JP2007087640A - Display panel and manufacturing method of display panel - Google Patents

Display panel and manufacturing method of display panel

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JP2007087640A JP2005272182A JP2005272182A JP2007087640A JP 2007087640 A JP2007087640 A JP 2007087640A JP 2005272182 A JP2005272182 A JP 2005272182A JP 2005272182 A JP2005272182 A JP 2005272182A JP 2007087640 A JP2007087640 A JP 2007087640A
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Minoru Kumagai
Tomoko Tano
稔 熊谷
朋子 田野
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Casio Comput Co Ltd
カシオ計算機株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display panel allowing an organic compound layer suppressing film thickness irregularity of the organic compound layer to be formed; and to provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: This application provide an EL display panel and its manufacturing method. Pixel electrodes 13 are arranged in a matrix-like form on a pixel arrangement area 12 on a substrate 11; barrier ribs 15 reaching both ends of the pixel arrangement area 12 are formed between respective columns of the pixel electrodes 13 so as to be independent of one another; an organic compound-containing solution 16 is applied between the respective barrier ribs 15; an extra amount of the applied organic compound-containing solution 16 is made to flow out to the outside of the pixel arrangement area 12 from both ends of the barrier ribs 15; and thereby the organic compound layer can be formed in a uniform film thickness. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示パネル及び表示パネルの製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a display panel and a display panel.

有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子という)はアノードとカソードとの間に有機化合物層が介在した積層構造を為しており、アノードとカソードの間に順バイアス電圧が印加されると有機化合物層において発光する。 The organic electroluminescence device (hereinafter, referred to as organic EL device) is an organic compound layer is forms an interposed layered structure, when a forward bias voltage is applied between the anode and the cathode an organic compound between the anode and cathode emitting at the layer. このような複数の有機EL素子を赤、緑、青の何れかに発光させるサブピクセルとして基板上にマトリクス状に配列し、画像表示を行うエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル(以下、ELディスプレイパネルという)が実現化されている。 Red such a plurality of organic EL elements, green, arranged in a matrix on the substrate as a sub-pixel to emit light to one of the blue, electroluminescent display panel for displaying an image (hereinafter, referred to as an EL display panel) is achieved It is of.

有機化合物層の形成方法としては、例えばインクジェット法、ノズルコート法等の湿式塗布法によって電極に積層するものがある(例えば、特許文献1参照)。 As a method for forming the organic compound layer, for example, an ink jet method, there is laminated to the electrodes by a wet and a nozzle coating method (e.g., see Patent Document 1). この方法では、例えば次に説明するようにしてELディスプレイパネルを製造されている。 In this way, for example then as explained are producing EL display panel.

まず、図8,図9に示すように、基板31の表面上に導体膜を成膜し、この導体膜をフォトリソグラフィーによりパターニングし、マトリクス状の画素電極33を形成する。 First, as shown in FIGS. 8 and 9, the conductive film is formed on the surface of the substrate 31, the conductive film is patterned by photolithography to form a matrix of pixel electrodes 33. 次に、フォトリソグラフィー技術を用いて、画素電極33を囲むように網目状の絶縁膜34を基板31上に形成する。 Next, by photolithography, a mesh-shaped insulating film 34 so as to surround the pixel electrode 33 is formed on the substrate 31. 次に、フォトリソグラフィー技術を用いて、絶縁膜34上に画素電極33を1列ずつ囲むように隔壁35を形成する。 Next, by photolithography, to form the partition wall 35 so as to surround one column pixel electrodes 33 on the insulating film 34. 一方で、有機EL素子の有機化合物層に用いる有機化合物材料を含有させた有機化合物含有液を作成しておく。 Meanwhile, it creates a organic compound-containing solution which contains an organic compound material used for the organic compound layer of the organic EL element.

そして、有機化合物含有液をノズルから隔壁内の画素電極に向けて噴出させることにより、図10,図11に示すように、隔壁内の画素電極に有機化合物材料36を塗布する。 Then, by spouting an organic compound containing liquid from the nozzle to the pixel electrodes in the partition wall, 10, as shown in FIG. 11, applying an organic compound material 36 to the pixel electrodes in the partition wall.

具体的には、ある隔壁内の画素電極の列の上には、赤色発光用の有機化合物含有液36rが塗布される。 More specifically, on the column of the pixel electrodes in a certain partition wall, the organic compound containing liquid 36r for red light emission is applied. その隔壁内の画素電極の列に隣接する一方の列の画素電極の上には、緑色発光用の有機化合物含有液36gが塗布され、他方の列の画素電極の上には、青色発光用の有機化合物含有液36bが塗布される。 On top of one of the columns of the pixel electrodes adjacent to the column of the pixel electrodes in the partition wall, the organic compound-containing solution 36g for green light emission is applied, on the pixel electrodes in the other row, for blue light emission the organic compound-containing solution 36b is applied.

このように、赤色発光用、緑色発光用、青色発光用の有機化合物含有液がその順に個別に隔壁内の画素電極上に塗布される。 Thus, for red light emission, green light emission, organic compound-containing solution for blue light emission is applied onto the pixel electrode individually in the partition wall in this order. なお、隔壁により、赤、緑、青の各色発光用の有機化合物含有液の混合が防止されている。 Incidentally, the partition wall, the red, green, mixing of the organic compound-containing liquid for each color emission and blue is prevented. 有機化合物含有液が乾燥することで、有機化合物層が形成される。 By organic compound-containing liquid is dried, the organic compound layer is formed.

その後、気相成長法により対向電極を有機化合物層上に形成する。 Thereafter, a counter electrode formed on the organic compound layer by vapor deposition. 以上により、画素電極と対向電極との間に有機化合物層を挟み込んだ有機EL素子がマトリクス状に配列される。 Thus, the organic EL element sandwiched an organic compound layer are arranged in a matrix between the pixel electrode and the counter electrode. これらの有機EL素子が赤、緑、青の何れかに発光するサブピクセルとなり、画像表示を行うELディスプレイパネルが製造される。 These organic EL elements of red, green, becomes a sub-pixel that emits either blue, EL display panel for displaying an image is produced.
特開2002−75640号公報 JP 2002-75640 JP

しかし、上述の製造方法では、隔壁の終端部において、図11に示すように、ノズルから噴出される有機化合物含有液36が表面張力により隔壁35に沿って付着するため、乾燥した有機化合物層に膜厚が厚い部分36aができる。 However, in the above-described manufacturing method, at the end portion of the partition wall, as shown in FIG. 11, since the organic compound containing liquid 36 ejected from the nozzle adheres along the partition wall 35 by the surface tension, the dried organic compound layer the film thickness can be thick portion 36a. 一方、有機化合物含有液36が表面張力により隔壁35側に引き寄せられることにより、乾燥させた有機化合物層に膜厚が薄い部分36bができる。 On the other hand, the organic compound containing liquid 36 is attracted to the partition wall 35 side by the surface tension, the film thickness can thin portion 36b in the organic compound layer is dried. このように、有機化合物層の膜厚むらが生じるという問題があった。 Thus, there is a problem that the film thickness unevenness of the organic compound layer occurs.

本発明の課題は、上述のような隔壁の側壁における有機化合物層の膜厚むらを抑えた有機化合物層を形成することができるエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法及びエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを提供することである。 The object of the present invention is to provide a manufacturing method and an electroluminescence display panel electroluminescent display panel capable of forming an organic compound layer with reduced thickness unevenness of the organic compound layer in the side wall of the partition wall as described above is there.

以上の課題を解決するため、請求項1に記載の発明は、表示パネルにおいて、画素配列領域に設けられた複数の画素電極と、前記画素電極上に成膜された有機EL層と、所定方向に沿って互いに隣接する前記複数の画素電極間に配置され、前記有機EL層を成膜するための仕切りとなるとともに、互いに離間された複数の隔壁と、を備えることを特徴とする。 To solve the above problems, the invention according to claim 1, in the display panel, a plurality of pixel electrodes provided in the pixel array region, and an organic EL layer formed on said pixel electrode, a predetermined direction along disposed between adjacent said plurality of pixel electrodes each other, with a partition for forming the organic EL layer, characterized in that it comprises a plurality of partition walls which are spaced apart from each other.

請求項2に記載の発明は、請求項1記載の表示パネルにおいて、前記複数の隔壁は線形状であることを特徴とする。 According to a second aspect of the invention, in the display panel according to claim 1, wherein the plurality of partition walls is characterized by a linear shape.

請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の表示パネルにおいて、前記画素配列領域は基板に設けられた突出層上に位置することを特徴とする。 According to a third aspect of the invention, in the display panel according to claim 1 or 2, wherein the pixel array region and being located on the protruding layers provided on the substrate.

請求項4に記載の発明は、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の表示パネルにおいて、前記突出層は、側面が傾斜していることを特徴とする。 According to a fourth aspect of the invention, in the display panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the protruding layers is characterized in that the side surfaces are inclined.

請求項5に記載の発明は、請求項1〜請求項4のいずれかに記載の表示パネルにおいて、前記複数の隔壁の末端部に位置し、前記隔壁よりも低く、前記画素電極よりも高い膜を有することを特徴とする表示パネルである。 Invention according to claim 5, in the display panel according to any one of claims 1 to 4, located at the end portion of the plurality of partition walls, the lower than the partition wall, high film than the pixel electrode a display panel characterized by having a.

請求項6に記載の発明は、表示パネルにおいて、画素配列領域に設けられた有機EL層を、第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する隔壁を備えることを特徴とする。 The invention according to claim 6, in the display panel, further comprising a partition wall to open the organic EL layer provided in the pixel array area, outside the pixel array region in a second direction with partitions in a first direction and features.

請求項7に記載の発明は、表示パネルの製造方法において、画素配列領域に設けられた複数の画素電極を第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する複数の隔壁間に有機化合物含有液を塗布することを特徴とする。 The invention of claim 7 is a method of manufacturing a display panel, a plurality of opening to the outside of the pixel array region in a second direction together with partitioning the plurality of pixel electrodes provided in the pixel array region in a first direction characterized by applying an organic compound containing liquid between the barrier ribs.

本発明によれば、有機化合物層の膜厚のばらつきを抑えることができる。 According to the present invention, it is possible to suppress variations in the thickness of the organic compound layer.

以下、本発明を適用した実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments according to the present invention with reference to the accompanying drawings. ただし、発明の範囲はこれら図示例に限定されるものではない。 However, the scope of the invention is not limited to these illustrated examples.

(第1実施形態) (First Embodiment)
図1を参照して本実施形態に用いられる塗布装置200について詳細に説明する。 For the coating apparatus 200 will be described in detail for use in reference to the embodiment of FIG. 塗布装置200は、有機EL素子20のアノードとカソードとの間に積層される有機EL素子層16'を基板11に塗布する装置であり、図1に示すように、x軸ステージ110、ヘッド120、x軸ガイド130、y軸ステージ150、及びコントローラ260等からなる。 Coating device 200 is a device to be applied to the substrate 11 and the organic EL element layer 16 'to be laminated between the anode and cathode of the organic EL element 20, as shown in FIG. 1, x-axis stage 110, the head 120 consists x-axis guide 130, y-axis stage 150, and the controller 260 and the like. 塗布装置200は、微小の独立した液滴を個々に吐出するインクジェットと異なり、有機化合物溶液を連続して流すノズルコータである。 Coating apparatus 200 is different from the ink jet for ejecting independent droplets of small individually, a Nozurukota to flow continuously organic compound solution.
x軸ステージ110は、コントローラ260から送信される制御信号に応じてx軸ガイド130が案内する方向(x軸方向であり、y軸ステージ150の表面と平行な方向)に移動可能となっている。 x-axis stage 110, (the x-axis direction, the direction parallel to the surface of the y-axis stage 0.99) x-axis guide 130 is a direction for guiding in accordance with the control signal transmitted from the controller 260 so as to be movable and to .

x軸ステージ110には、塗布する液体の種類ごとに複数のヘッド120が取り付けられている(図1では1つのみ図示)。 The x-axis stage 110, a plurality of heads 120 are attached to each type of liquid to be applied (only one shown in Figure 1). ヘッド120には、有機化合物層、例えば、正孔輸送層、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層、または、電子輸送層等の各層の材料となる有機化合物材料を溶媒に溶解させた有機化合物溶液、または有機化合物材料を分散媒に分散させた有機化合物分散液が充填されている(以下、有機化合物溶液及び有機化合物分散液を総称して有機化合物含有液とする)。 The head 120, the organic compound layer, for example, a hole transport layer, a red emission layer, a green emission layer, a blue emission layer, or an organic compound material for the respective layers such as an electron transport layer material is dissolved in a solvent an organic compound solution or an organic compound and the organic compound material are dispersed in a dispersion medium dispersion is filled, (hereinafter referred to as organic compound-containing solution are collectively organic compound solution and the organic compound dispersion). ヘッド120の下端部には、複数のノズルを有する噴射口121が設けられている。 At the lower end of the head 120, injection port 121 having a plurality of nozzles are provided. 各有機化合物含有液は、コントローラ260の指示に応じて各溶液に対応するノズルから所定量ずつ射出される。 Each organic compound-containing liquid is ejected from a nozzle corresponding to each solution in accordance with an instruction of the controller 260 by a predetermined amount.

y軸ステージ150は、ヘッド120の噴射口121の下方に配置されている。 y-axis stage 150 is arranged below the injection ports 121 of the head 120. y軸ステージ150は、コントローラ260から送信される制御信号に応じてy軸方向(x軸方向と直交する方向であり、y軸ステージ150の表面と平行な方向)に移動可能となっている。 y-axis stage 150, (a direction orthogonal to the x-axis direction, the direction parallel to the surface of the y-axis stage 150) y-axis direction in accordance with a control signal transmitted from the controller 260 and is movable in a. 有機化合物材料を塗布する基板11は、y軸ステージ150上に載置される。 Substrate 11 for applying the organic compound material is placed on the y-axis stage 150.

コントローラ260は、x軸ステージ110のx軸方向への移動、y軸ステージ150のy軸方向への移動、及び、噴出口121のノズルからの各溶液の射出を制御する。 The controller 260 may move in the x-axis direction of the x-axis stage 110, the movement in the y-axis direction of the y-axis stage 150, and controls the injection of the solution from the nozzle jets 121.

各有機EL素子20は、図6及び図7に示すように、画素電極13、有機EL層16'及び対向電極17を備えている。 Each organic EL element 20, as shown in FIGS. 6 and 7, a pixel electrode 13, organic EL layer 16 'and the counter electrode 17. 画素電極13及び対向電極17は一方がアノード電極として機能し、他方がカソード電極として機能する。 One pixel electrode 13 and the counter electrode 17 functions as an anode electrode, and the other functions as a cathode electrode. これらの有機EL素子20は、縦方向、横方向にそれぞれ規則的に配列されるようにマトリクス状に設けられている。 These organic EL element 20, a vertical direction, are provided in a matrix so that each laterally are regularly arranged. また、図6の縦方向に隣接する有機EL素子20同士は、互いに平行且つ横方向に延在する線形状の複数の隔壁15によって、その有機EL層16'が仕切られている。 Further, the organic EL element 20 adjacent to each other in the vertical direction in FIG. 6, by a linear shape of a plurality of partition walls 15 extending in parallel and laterally to each other, are partitioned and the organic EL layer 16 '. つまり、有機EL層16'は横方向に沿って複数の有機EL素子20にわたって連続して形成されているが、縦方向には、それぞれ異なる各有機EL層16'が被膜されている。 In other words, the organic EL layer 16 'is along the horizontal direction is formed continuously over a plurality of the organic EL element 20, in the vertical direction, each of the organic EL layers 16 respectively different' is coated. このようにして、横方向に同じ色で発光し、縦方向に互いに異なる色で発光する複数の有機EL層16'が配列されることによって多色発光することができる。 In this way, it is possible to emit light in the transverse direction at the same color, the plurality of organic EL layer 16 which emits light in the vertical direction different colors' is multicolor light emission by being arranged.

基板11の上には突出層12が設けられ、突出層12内には、図示しないが、画素電極13に各種の信号を出力するために、複数の走査線、信号線等の配線が設けられている。 Protruding layers 12 is provided on the substrate 11, within the protruding layers 12, although not shown, in order to output various signals to the pixel electrodes 13, a plurality of scan lines, the wiring of the signal line or the like provided ing. さらに、突出層12内には、各画素電極13に対応して設けられた有機EL素子20を発光するための電流を画素電極13に流す駆動トランジスタ18や、突出層12のコンタクトホール内に充填され、駆動トランジスタ18と画素電極13との間を接続する導電材19や、キャパシタ等の素子(図示せず)が設けられている。 Further, the protruding layers 12, and the driving transistor 18 to flow a current for emitting an organic EL device 20 provided corresponding to each pixel electrode 13 to the pixel electrodes 13, filled in the contact hole of the protruding layers 12 It is, and the conductive material 19 for connecting a drive transistor 18 and the pixel electrode 13, elements such as a capacitor (not shown) is provided. これらの素子は、走査線、信号線等の配線の入力信号に応じて画素電極13に電圧を印加する。 These elements, a voltage is applied to the pixel electrode 13 in response to an input signal of the scanning lines, the wiring of the signal lines and the like.

突出層12の上面は画素配列領域となり、各隔壁15は、画素電極13が配列されている画素配列領域の四辺のうちの対向する二辺に沿って有機EL層16'を仕切っているが、残り対向する二つの辺に沿って有機EL層16'を仕切っていない。 The upper surface of the protruding layers 12 becomes the pixel array region, the respective partition walls 15, but partitions the organic EL layer 16 'along two opposing sides of the four sides of the pixel array region where the pixel electrodes 13 are arranged, not partition the organic EL layer 16 'along two sides remaining opposed. つまり、隔壁15は、画素配列領域に設けられた有機EL層16'を図6の平面図の上下方向において仕切るとともに図6の平面図の左右方向において有機EL層16'を画素配列領域外に開放している。 That is, the partition wall 15, the organic EL layer 16 provided in the pixel array area outside the pixel array region 'organic EL layer 16 in the lateral direction of the plan view of FIG. 6 with partitions in the vertical direction of the plane view of FIG 6' It is open.
突出層12は、単数又は複数の絶縁膜を備えており、層間絶縁膜、保護絶縁膜、又は平坦化絶縁膜として機能している。 Protruding layers 12 includes one or more insulating films, and functions as an interlayer insulating film, the protective insulating film, or a planarizing insulating film.

このような、有機EL素子20の有機EL層16'を成膜する塗布装置200について説明する。 Such will be described coating device 200 for forming the organic EL layer 16 'of the organic EL element 20. 図2は基板11の平面図であり、図3は図2のIII−III矢視断面図である。 Figure 2 is a plan view of the substrate 11, FIG. 3 is a III-III cross-sectional view taken along FIG.

有機EL層16'を形成前の基板11の上面には、複数の走査線、信号線等の配線、複数の駆動トランジスタ18が形成されており、これら配線及び駆動トランジスタ18を被膜するように突出層12が1μm〜15μmの厚さで画素配列領域全域にわたって形成されている。 On the upper surface of the substrate 11 before forming the organic EL layer 16 ', a plurality of scan lines, the wiring of the signal lines and the like, a plurality of driving transistors 18 are formed, projecting these lines and the driving transistor 18 so as to coat layer 12 is formed over the pixel array region throughout a thickness of 1Myuemu~15myuemu. 突出層12は、表面が平坦で、側壁がテーパ状に傾斜しており、有機EL素子20が基板11側から光を出射するボトムエミッション型であれば、例えばポリイミドのような透明感光性樹脂膜のような透明な基材が好ましい。 Protruding layers 12, the surface is flat, the side wall is inclined in a tapered shape, if a bottom emission type organic EL element 20 emits light from the substrate 11 side, for example, a transparent photosensitive resin film such as polyimide a transparent substrate such as is preferred. 突出層12には各駆動トランジスタ18に対応してコンタクトホールが設けられており、コンタクトホール内には導電材19が充填されている。 The protruding layer 12 is provided with a contact hole corresponding to the driving transistor 18, conductive material 19 is filled in the contact hole. 突出層12の上面には、複数の画素電極13が所定の間隔をおいてマトリクス状に配置され、それぞれが各導電材19を介して各駆動トランジスタ18と導通している。 The upper surface of the protruding layers 12, a plurality of pixel electrodes 13 are arranged in a matrix form at a predetermined interval, and conducts respectively the driving transistor 18 through the respective conductive material 19.

各画素電極13はその周縁を画素電極13よりも高い絶縁膜14に覆われている。 Each pixel electrode 13 is covered with the peripheral high insulating film 14 than the pixel electrode 13. 換言すれば、絶縁膜14は、各画素電極13の周縁を覆うとともに各画素電極13の中央を露出するような複数の開口部を備えている。 In other words, the insulating film 14 is provided with a plurality of openings that covers the periphery of each pixel electrode 13 to expose the center of each pixel electrode 13.

有機EL層16'となる有機化合物を含有する有機化合物含有液16は、溶媒等に溶解又は分散させた溶液であるため、塗布時の有機化合物含有液16の液面の高さは、有機EL層16'の高さより高くなる。 The organic compound-containing solution 16 containing an organic compound comprising an organic EL layer 16 'are the solution dissolved or dispersed in a solvent or the like, the liquid level of the organic compound containing liquid 16 at the time of coating, the organic EL higher than the height of the layer 16 '. 絶縁膜14は、有機EL層16'となる有機化合物含有液16の塗布時の高さより低く、有機化合物含有液16が乾燥して収縮した有機EL層16'より高く設定されている。 Insulating film 14, 'lower than the height at the time of applying an organic compound containing liquid 16 to be, an organic EL layer 16 in which the organic compound-containing solution 16 is contracted by drying' organic EL layer 16 is set higher than. 絶縁膜14は、後述する塗布法によって余剰の有機化合物含有液16が絶縁膜14を乗り越えて自然と画素配列領域外に流れ落ちやすくするように側壁がテーパ状になっている。 Insulating film 14, the side wall as excess organic compound-containing solution 16 is easily flows down outside the nature and the pixel array region over the insulating film 14 by a coating method to be described later are tapered.
そして、縦方向に隣接する画素電極13同士の間の絶縁膜14上には、絶縁膜14より高い隔壁15が設けられている。 Then, on the insulating film 14 between the pixel electrodes 13 adjacent to each other in the vertical direction, the partition wall 15 higher than that of the insulating film 14 is provided. この隔壁15は、画素電極13と所定の距離だけ離間しており、有機EL素子20の対向電極17に接続される配線として利用することもでき、また絶縁材料で形成してあってもよい。 The partition wall 15 is spaced by the pixel electrode 13 a predetermined distance, it can also be utilized as a wiring connected to the counter electrode 17 of the organic EL device 20, or may be each other by an insulating material.

画素電極13は、厚さが30nm〜100nmであり、有機EL素子20がボトムエミッション型の場合、例えば錫ドープ酸化インジウム(ITO)、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化インジウム(In 23 )、酸化スズ(SnO 2 )、酸化亜鉛(ZnO)又はカドミウム−錫酸化物(CTO)のような透明導電膜を突出層12上に成膜し、この透明導電膜をフォトリソグラフィーによりパターニングすることにより形成することができる。 Pixel electrodes 13 has a thickness of 30 nm to 100 nm, when the organic EL element 20 is a bottom emission type, such as tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide, indium oxide (In 2 O 3), tin oxide (SnO 2), zinc oxide (ZnO) or cadmium - it is formed by and deposited on the protruding layers 12 a transparent conductive film such as tin oxide (CTO), patterning the transparent conductive film by photolithography can. また、有機EL素子20がトップエミッション型の場合、アルミニウム等の光反射性金属膜、或いは下層に光反射性金属膜、上層に上述の透明導電膜の積層構造としてもよい。 Further, when the organic EL element 20 is a top emission type, light-reflecting metal film such as aluminum, or lower the light-reflective metal film, or a stacked structure of the transparent conductive film described above in the upper layer.

絶縁膜14は、厚さが150nm〜300nmであり、例えば窒化珪素または酸化珪素等を気相成長法によって成膜し、フォトリソグラフィー法、エッチング法を順次行うことで網目状に形成することができる。 Insulating film 14 has a thickness of, 150 nm to 300 nm, for example, silicon nitride or silicon oxide or the like is formed by vapor deposition, can be formed in a mesh shape by performing photolithography, etching sequentially . 対向電極17は、カソード電極である場合、下層となる電子注入層と、電子注入層が酸化されることを防止するとともにシート抵抗を下げる上層となる導電膜との積層構造であり、電子注入層は、仕事関数の低い材料、例えば、マグネシウム、カルシウム、リチウム、バリウム、インジウム、希土類金属の少なくとも一種を含む単体又は合金を有することが好ましく、厚さは0.1nm〜50nmの厚さでよい。 Counter electrode 17, if a cathode electrode, a stacked structure of an electron injection layer as the lower layer, and the conductive film to be the upper layer to lower the sheet resistance as well as prevent the electron injection layer is oxidized, an electron injection layer is material having a low work function, for example, magnesium, calcium, lithium, barium, indium, preferably has a single or alloy containing at least one rare earth metal, the thickness may be a thickness of 0.1 nm to 50 nm.

導電層は、ボトムエミッション型の場合、光反射性の導電層となり、例えば、アルミニウム、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、金、銀、銅の少なくとも一種を含む単体又は合金を有することが好ましく、トップエミッション型の場合、光透過性の導電層となり、例えば、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化インジウム(In 23 )、酸化スズ(SnO 2 )、酸化亜鉛(ZnO)又はカドミウム−錫酸化物(CTO)を有することが好ましい。 The conductive layer in the case of bottom emission type, it is light reflective conductive layer, for example, aluminum, chromium, titanium, nickel, tungsten, gold, silver, have a simple substance or an alloy containing at least one of copper preferably, the top for emission type, it is optically transparent conductive layer, for example, tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide, indium oxide (in 2 O 3), tin oxide (SnO 2), zinc oxide (ZnO) or it is preferred to have tin oxide (CTO) - cadmium.

ここで、複数の有機EL素子20を備えたELディスプレイパネルの製造方法について説明する。 Here, a method for manufacturing the EL display panel having a plurality of organic EL elements 20.
まず、塗布装置200を用いる前に基板11に突出層12、画素電極13、絶縁膜14、隔壁15を形成するので、これらを形成する方法について説明する。 First, the protruding layers 12, the pixel electrodes 13 on the substrate 11 prior to use of the coating apparatus 200, the insulating film 14, because it forms a partition wall 15, a method for forming them.

まず、基板11に感光性樹脂膜を成膜し、その感光性樹脂膜を露光・現像することによって、突出層12を形成する。 First, a photosensitive resin film is formed on the substrate 11 by exposing and developing the photosensitive resin film to form a projecting layer 12. ここで、感光性樹脂がポジ型である場合には、基板11の画素配列領域外を露光し、感光性樹脂がネガ型である場合には、画素配列領域内を露光する。 Here, when the photosensitive resin is a positive exposes the pixel array region outside of the substrate 11, when the photosensitive resin is a negative exposes the pixel array region.

次に、コンタクトホールに導電材19が埋設された突出層12の表面上に導電膜を成膜し、その導電膜に対してフォトリソグラフィー法・エッチング法を施すことによって、画素電極13をマトリクス状に配列するようパターニングする。 Next, a conductive film is deposited on the surface of the protruding layers 12 conductive material 19 is buried in the contact hole, by applying a photolithography etching method for the conductive film, a matrix of pixel electrodes 13 It is patterned to sequence. 次に、これら画素電極13をコーティングするよう絶縁膜を成膜し、フォトリソグラフィー法・エッチング法によりその絶縁膜の画素電極13に重なる箇所を除去することによって、絶縁膜14をパターニングする。 Next, an insulating film so as to coat the pixel electrodes 13 by removing a portion overlapping the pixel electrodes 13 of the insulating film by a photolithography etching method, patterning the insulating film 14.

次に、絶縁膜14及び画素電極13全体を被覆するよう感光性樹脂膜(例えば、感光性ポリイミド膜)を成膜し、その感光性樹脂膜を露光・現像することによって、画素電極13の各列間に突出層12の左右の縁まで達する複数の隔壁15を互いに独立するよう形成する。 Next, a photosensitive resin film so as to cover the entire insulation film 14 and the pixel electrode 13 (e.g., photosensitive polyimide film) was deposited by exposing and developing the photosensitive resin film, each of the pixel electrodes 13 formed so as to separate the plurality of partition walls 15 between the rows reach the right and left edges of the protruding layers 12 to each other.

ここで、感光性樹脂がポジ型である場合には、横方向に並んだ画素電極13の列の上を突出層12の左右の縁まで帯状に露光し、感光性樹脂がネガ型である場合には、横方向に並んだ画素電極13の列と列との間の上を突出層12の左右の縁まで帯状に露光する。 Here, when the photosensitive resin is a positive type, exposed to the strip over the rows of pixel electrodes 13 arranged laterally to the right and left edges of the protruding layers 12, when the photosensitive resin is a negative the exposes a strip over between the rows and columns of pixel electrodes 13 arranged laterally to the right and left edges of the protruding layers 12.

なお、隔壁が感光性樹脂ではない高分子材料や、金属材料等である場合には、気相成長法、フォトリソグラフィー法、エッチング法を経て隔壁15をパターニングすることができる。 Incidentally, the partition wall and the polymeric material that is not photosensitive resin, when a metal material or the like, a vapor phase growth method, it is possible to photolithography, via etching method for patterning the partition wall 15.

以上のようにして、基板11に突出層12、画素電極13、絶縁膜14、隔壁15を形成したら、塗布装置200によって有機化合物層を形成する。 As described above, the protruding layers 12 on the substrate 11, pixel electrodes 13, the insulating film 14, After forming the partition wall 15, forming an organic compound layer by a coating device 200.
すなわち、まず、基板11の突出層12、画素電極13、絶縁膜14が形成された面を上にして、基板11をy軸ステージ150上に載置する。 That is, first, the protruding layer 12 of the substrate 11, pixel electrodes 13, and the top surface of the insulating film 14 is formed, placing the substrate 11 on the y-axis stage 150. 次いで、コントローラ260によりノズル、x軸ステージ110及びy軸ステージ150を制御し、ノズルを基板11に対して相対的に移動させながら、有機化合物含有液を基板11に塗布し、乾燥させて有機化合物層を形成する。 Then, by controlling the nozzle, x-axis stage 110 and the y-axis stage 150 by the controller 260, while relatively moving the nozzle relative to the substrate 11, the organic compound-containing solution applied to the substrate 11, the organic compound was dried to form a layer. 有機EL層16'は、有機化合物からなる発光層を少なくとも一層備えており、この発光層以外に他の有機化合物層或いは無機化合物層を備えていてもよい。 The organic EL layer 16 ', a light-emitting layer formed of an organic compound and at least one layer provided may comprise other organic compound layer or an inorganic compound layer other than the light-emitting layer.

ここで、画素電極13を陽極とする場合には、有機EL層16'として、例えば正孔輸送層、発光層の順に形成されていてもよいし、発光層の次に電子輸送層が形成されていてもよいし、正孔輸送層が設けられていなくてもよいし、発光層単層であってもよい。 Here, when the pixel electrode 13 and the anode, the organic EL layer 16 ', for example, a hole transport layer may be formed in the order of the light-emitting layer, an electron transport layer is formed on the next light emission layer it may be, to the hole transport layer may not be provided, may be a light emitting layer alone.
また、画素電極13を陰極とする場合には、有機EL層16'として、例えば電子輸送層、発光層の順に形成されていてもよいし、発光層の次に正孔輸送層が形成されていてもよいし、電子輸送層が設けられていなくてもよい。 Further, in the case of a cathode pixel electrode 13, the organic EL layer 16 ', for example, an electron transport layer may be formed in the order of the light-emitting layer, a hole transport layer is formed on the next light emission layer it may be, may not be an electron-transporting layer is provided. また、有機EL層16'を形成する前に、画素電極13上に真空蒸着法等により電子注入層を形成してもよい。 Further, before forming the organic EL layer 16 'may be formed an electron injection layer by vacuum deposition or the like on the pixel electrode 13.

図4は塗布装置200により有機化合物含有液16が塗布された基板11の平面図であり、図5は図4のV−V矢視断面図である。 Figure 4 is a plan view of a substrate 11 in which the organic compound-containing solution 16 is coated by the coating device 200, FIG. 5 is a V-V in cross-sectional view taken along FIG. 有機化合物含有液16は塗布装置200により、隔壁15の長さ方向に塗布されている。 The organic compound containing liquid 16 by the coating device 200, and is applied in the longitudinal direction of the partition wall 15. 有機化合物含有液16は、有機EL層16'となる有機化合物を溶媒等に溶解又は分散させた溶液である。 The organic compound-containing solution 16 is a solution of an organic compound comprising an organic EL layer 16 'is dissolved or dispersed in a solvent or the like. 正孔輸送層としては、PEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)及びPSS(ポリスチレンスルホン酸)の混合物、発光層としては、共役二重結合高分子発光材料が好ましく、溶媒としては、水や、疎水性の有機溶剤(例えば、キシレン、テトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン)がある。 As the hole transport layer, a mixture of PEDOT (polyethylenedioxythiophene) and PSS (polystyrene sulfonic acid), as the light-emitting layer is preferably conjugated double bonds polymer light-emitting material, the solvent, water and, hydrophobic an organic solvent (e.g., xylene, tetralin, tetra methyl benzene, mesitylene) is.

2つの隔壁15の間に挟まれる所定の一列の画素電極13及び絶縁膜14上には、塗布装置200のヘッド120とともにx軸方向に移動しながら噴射口121が同一の有機化合物含有液16を塗布し、隔壁15を挟んで隣り合う他の列の画素電極13及び絶縁膜14上には、当該所定の一列の噴射口121と異なる噴射口121が、当該所定の一列の有機EL層16'と異なる色に発光する有機EL層16'となる有機化合物含有液16を塗布する。 On a predetermined one row of the pixel electrodes 13 and the insulating film 14 is sandwiched between the two partition walls 15, an organic compound-containing solution 16 injection port 121 while moving in the x-axis direction together with the head 120 is the same coating apparatus 200 coated, on the other columns of the pixel electrodes 13 and the insulating film 14 adjacent to each other with the partition wall 15, the injection port 121 that is different from the injection port 121 of the predetermined one row, the organic EL layer 16 of the predetermined one row ' the organic compound-containing solution 16 comprising an organic EL layer 16 'which emits a different color is applied. 例えば、ある一列の画素電極13及び絶縁膜14を挟む隔壁15の間には、赤色発光用の有機化合物含有液16rが塗布され、隣接する一方の列の画素電極13及び絶縁膜14を挟む隔壁15の間には、緑色発光用の有機化合物含有液16gが塗布され、隣接する他方の列の画素電極13及び絶縁膜14を挟む隔壁15の間には、青色発光用の有機化合物含有液16bが塗布される。 For example, between the partition wall 15 to sandwich the pixel electrode 13 and the insulating film 14 of a single row, the organic compound containing liquid 16r for red light emission is applied, the partition walls sandwiching the pixel electrode 13 and the insulating film 14 of one of the adjacent column between 15, the organic compound-containing solution 16g for green light emission is applied, between the partition wall 15 to sandwich the other row of pixel electrodes 13 and the insulating film 14 adjacent, organic compound-containing solution 16b for blue light emission There is applied. このとき、隔壁15が突出層12の両端まで延在しているため、各色の発光用の有機化合物含有液16r,16g,16bは、隣接する他の発光層用の有機化合物含有液と突出層12上(画素配列領域内)で混合することがない。 At this time, since the partition wall 15 extends to both ends of the protruding layers 12, the organic compound containing liquid 16r for light emission of each color, 16g, 16b, the protruding organic compound-containing solution for another adjacent light emitting layer layer not be mixed in 12 above (pixel array region).

塗布装置200の噴射口121は、成膜される有機EL層16'となる有機化合物含有液16の量よりも多い量の有機化合物含有液16を横方向に走査されながら送出する。 Injection port 121 of the coating device 200 sends while being scanned the amount of organic compound-containing solution 16 greater than the amount of the organic compound-containing solution 16 comprising an organic EL layer 16 'to be formed in the lateral direction. このとき、図4において、基板11の左右両側には、縦方向に延在する高い隔壁等の仕切りがないため、噴射口121から送出された余剰の有機化合物含有液16が、突出層12の左右両端部に位置する絶縁膜14を乗り越えて絶縁膜14の傾斜された側壁をつたって緩やかに流れ出し、斜面となっている突出層12の側壁から基板11の外周部(画素配列領域外)へ流れ落ちる。 At this time, in FIG. 4, the left and right sides of the substrate 11, because there is no partition or the like high partition wall extending in the longitudinal direction, the excess of the organic compound-containing solution 16 sent from the injection port 121, the protruding layers 12 overcame insulating film 14 located on the left and right end portions flows slowly down the inclined side walls of the insulating film 14, the side wall of the protruding layers 12 has a slope outer peripheral portion of the substrate 11 to the (outside the pixel array region) run down.

このように、隔壁15の両端部において、塗布された有機化合物含有液16の余分量を突出層12から基板11の外周部へ流し落とすことにより、有機化合物含有液16の液面の高さに偏りが小さくなり、有機化合物含有液16の隔壁15との接触面積が小さくなる。 Thus, at both ends of the partition wall 15, by dropping flowing an excess of the organic compound-containing solution 16 coated from the projection layer 12 to the outer peripheral portion of the substrate 11, the height of the liquid level of the organic compound-containing solution 16 deviation becomes small, the contact area between the partition wall 15 of the organic compound containing liquid 16 is reduced. このため、隔壁15における表面張力が小さくなり、有機化合物層の膜厚のばらつきを抑えることができる。 Therefore, surface tension of the partition wall 15 is reduced, it is possible to suppress variations in the thickness of the organic compound layer.

また、突出層12の外周部では複数色の発光層用の有機化合物含有液16が混合されることになるが、突出層12により画素配列領域と外周部との間に段差が形成されているため、乾燥前の有機化合物含有液16の混合液が段差を乗り越えて画素配列領域に逆流することがない。 Although results in the organic compound-containing solution 16 for a plurality of colors of the light emitting layer is mixed in the outer peripheral portion of the protruding layers 12, a step is formed between the pixel array region and the peripheral portion by protruding layers 12 Therefore, there is no flow back to the pixel array region mixture before drying the organic compound-containing solution 16 is over a bump.

有機化合物含有液16を乾燥させて有機EL層16'を形成したら、有機EL層16'上に対向電極17を形成する。 The organic compound-containing solution 16 is dried 'After forming the organic EL layer 16' organic EL layer 16 forming the counter electrode 17 on. 対向電極17は真空蒸着法等により形成することができる。 Counter electrode 17 may be formed by vacuum deposition or the like.
これにより、画素電極13と対向電極との間に有機EL層16'を挟み込んだ有機EL素子20が基板11上にマトリクス状に形成される。 Thus, the organic EL element 20 sandwiched organic EL layer 16 'is formed in a matrix on the substrate 11 between the pixel electrode 13 and the counter electrode.
その後、封止基板(例えば、メタルキャップ、ガラス基板等)を接着剤により対向電極に接着する。 Then, a sealing substrate (e.g., a metal cap, a glass substrate or the like) adhered to the opposing electrode with an adhesive. これにより、ELディスプレイパネルが完成する。 As a result, EL display panel is completed.

以上のように、本実施形態によれば、画素電極13の列が隔壁15により仕切られているので、各列毎に異なる種類の有機化合物含有液16を塗布しても、異なる種類の有機化合物含有液16が画素配列領域で混合することがない。 As described above, according to this embodiment, since the column of the pixel electrodes 13 are partitioned by a partition wall 15, it is applied to different types of organic compound-containing solution 16 in each column, different kinds of organic compounds never containing liquid 16 is mixed in the pixel array region. また、余剰の有機化合物含有液16が隔壁15が設けられていない左右両側より絶縁膜14を乗り越えて突出層12の外周部に流出するので、有機EL層の膜厚のばらつきを抑えることができる。 Further, since the excess of the organic compound containing liquid 16 flows out to the outer periphery of the protruding layers 12 over the insulating film 14 from the right and left sides partition wall 15 is not provided, it is possible to suppress variations in the thickness of the organic EL layer .

また、基板11の突出層12が設けられた画素配列領域よりも外に位置する外周部は、突出層12よりも低くなっているので、有機化合物含有液が突出層12の外周部に速やかに流出し、さらに他の有機化合物含有液と混合した混合液が画素配列領域内へ再び流入することを防ぐことができる。 The outer peripheral portion positioned the outside than the pixel array region protruding layers 12 are provided in the substrate 11, since the lower than the projection layer 12, an organic compound-containing solution is quickly on the outer periphery of the protruding layers 12 outflow, further liquid mixture with other organic compounds containing liquid can be prevented from again flowing into the pixel array area.

なお、以上の実施形態においては、基板11として、画素電極13に各種の信号を出力する複数の走査線、信号線等の配線、及び、各画素電極13に対応した駆動トランジスタ18やキャパシタ等の素子(図示せず)が設けられたトランジスタアレイパネルを用いたが、本発明はこれに限らず、例えばパッシブ駆動のパネルを用いてもよい。 In the above embodiments, as the substrate 11, a plurality of scan lines for outputting various signals to the pixel electrodes 13, signal lines such as lines, and the drive transistor 18 and a capacitor or the like corresponding to each pixel electrode 13 element but (not shown) is a transistor array panel provided, the present invention is not limited to this, for example, may be used a panel of a passive driving.

本発明の実施に用いられる塗布装置200の概略構成図である。 It is a schematic view of the coating apparatus 200 used in the practice of the present invention. 本発明の実施に用いられる基板11の平面図である。 It is a plan view of a substrate 11 used in the practice of the present invention. 図2のIII−III矢視断面図である。 It is a III-III cross-sectional view taken along FIG. 図1の塗布装置200により有機化合物含有液16が塗布された図2の基板11の平面図である。 The coating apparatus 200 of FIG. 1 is a plan view of the substrate 11 of Figure 2 in which the organic compound-containing solution 16 is applied. 図4のV−V矢視断面図である。 It is V-V in cross-sectional view taken along FIG. 有機EL素子20が形成された図2の基板11の平面図である。 Is a plan view of the substrate 11 of Figure 2 to the organic EL element 20 is formed. 図6のVII−VII矢視断面図である。 It is a VII-VII cross-sectional view taken along FIG. 従来のELディスプレイパネルに用いられる基板11の平面図である。 It is a plan view of a substrate 11 used in the conventional EL display panel. 図8のIX−IX矢視断面図である。 It is a IX-IX cross-sectional view taken along FIG. 有機化合物含有液16が塗布された図8の基板11の平面図である。 The organic compound-containing solution 16 is a plan view of the substrate 11 of Figure 8 coated. 図10のXI−XI矢視断面図である It is XI-XI arrow sectional view of Fig. 10

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

11 基板 12 突出層 13 画素電極(画素電極) 11 substrate 12 protrusion layer 13 pixel electrode (pixel electrode)
15 隔壁 16 有機化合物含有液 15 partition wall 16 organic compound containing liquid

Claims (7)

  1. 画素配列領域に設けられた複数の画素電極と、 A plurality of pixel electrodes provided in the pixel array area,
    前記画素電極上に成膜された有機EL層と、 An organic EL layer formed on said pixel electrode,
    所定方向に沿って互いに隣接する前記複数の画素電極間に配置され、前記有機EL層を成膜するための仕切りとなるとともに、互いに離間された複数の隔壁と、 Along a predetermined direction is disposed between adjacent said plurality of pixel electrodes each other, with a partition for forming the organic EL layer, and a plurality of partition walls which are spaced apart from each other,
    を備えることを特徴とする表示パネル。 Display panel comprising: a.
  2. 前記複数の隔壁は線形状であることを特徴とする請求項1記載の表示パネル。 Wherein the plurality of partition walls display panel of claim 1, wherein the a linear shape.
  3. 前記画素配列領域は基板に設けられた突出層上に位置することを特徴とする請求項1又は2に記載の表示パネル。 Display panel according to claim 1 or 2, wherein the pixel array region and being located on the protruding layers provided on the substrate.
  4. 前記突出層は、側面が傾斜していることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の表示パネル。 The protruding layer display panel according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the side surfaces are inclined.
  5. 前記複数の隔壁の末端部に位置し、前記隔壁よりも低く、前記画素電極よりも高い膜を有することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の表示パネル。 Wherein located at the end portions of the plurality of partition walls, the lower than the partition wall, the display panel according to any one of claims 1 to 4, characterized in that it has a high film than the pixel electrode.
  6. 画素配列領域に設けられた有機EL層を、第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する隔壁を備えることを特徴とする表示パネル。 Display panel characterized in that it comprises an organic EL layer provided in the pixel array area, a partition wall to open out the pixel array region in a second direction with partitions in a first direction.
  7. 画素配列領域に設けられた複数の画素電極を第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する複数の隔壁間に有機化合物含有液を塗布することを特徴とする表示パネルの製造方法。 Display characterized in that applying an organic compound containing liquid between a plurality of partition walls to be opened outside the pixel array region in a second direction together with partitioning the plurality of pixel electrodes provided in the pixel array region in a first direction method of manufacturing a panel.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008091070A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Seiko Epson Corp Light-emitting device and electronic equipment
JP2010140790A (en) * 2008-12-12 2010-06-24 Casio Computer Co Ltd Light emitting panel, and method of manufacturing light emitting panel

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001189192A (en) * 1999-10-12 2001-07-10 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emission device and manufacturing method of the same
JP2004288403A (en) * 2003-03-19 2004-10-14 Asahi Glass Co Ltd Manufacturing method of organic el display and organic el display
JP2005078946A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Electronic apparatus, semiconductor device, and its manufacturing method
JP2005100979A (en) * 2003-08-29 2005-04-14 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Display device and its method of manufacture

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001189192A (en) * 1999-10-12 2001-07-10 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emission device and manufacturing method of the same
JP2004288403A (en) * 2003-03-19 2004-10-14 Asahi Glass Co Ltd Manufacturing method of organic el display and organic el display
JP2005078946A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Electronic apparatus, semiconductor device, and its manufacturing method
JP2005100979A (en) * 2003-08-29 2005-04-14 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Display device and its method of manufacture

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008091070A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Seiko Epson Corp Light-emitting device and electronic equipment
JP2010140790A (en) * 2008-12-12 2010-06-24 Casio Computer Co Ltd Light emitting panel, and method of manufacturing light emitting panel

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