JP2007081393A - 照明プロファイルを決定する方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70083—Non-homogeneous intensity distribution in the mask plane
Abstract
【解決手段】目標リソグラフィ装置の出力に合致するようにリソグラフィ装置において使用可能な照明プロファイルが、基準プロファイルを使用して少なくとも複数のピッチ値でリソグラフィ投影装置に関する基準CD対ピッチ関数を得る段階と、少なくとも複数のピッチ値で目標CD対ピッチ関数を得る段階と、所与のパターンについて、リソグラフィ投影装置に関するCD感度マップを生成する段階と、基準CD対ピッチ関数、目標CD対ピッチ関数、及びCD感度マップから、所与のパターンを露光するためにリソグラフィ装置において使用すべき適切な照明プロファイルを計算する段階とによって得られる。
【選択図】図7
Description
放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調整するように構成された照明システム(照明器)ILと、
パターン形成装置(例えばマスク)MAを支持するように構築された支持構造であって、いくつかのパラメータに従ってパターン形成装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め手段PMに接続された支持構造(例えばマスク・テーブル)MTと、
基板(例えばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構築された基板テーブルであって、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め手段PWに接続された基板テーブル(例えばウェハ・テーブル)WTと、
パターン形成装置MAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つ又は複数のダイを備える)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズ・システム)PSとを備える。
を最小にすることによって行うことができ、ここで、Imatch(σx,σy)は求める照明プロファイルであり、Ireference(σx,σy)は基準照明プロファイルであり、
はCD感度マップであり、ΔCDjは、第j番目のピッチ値での、目標CD対ピッチ関数と基準CD対ピッチ関数との差である。ここでも、容易に入手可能なツール(例えば、The Math Works of Natick(米国マサチューセッツ州)によって発行されているMatlab(商標)のLSQNONLIN関数)によって行われる有界非線形最小二乗最小化などよく知られている数学的アルゴリズムを使用することができる。
と定義される最大の光近接効果偏差(ΔOPE)を設定することである。
IL 照明システム、照明器
MA パターン形成装置
PM 第1の位置決め手段
MT 支持構造、マスク・テーブル
W 基板
PW 第2の位置決め手段
C 目標部分
PS 投影システム
SO 放射源
BD ビーム送達システム
AD 調節器
IN 積分器
CO 集光器
PL 投影システム
PP 瞳孔面
Claims (18)
- リソグラフィ投影装置を使用するデバイス製造方法において使用すべき照明プロファイルを決定する方法であって、
基準照明プロファイルを使用して、少なくとも複数のピッチ値で、前記リソグラフィ投影装置に関する基準CD対ピッチ関数を得る段階と、
少なくとも前記複数のピッチ値で、目標CD対ピッチ関数を得る段階と、
所与のパターンについて、前記リソグラフィ投影装置に関するCD感度マップを生成する段階と、
前記基準CD対ピッチ関数、前記目標CD対ピッチ関数、及び前記CD感度マップから、前記所与のパターンを露光するために前記リソグラフィ装置において使用すべき適切な照明プロファイルを計算する段階とを含む方法。 - 前記CD感度マップが、前記リソグラフィ投影装置の照明システムの前記瞳孔面内の複数の点に関する単位強度変化に起因するCD変化の値の組を備える請求項1に記載の方法。
- 最小化段階が、追加の制約の下で実施される請求項3に記載の方法。
- 前記追加の制約が、前記適切な照明プロファイルが回転不変であることである請求項4に記載の方法。
- 前記最小化が、有界非線形最小二乗最小化である請求項3に記載の方法。
- リソグラフィ投影装置を使用するデバイス製造方法であって、
基準照明プロファイルを使用して、少なくとも複数のピッチ値で、前記リソグラフィ投影装置に関する基準CD対ピッチ関数を得る段階と、
少なくとも前記複数のピッチ値で、目標CD対ピッチ関数を得る段階と、
所与のパターンについて、前記リソグラフィ投影装置に関するCD感度マップを生成する段階と、
前記基準CD対ピッチ関数、前記目標CD対ピッチ関数、及び前記CD感度マップから、適切な照明プロファイルを計算する段階と、
前記適切な照明プロファイルを使用して、前記所与のパターンを照明する段階と、
前記リソグラフィ装置を使用して、前記所与のパターンの像を基板上に投影する段階とを含むデバイス製造方法。 - 前記CD感度マップが、前記リソグラフィ投影装置の照明システムの前記瞳孔面内の複数の点に関する単位強度変化に起因するCD変化の値の組を備える請求項7に記載の方法。
- 最小化段階が、追加の制約の下で実施される請求項9に記載の方法。
- 前記追加の制約が、前記適切な照明プロファイルが回転不変であることである請求項10に記載の方法。
- 前記最小化が、有界非線形最小二乗最小化である請求項9に記載の方法。
- 第1及び第2の基板上に所与のパターンを転写するために第1及び第2のリソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、
少なくとも複数のピッチ値で、第1の照明プロファイルを使用して、前記第1のリソグラフィ投影装置に関する目標CD対ピッチ関数を得る段階と、
基準照明プロファイルを使用して、少なくとも複数のピッチ値で、前記第2のリソグラフィ投影装置に関する基準CD対ピッチ関数を得る段階と、
前記所与のパターンについて、前記第2のリソグラフィ投影装置に関するCD感度マップを生成する段階と、
前記基準CD対ピッチ関数、前記目標CD対ピッチ関数、及び前記CD感度マップから、第2の照明プロファイルを計算する段階と、
前記第1の照明プロファイルを使用して、前記第1のリソグラフィ装置で前記所与のパターンを照明する段階と、
前記第1のリソグラフィ装置を使用して、前記所与のパターンの像を第1の基板上に投影する段階と、
前記第2の照明プロファイルを使用して、前記第2のリソグラフィ装置で前記所与のパターンを照明する段階と、
前記第2のリソグラフィ装置を使用して、前記所与のパターンの像を第2の基板上に投影する段階とを含むデバイス製造方法。 - 前記CD感度マップが、前記リソグラフィ投影装置の照明システムの前記瞳孔面内の複数の点に関する単位強度変化に起因するCD変化の値の組を備える請求項13に記載の方法。
- 最小化段階が、追加の制約の下で実施される請求項13に記載の方法。
- 前記追加の制約が、前記適切な照明プロファイルが回転不変であることである請求項16に記載の方法。
- 前記最小化が、有界非線形最小二乗最小化である請求項15に記載の方法。
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