed on the upper surface 31a of the vacuum surface plate 31. Vacuum suction was performed with W and clean paper 22 placed. For this reason, at the time of vacuum suction, the suction force also acts on the insulating substrate W through the clean paper 22, and the clean paper 22 and the insulating substrate W are both adsorbed on the upper surface 31a. At this time, the unevenness due to the circuit pattern formed on the insulating substrate W is absorbed and deformed by the elasticity of the clean paper 22, so that the insulating substrate W and the clean paper 22 are in close contact with each other without any gap. Then, the insulating base W and the clean paper 22 are fixed by the adhesive tapes 41 and 42 in the state of being adsorbed on the upper surface 31a in this way, and the insulation fixed to the clean paper 22 by the adhesive tapes 41 and 42. The protective film 63 was superposed on the base material W and rolled. For this reason, the roller rolling is performed in a state where the adhesion between the clean paper 22 and the reference roller 51 and the integrity of the insulating base material W and the clean paper 22 by the adhesive tapes 41 and 42 are both maintained. The insulating base material W can be held flat against the compressive force due to the uneven load distribution inside. Therefore, generation | occurrence | production of the wrinkle at the time of the lamination process of the protective film 63 to the insulating base material W by roller rolling can be suppressed now suitably.

(2)絶縁基材Wにおいて粘着テープ41,42が貼り付けられた領域が、後に絶縁基材Wから保護フィルム63を剥離させる際の剥離耳として利用できるため、保護フィルム63の剥離作業を容易とすることができる。   (2) Since the region where the adhesive tapes 41 and 42 are attached to the insulating base material W can be used as a peeling ear when the protective film 63 is peeled off from the insulating base material W later, the peeling work of the protective film 63 is easy. It can be.

(3)真空吸引によって絶縁基材Wとクリーンペーパ22とが真空定盤31の上面31a上に吸着された際、絶縁基材Wの対向する2側辺に沿って、且つ、ローラ圧延の供給方向に直交する方向に粘着テープ41,42を貼り付けて絶縁基材Wとクリーンペーパ22とを固定するようにした。このため、絶縁基材Wをクリーンペーパ22に確実に固定することができるとともに、粘着テープ41,42の厚さによる圧延断面の局所的な厚さの増大を回避することができるようになり、絶縁基材Wへの保護フィルム63のラミネート加工に際しての皺の発生をより好適に防止することができる。   (3) When the insulating base material W and the clean paper 22 are adsorbed on the upper surface 31a of the vacuum surface plate 31 by vacuum suction, along the two opposite sides of the insulating base material W, and supply of roller rolling Adhesive tapes 41 and 42 were attached in a direction orthogonal to the direction to fix the insulating substrate W and the clean paper 22. For this reason, while being able to fix the insulation base material W to the clean paper 22 reliably, the increase in the local thickness of the rolling cross section by the thickness of the adhesive tapes 41 and 42 can be avoided, Generation | occurrence | production of the wrinkle at the time of the lamination process of the protective film 63 to the insulating base material W can be prevented more suitably.

なお、この発明にかかるフィルムのラミネート加工方法及びラミネート加工装置は上記実施の形態に限定されるものではなく、同実施の形態を適宜変更した例えば次のような形態として実施することもできる。   The film laminating method and laminating apparatus according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and can be implemented as, for example, the following forms obtained by appropriately changing the embodiments.

・絶縁基材Wとクリーンペーパ22とを固定するために貼り付ける粘着テープ41,42の貼り付け方向、貼り付け数は任意に選択可能である。例えば、絶縁基材Wやクリーンペーパ22の供給方向に沿うように粘着テープ41,42を貼り付けるようにしてもよいし、同供給方向に対して所定の角度をもって粘着テープ41,42を貼り付けるようにしてもよい。また、上記実施の形態におけるように2箇所ではなく、数箇所に分散させて粘着テープを貼り付けて絶縁基材Wとクリーンペーパ22とを固定するようにしてもよい。要するに、ローラ圧延時にこれら絶縁基材Wとクリーンペーパ22との一体性が確保されれば、粘着テープの貼り付け方向や貼り付け数は限定されない。   The sticking direction and the number of sticking of the adhesive tapes 41 and 42 to be stuck to fix the insulating substrate W and the clean paper 22 can be arbitrarily selected. For example, the adhesive tapes 41 and 42 may be attached along the supply direction of the insulating substrate W or the clean paper 22, or the adhesive tapes 41 and 42 are attached at a predetermined angle with respect to the supply direction. You may do it. Further, the insulating base material W and the clean paper 22 may be fixed by dispersing the adhesive tape and attaching it to several places instead of two places as in the above embodiment. In short, the sticking direction and the number of sticking of the adhesive tape are not limited as long as the integrity of the insulating base W and the clean paper 22 is ensured during roller rolling.

・シート材は、クリーンペーパ22に限定されるものではなく、通気性を有するとともに絶縁基材Wよりも厚さ方向の弾性の高い材質であればよい。
・上記実施の形態では、薄材として、その一面に回路パターンが形成されるとともに、多層回路基板の一層を構成する絶縁基材Wを想定している。しかし、本発明の対象となる薄材はこうした絶縁基材Wに限定されるものではなく、自らの剛性のみでは自身を平坦に保持することのできない薄材に対して適宜、適用可能である。
The sheet material is not limited to the clean paper 22 and may be a material having air permeability and higher elasticity in the thickness direction than the insulating base material W.
In the above embodiment, as the thin material, a circuit pattern is formed on one surface, and the insulating base material W constituting one layer of the multilayer circuit board is assumed. However, the thin material that is the subject of the present invention is not limited to such an insulating base W, and can be appropriately applied to a thin material that cannot hold itself flat only by its own rigidity.

本発明にかかるラミネート加工装置の一実施の形態についてその側面断面構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the side surface cross-section about one Embodiment of the laminating apparatus concerning this invention. 同実施の形態における絶縁基材及びクリーンペーパへの粘着テープの貼り付け態様を示す模式図。The schematic diagram which shows the sticking aspect of the adhesive tape to the insulation base material and clean paper in the same embodiment. 同実施の形態における保護フィルムのラミネートされた絶縁基材及びクリーンペーパの切断態様を示す模式図。The schematic diagram which shows the cutting | disconnection aspect of the insulation base material and the clean paper which were laminated | stacked on the protective film in the embodiment. (a)〜(g)は、多層回路基板の製造工程を示す模式図。(A)-(g) is a schematic diagram which shows the manufacturing process of a multilayer circuit board. 従来のラミネート加工装置によるローラ圧延工程を示す模式図。The schematic diagram which shows the roller rolling process by the conventional laminating apparatus. 従来のラミネート加工装置のうち、ローラ圧延部の拡大図。The enlarged view of a roller rolling part among the conventional laminating apparatuses. 従来のラミネート加工装置によるローラ圧延後の絶縁基材及び保護フィルムの表面状態を示す模式図。The schematic diagram which shows the surface state of the insulating base material and protective film after roller rolling by the conventional laminating apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

10、11…支持足、20…ベース部、21a…開口部、22…クリーンペーパ、23…材料ロール、24,65…テンションローラ、25,66,68…固定ローラ、31…真空定盤、31a…上面、33,34…吸引溝、35…配管、36…真空ポンプ、40…テープ貼付装置、41,42…粘着テープ、51…基準ローラ、52…貼付ローラ、53…バックアップローラ、54…搬送装置、55…センサ、61…材料シート、62…供給ロール、63…保護フィルム、64…離型紙、67…離型紙剥離ローラ、69…離型紙テンションローラ、70…離型紙ロール、80…カッタ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 11 ... Support foot, 20 ... Base part, 21a ... Opening part, 22 ... Clean paper, 23 ... Material roll, 24, 65 ... Tension roller, 25, 66, 68 ... Fixed roller, 31 ... Vacuum surface plate, 31a ... Upper surface, 33, 34 ... Suction groove, 35 ... Piping, 36 ... Vacuum pump, 40 ... Tape applicator, 41, 42 ... Adhesive tape, 51 ... Reference roller, 52 ... Adhesion roller, 53 ... Backup roller, 54 ... Conveyance Device: 55 ... sensor, 61 ... material sheet, 62 ... feed roll, 63 ... protective film, 64 ... release paper, 67 ... release paper peeling roller, 69 ... release paper tension roller, 70 ... release paper roll, 80 ... cutter.

Claims (10)

薄材にフィルムをラミネート加工する方法であって、
通気性を有するとともに前記薄材よりも厚さ方向の弾性の高いシート材の上面に前記薄材を配設する工程と、
前記薄材の配設後の前記シート材を平坦面上に載置するとともに、そのシート材における前記薄材の配設面の裏面側から真空吸引する工程と、
その真空吸引中に前記シート材と前記薄材とを粘着テープにて固定する工程と、
前記粘着テープの固定後に前記薄材の上面に前記フィルムを重ね合わせた上でそれらをローラ圧延する工程と、
を備えることを特徴とするフィルムのラミネート加工方法。
A method of laminating a film on a thin material,
Disposing the thin material on the upper surface of the sheet material having air permeability and higher elasticity in the thickness direction than the thin material; and
Placing the sheet material after placement of the thin material on a flat surface, and vacuum suction from the back side of the placement surface of the thin material in the sheet material;
Fixing the sheet material and the thin material with an adhesive tape during the vacuum suction;
A process of rolling the films on the upper surface of the thin material after fixing the adhesive tape, and rolling them;
A method for laminating a film, comprising:
前記粘着テープは、矩形状に形成された前記薄材の対向する2側辺に沿って貼り付けられる
請求項1に記載のフィルムのラミネート加工方法。
The method for laminating a film according to claim 1, wherein the adhesive tape is attached along two opposing sides of the thin material formed in a rectangular shape.
前記粘着テープの貼り付け方向を、前記ローラ圧延の供給方向に直交する方向とした
請求項1または2に記載のフィルムのラミネート加工方法。
The method for laminating a film according to claim 1 or 2, wherein a direction in which the adhesive tape is attached is a direction orthogonal to a supply direction of the roller rolling.
前記シート材としてクリーンペーパを用いる
請求項1〜3のいずれか一項に記載のフィルムのラミネート加工方法。
The method for laminating a film according to claim 1, wherein clean paper is used as the sheet material.
前記薄材は、その一面に回路パターンが形成されるとともに、多層回路基板の一層を構成する絶縁基材である
請求項1〜4のいずれか一項に記載のフィルムのラミネート加工方法。
The method for laminating a film according to any one of claims 1 to 4, wherein the thin material is an insulating base material having a circuit pattern formed on one surface thereof and constituting one layer of a multilayer circuit board.
薄材にフィルムをラミネート加工する装置であって、
通気性を有するとともに前記薄材よりも厚さ方向の弾性の高いシート材を平坦面に供給するシート材供給手段と、
前記平坦面に供給される前記シート材の上面に前記薄材を配設する薄材配設手段と、
前記平坦面において前記シート材をその上面に配設された前記薄材と共に、同薄材の配設面の裏面側から真空吸引する吸引手段と、
前記平坦面において前記シート材と前記薄材とを粘着テープを貼り付けて固定するテープ貼付手段と、
前記粘着テープの貼り付けられた前記薄材の上面に重ね合わせるように前記フィルムを供給するフィルム供給手段と、
前記フィルムの重ね合わされた前記薄材が供給されてその圧延を行う圧延ローラと、
を備えることを特徴とするフィルムのラミネート加工装置。
An apparatus for laminating a film on a thin material,
Sheet material supply means for supplying a flat surface with a sheet material having air permeability and higher elasticity in the thickness direction than the thin material;
Thin material disposing means for disposing the thin material on the upper surface of the sheet material supplied to the flat surface;
With the thin material disposed on the upper surface of the sheet material on the flat surface, suction means for vacuum suction from the back surface side of the thin material disposed surface;
A tape attaching means for attaching and fixing the sheet material and the thin material on the flat surface;
Film supply means for supplying the film so as to overlap the upper surface of the thin material to which the adhesive tape is attached;
A rolling roller for feeding and rolling the thin material on which the film is superimposed;
An apparatus for laminating a film, comprising:
前記テープ貼付手段は、矩形状に形成された前記薄材の対向する2側辺に沿って前記粘着テープの貼り付けを行う
請求項6に記載のフィルムのラミネート加工装置。
The film laminating apparatus according to claim 6, wherein the tape affixing unit affixes the adhesive tape along two opposing sides of the thin material formed in a rectangular shape.
前記テープ貼付手段は、前記貼り付けられた粘着テープの延伸方向が、前記薄材の前記圧延ローラへの供給方向に直交する方向となるように前記貼り付けを行う 請求項6または7に記載のフィルムのラミネート加工装置。 The said tape sticking means performs the said sticking so that the extending | stretching direction of the stuck adhesive tape may become a direction orthogonal to the supply direction to the said rolling roller of the said thin material. Film laminating equipment. 前記シート材をクリーンペーパとした
請求項6〜8のいずれか一項に記載のフィルムのラミネート加工装置。
The film laminating apparatus according to any one of claims 6 to 8, wherein the sheet material is clean paper.
その一面に回路パターンが設けられるとともに多層回路基板の一層を構成する絶縁基材を、前記薄材としてラミネート加工を行う
請求項6〜9のいずれか一項に記載のフィルムのラミネート加工装置。
The film laminating apparatus according to any one of claims 6 to 9, wherein a circuit pattern is provided on one surface and an insulating base material constituting one layer of the multilayer circuit board is laminated as the thin material.
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