JP2007088267A - 極端紫外光源装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ターゲット射出装置23と、レーザ発振器42と、コレクタミラー13と、集光光の内から所定の波長成分を有するEUV光を選択的に透過させるフィルタ14と、発光点におけるEUV光のエネルギーを測定するEUVエネルギーモニタ装置50と、集光点におけるEUV光のエネルギーを測定するEUVダイオード63と、EUVエネルギーモニタ装置の測定値E1とEUVダイオードの測定値E2との関係を格納する記憶装置10aと、測定値E1と上記関係とに基づいて露光機に出力されるEUVエネルギーを算出すると共に、測定値E1と測定値E2とに基づいて上記関係を補正する制御装置10とを有する。
【選択図】図1
Description
第1の条件として、発光点位置は、露光機光学系に対して空間的に一定位置(理想発光点)になければならない。第2の条件として、コレクタミラーによってEUV光が集光される集光点位置は、露光機光学系に対して空間的に一定位置(理想集光点)になければならない。第3の条件として、集光点におけるEUV放射分布及び放射エネルギーは、ほぼ一定でなければならない。
これらの点について、特許文献1においては、EUVエネルギーを検出し、レーザエネルギーを増減させることによりEUVエネルギーを制御している(第2頁)。
図1は、本発明の第1の実施形態に係るEUV光源装置を示す模式図である。このEUV光源装置は、LPP(レーザ励起プラズマ)方式を採用しており、露光装置(露光機)用の光源として用いられる。
ターゲット位置調整装置30は、例えば、ベローズ付きの真空対応自動XYステージを備えており、EUV光源制御装置10の制御の下で、ターゲット射出装置23を、ターゲット流とほぼ直交する平面内において、所定の範囲内で移動させる。
EUV光源装置を長期間使用することにより、コレクタミラー13やEUVフィルタ14の損傷や劣化が生じる。例えば、プラズマから発生した中性粒子やイオンによりコレクタミラー13やEUVフィルタ14が削られて、EUV光の集光点の位置がずれたり、EUVフィルタ14の透過率が部分的に高くなってしまう。反対に、プラズマ生成に寄与しなかったターゲット物質(デブリス)がコレクタミラー13やEUVフィルタ14に付着することにより、ミラーの反射率やフィルタの透過率が低下してしまう。その結果、EUVエネルギーモニタ装置50の測定値に基づいて算出されたEUVエネルギーと、実際にEUV光源装置から露光装置に出力されたEUVエネルギーとの間に乖離が生じる場合がある。このような現象を防止するためには、EUVエネルギーの算出処理を定期的に較正する必要がある。
また、EUV光源装置10は、この較正動作により、コレクタミラー13の反射率が所定の値以下になっていると判断する場合には、コレクタミラーの交換時期であることをユーザに知らせるようにしても良い。
このような検査も定期的に行うことが望ましい。
図6に示すように、本実施形態に係るEUV光源装置においては、EUVダイオード63の位置が、第1の実施形態におけるもの(図1)と異なっている。即ち、EUVダイオード63は、図6の(a)に示すように、露光光路以外の位置であって、図6の(b)に示すように、コレクタミラー13を傾けた場合に、コレクタミラー13の集光点後方となる位置に配置されている。その他の構成については、第1の実施形態におけるものと同様である。
図6の(a)に示すように、露光装置において露光を行っている間に、コレクタミラー13は、理想集光点に焦点を形成するように調節された位置及び姿勢を維持している。それに対して、図6の(b)に示すように、EUVエネルギー算出処理の較正を行う場合には、コレクタミラー13を僅かに傾ける。それにより、コレクタミラー13による集光光がEUVダイオード63に入射する。その状態におけるEUVダイオード63の測定値E2と、EUVエネルギーモニタ50の測定値E1とに基づいて、記憶装置10aに格納されている両者の関係を補正する。なお、測定値E1については、露光中に得られたものであっても良い。
このように、本実施形態によれば、EUVダイオード63を移動させることなくEUV光の光路に挿入することができる。従って、機械的に空間が制限され易い露光装置との接続部分の装置構成を簡単にすることができる。
図7に示すように、本実施形態に係るEUV光源装置においては、図1に示すEUV光源装置に対して、EUVダイオード63がEUVチャンバ11の内部に配置されていると共に、駆動機構が設けられた較正用ミラー64が追加されている。EUVダイオード63は、較正用ミラー64がコレクタミラー13による集光光の光路に挿入された場合に、較正用ミラー64によって反射された光の集光点となる位置に配置されている。その他の構成については、第1の実施形態におけるものと同様である。
図7の(a)に示すように、露光装置において露光を行っている間に、較正用ミラー64は、コレクタミラー13による集光光の光路から退避している。それに対して、図7の(b)に示すように、EUVエネルギー算出処理の較正を行う場合には、較正用ミラー64がコレクタミラー13による集光光の光路に挿入される。それによって反射された光がEUVダイオード63に入射する。その状態におけるEUVダイオード63の測定値E2と、EUVエネルギーモニタ50の測定値E1とに基づいて、記憶装置10aに格納されている両者の関係を補正する。なお、測定値E1については、露光中に得られたものであっても良い。
図8に示すEUV光源装置は、図1に示すターゲット制御装置20の替わりにターゲット制御装置80を有しており、それに加えて、ターゲット射出タイミング調整装置81を備えている。また、このEUV光源装置は、図1に示すターゲット位置モニタ装置31の替わりに、ターゲット位置・速度モニタ装置82を有している。さらに、このEUV光源装置は、図1に示すレーザ制御装置40、レーザ励起強度調整装置41、レーザエネルギーモニタ装置43、及び、プラズマモニタ装置51の替わりに、レーザ制御装置83、レーザ励起強度・タイミング調整装置84、レーザエネルギー・タイミングモニタ装置85、及び、プラズマ位置・タイミングモニタ装置86を有している。
レーザエネルギー・タイミングモニタ装置85は、レーザ発振器42から射出したレーザ光のエネルギー及び照射タイミングをモニタしており、レーザ光のエネルギー値を表す信号を所定のタイミングでレーザ制御装置83に出力する。この信号は、レーザ制御装置83により、レーザエネルギー及び照射タイミングが所定の値を維持するようにレーザ励起強度・タイミング調整装置84を制御するために用いられる。
Claims (4)
- 真空チャンバの内部に供給されたターゲット物質に、該ターゲット物質を励起させるためのレーザ光を照射することによりプラズマを生成し、該プラズマから発生する極端紫外光を集光ミラーによって所定の位置に集光して露光機に出力するレーザ励起プラズマ方式による極端紫外光源装置であって、
ターゲット物質を前記真空チャンバ内に供給するターゲット射出装置と、
前記ターゲット射出装置によって供給されたターゲット物質を励起してプラズマを生成するためのレーザ光を射出するレーザ発振器と、
プラズマから発生した光を所定の位置に集光する集光ミラーと、
前記集光ミラーによって集光された光の内から、所定の波長成分を有する極端紫外光を選択的に透過させるフィルタと、
プラズマから直接放射される極端紫外光のエネルギーを測定する第1の受光素子と、
前記集光ミラーによって集光された光の光路上に挿入されたときに、前記集光ミラーによって集光された極端紫外光のエネルギーを測定する第2の受光素子と、
前記第1の受光素子によって取得される第1の測定値と、前記第2の受光素子によって取得される第2の測定値との関係を格納する格納装置と、
前記第1の測定値と前記格納装置に格納されている前記関係とに基づいて、前記露光機に出力される極端紫外光のエネルギーを算出すると共に、前記第1の測定値と前記第2の測定値とに基づいて前記関係を補正する制御装置と、
を具備する極端紫外光源装置。 - 真空チャンバの内部に供給されたターゲット物質に、該ターゲット物質を励起させるためのレーザ光を照射することによりプラズマを生成し、該プラズマから発生する極端紫外光を集光ミラーによって所定の位置に集光して露光機に出力するレーザ励起プラズマ方式による極端紫外光源装置であって、
ターゲット物質を前記真空チャンバ内に供給するターゲット射出装置と、
前記ターゲット射出装置によって供給されたターゲット物質を励起してプラズマを生成するためのレーザ光を射出するレーザ発振器と、
プラズマから発生した光を第1の位置に集光する集光ミラーと、
前記集光ミラーによって集光された光の内から、所定の波長成分を有する極端紫外光を選択的に透過させるフィルタと、
前記集光ミラーの位置及び/又は姿勢を変化させることにより、集光点を前記第1の位置から第2の位置に変化させる集光ミラー調整装置と、
プラズマから直接放射される極端紫外光のエネルギーを測定する第1の受光素子と、
前記第2の位置に配置され、前記集光ミラーによって集光された極端紫外光のエネルギーを測定する第2の受光素子と、
前記第1の受光素子によって取得される第1の測定値と、前記第2の受光素子によって取得される第2の測定値との関係を格納する格納装置と、
前記第1の測定値と前記格納装置に格納されている前記関係とに基づいて、前記露光機に出力される極端紫外光のエネルギーを算出すると共に、前記集光ミラー調整装置によって前記集光ミラーの姿勢を変化させることにより前記第2の測定値を取得し、前記第1の測定値と前記第2の測定値とに基づいて前記関係を補正する制御装置と、
を具備する極端紫外光源装置。 - 真空チャンバの内部に供給されたターゲット物質に、該ターゲット物質を励起させるためのレーザ光を照射することによりプラズマを生成し、該プラズマから発生する極端紫外光を集光ミラーによって所定の位置に集光して露光機に出力するレーザ励起プラズマ方式による極端紫外光源装置であって、
ターゲット物質を前記真空チャンバ内に供給するターゲット射出装置と、
前記ターゲット射出装置によって供給されたターゲット物質を励起してプラズマを生成するためのレーザ光を射出するレーザ発振器と、
プラズマから発生した光を第1の位置に集光する集光ミラーと、
前記集光ミラーによって集光された光の内から、所定の波長成分を有する極端紫外光を選択的に透過させるフィルタと、
前記集光ミラーによって集光される光の光路上に挿入されたときに、該光路を変化させることにより、集光点を前記第1の位置から第2の位置に変化させる光学系と、
プラズマから直接放射される極端紫外光のエネルギーを測定する第1の受光素子と、
前記第2の位置に配置され、前記集光ミラーによって集光された極端紫外光のエネルギーを測定する第2の受光素子と、
前記第1の受光素子によって取得される第1の測定値と、前記第2の受光素子によって取得される第2の測定値と関係を格納する格納装置と、
前記第1の測定値と前記格納装置に格納されている前記関係とに基づいて、前記露光機に出力される極端紫外光のエネルギーを算出すると共に、前記集光ミラーによる集光光の光路上に前記光学系を挿入することにより前記第2の測定値を取得し、前記第1の測定値と前記第2の測定値とに基づいて前記関係を補正する制御装置と、
を具備する極端紫外光源装置。 - 前記第1の測定値をE1とし、前記第2の測定値をE2とした場合に、前記関係が、E2=f(E1)によって表される関数である、請求項1〜3のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
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