JP2011096375A - Optical device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus - Google Patents

Optical device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a display device having excellent display quality by combining a liquid-droplet discharge method and a spin coat method. <P>SOLUTION: In this manufacturing method, after forming a water repellent lipophilic layer 31 on the top side of a barrier rib 7, the aqueous solution of a hole injection layer 81 is applied to each partitioned region P using a liquid-droplet discharge method. The aqueous solution is repelled by water repellent function of the water repellent lipophilic layer 31 formed on the top side of the barrier rib 7, and is separately applied to each partitioned region P. The solution for forming a luminescent layer 83 is applied to the entire surface while covering the hole injection layer 81 and the barrier rib 7 using a spin coat method capable of obtaining a film pressure more uniform than the liquid-droplet discharge method. The lipophilic solution for forming the luminescent layer is not repelled because of the lipophilic function of the water repellent lipophilic layer 31, and is applied to the surface by the spin coat method, inclusive of the top side of the barrier rib 7. Since the luminescent layer 83 is formed with an almost uniform film thickness, luminance variations are suppressed, and excellent display quality can be obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学装置、その製造方法、および当該光学装置を備えた電子機器に関する。   The present invention relates to an optical device, a method for manufacturing the same, and an electronic apparatus including the optical device.

有機EL(Electro Luminescence)材料を含有した溶液をインクジェット法により隔壁(バンク)に囲まれた凹部に吐出、および乾燥させて有機薄膜層を形成する、いわゆる液滴吐出法が知られている。
液滴吐出法によって発光画素を形成する場合には、隔壁で区画された1つの凹部を区画領域としたときに、各区画領域を区画する隔壁の上面に撥液性を付与していた。これは、隣り合う区画領域間における溶液の混入を防止するために行われていた。
例えば、特許文献1には、隔壁の上面に、フッ素系の撥液層を転写して、撥液性を付与する方法が開示されている。詳しくは、格子状の隔壁の上面に、撥液層が形成されたフィルムをラミネートした後、当該フィルムのみを剥離することにより、隔壁の上面に選択的に撥液層を転写形成するとしている。
A so-called droplet discharge method is known in which a solution containing an organic EL (Electro Luminescence) material is discharged into a recess surrounded by a partition wall (bank) by an ink jet method and dried to form an organic thin film layer.
In the case of forming a light emitting pixel by a droplet discharge method, liquid repellency is imparted to the upper surface of the partition wall that divides each partition region when one recessed portion partitioned by the partition wall is used as the partition region. This has been done to prevent mixing of the solution between adjacent compartment regions.
For example, Patent Document 1 discloses a method of imparting liquid repellency by transferring a fluorine-based liquid repellent layer to the upper surface of a partition wall. More specifically, after laminating a film having a liquid repellent layer on the upper surface of a lattice-shaped partition wall, only the film is peeled off to selectively form the liquid repellent layer on the upper surface of the partition wall.

他方、有機EL材料を含有した溶液をスピンコート法によって塗布し、有機薄膜層を形成する技術も知られている。
例えば、特許文献2には、正孔注入層や、発光層などの有機薄膜層のいずれかをスピンコート法によって成膜して、有機薄膜層を形成する方法が開示されている。
また、これらの製造方法で形成された有機薄膜層が前述した隔壁などによって区画されて複数の画素が形成されることになるが、各画素における発光輝度を均一化する観点から、当該有機薄膜層の膜厚が均一であることが求められている。
この膜厚の均一化という観点からすると、一般的に、液滴吐出法によって形成された有機薄膜層よりも、スピンコート法などのコート法を用いて成膜した有機薄膜層の方が、膜厚の均一化を図ることができるといわれており、複数の有機薄膜層におけるいくつかの層をコート法で形成することが検討されていた。
On the other hand, a technique for forming an organic thin film layer by applying a solution containing an organic EL material by a spin coating method is also known.
For example, Patent Document 2 discloses a method of forming an organic thin film layer by forming any one of a hole injection layer and an organic thin film layer such as a light emitting layer by a spin coating method.
In addition, the organic thin film layer formed by these manufacturing methods is partitioned by the partition walls described above to form a plurality of pixels. From the viewpoint of uniforming the light emission luminance in each pixel, the organic thin film layer The film thickness is required to be uniform.
From the viewpoint of making the film thickness uniform, in general, an organic thin film layer formed using a coating method such as a spin coating method is more effective than an organic thin film layer formed by a droplet discharge method. It is said that the thickness can be made uniform, and it has been studied to form several layers of a plurality of organic thin film layers by a coating method.

特開2008−139378号公報JP 2008-139378 A 特開平11−121172号公報JP-A-11-121172

しかしながら、液滴吐出法と、コート法とを組み合わせて、表示品質の優れた光学装置を製造することは困難であるという課題があった。例えば、コート法により、最も膜厚の均一化が要求される発光層を、特許文献1における隔壁の上面に形成されたフッ素系の撥液層を覆って成膜する場合、油性の溶液が撥液層ではじかれてしまい、塗布ムラや、充填不足が生じ、膜厚の均一化を図ることが困難であった。
また、特許文献2の記載のように、コート法を用いて正孔注入層を形成しようとしても、その材料特性から、クロストークが生じてしまい、やはり、コート法を用いることは困難であるという課題があった。詳しくは、上述の隔壁の上面に形成された撥液層を覆って正孔注入層を形成する場合、仮に、撥液層を覆って均一に成膜できたとしても、当該層の材料(PEDOT/PSSなど)は、電気抵抗が低いため、撥液層上に形成された正孔輸送層における画素間の電気的干渉が生じてしまい、非発光部分が発光したり、非選択の隣の画素が発光したりするクロストークの原因となっていた。
つまり、複数の画素を備えた光学装置の製造方法において、効果的にコート法を活用する方法は、創案されていないという課題があった。
However, there is a problem that it is difficult to manufacture an optical device with excellent display quality by combining the droplet discharge method and the coating method. For example, when a light emitting layer that is most required to have a uniform thickness is formed by coating, covering the fluorine-based liquid repellent layer formed on the upper surface of the partition wall in Patent Document 1, the oil-based solution is repelled. It was repelled by the liquid layer, resulting in coating unevenness and insufficient filling, and it was difficult to make the film thickness uniform.
In addition, as described in Patent Document 2, even if an attempt is made to form a hole injection layer using a coating method, crosstalk occurs due to the material characteristics, and it is still difficult to use the coating method. There was a problem. Specifically, when the hole injection layer is formed to cover the liquid repellent layer formed on the upper surface of the partition wall, even if the liquid repellent layer is covered and the film can be uniformly formed, the material of the layer (PEDOT / PSS, etc.) have low electrical resistance, causing electrical interference between pixels in the hole transport layer formed on the liquid repellent layer, causing non-light emitting portions to emit light, or non-selected neighboring pixels. Caused crosstalk that emitted light.
That is, in the manufacturing method of the optical device provided with a plurality of pixels, there has been a problem that a method of effectively utilizing the coating method has not been created.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following application examples or forms.

(適用例)
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、複数の画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、画素電極、および隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域に対して、有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、正孔注入層、および隔壁を覆って、有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
(Application example)
A method of manufacturing an optical device including a plurality of light-emitting pixels having a plurality of organic functional layers, the step of forming a pixel electrode serving as an opening of a light-emitting pixel on a substrate, and a partition partitioning the plurality of pixel electrodes Forming a lyophilic treatment on the exposed portion including the pixel electrode and the partition, forming a water-repellent lipophilic layer on the upper surface of the partition, and each of the plurality of regions partitioned by the partition When the partition region is formed, a step of applying a solution containing a material constituting the hole injection layer as the organic functional layer to the partition region by a droplet discharge method, and covering the hole injection layer and the partition wall. And applying a solution containing a material constituting the light emitting layer as the organic functional layer by a coating method.

この製造方法によれば、隔壁の上面に、撥水親油層を形成した後、液滴吐出法を用いて、区画領域ごとに、正孔注入層の溶液を塗布している。
前述したように正孔注入層は、一般的に電気抵抗が低く、スピンコート法で隔壁を覆って全面塗布するとクロストークの原因となるため、区画領域ごとに塗り分け可能な液滴吐出法を用いて塗布する方が適している。
このため、正孔注入層の形成工程では、液滴吐出法を用いており、水溶性の正孔注入層の溶液は、隔壁の上面に形成された撥水親油層の撥水機能によってはじかれて、画素間に塗布されることなく、区画領域ごとに塗り分けられる。
そして、発光層の溶液は、スピンコート法などのコート法を用いて、正孔注入層、および隔壁を覆って全面に塗布される。ここで、発光層の溶液は、油性であるため、隔壁の上面に形成された撥水親油層の親油機能によりはじかれることなく、コート法により、隔壁の上面も含めて塗布することができる。
つまり、撥水親油層の機能を使い分けることによって、コート法と液滴吐出法とのうち、各有機機能層の特性に応じた最適な方法を選択した製造方法となっている。
よって、この製造方法によって製造された光学装置は、クロストークの発生が低減されるとともに、各発光画素の発光輝度も均一化されている。
従って、適用例に係る光学装置の製造方法によれば、液滴吐出法とコート法とを組み合せることにより、優れた表示品質の光学装置を製造することができる。
According to this manufacturing method, after forming a water-repellent oleophilic layer on the upper surface of the partition wall, the solution of the hole injection layer is applied to each partition region using a droplet discharge method.
As described above, the hole injection layer generally has a low electric resistance, and if the entire surface is coated by covering the partition wall by spin coating, it causes crosstalk. It is more suitable to use and apply.
For this reason, the hole injection layer formation process uses a droplet discharge method, and the water-soluble hole injection layer solution is repelled by the water repellent function of the water-repellent / lipophilic layer formed on the upper surface of the partition wall. Thus, it is applied separately for each divided area without being applied between the pixels.
Then, the solution of the light emitting layer is applied to the entire surface using a coating method such as a spin coating method so as to cover the hole injection layer and the partition walls. Here, since the solution of the light emitting layer is oily, it can be applied by the coating method including the upper surface of the partition wall without being repelled by the lipophilic function of the water-repellent lipophilic layer formed on the upper surface of the partition wall. .
In other words, by properly using the functions of the water-repellent oleophilic layer, a manufacturing method is selected in which an optimum method according to the characteristics of each organic functional layer is selected from the coating method and the droplet discharge method.
Therefore, in the optical device manufactured by this manufacturing method, the occurrence of crosstalk is reduced and the light emission luminance of each light emitting pixel is made uniform.
Therefore, according to the method for manufacturing an optical device according to the application example, an optical device with excellent display quality can be manufactured by combining the droplet discharge method and the coating method.

換言すれば、液滴吐出法よりも均一な成膜が可能なコート法による発光層の形成を実現したことにより、当該層の膜厚の均一性が高められ、各画素の発光輝度の均一化が図られるため、光学装置の表示品質を高めることができる。
従って、コート法を効果的に活用した光学装置の製造方法を提供することができる。
In other words, by realizing the formation of the light emitting layer by the coating method capable of forming a film more uniformly than the droplet discharge method, the uniformity of the film thickness of the layer is enhanced and the light emission luminance of each pixel is made uniform. Therefore, the display quality of the optical device can be improved.
Therefore, it is possible to provide a method for manufacturing an optical device that effectively utilizes the coating method.

複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、複数の画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、画素電極、および隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域に対して、有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、正孔注入層、および隔壁を覆って、有機機能層としての正孔輸送層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、隔壁の上面における正孔輸送層の上に、撥水撥油層を形成する工程と、区画領域ごとに、有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。   A method of manufacturing an optical device including a plurality of light-emitting pixels having a plurality of organic functional layers, the step of forming a pixel electrode serving as an opening of a light-emitting pixel on a substrate, and a partition partitioning the plurality of pixel electrodes Forming a lyophilic treatment on the exposed portion including the pixel electrode and the partition, forming a water-repellent lipophilic layer on the upper surface of the partition, and each of the plurality of regions partitioned by the partition When the partition region is formed, a step of applying a solution containing a material constituting the hole injection layer as the organic functional layer to the partition region by a droplet discharge method, and covering the hole injection layer and the partition wall. Applying a solution containing a material constituting the hole transport layer as the organic functional layer by a coating method, forming a water / oil repellent layer on the hole transport layer on the upper surface of the partition, As an organic functional layer for each partition area Method of manufacturing an optical device which comprises the steps of applying a solution containing a material constituting the light emitting layer by a droplet discharge method, a.

また、コート法は、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法のいずれかであることが好ましい。
また、撥水親油層は、隔壁の上面に、撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることが好ましい。
また、撥水親油層は、アクリル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリスチレン、スチレン/アクリル共重合体、水添石油樹脂、ケトン樹脂、セルロース系樹脂のいずれかであることが好ましい。
また、正孔注入層を構成する材料は、PEDOT/PSSを含むとともに、材料を含有した溶液は、水性溶液であり、発光層を構成する材料を含有した溶液は、油性溶液であることが好ましい。
また、蒸着法により、発光層を覆って、有機機能層としての電子注入層を形成する工程と、蒸着法により、電子注入層を覆って、共通陰極を形成する工程とを、さらに含むことが好ましい。
また、正孔輸送層を構成する材料を含有した溶液は、油性溶液であり、撥水撥油層は、隔壁の上面に、フッ素系の撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることが好ましい。
The coating method is preferably any of a spin coating method, a slit coating method, a spray coating method, a dip coating method, and a flow coating method.
The water-repellent oleophilic layer is preferably transferred and formed by laminating a film having the water-repellent oleophilic layer formed on the upper surface of the partition wall and then peeling the film.
The water-repellent / lipophilic layer is preferably any of acrylic resin, acrylic polyol resin, polystyrene, styrene / acrylic copolymer, hydrogenated petroleum resin, ketone resin, and cellulose resin.
The material constituting the hole injection layer preferably includes PEDOT / PSS, the solution containing the material is an aqueous solution, and the solution containing the material constituting the light emitting layer is preferably an oily solution. .
Further, the method further includes a step of forming an electron injection layer as an organic functional layer by covering the light emitting layer by vapor deposition, and a step of forming a common cathode by covering the electron injection layer by vapor deposition. preferable.
The solution containing the material constituting the hole transport layer is an oily solution, and the water / oil repellent layer is formed by laminating a film in which a fluorine-based water / oil repellent lipophilic layer is formed on the upper surface of the partition. The film is preferably transferred and formed by peeling the film.

有機材料を含む複数の色フィルターが形成された光学装置の製造方法であって、基板上に、複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、複数の区画領域に対して、有機材料を含有した複数の色フィルターごとの水性溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、複数の色フィルター、および隔壁を覆って、光透過性を有する保護コート層を構成する材料を含有した油性溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。   A method of manufacturing an optical device in which a plurality of color filters including an organic material is formed, the step of forming partition walls for partitioning a plurality of color filters on a substrate, and a lyophilic process for an exposed portion including the partition walls A step of forming a water repellent lipophilic layer on the upper surface of the partition, and a plurality of regions containing an organic material with respect to the plurality of partitioned regions when each of the plurality of regions partitioned by the partitions is defined as a partitioned region A step of applying an aqueous solution for each color filter by a droplet discharge method, and an oily solution containing a material constituting a protective coating layer having light transmittance covering a plurality of color filters and partition walls by a coating method And a coating step. An optical device manufacturing method comprising:

複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、基板上に形成された発光画素の開口部となる画素電極と、複数の画素電極を区画する隔壁と、隔壁の上面に形成された撥水親油層と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域ごとに形成された有機機能層としての正孔注入層と、正孔注入層、および隔壁を覆って形成された有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。   An optical device including a plurality of light emitting pixels having a plurality of organic functional layers, a pixel electrode serving as an opening of a light emitting pixel formed on a substrate, a partition partitioning the plurality of pixel electrodes, and an upper surface of the partition A hole injection layer as an organic functional layer formed for each partition region, and each of a plurality of regions partitioned by partition walls as a partition region, and a hole injection layer And a light emitting layer as an organic functional layer formed so as to cover the partition wall.

複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、基板上に形成された発光画素の開口部となる画素電極と、複数の画素電極を区画する隔壁と、隔壁の上面に形成された撥水親油層と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域ごとに形成された有機機能層としての正孔注入層と、正孔注入層、および隔壁を覆って形成された有機機能層としての正孔輸送層と、隔壁の上面における正孔輸送層の上に形成された撥水撥油層と、区画領域ごとに形成された、有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。   An optical device including a plurality of light emitting pixels having a plurality of organic functional layers, a pixel electrode serving as an opening of a light emitting pixel formed on a substrate, a partition partitioning the plurality of pixel electrodes, and an upper surface of the partition A hole injection layer as an organic functional layer formed for each partition region, and each of a plurality of regions partitioned by partition walls as a partition region, and a hole injection layer And a hole transport layer as an organic functional layer formed so as to cover the partition wall, a water / oil repellent layer formed on the hole transport layer on the upper surface of the partition wall, and an organic function formed for each partition region An optical device comprising at least a light emitting layer as a layer.

上記記載の光学装置を表示部に備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the above-described optical device in a display portion.

実施形態1に係る表示装置の一態様を示す斜視図。FIG. 6 is a perspective view illustrating one embodiment of a display device according to Embodiment 1; 図1のi−i断面における表示パネルの側断面図。The side sectional view of the display panel in the ii section of Drawing 1. (a)素子基板の平面図、(b)(a)のj−j断面における側断面図。(A) The top view of an element substrate, (b) The side sectional view in the jj section of (a). 表示パネルの製造工程を示すフローチャート図。The flowchart figure which shows the manufacturing process of a display panel. (a)〜(c)製造工程における一態様を示す図。The figure which shows the one aspect | mode in a (a)-(c) manufacturing process. (a),(b)製造工程における一態様を示す図。(A), (b) The figure which shows the one aspect | mode in a manufacturing process. (a)実施形態2における素子基板の平面図、(b)(a)のk−k断面における側断面図。(A) The top view of the element substrate in Embodiment 2, (b) The side sectional view in the kk cross section of (a). 表示パネルの製造工程を示すフローチャート図。The flowchart figure which shows the manufacturing process of a display panel. (a)〜(c)製造工程における一態様を示す図。The figure which shows the one aspect | mode in a (a)-(c) manufacturing process. 電子機器としての携帯電話を示す斜視図。The perspective view which shows the mobile telephone as an electronic device. 変形例2に係る素子基板の平面図。The top view of the element substrate which concerns on the modification 2. FIG. (a)変形例3に係る光学装置としてのCF基板の平面図、(b)(a)のm−m断面における側断面図。(A) The top view of CF board | substrate as an optical apparatus which concerns on the modification 3, (b) The side sectional view in the mm cross section of (a).

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing.

(実施形態1)
「表示装置の概要」
図1は、本実施形態に係る表示装置の一態様を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態1に係る電気光学装置としての表示装置100の概要について説明する。
(Embodiment 1)
"Overview of display device"
FIG. 1 is a perspective view showing an aspect of the display device according to the present embodiment.
First, an overview of the display device 100 as an electro-optical device according to the first embodiment of the invention will be described.

表示装置100は、有機EL表示装置であり、表示パネル18、フレキシブル基板20などから構成されている。表示パネル18は、素子基板1と対向基板17との間に、発光層を含む複数層の有機機能層を挟持したトップエミッション型の有機EL表示パネルであり、対向基板17側から表示光を出射する。
表示パネル18は、マトリックス状に配置された複数の画素からなる表示領域Vを備えている。図1の右上に拡大して示すように、表示領域Vには、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色画素が周期的に配置されており、各画素が出射する表示光によりフルカラーの画像が表示される。なお、各画素は発光画素であるが、画素と称する。また、カラー表示を行う表示パネルに限定するものではなく、トップエミッション型の有機EL表示パネルであれば良く、例えば、モノクロ表示を行う表示パネルであっても良い。
表示領域Vは、縦長の長方形をなしており、図1を含む各図においては、当該縦方向をY軸方向とし、縦方向よりも短い横方向をX軸方向と定義している。また、表示パネル18の厚さ方向をZ軸方向としている。また、Y軸(+)、(−)方向を上下方向とし、X軸(+)、(−)方向を左右方向としている。
The display device 100 is an organic EL display device, and includes a display panel 18, a flexible substrate 20, and the like. The display panel 18 is a top emission type organic EL display panel in which a plurality of organic functional layers including a light emitting layer are sandwiched between the element substrate 1 and the counter substrate 17, and emits display light from the counter substrate 17 side. To do.
The display panel 18 includes a display region V composed of a plurality of pixels arranged in a matrix. As enlarged and shown in the upper right of FIG. 1, red (R), green (G), and blue (B) color pixels are periodically arranged in the display area V, and each pixel emits display. A full color image is displayed by light. Each pixel is a light-emitting pixel, but is called a pixel. Further, the display panel is not limited to a color display panel, and may be a top emission type organic EL display panel. For example, a display panel for monochrome display may be used.
The display area V has a vertically long rectangle. In each figure including FIG. 1, the vertical direction is defined as the Y-axis direction, and the horizontal direction shorter than the vertical direction is defined as the X-axis direction. The thickness direction of the display panel 18 is the Z-axis direction. Further, the Y-axis (+) and (−) directions are defined as the vertical direction, and the X-axis (+) and (−) directions are defined as the horizontal direction.

詳しくは後述するが、表示装置100は、素子基板1側に略白色光を出射する複数の画素を形成し、対向基板17側に赤緑青の各色カラーフィルターを配置することにより、RGBの各色画素を形成した、「白色発光+カラーフィルター方式」によるトップエミッション型の有機EL表示パネルである。
従来、これらの画素における発光輝度の均一化を図るために、液滴吐出法よりも、有機薄膜層の膜厚の均一化を図ることができるコート法を用いることが検討されていたが、有効な製造方法は見当たらなかった。
これに対して、表示装置100の製造方法によれば、後述の特徴ある構成、および方法によって、液滴吐出法とコート法とを組み合せることを実現し、優れた表示品質の光学装置を製造することができる。
As will be described in detail later, the display device 100 forms a plurality of pixels that emit substantially white light on the element substrate 1 side, and arranges each color filter of red, green, and blue on the counter substrate 17 side, whereby each color pixel of RGB This is a top emission type organic EL display panel by “white light emission + color filter system”.
Conventionally, in order to make the emission luminance uniform in these pixels, it has been studied to use a coating method capable of making the thickness of the organic thin film layer more uniform than the droplet discharge method. I couldn't find a good manufacturing method.
On the other hand, according to the manufacturing method of the display device 100, the combination of the droplet discharge method and the coating method is realized by the characteristic configuration and method described later, and an optical device with excellent display quality is manufactured. can do.

また、表示パネル18において、素子基板1が対向基板17から張出した張出し領域には、フレキシブル基板20が接続されている。なお、フレキシブル基板とは、例えば、ポリイミドフィルムの基材に鉄箔の配線などが形成された柔軟性を有するフレキシブルプリント回路基板の略称である。また、フレキシブル基板20には、駆動用IC(Integrated Circuit)21が実装され、その端部には、専用のコントローラーや、外部機器(いずれも図示せず)と接続するための複数の端子が形成されている。
表示パネル18は、フレキシブル基板20を介して、外部機器から電力や画像信号を含む制御信号の供給を受けることにより、表示領域Vに画像や文字などを表示する。
In the display panel 18, a flexible substrate 20 is connected to an extended region where the element substrate 1 extends from the counter substrate 17. The flexible board is an abbreviation for a flexible printed circuit board having flexibility in which an iron foil wiring or the like is formed on a polyimide film base. In addition, a driving IC (Integrated Circuit) 21 is mounted on the flexible substrate 20, and a plurality of terminals for connection to a dedicated controller or an external device (none of which are shown) are formed at the end thereof. Has been.
The display panel 18 displays images, characters, and the like in the display area V by receiving control signals including power and image signals from an external device via the flexible substrate 20.

「表示パネルの概略構成」
図2は、図1のi−i断面における側断面図である。
続いて、表示パネル18の概略構成について説明する。
表示パネル18は、素子基板1、素子層2、平坦化層4、反射層5、画素電極6、隔壁7、電気光学層としての有機EL層8、共通電極9、電極保護層10、緩衝層11、ガスバリア層12、充填剤13、CF層14、対向基板17などから構成されている。また、素子基板1と対向基板17とに挟持された部位のことを機能層16という。換言すれば、素子層2からCF層14までの積層構造を機能層16という。
素子基板1は、無機ガラスから構成されている。本実施形態では、好適例として、無アルカリガラスを用いている。なお、この構成に限定するものではなく、樹脂基板を用いても良い。また、トップエミッション型であるため、光透過性が低い材料を用いても良く、例えば、金属基板を用いる構成であっても良い。
素子層2には、各画素をアクティブ駆動するための画素回路が形成されている。画素回路には、TFT(Thin Film Transistor)からなる画素を選択するための選択トランジスターや、有機EL層8に電流を流すための駆動トランジスター3などが含まれており、画素ごとに対応して形成されている。なお、画素回路は、好適例として、活性層に低温ポリシリコンを用いているが、アモルファスシリコンを活性層として用いた構成であっても良い。
"Schematic configuration of the display panel"
FIG. 2 is a side sectional view taken along the line ii of FIG.
Next, a schematic configuration of the display panel 18 will be described.
The display panel 18 includes an element substrate 1, an element layer 2, a planarizing layer 4, a reflective layer 5, a pixel electrode 6, a partition wall 7, an organic EL layer 8 as an electro-optic layer, a common electrode 9, an electrode protective layer 10, and a buffer layer. 11, a gas barrier layer 12, a filler 13, a CF layer 14, a counter substrate 17, and the like. A portion sandwiched between the element substrate 1 and the counter substrate 17 is referred to as a functional layer 16. In other words, the laminated structure from the element layer 2 to the CF layer 14 is referred to as a functional layer 16.
The element substrate 1 is made of inorganic glass. In this embodiment, alkali-free glass is used as a suitable example. In addition, it is not limited to this structure, You may use a resin substrate. Further, since it is a top emission type, a material having low light transmittance may be used, and for example, a configuration using a metal substrate may be used.
In the element layer 2, a pixel circuit for actively driving each pixel is formed. The pixel circuit includes a selection transistor for selecting a pixel made of a TFT (Thin Film Transistor), a driving transistor 3 for flowing a current to the organic EL layer 8, and the like, which are formed corresponding to each pixel. Has been. The pixel circuit uses low-temperature polysilicon as the active layer as a preferred example, but may have a configuration using amorphous silicon as the active layer.

素子層2の上層(Z軸(−)方向)には、例えば、アクリル樹脂などからなる絶縁層である平坦化層4が形成されている。
平坦化層4の上層には、画素ごとに区画されて、反射層5と、画素電極6とがこの順番で積層されている。
反射層5は、例えば、アルミニウムなどの反射性を有する金属からなる反射層であり、有機EL層8から素子基板1側に向かう光を反射して、表示に寄与する光にする。
画素電極6は、ITO(Indium Tin Oxide)や、ZnOなどの透明電極から構成されており、画素ごとに素子層2の駆動トランジスター3のドレイン端子と平坦化層4を貫通するコンタクトホールにより接続されている。なお、本実施形態では、好適例として、反射層5と画素電極6との間に、SiO2などの透明な無機絶縁層を介在させているが、この構成に限定するものではなく、反射電極として機能する構成であれば良い。例えば、反射層5を省略して、画素電極6のみをアルミニウムなどの反射性の導電材料によって形成することであっても良い。または、無機絶縁層を介在させることなく、反射層5の上に、画素電極6を直接形成することであっても良い。
In the upper layer (Z-axis (−) direction) of the element layer 2, for example, a planarization layer 4 that is an insulating layer made of an acrylic resin or the like is formed.
The reflective layer 5 and the pixel electrode 6 are laminated in this order on the flattening layer 4 so as to be divided for each pixel.
The reflective layer 5 is a reflective layer made of a reflective metal such as aluminum, for example, and reflects light traveling from the organic EL layer 8 toward the element substrate 1 to make light contributing to display.
The pixel electrode 6 is composed of a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) or ZnO, and is connected to a drain terminal of the driving transistor 3 of the element layer 2 and a contact hole penetrating the planarization layer 4 for each pixel. ing. In the present embodiment, as a suitable example, a transparent inorganic insulating layer such as SiO 2 is interposed between the reflective layer 5 and the pixel electrode 6, but the present invention is not limited to this configuration. As long as the configuration functions as For example, the reflective layer 5 may be omitted, and only the pixel electrode 6 may be formed of a reflective conductive material such as aluminum. Alternatively, the pixel electrode 6 may be formed directly on the reflective layer 5 without interposing an inorganic insulating layer.

隔壁7は、光硬化性の黒色樹脂などから構成され、平面的に各画素を格子状に区画している。なお、素子層2における駆動トランジスター3を含む画素回路は、光による誤動作を防止するために、平面的に隔壁と重なるように配置されている。
なお、図2では、好適例として有機材料からなる隔壁7(第1隔壁)によるシングルバンク構成としているが、例えば、さらに無機材料からなる低い隔壁(第2隔壁)を備えたダブルバンク構成としても良い。ダブルバンク構成の場合、隔壁7(第1隔壁)の下層に、画素電極6の周縁部を覆うSiO2などの無機材料膜からなる第2隔壁を形成し、第2隔壁から露出した部分が開口部となる。
The partition wall 7 is made of a photocurable black resin or the like, and partitions each pixel in a lattice shape in a plane. Note that the pixel circuit including the driving transistor 3 in the element layer 2 is disposed so as to overlap the partition in a planar manner in order to prevent malfunction due to light.
In FIG. 2, as a preferred example, a single bank configuration with partition walls 7 (first partition walls) made of an organic material is used. However, for example, a double bank configuration with a lower partition wall (second partition walls) made of an inorganic material may be used. good. In the case of a double bank configuration, a second partition made of an inorganic material film such as SiO 2 covering the peripheral edge of the pixel electrode 6 is formed below the partition 7 (first partition), and the portion exposed from the second partition is opened. Part.

また、隔壁7の上面には、本発明における特徴ある構成の一つである撥水親油層が形成されているが図2では、省略している。
複数層の有機機能層としての有機EL層8は、正孔注入層や、発光層などを含む複数の有機機能層から形成された有機EL発光層である。図2において、有機EL層8は、画素電極6、および隔壁7を覆う一層の構成となっているが、実際は、各部位を覆って形成された有機薄膜層と、隔壁7で区画された区画領域内に形成された有機薄膜層とが、混在した状態となっている。
好適例における有機EL層8は、正孔注入層と、発光層と、電子注入層とを、この順番に積層した構成となっている。または、正孔注入層と発光層との間に、正孔輸送層をさらに備えた構成であっても良い。
Further, a water-repellent lipophilic layer, which is one of the characteristic features of the present invention, is formed on the upper surface of the partition wall 7 but is omitted in FIG.
The organic EL layer 8 as a plurality of organic functional layers is an organic EL light emitting layer formed from a plurality of organic functional layers including a hole injection layer and a light emitting layer. In FIG. 2, the organic EL layer 8 has a single layer structure covering the pixel electrode 6 and the partition wall 7, but actually, an organic thin film layer formed covering each part and a partition sectioned by the partition wall 7. The organic thin film layer formed in the region is in a mixed state.
The organic EL layer 8 in the preferred example has a configuration in which a hole injection layer, a light emitting layer, and an electron injection layer are laminated in this order. Alternatively, a configuration in which a hole transport layer is further provided between the hole injection layer and the light emitting layer may be employed.

好適例における正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸(PSS)を加えた混合物(PEDOT/PSS)を用いる。また、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
好適例における正孔輸送層(中間層)の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、トリフェニルアミン系ポリマーを用いても良い。
As a material of the hole injection layer in a preferred example, for example, a mixture (PEDOT / PSS) in which polystyrene sulfonic acid (PSS) as a dopant is added to a polythiophene derivative such as polyethylenedioxythiophene (PEDOT) is used. Further, polystyrene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, or a derivative thereof may be used.
As a material for the hole transport layer (intermediate layer) in the preferred example, for example, a polyolefin-based polymer fluorescent material having a good hole transport property is used. Alternatively, a triphenylamine polymer may be used.

発光層の材料としては、略白色の蛍光、または燐光を発光する発光材料を用いることが好ましい。または、有機EL層8R,8G,8Bごとに、赤色、緑色、青色の蛍光、または燐光を発光する発光材料を用いても良い。
好適例としては、略白色、赤色、緑色、青色に対応したポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、ポリフルオレン誘導体(PF)、ポリパラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン(PMPS)などを用いても良い。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
電子注入層の材料としては、仕事関数が小さい材料が好ましく、好適例では、例えば、カルシウムを用いる。
As a material for the light emitting layer, it is preferable to use a light emitting material that emits substantially white fluorescence or phosphorescence. Alternatively, a light emitting material that emits red, green, blue fluorescence or phosphorescence may be used for each of the organic EL layers 8R, 8G, and 8B.
As a preferred example, a polyolefin polymer fluorescent material corresponding to substantially white, red, green, and blue is used. Alternatively, polythiophenylene derivatives (PF), polyparaphenylene vinylene derivatives (PPV), polyphenylene derivatives (PP), polyparaphenylene derivatives (PPP), polythiophenylene derivatives such as polyvinylcarbazole (PVK), polymethylphenylenesilane (PMPS) ) Etc. may be used. In addition, polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, nile red, coumarin 6, quinacrine, etc. A low molecular material may be doped.
As a material for the electron injection layer, a material having a small work function is preferable. In a suitable example, for example, calcium is used.

共通陰極としての共通電極9は、MgAgなどの金属を、光を透過するようにごく薄く成膜した金属薄膜層であり、全画素に跨る有機EL層8を覆って形成されている。
陰極保護層としての電極保護層10は、SiO2や、Si34、SiOxNyなどの高密度で、かつ、透明性の高い材質から構成されており、共通電極9を覆って形成することにより、有機EL層8へ水分などが浸入することを防止している。
緩衝層11は、熱硬化性のエポキシ樹脂などの透明な有機緩衝層である。
ガスバリア層12は、電極保護層10と同様な材質で構成されたガスバリア層であり、緩衝層11をさらに覆って形成することにより、有機EL層8を含む内部の積層構造への水分などの浸入を防止している。
充填剤13は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなる透明な接着層であり、ガスバリア層12とCF層14との間の凹凸面に充填されるとともに、両者を接着する。また、表示パネル18の周縁部から、有機EL層8を含む内部の積層構造への水分などの浸入を防ぐ機能も果たす。
The common electrode 9 as a common cathode is a metal thin film layer in which a metal such as MgAg is formed very thin so as to transmit light, and is formed so as to cover the organic EL layer 8 across all pixels.
The electrode protective layer 10 as the cathode protective layer is made of a high-density and highly transparent material such as SiO 2 , Si 3 N 4 , or SiOxNy, and is formed by covering the common electrode 9. In addition, moisture or the like is prevented from entering the organic EL layer 8.
The buffer layer 11 is a transparent organic buffer layer such as a thermosetting epoxy resin.
The gas barrier layer 12 is a gas barrier layer made of the same material as the electrode protective layer 10, and is formed so as to further cover the buffer layer 11, so that moisture and the like enter the internal laminated structure including the organic EL layer 8. Is preventing.
The filler 13 is a transparent adhesive layer made of, for example, a thermosetting epoxy resin, and fills the uneven surface between the gas barrier layer 12 and the CF layer 14 and bonds them together. The display panel 18 also functions to prevent moisture and the like from entering the internal laminated structure including the organic EL layer 8 from the peripheral edge of the display panel 18.

対向基板17は、透明な無機ガラスから構成されており、好適例として、無アルカリガラスを用いている。また、対向基板17における有機EL層8側(Z軸(+)側)には、CF層14が形成されている。
CF層14には、赤色カラーフィルター14r、緑色カラーフィルター14g、青色カラーフィルター14bが画素配置と同様に配置されている。詳しくは、各色のカラーフィルターは、それぞれが対応する画素電極6と重なるように配置されており、各カラーフィルター間には、ハッチングで示した遮光部が形成されている。遮光部は、平面的に隔壁7と重なるように格子状に形成されており、光学的には、ブラックマトリックスの機能を果たす。
そして、対向基板17と素子基板1とは、対向基板17の周縁部に形成されたシール剤15によって接着および封止されている。シール剤15としては、エポキシ系の接着剤や、紫外線硬化樹脂などを用いる。
The counter substrate 17 is made of transparent inorganic glass, and non-alkali glass is used as a suitable example. Further, the CF layer 14 is formed on the organic EL layer 8 side (Z-axis (+) side) of the counter substrate 17.
In the CF layer 14, a red color filter 14r, a green color filter 14g, and a blue color filter 14b are arranged similarly to the pixel arrangement. Specifically, the color filters of each color are arranged so as to overlap with the corresponding pixel electrodes 6, and light shielding portions indicated by hatching are formed between the color filters. The light shielding portion is formed in a lattice shape so as to overlap the partition wall 7 in a plan view, and optically functions as a black matrix.
The counter substrate 17 and the element substrate 1 are bonded and sealed with a sealant 15 formed on the peripheral edge of the counter substrate 17. As the sealant 15, an epoxy adhesive, an ultraviolet curable resin, or the like is used.

このように構成された各画素からは、カラーフィルターの色調に対応した表示光が出射される。例えば、赤色画素の場合、有機EL層8で放射された白色光は、赤色カラーフィルター14rによって赤色光が選択されて、赤色の表示光として対向基板17から出射される。また、緑色、青色の画素においても同様である。
これにより、表示領域Vでは、対向基板17から出射される複数のカラー画素からの表示光によりフルカラーの画像が表示されることになる。
From each pixel configured in this manner, display light corresponding to the color tone of the color filter is emitted. For example, in the case of a red pixel, the white light emitted from the organic EL layer 8 is selected by the red color filter 14r and emitted from the counter substrate 17 as red display light. The same applies to green and blue pixels.
Thereby, in the display area V, a full-color image is displayed by display light from the plurality of color pixels emitted from the counter substrate 17.

「素子基板の詳細な構造」
図3(a)は素子基板1の平面図であり、(b)は(a)のj−j断面における側断面図である。
ここでは、素子基板1の平面レイアウト、および有機EL層8を含む積層構造について、詳細に説明する。
図3(a)は、電極保護層10までが形成された状態の素子基板1の平面図である。当該図に示すように、隔壁7によって格子状に区画された複数の領域の各々を区画領域(画素)Pとしており、各区画領域Pには、Y軸方向に長い楕円状の画素電極6が配置されている。なお、画素電極6の平面形状は、楕円状に限定するものではなく、トラック形状や、長方形、円であっても良い。
"Detailed structure of element substrate"
FIG. 3A is a plan view of the element substrate 1, and FIG. 3B is a side sectional view taken along the line j-j in FIG.
Here, the planar layout of the element substrate 1 and the laminated structure including the organic EL layer 8 will be described in detail.
FIG. 3A is a plan view of the element substrate 1 in a state where up to the electrode protective layer 10 is formed. As shown in the figure, each of a plurality of regions partitioned in a grid by partition walls 7 is defined as a partition region (pixel) P, and each partition region P has an elliptical pixel electrode 6 that is long in the Y-axis direction. Has been placed. The planar shape of the pixel electrode 6 is not limited to an elliptical shape, and may be a track shape, a rectangle, or a circle.

図3(b)は、(a)のj−j断面における側断面図であり、1つの画素を長手方向(Y軸方向)に沿って切断した状態を示している。
当該図に示すように、有機EL層8は、正孔注入層81、発光層83、電子注入層84から構成されている。
正孔注入層81は、液滴吐出法により、区画領域Pごとに形成されている。
発光層83は、略白色光を放射する発光層であり、スピンコート法により、正孔注入層81、および隔壁7を覆って形成されている。
ここで、隔壁7の上面には、本発明における特徴ある構成の一つである撥水親油層31が形成されている。撥水親油層31は、水性溶液をはじいて、油性溶液になじむ機能を有している。
電子注入層84は、真空蒸着法により、発光層83を覆って全面に形成されている。
このように、有機EL層8は、区画領域P内に形成された正孔注入層81と、隔壁7を含む各部を覆って形成された発光層83、および電子注入層84とが、混在した積層構造となっている。
また、図2で説明した通り、電子注入層84の上には、共通電極9と電極保護層10とが、この順番で、それぞれ全面に形成されている。
FIG. 3B is a side cross-sectional view taken along the line j-j in FIG. 3A and shows a state in which one pixel is cut along the longitudinal direction (Y-axis direction).
As shown in the figure, the organic EL layer 8 includes a hole injection layer 81, a light emitting layer 83, and an electron injection layer 84.
The hole injection layer 81 is formed for each partition region P by a droplet discharge method.
The light emitting layer 83 is a light emitting layer that emits substantially white light, and is formed so as to cover the hole injection layer 81 and the partition wall 7 by spin coating.
Here, on the upper surface of the partition wall 7, a water-repellent lipophilic layer 31 which is one of the characteristic structures of the present invention is formed. The water repellent oleophilic layer 31 has a function of repelling an aqueous solution and conforming to an oily solution.
The electron injection layer 84 is formed on the entire surface by covering the light emitting layer 83 by vacuum deposition.
Thus, in the organic EL layer 8, the hole injection layer 81 formed in the partition region P, the light emitting layer 83 formed covering each part including the partition wall 7, and the electron injection layer 84 are mixed. It has a laminated structure.
As described with reference to FIG. 2, the common electrode 9 and the electrode protective layer 10 are formed on the entire surface of the electron injection layer 84 in this order.

「表示パネルの製造方法」
図4は、表示パネルの製造工程を示すフローチャート図である。図5(a)〜(c)は、製造工程における一態様を示す図である。図6(a),(b)は、製造工程における一態様を示す図である。
ここでは、表示パネル18の製造方法について、有機EL層8の工程を中心に説明する。
"Manufacturing method of display panel"
FIG. 4 is a flowchart showing the manufacturing process of the display panel. FIG. 5A to FIG. 5C are diagrams showing an embodiment in the manufacturing process. 6 (a) and 6 (b) are diagrams showing an embodiment in the manufacturing process.
Here, the manufacturing method of the display panel 18 will be described focusing on the process of the organic EL layer 8.

まず、ステップS1では、フォトリソ法、蒸着法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法などの周知の製造方法を用いて、画素電極6までが作り込まれた素子基板1を形成する。換言すれば、画素電極6までが形成された素子基板1を準備する。
ステップS2では、フォトリソ法を用いて、格子状の隔壁7を形成する。詳しくは、前述した光硬化性の樹脂を素子基板1の全面にスピンコート法などにより塗布した後、格子状のマスクを用いて露光し、現像することによって格子状の隔壁7を形成する。なお、好適例では、黒色の光硬化性樹脂を用いている。
これにより、図3(a)に示すように、複数の画素電極6を1つずつに区画する隔壁7が形成される。換言すれば、表示領域Vを複数の区画領域Pに区画する隔壁7が形成される。
ステップS3では、画素電極6、および隔壁7を含む表示領域Vの露出面に親液化処理を施す。詳しくは、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理(O2プラズマ処理)を行う。この処理により、画素電極6、および隔壁7を含む表示領域Vの露出面に水酸基が導入されて親液性が付与される。この状態が、図5(a)に示されている。
First, in step S1, the element substrate 1 in which up to the pixel electrode 6 is formed is formed using a known manufacturing method such as a photolithography method, a vapor deposition method, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method or the like. In other words, the element substrate 1 on which the pixel electrodes 6 are formed is prepared.
In step S2, lattice-like partition walls 7 are formed using a photolithographic method. Specifically, after applying the above-described photo-curing resin to the entire surface of the element substrate 1 by a spin coat method or the like, the lattice-shaped partition walls 7 are formed by exposing and developing using a lattice-shaped mask. In the preferred example, a black photocurable resin is used.
As a result, as shown in FIG. 3A, the partition walls 7 that partition the plurality of pixel electrodes 6 one by one are formed. In other words, the partition wall 7 that partitions the display region V into a plurality of partition regions P is formed.
In step S3, a lyophilic process is performed on the exposed surface of the display area V including the pixel electrode 6 and the partition wall 7. Specifically, plasma processing using oxygen as a processing gas (O 2 plasma processing) is performed in an air atmosphere. By this treatment, a hydroxyl group is introduced into the exposed surface of the display area V including the pixel electrode 6 and the partition wall 7 to impart lyophilicity. This state is shown in FIG.

ステップS4では、図5(b)に示すように、素子基板1上に、転写フィルム130を重ねた状態(準備体)とし、転写法を用いて、隔壁7の上面に撥水親油膜を形成する。
ここで、転写フィルム130は、基材となる樹脂フィルム上の一面に、撥水親油膜131を形成(塗布)したフィルム部材である。樹脂フィルムとしては、ポリオレフィン系フィルム、ポリスチレン系フィルム、ナイロン系フィルム、フッ素樹脂フィルムなどを用いることができる。また、撥水親油膜131としては、アクリル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリスチレン、スチレン/アクリル共重合体、水添石油樹脂、ケトン樹脂、セルロース系樹脂のいずれかを用いることができる。
本実施形態では、好適例として、樹脂フィルムとして、厚さ約20μmのポリエチレンテレフタレート(PET)製のフィルムを用い、当該フィルム上に、撥水親油膜131を約80nmの厚さで形成したものを転写フィルム130としている。
In step S4, as shown in FIG. 5B, the transfer film 130 is overlaid on the element substrate 1 (preparation body), and a water-repellent oleophilic film is formed on the upper surface of the partition wall 7 using the transfer method. To do.
Here, the transfer film 130 is a film member in which a water-repellent lipophilic film 131 is formed (applied) on one surface of a resin film serving as a base material. As the resin film, a polyolefin film, a polystyrene film, a nylon film, a fluororesin film, or the like can be used. Further, as the water-repellent lipophilic film 131, any of acrylic resin, acrylic polyol resin, polystyrene, styrene / acrylic copolymer, hydrogenated petroleum resin, ketone resin, and cellulose resin can be used.
In the present embodiment, as a preferred example, a film made of polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of about 20 μm is used as a resin film, and a water-repellent lipophilic film 131 having a thickness of about 80 nm is formed on the film. The transfer film 130 is used.

そして、当該図に示すように、隔壁7面を上にした状態の素子基板1上に、撥水親油膜131側を下にして転写フィルム130を重ねて準備体としている。
本実施形態では、好適例として、この準備体をラミネート装置でラミネートすることにより、隔壁7の上面に撥液層を選択的に形成する。なお、図5(b)では、ラミネート装置における伝熱性のあるシリコンゴムなどのエラストマーから構成された加圧ローラー61,62のみを図示している。また、ラミネートは転写法の一種である。具体的なラミネート条件としては、加圧ローラー61,62の温度を約130℃とし、準備体の搬送速度(ラミネート速度)を0.5m/minとした。
なお、ローラーを用いたラミネート法に限定するものではなく、隔壁7の上面に撥液層を選択的に形成することが可能な転写法であれば良い。例えば、準備体の上方から加熱した平板を押し当てて、隔壁7の上面に撥液層を選択的に形成する方法であっても良い。
これにより、図5(c)に示すように、隔壁7の上面に選択的に撥水親油層31が形成されることになる。なお、この撥水親油層31は、撥水親油膜131の一部が転写されたものである。
また、隔壁7の上面とは、下底が長く、上底が短い略台形状をなした隔壁7の断面形状における上底のことを指しており、実際は、曲面を含んだ凸状となっている。
Then, as shown in the figure, a transfer film 130 is overlaid on the element substrate 1 with the partition wall 7 face up, with the water-repellent oleophilic film 131 side down, to prepare a preparation.
In this embodiment, as a suitable example, the liquid repellent layer is selectively formed on the upper surface of the partition wall 7 by laminating the prepared body with a laminating apparatus. FIG. 5B shows only the pressure rollers 61 and 62 made of an elastomer such as silicon rubber having heat conductivity in the laminating apparatus. Lamination is a kind of transfer method. As specific laminating conditions, the temperature of the pressure rollers 61 and 62 was about 130 ° C., and the conveying speed (laminating speed) of the prepared body was 0.5 m / min.
Note that the transfer method is not limited to the laminating method using a roller, and any transfer method capable of selectively forming a liquid repellent layer on the upper surface of the partition wall 7 may be used. For example, a method of selectively forming a liquid repellent layer on the upper surface of the partition wall 7 by pressing a flat plate heated from above the preparation body may be used.
As a result, as shown in FIG. 5C, the water repellent lipophilic layer 31 is selectively formed on the upper surface of the partition wall 7. The water repellent lipophilic layer 31 is a part of the water repellent lipophilic film 131 transferred thereto.
Further, the upper surface of the partition wall 7 refers to the upper base in the cross-sectional shape of the partition wall 7 having a substantially trapezoidal shape with a long lower base and a short upper base, and is actually a convex shape including a curved surface. Yes.

ステップS5では、液滴吐出法(インクジェット法)を用いて、各区画領域P内に、正孔注入層81を形成する。なお、正孔注入層81の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
まず、溶液の塗布工程では、液滴吐出装置を用いて、区画領域Pごとに、正孔注入層81を構成する材料を含有した水性溶液を吐出する。なお、インクジェット法に限定するものではなく、所定の位置に溶液を吐出可能な塗布方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサー法や、ニードルディスペンサー法などのディスペンサー法を用いても良い。
図5(c)には、液滴吐出装置のノズル510から溶液d1が吐出されて、区画領域P内に着弾し、凸状(水玉状)の溶液溜りu1となった状態が示されている。
ここで、溶液溜りu1が凸状となるのは、区画領域Pの底部を形成する画素電極6などが親液性を有するとともに、撥水親油層31が水性の溶液に対して撥液性を有しているからであり、充填された溶液は、その表面張力によって水玉状の膨らみを持って区画領域Pに溜まることになる。
In step S5, the hole injection layer 81 is formed in each partition region P using a droplet discharge method (inkjet method). The formation process of the hole injection layer 81 includes a solution application process and a drying process.
First, in the solution application step, an aqueous solution containing a material constituting the hole injection layer 81 is discharged for each partition region P using a droplet discharge device. Note that the present invention is not limited to the ink jet method, and any coating method capable of discharging the solution to a predetermined position may be used. For example, a dispenser method such as a jet dispenser method or a needle dispenser method may be used.
FIG. 5C shows a state in which the solution d1 is discharged from the nozzle 510 of the droplet discharge device and landed in the partition region P to form a convex (polka dot) solution reservoir u1. .
Here, the solution reservoir u1 has a convex shape because the pixel electrode 6 and the like forming the bottom of the partition region P have lyophilic properties, and the water-repellent and lipophilic layer 31 has liquid repellency with respect to an aqueous solution. This is because the filled solution accumulates in the partition region P with a polka dot-like bulge due to its surface tension.

乾燥工程では、真空乾燥と熱処理を行う。まず、溶液が塗布された状態の素子基板1を真空チャンバーに移して、真空乾燥を行う。これにより、溶液中の溶媒の沸点が下がり、当該溶媒が低温で蒸発することになるため、溶質が析出して正孔注入層が形成される。さらに、残存する溶媒を除去するために熱処理を行う。好適例では、窒素ガス雰囲気下において、約200℃で約10分間の熱処理を行う。
なお、乾燥工程において、素子基板1を加熱しても良い。例えば、当該基板をホットプレート上に載せて加熱する方法や、表示領域Vの上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図5(c)において点線で示すように、区画領域Pの底部に、画素電極6を覆う正孔注入層81が形成される。
In the drying process, vacuum drying and heat treatment are performed. First, the element substrate 1 on which the solution has been applied is transferred to a vacuum chamber and vacuum dried. As a result, the boiling point of the solvent in the solution decreases and the solvent evaporates at a low temperature, so that the solute is deposited and a hole injection layer is formed. Further, heat treatment is performed to remove the remaining solvent. In a preferred example, heat treatment is performed at about 200 ° C. for about 10 minutes in a nitrogen gas atmosphere.
In the drying process, the element substrate 1 may be heated. For example, a method of heating the substrate on a hot plate or a method of irradiating an infrared lamp from above the display region V can be employed. Further, these methods may be combined. According to such a method, drying can be performed more efficiently.
When the drying process is completed, the solvent in the solution is blown off, and a hole injection layer 81 that covers the pixel electrode 6 is formed at the bottom of the partition region P as shown by the dotted line in FIG.

ステップS6では、スピンコート法を用いて、正孔注入層81、および隔壁7を覆う発光層83を形成する。なお、発光層83の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
まず、溶液の塗布工程では、スピンコート法により、正孔注入層81、および隔壁7を覆って、発光層83を構成する材料を含有した油性溶液を塗布する。
ここで、隔壁7の上面に形成されている撥水親油層31は、油性溶液になじむため、発光層の溶液をはじくことなく隔壁7を覆って、スピンコート法による略均一な膜厚の発光層83を形成することができる。なお、上記説明では、好適例としてスピンコート法を用いているが、スピンコート法に限定するものではなく、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法などのコート法を用いても良い。
また、乾燥工程は、ステップS5での説明と同様である。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図6(a)に示すように、正孔注入層81、および隔壁7を覆って、全面に発光層83が形成される。
In step S6, the hole injection layer 81 and the light emitting layer 83 covering the partition wall 7 are formed by using a spin coating method. Note that the formation process of the light emitting layer 83 includes a solution application process and a drying process.
First, in the solution application step, an oily solution containing the material constituting the light emitting layer 83 is applied by spin coating to cover the hole injection layer 81 and the partition wall 7.
Here, since the water repellent lipophilic layer 31 formed on the upper surface of the partition wall 7 is compatible with the oily solution, the partition wall 7 is covered without repelling the solution of the light emitting layer, and light emission with a substantially uniform film thickness is performed by spin coating. A layer 83 can be formed. In the above description, a spin coating method is used as a preferred example, but the present invention is not limited to the spin coating method, and a coating method such as a slit coating method, a spray coating method, a dip coating method, or a flow coating method is used. Also good.
The drying process is the same as that described in step S5. Specifically, vacuum drying and heat treatment are performed.
When the drying step is completed, the solvent in the solution is blown off, and as shown in FIG. 6A, the light emitting layer 83 is formed on the entire surface covering the hole injection layer 81 and the partition wall 7.

ステップS7では、真空蒸着法を用いて、発光層83を覆って、カルシウムからなる電子注入層84を形成する。
ステップS8では、真空蒸着法を用いて、電子注入層84を覆って、MgAgからなる共通電極9を形成する。
ステップS9では、CVD法を用いて、共通電極9を覆って、SiO2からなる電極保護層10を形成する。この状態が図6(b)に示されている。なお、図6(b)は、図3(b)と同一図面である。
In step S7, the electron injection layer 84 made of calcium is formed so as to cover the light emitting layer 83 using a vacuum deposition method.
In step S8, the common electrode 9 made of MgAg is formed so as to cover the electron injection layer 84 by using a vacuum evaporation method.
In step S9, the electrode protection layer 10 made of SiO 2 is formed using the CVD method so as to cover the common electrode 9. This state is shown in FIG. FIG. 6B is the same drawing as FIG.

また、ステップS9に続けて、スピンコート法や、CVD法などを用いて、熱硬化性のエポキシ樹脂からなる緩衝層11や、SiO2からなるガスバリア層12などを形成して、図2に示す、素子基板1が完成する。
そして、積層構造が完成した素子基板1と別途製造された対向基板17とを充填剤13や、シール剤15を用いて貼り合せて、表示パネル18が完成する。
Further, following step S9, a buffer layer 11 made of a thermosetting epoxy resin, a gas barrier layer 12 made of SiO 2 or the like is formed by using a spin coat method, a CVD method, or the like, as shown in FIG. Thus, the element substrate 1 is completed.
Then, the display substrate 18 is completed by bonding the element substrate 1 having the laminated structure and the separately manufactured counter substrate 17 together with the filler 13 or the sealant 15.

「好適例における寸法」
上述した好適例による各部の寸法について、図3を用いて紹介しておく。
まず、区画領域の「長さ(Y軸方向)×幅(X軸方向)」を「約300μm×約150μm」とした。
また、画素電極6の長さを約200μmとし、幅を約100μmとした。
また、隔壁7の高さ(厚さ)を約3μmとした。
また、撥水親油層31の厚さを約80nmとした。
"Dimensions in the preferred example"
The dimensions of each part according to the above-described preferred example will be introduced with reference to FIG.
First, the “length (Y-axis direction) × width (X-axis direction)” of the partition region was set to “about 300 μm × about 150 μm”.
The length of the pixel electrode 6 was about 200 μm and the width was about 100 μm.
The height (thickness) of the partition wall 7 was about 3 μm.
The thickness of the water repellent lipophilic layer 31 was about 80 nm.

上述した通り、本実施形態に係る表示装置100、および製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、隔壁7の上面に、撥水親油層31を形成した後、液滴吐出法を用いて、区画領域Pごとに、正孔注入層81の溶液を塗布している。
前述したように、正孔注入層81は、一般的に電気抵抗が低く、スピンコート法を用いて、隔壁7を覆って全面塗布するとクロストークの原因となるため、区画領域ごとに塗り分け可能な液滴吐出法を用いて塗布する方が適している。
このため、正孔注入層81の形成工程では、液滴吐出法を用いており、水溶性の正孔注入層の溶液は、隔壁7の上面に形成された撥水親油層31の撥水機能によってはじかれて、画素間に塗布されることなく、区画領域Pごとに塗り分けられる。
そして、発光層の溶液は、液滴吐出法よりも均一な膜圧が得られるスピンコート法を用いて、正孔注入層81、および隔壁7を覆って全面に塗布される。ここで、発光層の溶液は、油性であるため、隔壁7の上面に形成された撥水親油層31の親油機能によりはじかれることなく、スピンコート法により、隔壁7の上面も含めて塗布することができる。
つまり、撥水親油層31の機能を使い分けることによって、スピンコート法と液滴吐出法とのうち、各有機機能層の特性に応じた最適な方法を選択した製造方法となっている。
よって、この製造方法によって製造された表示装置100は、クロストークの発生が低減されるとともに、各発光画素の発光輝度も均一化されている。
従って、本実施形態に係る製造方法によれば、液滴吐出法とコート法とを組み合せることにより、優れた表示品質の表示装置100を製造することができる。
As described above, according to the display device 100 and the manufacturing method according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
According to this manufacturing method, after forming the water-repellent oleophilic layer 31 on the upper surface of the partition wall 7, the solution of the hole injection layer 81 is applied to each partition region P using the droplet discharge method.
As described above, the hole injection layer 81 generally has a low electrical resistance, and if the entire surface of the hole injection layer 81 is covered by spin coating, it causes crosstalk. It is more suitable to apply using a simple droplet discharge method.
For this reason, in the step of forming the hole injection layer 81, a droplet discharge method is used, and the water-soluble hole injection layer solution is used for the water-repellent function of the water-repellent / lipophilic layer 31 formed on the upper surface of the partition wall 7. Are applied to each partition region P without being applied between pixels.
Then, the solution of the light emitting layer is applied to the entire surface covering the hole injection layer 81 and the partition wall 7 by using a spin coat method that can obtain a more uniform film pressure than the droplet discharge method. Here, since the solution of the light emitting layer is oily, it is applied by the spin coat method including the upper surface of the partition wall 7 without being repelled by the lipophilic function of the water repellent lipophilic layer 31 formed on the upper surface of the partition wall 7. can do.
In other words, by properly using the function of the water-repellent oleophilic layer 31, a manufacturing method is selected in which an optimum method according to the characteristics of each organic functional layer is selected from the spin coating method and the droplet discharge method.
Therefore, in the display device 100 manufactured by this manufacturing method, the occurrence of crosstalk is reduced and the light emission luminance of each light emitting pixel is made uniform.
Therefore, according to the manufacturing method according to the present embodiment, the display device 100 with excellent display quality can be manufactured by combining the droplet discharge method and the coating method.

換言すれば、コート法による発光層83の形成を実現したことにより、当該層の膜厚の均一性が高められ、各画素の発光輝度の均一化が図られるため、表示装置100の表示品質を高めることができる。
従って、コート法を効果的に活用した表示装置100の製造方法を提供することができる。
In other words, since the formation of the light emitting layer 83 by the coating method is realized, the uniformity of the film thickness of the layer is increased and the light emission luminance of each pixel is made uniform, so that the display quality of the display device 100 is improved. Can be increased.
Therefore, it is possible to provide a method for manufacturing the display device 100 that effectively utilizes the coating method.

(実施形態2)
図7(a)は、実施形態2に係る素子基板の平面図であり、図3(a)に対応している。図7(b)は(a)におけるk−k断面の断面図であり、図3(b)に対応している。
以下、本発明の実施形態2に係る表示装置について説明する。なお、実施形態1と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
(Embodiment 2)
FIG. 7A is a plan view of the element substrate according to the second embodiment, and corresponds to FIG. FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line kk in FIG. 7A and corresponds to FIG.
The display device according to Embodiment 2 of the present invention will be described below. In addition, about the component same as Embodiment 1, the same number is attached | subjected and the overlapping description is abbreviate | omitted.

本実施形態の表示装置は、実施形態1の素子基板1とは、異なる構成の素子基板1bを備えている。詳しくは、有機EL層8が正孔輸送層82を加えた構成となっている点が、実施形態1の素子基板1とは異なる。また、当該構成の変更に伴い製造方法の一部も異なっている。それ以外は、実施形態1での説明と略同様である。なお、素子基板1bとは、本実施形態における素子基板1上に形成された複数層の積層構造体の全体を指している。
まず、図7(a)に示された素子基板1bの平面態様は、図3(a)の実施形態1の平面態様と同様である。
また、図7(b)は図3(a)におけるj−j断面と同一部分の断面図であり、当該図に示すように、実施形態2に係る有機EL層8は、正孔注入層81、正孔輸送層82、発光層83、電子注入層84から構成されている。
The display device of the present embodiment includes an element substrate 1b having a configuration different from that of the element substrate 1 of the first embodiment. Specifically, the organic EL layer 8 is different from the element substrate 1 of the first embodiment in that the hole transport layer 82 is added. Further, part of the manufacturing method is different with the change of the configuration. Other than that, it is substantially the same as the description in the first embodiment. The element substrate 1b refers to the entire multilayer structure formed on the element substrate 1 in the present embodiment.
First, the planar aspect of the element substrate 1b shown in FIG. 7A is the same as the planar aspect of Embodiment 1 in FIG.
FIG. 7B is a cross-sectional view of the same portion as the jj cross section in FIG. 3A, and as shown in the drawing, the organic EL layer 8 according to the second embodiment includes a hole injection layer 81. , A hole transport layer 82, a light emitting layer 83, and an electron injection layer 84.

正孔注入層81は、実施形態1と同様に、液滴吐出法により、区画領域Pごとに形成されている。
そして、正孔輸送層82は、コート法により、正孔注入層81、および隔壁7を覆って形成されている。
また、発光層83は、RGBの色光ごとの発光層が、液滴吐出法により、区画領域Pごとに形成されている。
ここで、隔壁7の上面には、実施形態1と同様に撥水親油層31が形成されている。また、本実施形態では、隔壁7の上面における正孔輸送層82上に、撥水撥油層32がさらに形成されている点が、実施形態1と異なっている。
また、電子注入層84は、真空蒸着法により、発光層83、および隔壁7を覆って全面に形成されている。
このように、有機EL層8は、区画領域P内に形成された正孔注入層81、および発光層83と、隔壁7を含む各部を覆って形成された正孔輸送層82、および電子注入層84とが、混在した積層構造となっている。また、これらの積層構造以外は、実施形態1での構成と同様である。
As in the first embodiment, the hole injection layer 81 is formed for each partition region P by the droplet discharge method.
The hole transport layer 82 is formed so as to cover the hole injection layer 81 and the partition wall 7 by a coating method.
In the light emitting layer 83, a light emitting layer for each color light of RGB is formed for each partition region P by a droplet discharge method.
Here, a water-repellent lipophilic layer 31 is formed on the upper surface of the partition wall 7 as in the first embodiment. Further, the present embodiment is different from the first embodiment in that a water / oil repellent layer 32 is further formed on the hole transport layer 82 on the upper surface of the partition wall 7.
Further, the electron injection layer 84 is formed on the entire surface by covering the light emitting layer 83 and the partition wall 7 by a vacuum deposition method.
As described above, the organic EL layer 8 includes the hole injection layer 81 formed in the partition region P, the light emitting layer 83, the hole transport layer 82 formed so as to cover each part including the partition wall 7, and the electron injection. The layer 84 has a mixed laminated structure. The configuration other than these laminated structures is the same as that in the first embodiment.

「表示パネルの製造方法」
図8は、実施形態2に係る表示パネルの製造工程を示すフローチャート図であり、図4に対応している。図9(a)〜(c)は、製造工程における一態様を示す図であり、図5,6に対応している。
ここでは、表示パネル18の製造方法について、有機EL層8の工程を中心に説明する。なお、図4の工程と同一の工程については、重複する説明は省略する。
"Manufacturing method of display panel"
FIG. 8 is a flowchart showing the manufacturing process of the display panel according to Embodiment 2, and corresponds to FIG. FIGS. 9A to 9C are diagrams showing an embodiment in the manufacturing process and correspond to FIGS.
Here, the manufacturing method of the display panel 18 will be described focusing on the process of the organic EL layer 8. In addition, the overlapping description is abbreviate | omitted about the process same as the process of FIG.

まず、ステップS11の画素電極形成工程から、ステップS15の正孔注入層形成工程までは、図4のステップS1〜ステップS5までの各工程と同一である。
ステップS16では、スピンコート法を用いて、正孔注入層81、および隔壁7を覆う正孔輸送層82を形成する。なお、正孔輸送層82の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
まず、溶液の塗布工程では、スピンコート法により、正孔注入層81、および隔壁7を覆って、正孔輸送層82を構成する材料を含有した油性溶液を塗布する。
ここで、隔壁7の上面に形成されている撥水親油層31は、油性溶液になじむため、正孔輸送層の溶液をはじくことなく隔壁7を覆って、スピンコート法による略均一な膜厚の正孔輸送層82を形成することができる。なお、スピンコート法に限定するものではなく、他のコート法を用いても良いことは、実施形態1での説明と同様である。
また、乾燥工程は、実施形態1での説明と同様である。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図9(a)に示すように、正孔注入層81、および隔壁7を覆って、全面に正孔輸送層82が形成される。なお、正孔輸送層82には、均一な絶縁性が要求されるため、有機EL層8において、発光層83に次いで、膜厚の均一性が求められている。
First, the process from the pixel electrode formation process in step S11 to the hole injection layer formation process in step S15 is the same as each process from step S1 to step S5 in FIG.
In step S16, the hole injection layer 81 and the hole transport layer 82 that covers the partition walls 7 are formed by using a spin coating method. The formation process of the hole transport layer 82 includes a solution application process and a drying process.
First, in the solution application step, an oily solution containing a material constituting the hole transport layer 82 is applied by spin coating so as to cover the hole injection layer 81 and the partition wall 7.
Here, since the water repellent lipophilic layer 31 formed on the upper surface of the partition wall 7 is compatible with the oily solution, it covers the partition wall 7 without repelling the solution of the hole transport layer, and has a substantially uniform film thickness by spin coating. Hole transport layer 82 can be formed. Note that the present invention is not limited to the spin coating method, and other coating methods may be used as in the description in the first embodiment.
The drying process is the same as that described in the first embodiment. Specifically, vacuum drying and heat treatment are performed.
When the drying process is completed, the solvent in the solution is blown off, and as shown in FIG. 9A, the hole transport layer 82 is formed on the entire surface covering the hole injection layer 81 and the partition wall 7. In addition, since the hole transport layer 82 is required to have a uniform insulating property, the organic EL layer 8 is required to have a uniform film thickness after the light emitting layer 83.

ステップS17では、素子基板1上に、転写フィルムを重ねた状態とし、転写法を用いて、隔壁7の上面に撥水撥油層32を形成する。転写フィルムは、基材となる樹脂フィルム上の一面に、撥水撥油膜を形成(塗布)したフィルム部材である。
なお、具体的には、図5(b)で説明したラミネート法を用いて、図9(b)に示すように、隔壁7の上面における正孔輸送層82上に、撥水撥油層32を形成する。転写フィルムの材質や、ラミネート条件については、実施形態1での説明と同様である。
また、撥水撥油膜としては、フッ素系化合物、またはケイ素系化合物を含有した撥液剤を用いることができる。本実施形態では、好適例として、住友スリーエム社製のノベック(登録商標)EGC-1720を用いている。
In step S17, the transfer film is overlaid on the element substrate 1, and the water / oil repellent layer 32 is formed on the upper surface of the partition wall 7 using the transfer method. The transfer film is a film member in which a water / oil repellent film is formed (applied) on one surface of a resin film as a base material.
Specifically, the water / oil repellent layer 32 is formed on the hole transport layer 82 on the upper surface of the partition wall 7 as shown in FIG. Form. The material of the transfer film and the lamination conditions are the same as described in the first embodiment.
As the water / oil repellent film, a liquid repellent containing a fluorine compound or a silicon compound can be used. In the present embodiment, Novec (registered trademark) EGC-1720 manufactured by Sumitomo 3M Limited is used as a preferred example.

ステップS18では、液滴吐出法(インクジェット法)を用いて、各区画領域P内に、発光層83を形成する。なお、発光層83の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
溶液の塗布工程では、液滴吐出装置を用いて、区画領域Pごとに、発光層83を構成する材料を含有した油性溶液を吐出する。詳しくは、図7(a)に示すように、画素列ごとにRGBの各色に対応した溶液を塗布する。なお、インクジェット法に限定するものではなく、所定の位置に溶液を吐出可能な塗布方法であれば良いことは、実施形態1での説明と同様である。
図9(b)には、液滴吐出装置のノズル520から溶液d2が吐出されて、区画領域P内に着弾し、凸状(水玉状)の溶液溜りu2となった状態が示されている。
ここで、溶液溜りu2が凸状となるのは、撥水撥油層32が油性の溶液に対して撥液性を有しているからであり、充填された溶液は、その表面張力によって水玉状の膨らみを持って区画領域Pに溜まることになる。
また、乾燥工程については、実施形態1(ステップS5)での説明と同様である。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図9(b)において点線で示すように、区画領域Pの底部側における正孔輸送層82の上に、発光層83が形成される。
In step S <b> 18, the light emitting layer 83 is formed in each partition region P using a droplet discharge method (inkjet method). Note that the formation process of the light emitting layer 83 includes a solution application process and a drying process.
In the solution application step, an oily solution containing the material constituting the light emitting layer 83 is discharged for each partition region P using a droplet discharge device. Specifically, as shown in FIG. 7A, a solution corresponding to each color of RGB is applied to each pixel column. Note that the present invention is not limited to the ink jet method, and any application method that can discharge a solution to a predetermined position is the same as described in the first embodiment.
FIG. 9B shows a state in which the solution d2 is discharged from the nozzle 520 of the droplet discharge device and landed in the partition region P to form a convex (polka dot) solution reservoir u2. .
Here, the reason that the solution reservoir u2 has a convex shape is that the water / oil repellent layer 32 has liquid repellency with respect to the oily solution, and the filled solution has a polka dot shape due to its surface tension. It will accumulate in the partition area P with a bulge.
The drying process is the same as that described in the first embodiment (step S5).
When the drying process is completed, the solvent in the solution is blown off, and the light emitting layer 83 is formed on the hole transport layer 82 on the bottom side of the partition region P as shown by the dotted line in FIG. .

ステップS19では、真空蒸着法を用いて、発光層83、および隔壁7を覆って、カルシウムからなる電子注入層84を形成する。
そして、ステップS20の共通電極形成工程、およびステップS21の電極保護層形成工程は、図4のステップS8〜ステップS9の各工程と同一である。
また、ステップS21に続けて、緩衝層11や、ガスバリア層12などを形成して素子基板1bが完成すること、および別途製造された対向基板17を充填剤13や、シール剤15を用いて貼り合せて、表示パネル18が完成することなども、実施形態での説明と同様である。
In step S19, the electron injection layer 84 made of calcium is formed using the vacuum deposition method so as to cover the light emitting layer 83 and the partition walls 7.
And the common electrode formation process of step S20 and the electrode protective layer formation process of step S21 are the same as each process of step S8-step S9 of FIG.
Further, following step S21, the buffer substrate 11, the gas barrier layer 12, and the like are formed to complete the element substrate 1b, and the counter substrate 17 manufactured separately is pasted using the filler 13 and the sealant 15. In addition, the completion of the display panel 18 is the same as described in the embodiment.

なお、図2において、実施形態2の素子基板1bを適用すると、RGBの各色を発光する画素に、さらにRGBの各色カラーフィルターを被せた構成となるが、この構成によれば、高いコントラストを確保することができる。詳しくは、トップエミッション型である表示パネル18は、対向基板17から入射する外光が反射層5で反射された反射光によって、コントラストが低下してしまうという問題を有しているが、カラーフィルターを備えることによって、発光色以外の反射率を抑えられるため、高コントラストを確保することが可能となる。
また、表示パネル18の形式としては、トップエミッション型に限定するものではなく、ボトムエミッション型として構成しても良い。この構成の場合、反射層5を削除し、共通電極9を反射性に優れたアルミニウムなどから構成された反射電極とすれば良い。
これによれば、素子基板1側からRGBの各色の表示光を出射するボトムエミッション型の表示パネルを構成することができる。
In FIG. 2, when the element substrate 1b according to the second embodiment is applied, the pixel that emits each color of RGB is further covered with each color filter of RGB. According to this configuration, high contrast is ensured. can do. Specifically, the display panel 18 of the top emission type has a problem that the contrast is lowered by the reflected light reflected by the reflective layer 5 from the external light incident from the counter substrate 17. Since the reflectance other than the emission color can be suppressed, high contrast can be ensured.
Further, the display panel 18 is not limited to the top emission type, but may be configured as a bottom emission type. In the case of this configuration, the reflective layer 5 may be deleted, and the common electrode 9 may be a reflective electrode made of aluminum or the like having excellent reflectivity.
According to this, it is possible to configure a bottom emission type display panel that emits RGB display light from the element substrate 1 side.

上述した通り、本実施形態に係る光学装置、および製造方法によれば、実施形態1の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、撥水親油層31と、撥水撥油層32とが有する機能を使い分けることにより、有機EL層8の中でも膜厚の均一性が求められる正孔輸送層82を、液滴吐出法よりも均一な膜圧が得られるスピンコート法を用いて形成している。また、スピンコート法を用いて形成するとクロストークが発生する恐れがある正孔注入層81を、区画領域Pごとに塗り分け可能な液滴吐出法を用いて形成している。
つまり、撥水親油層31と、撥水撥油層32とを効果的に使い分けることにより、コート法と液滴吐出法とのうち、各有機機能層の特性に応じた最適な方法を選択した製造方法となっている。
よって、この製造方法によって製造された表示装置は、クロストークの発生が低減されるとともに、各発光画素の発光輝度も均一化されている。
従って、本実施形態に係る製造方法によれば、液滴吐出法とコート法とを組み合せることにより、優れた表示品質の表示装置を製造することができる。
As described above, according to the optical device and the manufacturing method according to the present embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects of the first embodiment.
According to this manufacturing method, the hole transport layer 82, which is required to have a uniform film thickness among the organic EL layers 8, can be obtained by properly using the functions of the water / oil repellent layer 31 and the water / oil repellent layer 32. It is formed using a spin coating method that can obtain a more uniform film pressure than the droplet discharge method. In addition, the hole injection layer 81 that may cause crosstalk when formed using a spin coating method is formed using a droplet discharge method that can be applied separately for each partition region P.
That is, by effectively using the water-repellent / oil-repellent layer 31 and the water- and oil-repellent layer 32, a manufacturing method in which an optimum method according to the characteristics of each organic functional layer is selected from the coating method and the droplet discharge method. It has become a method.
Therefore, in the display device manufactured by this manufacturing method, the occurrence of crosstalk is reduced and the light emission luminance of each light emitting pixel is made uniform.
Therefore, according to the manufacturing method according to the present embodiment, a display device with excellent display quality can be manufactured by combining the droplet discharge method and the coating method.

(電子機器)
図10は、上述の表示装置を搭載した携帯電話を示す斜視図である。
上述した表示装置100は、例えば、電子機器としての携帯電話200に搭載して用いることができる。
携帯電話200は、本体部350と、当該本体部に対して開閉自在に設けられた表示部370とを備えるとともに、実施形態1に係る表示装置100を内蔵している。詳しくは、表示装置100は、表示部370に組み込まれており、表示パネル18が表示画面となっている。また、本体部350には、複数の操作ボタンを有する操作部365が設けられている。
つまり、携帯電話200は、優れた表示品質の表示装置100を搭載している。従って、鮮明な表示画面を備えた携帯電話200を提供することができる。
なお、表示パネル18の素子基板には、実施形態2に係る素子基板1bを用いても良く、この場合であっても、同様な作用効果を得ることができる。
(Electronics)
FIG. 10 is a perspective view showing a mobile phone equipped with the display device described above.
The display device 100 described above can be used by being mounted on a mobile phone 200 as an electronic device, for example.
The mobile phone 200 includes a main body 350 and a display unit 370 that can be opened and closed with respect to the main body, and incorporates the display device 100 according to the first embodiment. Specifically, the display device 100 is incorporated in the display unit 370, and the display panel 18 is a display screen. The main body unit 350 is provided with an operation unit 365 having a plurality of operation buttons.
That is, the mobile phone 200 is equipped with the display device 100 with excellent display quality. Therefore, the mobile phone 200 having a clear display screen can be provided.
Note that the element substrate 1b according to the second embodiment may be used as the element substrate of the display panel 18. Even in this case, the same function and effect can be obtained.

また、携帯電話の態様は、図10に示した折畳み式に限定するものではなく、表示パネルを備えた携帯電話であれば良い。
例えば、本体部350に対して表示部370が折畳み、および旋回可能に設けられた携帯電話であっても良い。または、一体型の携帯電話や、一体型の本体部に操作部が収納されているスライド式の携帯電話であっても良い。
また、電子機器としては、携帯電話に限定するものではなく、液晶パネルを備えた電子機器であれば良い。
例えば、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、PDA(Personal Digital Assistants)、モバイルコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、高品位の表示を得ることができる。
Further, the mode of the mobile phone is not limited to the folding type shown in FIG. 10, and any mobile phone provided with a display panel may be used.
For example, the display unit 370 may be a mobile phone that can be folded and turned with respect to the main body 350. Alternatively, the mobile phone may be an integrated mobile phone or a sliding mobile phone in which an operation unit is housed in an integrated main body.
The electronic device is not limited to a mobile phone, and any electronic device provided with a liquid crystal panel may be used.
For example, it can be used in various electronic devices such as a display device for a car navigation system, PDA (Personal Digital Assistants), a mobile computer, a digital camera, a digital video camera, an in-vehicle device, and an audio device.
According to these electronic devices, a high-quality display can be obtained.

なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications and improvements can be added to the above-described embodiment. A modification will be described below.

(変形例1)
図3(b)、および図7(b)を用いて説明する。
上記各実施形態では、有機EL層8の積層構造を正孔注入層81、発光層83、電子注入層84からなる3層構造、または正孔注入層81、正孔輸送層82、発光層83、電子注入層84からなる4層構造として説明したが、この構成に限定するものではない。
例えば、正孔注入層と、発光層とからなる2層構成であっても良いし、発光層と、電子注入層との間に、さらに正孔阻害層を設けた構成であっても良い。
これらの構成であっても、各有機機能層の特性に応じて、撥水親油層の機能、または撥水撥油層との組み合せによる機能を効果的に使い分けることにより、コート法と液滴吐出法とのうち、最適な方法を選択した製造方法を実現することができる。
また、この製造方法であっても、上記各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
(Modification 1)
This will be described with reference to FIGS. 3B and 7B.
In each of the above embodiments, the organic EL layer 8 has a laminated structure of a three-layer structure including the hole injection layer 81, the light emitting layer 83, and the electron injection layer 84, or the hole injection layer 81, the hole transport layer 82, and the light emitting layer 83. The four-layer structure including the electron injection layer 84 has been described, but the structure is not limited to this.
For example, a two-layer configuration including a hole injection layer and a light emitting layer may be used, or a configuration in which a hole blocking layer is further provided between the light emitting layer and the electron injection layer may be used.
Even in these configurations, the coating method and the droplet discharge method can be used by effectively using the functions of the water-repellent / oil-repellent layer or the combination of the water- and oil-repellent layers depending on the characteristics of each organic functional layer. A manufacturing method in which the optimum method is selected can be realized.
In addition, even with this manufacturing method, it is possible to obtain the same operational effects as in the above embodiments.

(変形例2)
図11は、変形例2に係る素子基板の平面図であり、図3(a)に対応している。
上記各実施形態では、隔壁7によって、1つの画素電極6ごとに、1つの区画領域Pが形成されるものとして説明したが、この構成に限定するものではない。例えば、図11に示すように、複数の画素電極6に対して、1つの区画領域Pが形成される隔壁77構成であっても良い。
変形例2の素子基板51は、実施形態1の隔壁7(図3)とは異なる隔壁77を備えている。詳しくは、Y軸方向に隣り合う2つの画素電極6に対して、1つの区画領域P(共通バンク)が形成される隔壁77構成となっている。このため、区画領域Pの縦方向(Y軸方向)の長さが、図3の区画領域Pに比べて長くなっている。この点以外は、実施形態1での説明と同様である。
(Modification 2)
FIG. 11 is a plan view of an element substrate according to the second modification, and corresponds to FIG.
In each of the above embodiments, one partition region P is formed for each pixel electrode 6 by the partition wall 7. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, as shown in FIG. 11, a partition 77 configuration in which one partition region P is formed for a plurality of pixel electrodes 6 may be used.
The element substrate 51 of Modification 2 includes a partition wall 77 different from the partition wall 7 (FIG. 3) of the first embodiment. Specifically, the partition 77 has a configuration in which one partition region P (common bank) is formed for two pixel electrodes 6 adjacent in the Y-axis direction. For this reason, the length of the partition area P in the vertical direction (Y-axis direction) is longer than that of the partition area P of FIG. Except this point, it is the same as the description in the first embodiment.

この構成であっても、上記各実施形態における製造方法を適用可能であることから、上記各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
なお、2つの画素電極6に対して1つの区画領域Pが形成される構成に限定するものではなく、3つ以上の画素電極6に対して1つの区画領域Pが形成されることであっても良い。または、表示領域Vの周縁部では複数の画素電極6に対して1つの区画領域Pを形成し、中央部では1つの画素電極6に対して1つの区画領域Pを形成するというように、変化させても良い。これらの構成であっても、上記各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
Even in this configuration, since the manufacturing method in each of the above embodiments can be applied, the same effects as those in each of the above embodiments can be obtained.
Note that the present invention is not limited to the configuration in which one partition region P is formed for two pixel electrodes 6, and that one partition region P is formed for three or more pixel electrodes 6. Also good. Alternatively, a change is made such that one partition region P is formed for the plurality of pixel electrodes 6 in the peripheral portion of the display region V, and one partition region P is formed for one pixel electrode 6 in the center portion. You may let them. Even if it is these structures, the effect similar to said each embodiment can be acquired.

(変形例3)
図12(a)は、変形例3に係る光学装置としてのCF基板の平面図であり、図3(a)に対応している。図12(b)は、(a)におけるm−m断面の側断面図であり、図3(b)に対応している。
上記各実施形態では、有機ELパネルである表示パネル18を用いて説明したが、光学装置としてのCF基板115に適用することであっても良い。なお、実施形態1と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
変形例3に係るCF基板115は、液晶パネルや、トップエミッション型の有機ELパネルに用いられるカラーフィルターが形成された基板である。このため、画素電極6や、素子層2(図2)などは、形成されていない。
(Modification 3)
FIG. 12A is a plan view of a CF substrate as an optical device according to the third modification, and corresponds to FIG. FIG. 12B is a side sectional view of the mm section in FIG. 12A and corresponds to FIG.
In the above embodiments, the display panel 18 that is an organic EL panel has been described. However, the display panel 18 may be applied to a CF substrate 115 as an optical device. In addition, about the component same as Embodiment 1, the same number is attached | subjected and the overlapping description is abbreviate | omitted.
The CF substrate 115 according to Modification 3 is a substrate on which a color filter used for a liquid crystal panel or a top emission type organic EL panel is formed. For this reason, the pixel electrode 6, the element layer 2 (FIG. 2), etc. are not formed.

CF基板115は、透明基板111、色フィルター層181、隔壁7、保護コート層185などから構成されている。
透明基板111は、透明性を有する無機、または有機基板である。
隔壁7は、CF基板115が組み込まれる液晶パネルの平面的な画素配置に対応して、各区画領域Pをマトリックス状に区画するように、格子状に形成されている。
色フィルター層181は、図12(a)に示すように、RGBの各色の色フィルターが、区画領域P列ごとに周期的に繰り返す、縦ストライプに形成されている。
保護コート層185は、色フィルター層181、および隔壁7を覆って、全面に形成された透明樹脂からなる保護コート層である。
The CF substrate 115 includes a transparent substrate 111, a color filter layer 181, a partition wall 7, a protective coat layer 185, and the like.
The transparent substrate 111 is an inorganic or organic substrate having transparency.
The partition walls 7 are formed in a lattice shape so as to partition each partition region P in a matrix shape corresponding to the planar pixel arrangement of the liquid crystal panel in which the CF substrate 115 is incorporated.
As shown in FIG. 12A, the color filter layer 181 is formed in vertical stripes in which color filters of each color of RGB are periodically repeated for each partition region P row.
The protective coat layer 185 is a protective coat layer made of a transparent resin that covers the color filter layer 181 and the partition walls 7 and is formed on the entire surface.

このCF基板115の製造にも、実施形態1の製造方法の一部を適用することが可能である。以下、図4のフローチャートと比較しながら説明する。
詳しくは、まず、透明基板111上に、格子状の隔壁7を形成した後、図4のステップS3と同様に、透明基板111、および隔壁7の露出面に、親液化処理を施す。
次に、ステップS4と同様に、隔壁7の上面に、撥水親油層31を形成する。
そして、ステップS5と同様に、区画領域Pごとに、各色の色フィルター層ごとの水性溶液を液滴吐出法により塗布し、乾燥する。
最後に、色フィルター層181、および隔壁7を覆って、光透過性を有する保護コート層185を構成する材料を含有した油性溶液をスピンコート法により塗布する。なお、スピンコート法に限定するものではなく、他のコート法を用いても良いことは、実施形態1での説明と同様である。
A part of the manufacturing method of the first embodiment can also be applied to manufacturing the CF substrate 115. Hereinafter, a description will be given while comparing with the flowchart of FIG.
Specifically, first, after the lattice-like partition walls 7 are formed on the transparent substrate 111, a lyophilic process is performed on the transparent substrate 111 and the exposed surfaces of the partition walls 7 in the same manner as in step S3 of FIG.
Next, the water repellent lipophilic layer 31 is formed on the upper surface of the partition wall 7 as in step S4.
Then, as in step S5, an aqueous solution for each color filter layer is applied to each partition region P by the droplet discharge method and dried.
Finally, an oily solution containing a material constituting the protective coating layer 185 having light transmittance is applied by a spin coating method so as to cover the color filter layer 181 and the partition wall 7. Note that the present invention is not limited to the spin coating method, and other coating methods may be used as in the description in the first embodiment.

このように、撥水親油層31の機能を効果的に活用することによって、水性溶液を用いる色フィルター層を液滴吐出法により各区画領域Pに塗り分けるとともに、油性溶液を用いる保護コート層をコート法により、全面に塗布することができる。
特に、従来、図12(b)の撥水親油層31を、撥油性も有する撥水撥油層で構成する方法が一般的であったが、この構成の場合、保護コート層185を形成する前に、撥水撥油層を除去する必要があった。これに対して、変形例3の製造方法によれば、撥水親油層31を除去することなく、保護コート層185を形成することが可能であるため、製造効率が良い。
従って、製造効率に優れたCF基板115の製造方法を提供することができる。
As described above, by effectively utilizing the function of the water-repellent lipophilic layer 31, the color filter layer using the aqueous solution is applied to each partition region P by the droplet discharge method, and the protective coat layer using the oil-based solution is provided. It can be applied to the entire surface by a coating method.
In particular, conventionally, a method of forming the water-repellent / oleophilic layer 31 of FIG. 12B with a water- and oil-repellent layer that also has oil repellency has been generally used. In this configuration, before the protective coat layer 185 is formed, In addition, it was necessary to remove the water / oil repellent layer. On the other hand, according to the manufacturing method of the third modification, the protective coat layer 185 can be formed without removing the water-repellent lipophilic layer 31, so that the manufacturing efficiency is good.
Therefore, a method for manufacturing the CF substrate 115 with excellent manufacturing efficiency can be provided.

1,51…基板としての素子基板、6…画素電極、7,77…隔壁、8…複数層の有機機能層としての有機EL層、9…共通陰極としての共通電極、18…表示パネル、31…撥水親油層、32…撥水撥油層、81…正孔注入層、82…正孔輸送層、83…発光層、84…電子注入層、100…光学装置としての表示装置、111…透明基板、115…光学装置としてのCF基板、181…色フィルターとしての色フィルター層、185…保護コート層、200…電子機器としての携帯電話、d1,d2…液滴、u1,u2…溶液溜り、P…区画領域、V…表示領域。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,51 ... Element board | substrate as a board | substrate, 6 ... Pixel electrode, 7,77 ... Partition, 8 ... Organic electroluminescent layer as a multiple layer organic functional layer, 9 ... Common electrode as a common cathode, 18 ... Display panel, 31 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Water repellent lipophilic layer, 32 ... Water repellent / oil repellent layer, 81 ... Hole injection layer, 82 ... Hole transport layer, 83 ... Light emitting layer, 84 ... Electron injection layer, 100 ... Display device as an optical device, 111 ... Transparent Substrate, 115 ... CF substrate as optical device, 181 ... color filter layer as color filter, 185 ... protective coat layer, 200 ... cell phone as electronic device, d1, d2 ... droplet, u1, u2 ... solution reservoir, P: partition area, V: display area.

Claims (12)

複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、
前記画素電極、および前記隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、
前記隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域に対して、前記有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って、前記有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an optical device including a plurality of light emitting pixels having a plurality of organic functional layers,
Forming a pixel electrode to be an opening of the light emitting pixel on a substrate;
Forming a partition partitioning a plurality of the pixel electrodes;
Applying lyophilic treatment to the exposed portion including the pixel electrode and the partition;
Forming a water repellent lipophilic layer on the upper surface of the partition;
When each of the plurality of regions partitioned by the partition walls is defined as a partitioned region, a solution containing a material constituting the hole injection layer as the organic functional layer is applied to the partitioned region by a droplet discharge method. Applying step;
And a step of coating a solution containing a material constituting the light emitting layer as the organic functional layer so as to cover the hole injection layer and the partition wall by a coating method. .
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、
前記画素電極、および前記隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、
前記隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域に対して、前記有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って、前記有機機能層としての正孔輸送層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、
前記隔壁の上面における前記正孔輸送層の上に、撥水撥油層を形成する工程と、
前記区画領域ごとに、前記有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an optical device including a plurality of light emitting pixels having a plurality of organic functional layers,
Forming a pixel electrode to be an opening of the light emitting pixel on a substrate;
Forming a partition partitioning a plurality of the pixel electrodes;
Applying lyophilic treatment to the exposed portion including the pixel electrode and the partition;
Forming a water repellent lipophilic layer on the upper surface of the partition;
When each of the plurality of regions partitioned by the partition walls is defined as a partitioned region, a solution containing a material constituting the hole injection layer as the organic functional layer is applied to the partitioned region by a droplet discharge method. Applying step;
A step of coating the hole injection layer and the partition wall with a solution containing a material constituting the hole transport layer as the organic functional layer by a coating method;
Forming a water / oil repellent layer on the hole transport layer on the upper surface of the partition;
Applying each of the partition regions with a solution containing a material constituting the light emitting layer as the organic functional layer by a droplet discharge method.
前記コート法は、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法のいずれかであることを特徴とする請求項1または2に記載の光学装置の製造方法。   3. The method of manufacturing an optical device according to claim 1, wherein the coating method is any one of a spin coating method, a slit coating method, a spray coating method, a dip coating method, and a flow coating method. 前記撥水親油層は、前記隔壁の上面に、前記撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、前記フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。   The water-repellent oleophilic layer is formed by laminating a film on which the water-repellent oleophilic layer is formed on the upper surface of the partition wall, and then transferring the film to peel off the film. The manufacturing method of the optical apparatus as described in any one of 1-3. 前記撥水親油層は、アクリル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリスチレン、スチレン/アクリル共重合体、水添石油樹脂、ケトン樹脂、セルロース系樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。   The water-repellent lipophilic layer is any one of an acrylic resin, an acrylic polyol resin, polystyrene, a styrene / acrylic copolymer, a hydrogenated petroleum resin, a ketone resin, and a cellulosic resin. The manufacturing method of the optical apparatus as described in any one. 前記正孔注入層を構成する材料は、PEDOT/PSSを含むとともに、前記材料を含有した前記溶液は、水性溶液であり、
前記発光層を構成する材料を含有した前記溶液は、油性溶液であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
The material constituting the hole injection layer includes PEDOT / PSS, and the solution containing the material is an aqueous solution,
The method for manufacturing an optical device according to claim 1, wherein the solution containing the material constituting the light emitting layer is an oily solution.
蒸着法により、前記発光層を覆って、前記有機機能層としての電子注入層を形成する工程と、
蒸着法により、前記電子注入層を覆って、共通陰極を形成する工程とを、さらに含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
A step of forming an electron injection layer as the organic functional layer by covering the light emitting layer by vapor deposition;
The method for manufacturing an optical device according to claim 1, further comprising a step of covering the electron injection layer and forming a common cathode by a vapor deposition method.
前記正孔輸送層を構成する材料を含有した前記溶液は、油性溶液であり、
前記撥水撥油層は、前記隔壁の上面に、フッ素系の前記撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、前記フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることを特徴とする請求項2〜7のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
The solution containing the material constituting the hole transport layer is an oily solution,
The water / oil repellent layer is formed by laminating a film on which the fluorine-based water-repellent / oil-repellent layer is formed on the upper surface of the partition, and then transferring the film by peeling the film. The manufacturing method of the optical apparatus as described in any one of Claims 2-7.
有機材料を含む複数の色フィルターが形成された光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、
前記隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、複数の前記区画領域に対して、前記有機材料を含有した前記複数の色フィルターごとの水性溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、
前記複数の色フィルター、および前記隔壁を覆って、光透過性を有する保護コート層を構成する材料を含有した油性溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an optical device in which a plurality of color filters containing an organic material is formed,
Forming a partition partitioning the plurality of color filters on the substrate;
Applying lyophilic treatment to the exposed portion including the partition;
Forming a water repellent lipophilic layer on the upper surface of the partition;
When each of the plurality of regions partitioned by the partition walls is defined as a partition region, an aqueous solution for each of the plurality of color filters containing the organic material is applied to the plurality of partition regions by a droplet discharge method. And a process of
And a step of coating an oily solution containing a material constituting a protective coating layer having light permeability so as to cover the plurality of color filters and the partition wall by a coating method. Method.
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、
基板上に形成された前記発光画素の開口部となる画素電極と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁と、
前記隔壁の上面に形成された撥水親油層と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域ごとに形成された前記有機機能層としての正孔注入層と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って形成された前記有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
An optical device including a plurality of light emitting pixels having a plurality of organic functional layers,
A pixel electrode serving as an opening of the light emitting pixel formed on the substrate;
A partition partitioning a plurality of the pixel electrodes;
A water-repellent lipophilic layer formed on the upper surface of the partition;
When each of the plurality of regions partitioned by the partition walls is defined as a partitioned region, a hole injection layer as the organic functional layer formed for each partitioned region,
An optical device comprising at least the hole injection layer and a light emitting layer as the organic functional layer formed so as to cover the partition.
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、
基板上に形成された前記発光画素の開口部となる画素電極と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁と、
前記隔壁の上面に形成された撥水親油層と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域ごとに形成された前記有機機能層としての正孔注入層と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って形成された前記有機機能層としての正孔輸送層と、
前記隔壁の上面における前記正孔輸送層の上に形成された撥水撥油層と、
前記区画領域ごとに形成された、前記有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
An optical device including a plurality of light emitting pixels having a plurality of organic functional layers,
A pixel electrode serving as an opening of the light emitting pixel formed on the substrate;
A partition partitioning a plurality of the pixel electrodes;
A water-repellent lipophilic layer formed on the upper surface of the partition;
When each of the plurality of regions partitioned by the partition walls is defined as a partitioned region, a hole injection layer as the organic functional layer formed for each partitioned region,
A hole transport layer as the organic functional layer formed to cover the hole injection layer and the partition;
A water / oil repellent layer formed on the hole transport layer on the upper surface of the partition;
An optical device comprising at least a light emitting layer as the organic functional layer formed for each partition region.
請求項10または11に記載の光学装置を表示部に備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the optical device according to claim 10 in a display unit.
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