JP2007078531A - ガスセンサ評価方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ガスセンサの活性化所要時間を評価するにあたり、活性化所要時間の検出誤差による検出精度の低下を抑制できる評価方法を提供する。
【解決手段】 本実施形態のガスセンサ評価装置においては、ヒータ起動タイミング(S140)が試料ガスの切換時期を基準として定められることから(S130)、試料ガスの切換時期に対するヒータ起動時期の相対時間を一定にすることができる。このため、本実施形態のガスセンサ評価装置を用いたガスセンサ評価方法によれば、試料ガスの濃度切換時期とヒータ起動時期との時間間隔にバラツキが生じるのを防止でき、活性化所要時間の検出結果に誤差が生じるのを防止できることから、活性化所要時間の評価精度の向上を図ることができる。
【選択図】 図3
【解決手段】 本実施形態のガスセンサ評価装置においては、ヒータ起動タイミング(S140)が試料ガスの切換時期を基準として定められることから(S130)、試料ガスの切換時期に対するヒータ起動時期の相対時間を一定にすることができる。このため、本実施形態のガスセンサ評価装置を用いたガスセンサ評価方法によれば、試料ガスの濃度切換時期とヒータ起動時期との時間間隔にバラツキが生じるのを防止でき、活性化所要時間の検出結果に誤差が生じるのを防止できることから、活性化所要時間の評価精度の向上を図ることができる。
【選択図】 図3
Description
本発明は、ヒータの加熱により測定対象ガス中の特定成分を検出可能な活性化状態となるガスセンサについて、ヒータによる加熱開始からガスセンサが活性化状態となるまでの活性化所要時間を評価するガスセンサ評価方法に関する。
従来より、ガスセンサの評価方法としては、ガスセンサが検出する特定成分(特定ガス)を含む試料ガスを生成してガスセンサに供給して、試料ガスに対するセンサ出力に基づいてガスセンサの特性を評価する方法がある。
例えば、試料ガスに含まれる特定成分の濃度を周期的に変化させて、特定成分の濃度変化に対するセンサ出力の変化波形に基づいて、ガスセンサの特性を評価することができる(特許文献1参照)。
また、ガスセンサとしては、酸素イオン伝導性の固体電解質体や半導電性の遷移金属酸化物を用いて構成されるが、この種のガスセンサは、高温状態になることで特定成分を検出可能な活性化状態となるため、早期にガスセンサを活性化状態に遷移させる目的で活性化用のヒータを備えるものがある。そのようなヒータを備えるガスセンサにおいては、ヒータによる加熱開始時点からガスセンサが活性化状態となるまでの活性化所要時間を評価することがある。
そして、活性化所要時間の評価方法としては、評価対象のガスセンサを、一定周期で成分の異なる2種類の試料ガスが供給される環境下に設置した後、ヒータを起動して、ガスセンサのセンサ出力が試料ガスの変化に対応した変化状態になるまでの所要時間を検出して、その所要時間を活性化所要時間として評価するガスセンサ評価方法がある。
特開2003−185621号公報(請求項1)
しかし、活性化所要時間を評価する上記従来のガスセンサ評価方法においては、活性化所要時間の検出値に誤差が生じることがあり、検出精度が低下するおそれがある。
つまり、従来のガスセンサ評価方法では、2種類の試料ガスの切換時期に対してランダムにヒータの起動時期を設定しているため、同一のガスセンサに対して活性化所要時間の評価を行う場合であっても、2種類の試料ガスの切り換え時期とヒータ起動時期との相対的な時間差の変動に起因して活性化所要時間の検出に誤差が生じることがある。
つまり、従来のガスセンサ評価方法では、2種類の試料ガスの切換時期に対してランダムにヒータの起動時期を設定しているため、同一のガスセンサに対して活性化所要時間の評価を行う場合であっても、2種類の試料ガスの切り換え時期とヒータ起動時期との相対的な時間差の変動に起因して活性化所要時間の検出に誤差が生じることがある。
なお、この時間差の変動に起因した活性化所要時間の誤差は1秒程度であるが、近年のガスセンサでは活性化所要時間を10秒以下(例えば、5秒)とするものも出現しているため、上記の1秒程度の誤差は無視できないレベルといえ、より精度の高いガスセンサの活性化所要時間の評価方法が求められている。
そこで、本発明はこうした問題に鑑みなされたものであり、ガスセンサの活性化所要時間を評価するにあたり、活性化所要時間の検出誤差による検出精度の低下を抑制できる評価方法を提供することを目的とする。
かかる目的を達成するためになされた請求項1に記載の発明方法は、ヒータの加熱により測定対象ガス中の特定成分を検出可能な活性化状態となるガスセンサについて、ヒータによる加熱開始からガスセンサが活性化状態となるまでの活性化所要時間を評価するガスセンサ評価方法であって、特定成分を含む試料ガスをガスセンサに供給し、試料ガスに対するガスセンサのセンサ出力に基づいて活性化所要時間を評価するにあたり、試料ガスとして特定成分の濃度が異なる第1ガスと第2ガスを周期的に切り換えつつ試料ガスを供給し、試料ガスにおける第1ガスから第2ガスへの切換時期または第2ガスから第1ガスへの切換時期を基準として定められる時期に、ヒータによるガスセンサの加熱を開始し、センサ出力が試料ガスにおける特定成分の濃度変化に応じた変化状態となる活性化時期を検出し、ヒータによる加熱開始時期から活性化時期までの時間を活性化所要時間として評価すること、を特徴とするガスセンサ評価方法である。
このガスセンサ素子評価方法によれば、ヒータによるガスセンサの加熱開始時期が、試料ガスにおける第1ガスから第2ガスへの切換時期または第2ガスから第1ガスへの切換時期のいずれか一方を基準として定められることから、試料ガスの切り換え時期とヒータ起動時期との相対的な時間差が一定となる。
よって、このガスセンサ評価方法によれば、試料ガスのガス雰囲気の切換時期とヒータ起動時期との時間間隔にバラツキが生じるのを防止でき、活性化所要時間の検出結果に誤差が生じるのを防止できることから、同一品番のガスセンサにおける活性化所要時間の評価を行うにあたっての評価精度の向上を図ることができる。
ところで、ガスセンサの評価においては、試料ガスがガスセンサに直接触れることから、ガスセンサの温度は、試料ガスの温度の影響を受けると考えられる。つまり、試料ガスの温度が高い場合には、試料ガスからガスセンサに移動する熱量が増大するため、ガスセンサの活性化所要時間が短くなり易いのに対して、反対に、試料ガスの温度が低い場合には、試料ガスからガスセンサに移動する熱量が減少するため、ガスセンサの活性化所要時間が長くなり易いと考えられる。
そこで、上記のガスセンサ評価方法においては、試料ガスの温度を一定にしておくことが好ましい。
このように試料ガスの温度を一定にすることで、試料ガスの温度変動の影響によるガスセンサの温度変動を抑制することができる。これにより、活性化所要時間の評価にあたり、試料ガスの温度変動に起因して活性化所要時間に誤差が生じるのを防止できる。
このように試料ガスの温度を一定にすることで、試料ガスの温度変動の影響によるガスセンサの温度変動を抑制することができる。これにより、活性化所要時間の評価にあたり、試料ガスの温度変動に起因して活性化所要時間に誤差が生じるのを防止できる。
よって、本発明方法によれば、試料ガスの温度変化に起因する活性化所要時間の検出誤差が生じるのを防止することができ、活性化所要時間の検出精度のさらなる向上を図ることができる。
そして、上述のガスセンサ評価方法においては、測定対象ガスが内燃機関の排気ガスであり、特定成分が酸素であり、試料ガスにおける酸素濃度を周期的に切り換えるにあたり、予め定められたリッチ空燃比に対応した酸素濃度となるように調整された第1ガスと、予め定められたリーン空燃比に対応した酸素濃度となるように調整された第2ガスと、に切り換えてもよい。
このように、試料ガスにおける酸素濃度を切り換えることで、試料ガスの切り換えによってガスセンサのセンサ出力が大きく変化することから、ガスセンサの活性化状態の判定が容易になると共に、活性化状態の誤判定を防止できる。
よって、本発明方法によれば、ガスセンサの活性化状態の誤判定に起因する活性化所要時間の検出誤差を抑制することができ、活性化所要時間の検出精度のさらなる向上を図ることができる。
以下に、本発明方法の実施形態を説明する。
なお、本発明方法は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明方法の技術的範囲に属する限り種々の形態を採り得ることはいうまでもない。
なお、本発明方法は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明方法の技術的範囲に属する限り種々の形態を採り得ることはいうまでもない。
図1は、本発明方法を実施するためのガスセンサ評価装置1の概略構成を示す構成図である。
ガスセンサ評価装置1は、試料ガス供給部11と、センサ反応部13と、装置制御部15と、試料ガス分析部17と、ヒータ駆動回路53と、添加ガス供給部61と、を備えて構成されている。
ガスセンサ評価装置1は、試料ガス供給部11と、センサ反応部13と、装置制御部15と、試料ガス分析部17と、ヒータ駆動回路53と、添加ガス供給部61と、を備えて構成されている。
試料ガス供給部11は、ベースガス(N2 、CO2 、O2 )とその他のガス(CO、H2 、C3H6、C3H8、NO、CH4 )とを貯蔵するガス貯蔵部21と、各ガスの供給量を調整する流量調整部23(マスフローコントローラ(MFC))と、試料ガスに水分を添加する水分添加部19と、を備えている。そして、試料ガス供給部11は、装置制御部15からの指令に応じて、ベースガスを第1ガス供給経路31を介してセンサ反応部13に供給し、その他のガスを第2ガス供給経路33を介してセンサ反応部13に供給する。なお、各ガスの供給量は、装置制御部15からの指令に基づき設定される。
水分添加部19は、水(H2O )を貯蔵する水貯蔵部35と、水分の供給量を調整する水流量調整部37とを備えており、第1ガス供給経路31を流れるベースガスに対して、装置制御部15からの指令に応じた量の水分を供給することにより、試料ガスの水分含有量を調整する。
添加ガス供給部61は、リーン空燃比の排気ガスに含まれるリーン排気ガス成分、即ち酸化性雰囲気のガス(N2 、O2 、NO、NO2 )およびリッチ空燃比の排気ガスに含まれるリッチ排気ガス成分、即ち還元性雰囲気のガス(CO、H2 、HC、N2 )を貯蔵する添加ガス貯蔵部63と、各ガスの供給量を調整する添加量調整部65(マスフローコントローラ(MFC))と、各ガスを噴射する複数のガス用インジェクタ67と、を備えている。なお、ガス用インジェクタ67は、例えば、天然ガスを噴射する公知のインジェクタを用いることができ、詳細な説明は省略する。
そして、添加ガス供給部61は、装置制御部15からの指令に応じて、酸化性雰囲気のリーン添加ガスをリーン添加ガス供給経路69を介してセンサ反応部13に供給し、または、還元性雰囲気のリッチ添加ガスをリッチ添加ガス供給経路71を介してセンサ反応部13に供給する。
なお、装置制御部15は、内燃機関の排気ガスに含まれる成分と同一成分を有する試料ガスを供給するように、試料ガス供給部11および添加ガス供給部61を制御している。
センサ反応部13は、試料ガスの流路になるとともに評価対象ガスセンサ51が設置される反応部ガス配管41と、反応部ガス配管41における試料ガスを加熱するガス加熱部43と、を備えている。
センサ反応部13は、試料ガスの流路になるとともに評価対象ガスセンサ51が設置される反応部ガス配管41と、反応部ガス配管41における試料ガスを加熱するガス加熱部43と、を備えている。
反応部ガス配管41は、上流から下流にかけて、第1ガス導入部45、第2ガス導入部47、添加ガス導入部48、評価対象ガスセンサ設置部49を備えている。そして、反応部ガス配管41は、第1ガス導入部45から導入されるベースガスと、第2ガス導入部47から導入されるその他のガスと、添加ガス導入部48から導入される添加ガスと、を混合してなる試料ガスを、評価対象ガスセンサ51に対して供給する構成である。
詳細には、反応部ガス配管41は、添加ガス導入部48として、リーン添加成分導入部73およびリッチ添加成分導入部75を備えており、ベースガスに対して添加ガス(リッチ添加ガスまたはリーン添加ガス)を添加するよう構成されている。
ガス加熱部43は、反応部ガス配管41のうち第1ガス導入部45と第2ガス導入部47との間の部位を取り囲むように配置されて、反応部ガス配管41を加熱することで、ベースガス温度を調整している。なお、ガス加熱部43は、反応部ガス配管41の内部温度を温度センサ(図示省略)を用いて検知してフィードバック制御を行うことで、ガス温度を目標温度(本実施形態では、450[℃])に制御する。
また、リーン添加ガス供給経路69およびリッチ添加ガス供給経路71には、添加ガス加熱部77が備えられている。
添加ガス加熱部77は、リーン添加ガス供給経路69の一部およびリッチ添加ガス供給経路71の一部を取り囲むように配置されており、リーン添加ガス供給経路69およびリッチ添加ガス供給経路71を加熱することで、リーン添加ガスおよびリッチ添加ガスの温度を添加ガス目標温度(本実施形態では、120[℃])に調整している。なお、添加ガス加熱部77は、反応部ガス配管41の内部温度を図示しない温度センサを用いて検知してフィードバック制御を行うことで、添加ガス温度を目標温度に制御する。
添加ガス加熱部77は、リーン添加ガス供給経路69の一部およびリッチ添加ガス供給経路71の一部を取り囲むように配置されており、リーン添加ガス供給経路69およびリッチ添加ガス供給経路71を加熱することで、リーン添加ガスおよびリッチ添加ガスの温度を添加ガス目標温度(本実施形態では、120[℃])に調整している。なお、添加ガス加熱部77は、反応部ガス配管41の内部温度を図示しない温度センサを用いて検知してフィードバック制御を行うことで、添加ガス温度を目標温度に制御する。
装置制御部15(CPU15)は、試料ガスの供給時に評価対象ガスセンサ51が出力するセンサ出力に基づいて、評価対象ガスセンサ51の活性化所要時間を評価するための活性化所要時間判定処理を行う。なお、評価対象ガスセンサ51の活性化所要時間とは、評価対象ガスセンサ51に備えられるヒータ(後述する、セラミックヒータ103)による加熱開始時期から評価対象ガスセンサ51が活性化状態となる時期(活性化時期)までの所要時間である。
活性化所要時間判定処理では、試料ガス供給部11および添加ガス供給部61に対して指令信号を出力し、試料ガスに含まれる各ガス成分の供給量を制御することで、任意の空燃比λに相当する試料ガスを評価対象ガスセンサ51に対して供給する処理や、試料ガス供給時における評価対象ガスセンサのセンサ出力を検出する処理などを行う。なお、装置制御部15で実行される活性化所要時間判定処理の詳細な処理内容は、後述する。
試料ガス分析部17は、センサ反応部13のうち評価対象ガスセンサ設置部49の近傍における試料ガス成分を分析し、評価対象ガスセンサ51に対して実際に供給される試料ガス成分の分析結果を装置制御部15に対して出力するよう構成されている。なお、装置制御部15は、試料ガス分析部17からの分析結果に基づき、評価対象ガスセンサ51に供給されている試料ガスに相当する排気ガスの空燃比λを判定する。
ヒータ駆動回路53は、装置制御部15(CPU15)からヒータ起動指令を受け取ると、評価対象ガスセンサ51に備えられるヒータを起動して、評価対象ガスセンサ51を加熱する処理を行う。なお、本実施形態では、評価対象ガスセンサ51に備えられるヒータは通電により発熱する構成であり、ヒータ駆動回路53は、ヒータへの通電を行うことでヒータを起動する。
次に、評価対象ガスセンサ51の一例として、内燃機関の排気管等に装着されて排気ガス中の酸素を検出するガスセンサ101(酸素センサ101)について、図2を用いて説明する。なお、図2は、ガスセンサ101の全体構成を示す断面図である。また、図2に示すガスセンサ101のうち、図中の下側を「ガスセンサの先端側」として、図中の上側を「ガスセンサの後端側」として説明する。
図2に示すように、ガスセンサ101は、ジルコニア(ZrO2 )を主成分とする酸素イオン伝導性固体電解質体により先端部が閉じた中空軸状に形成された検出素子102、検出素子102の内部に配置された軸状のセラミックヒータ103、検出素子102を収容するケーシング104などから構成されている。
検出素子102は、測定対象ガスを検出するための検出部125を先端部(図における下側端部)に備えると共に、検出部125にて検出される測定対象ガスに応じたガス検出信号を出力するための一対の信号出力電極(外側信号出力電極126および内側信号出力電極127)を備えて構成されている。なお、外側信号出力電極126および内側信号出力電極127は、例えば、PtあるいはPt合金により形成された多孔質電極として構成される。
セラミックヒータ103は、棒状形状に形成されると共に、内部に抵抗発熱線(図示せず)を有する発熱部142を備えており、ヒータ用リード線119,122を経て通電されることにより発熱部142が発熱して、検出素子102の先端部(検出部125)を加熱する。
ケーシング104は、検出素子102を保持すると共にその検出部125を排気管等の内部に突出させる主体金具105と、主体金具105の後端側開口部に接続される筒状形状の内筒部材114と、内筒部材114の後端側開口部に接続される筒状形状の外筒部材116と、を備えて構成されている。主体金具105、内筒部材114および外筒部材116が接続されてケーシング104が形成されると、ケーシング104の内部に、ガス検知(本実施例では、酸素検知)に用いる基準ガス(大気)を蓄積するための基準ガス空間158(内部空間)が形成される。
素子用リード線120,121およびヒータ用リード線119,122は、シール部材111のシール部材リード線挿通孔117、セパレータ107のセパレータリード線挿通孔171を通じて、外部からケーシング104の内部に設けられる基準ガス空間158に向けて配設される。素子用リード線120は、素子外面固定金具143を経て、検出素子102の外側信号出力電極126と電気的に接続されている。他方の素子用リード線121は、素子内面固定金具144を経て検出素子102の内側信号出力電極127と電気的に接続されている。
このように構成されたガスセンサ101は、セラミックヒータ103の加熱により検出素子102が活性化状態になった状態で先端部が測定対象ガスに晒されると、測定対象ガス中の酸素濃度変化に応じたガス検出信号(センサ出力信号)を出力することにより、測定対象ガス中の酸素濃度を検出するよう構成されている。
そのため、ガスセンサ101をガスセンサ評価装置1で評価する際には、ガスセンサ101の先端側が評価対象ガスセンサ設置部49から反応部ガス配管41の内部に配置される状態で、ガスセンサ101を評価対象ガスセンサ51としてセンサ反応部13に取り付て試料ガスを供給することで、ガスセンサ101の評価を行う。
次に、装置制御部15が実行する活性化所要時間判定処理の処理内容を表すフローチャートを図3に示すとともに、活性化所要時間判定処理の処理内容について説明する。
処理が起動されると、まず、S110(Sはステップを表す。以下同様。)では、試料ガス供給部11および添加ガス供給部61に対してガス供給開始指令信号を出力する。これにより、試料ガス供給部11および添加ガス供給部61は、センサ反応部13に対して試料ガス(ベースガス、その他のガス、水分、添加ガス)の供給を開始する。
処理が起動されると、まず、S110(Sはステップを表す。以下同様。)では、試料ガス供給部11および添加ガス供給部61に対してガス供給開始指令信号を出力する。これにより、試料ガス供給部11および添加ガス供給部61は、センサ反応部13に対して試料ガス(ベースガス、その他のガス、水分、添加ガス)の供給を開始する。
次のS120では、試料ガスに含まれるガス成分を周期的に切り換える試料ガス切換制御処理を起動する処理を行う。
試料ガス切換制御処理では、試料ガス供給部11および添加ガス供給部61に対してガス切換指令信号(酸素濃度を指令する信号)を出力して、試料ガスにおける酸素濃度が異なる2パターンの試料ガスを周期的に交互に切り換える処理を行う。なお、本実施形態における試料ガスの2パターンの酸素濃度は、所定のリッチ空燃比(本実施形態では、λ=0.9に設定)に対応した酸素濃度と、所定のリーン空燃比(本実施形態では、λ=1.1に設定)に対応した酸素濃度とである。
試料ガス切換制御処理では、試料ガス供給部11および添加ガス供給部61に対してガス切換指令信号(酸素濃度を指令する信号)を出力して、試料ガスにおける酸素濃度が異なる2パターンの試料ガスを周期的に交互に切り換える処理を行う。なお、本実施形態における試料ガスの2パターンの酸素濃度は、所定のリッチ空燃比(本実施形態では、λ=0.9に設定)に対応した酸素濃度と、所定のリーン空燃比(本実施形態では、λ=1.1に設定)に対応した酸素濃度とである。
つまり、試料ガス切換制御処理は、リッチ空燃比の排気ガスに相当する試料ガスと、リーン空燃比の排気ガスに相当する試料ガスとを、交互に切り換えて評価対象ガスセンサ51に供給する処理を行う。なお、試料ガス切換制御処理は、活性化所要時間判定処理が終了するまで繰り返し実行される。
なお、この2パターンの試料ガス(リッチ空燃比の排気ガスに相当する試料ガス、リーン空燃比の排気ガスに相当する試料ガス)は、特許請求の範囲に記載の第1ガスおよび第2ガスに相当する。
次のS130では、S120で開始された試料ガス切換制御処理における試料ガスの切換タイミングであるか否かを判断しており、肯定判定する場合にはS140に移行し、否定判定する場合には同ステップを繰り返し実行することで待機する。
S130で肯定判定されてS140に移行すると、S140では、評価対象ガスセンサ51のヒータを起動すると共に、タイマ計測処理を開始する処理を行う。
ヒータの起動は、ヒータ駆動回路53に対してヒータ起動指令を出力することで実行し、ヒータ起動指令を受けたヒータ駆動回路53は、評価対象ガスセンサ51のヒータ(換言すれば、酸素センサ101のセラミックヒータ103)への通電を開始して、評価対象ガスセンサ51(詳細には、検出素子102)を加熱する処理を開始する。
ヒータの起動は、ヒータ駆動回路53に対してヒータ起動指令を出力することで実行し、ヒータ起動指令を受けたヒータ駆動回路53は、評価対象ガスセンサ51のヒータ(換言すれば、酸素センサ101のセラミックヒータ103)への通電を開始して、評価対象ガスセンサ51(詳細には、検出素子102)を加熱する処理を開始する。
また、タイマ計測処理は、ヒータによる加熱開始時期から評価対象ガスセンサ51の活性化時期までの時間を計測するために実行する処理である。なお、タイマ計測処理は、活性化所要時間判定処理が終了するまで継続して実行される。
次のS150では、評価対象ガスセンサ51のセンサ出力を検出するセンサ出力検出処理を開始すると共に、検出したセンサ出力結果(出力波形)を装置制御部15の記憶部(メモリなど)に記憶する処理を開始する。これにより、試料ガスの酸素濃度変化(換言すれば、空燃比変化)に対する評価対象ガスセンサ51のセンサ出力特性を検出する処理を実行する。なお、センサ出力検出処理は、活性化所要時間判定処理が終了するまで継続して実行される。
次のS160では、センサ出力が条件1を満たすか否かを判断しており、肯定判定する場合にはS170に移行し、否定判定する場合には同ステップを繰り返し実行することで待機する。
本実施形態の条件1は、「センサ出力が450[mV]を超えること」であり、S160では、ヒータ起動後にセンサ出力が初めて450[mV]を超える時期を検出する。なお、本実施形態の評価対象ガスセンサ51は、理論空燃比(λ=1.0)に対応した酸素濃度を検出したときに450[mV]を出力する特性を有している。
S160で肯定判定されてS170に移行すると、S170では、S140で開始したタイマ計測処理のタイマ時間を第1条件時間変数T1として装置制御部15の記憶部(メモリなど)に記録する処理を行う。つまり、S170では、ヒータ起動から条件1が満足されるまでの所要時間を第1条件時間変数T1として記憶する処理を行う。
次のS180では、センサ出力が条件2を満たすか否かを判断しており、肯定判定する場合にはS190に移行し、否定判定する場合には同ステップを繰り返し実行することで待機する。
本実施形態の条件2は、「センサ出力が350[mV]を下回った後センサ出力が550[mV]を超えること」であり、S180では、ヒータ起動後にセンサ出力が初めて450[mV]を超えた後において、センサ出力が350[mV]未満の値および550[mV]を超える値をそれぞれ出力可能となる時期を検出する。
なお、本実施形態の評価対象ガスセンサ51は、リッチ空燃比(λ=0.9)での排気ガスにおける酸素濃度を検出する際に550[mV]よりも大きいセンサ出力を示し、リーン空燃比(λ=1.1)での排気ガスにおける酸素濃度を検出する際に350[mV]よりも小さいセンサ出力を示す特性を有している。
S180で肯定判定されてS190に移行すると、S190では、S140で開始したタイマ計測処理のタイマ時間を第2条件時間変数T2として装置制御部15の記憶部(メモリなど)に記録する処理を行う。つまり、S190では、ヒータ起動から条件2が満足されるまでの所要時間を第2条件時間変数T2として記憶する処理を行う。
次のS200では、第2条件時間変数T2を評価対象ガスセンサ51の活性化所要時間として装置制御部15の記憶部(メモリなど)に記録する処理を行う。
S200での処理が終了すると、活性化所要時間判定処理が終了する。
S200での処理が終了すると、活性化所要時間判定処理が終了する。
なお、活性化所要時間判定処理で得られた活性化所要時間は、必要に応じて他の制御処理などが装置制御部15の記憶部(メモリなど)から読み取ることができる。
ここで、同一のガスセンサを評価した場合における試料ガスの切換時期に対するヒータ起動時期の相対時間が異なる2つのケースについて、ガス雰囲気およびセンサ出力の各波形のタイムチャートを図4に示す。
ここで、同一のガスセンサを評価した場合における試料ガスの切換時期に対するヒータ起動時期の相対時間が異なる2つのケースについて、ガス雰囲気およびセンサ出力の各波形のタイムチャートを図4に示す。
なお、図4では、試料ガスの切換時期を試料ガス分析部17が検出するガス雰囲気(リッチまたはリーン)として表し、ヒータ起動時期をヒータ動作(ONまたはOFF)として表している。また、ケース1は、ヒータ起動時期が試料ガスの切換時期(リーンからリッチへの切換時期)と同時期となる場合の波形であり、ケース2は、ヒータ起動時期が試料ガスの切換時期(リーンからリッチへの切換時期)よりも僅かに遅れた時期となる場合(換言すれば、ヒータ起動時期と試料ガスの切換時期とにズレがある場合)の波形である。
図4に示すように、同一のガスセンサについての評価であっても、試料ガスの切換時期に対するヒータ起動時期の相対時間が異なることにより、センサ出力の波形が異なる波形を示すこととなり、その結果、条件1を満たす第1条件時間変数T1や条件2を満たす第2条件時間変数T2が異なる値を示すことが判る。この理由としては、試料ガスの切換時期に対するガスセンサの活性化状態の違いに原因があると考えられる。
つまり、ケース1では、ヒータ起動から2.5[sec]経過した時点が、試料ガスがリッチ雰囲気であり、かつガスセンサが450[mV]を出力可能な活性化状態であることから、ヒータ起動後2.5[sec]経過時点において、センサ出力が450[mV]を超える値を示し、条件1を満たしている。
これに対して、ケース2では、ヒータ起動から2.5[sec]経過した時点は、ガスセンサとしてはケース1と同様に450[mV]を出力可能な活性化状態であるとしても、試料ガスがリーン雰囲気であるために、センサ出力が450[mV]を超える値を示すことはなく、条件1を満たすことはない。このため、ケース2において条件1を満たす時期は、ケース1よりも遅い時期となり、第1条件時間変数T1は、ケース1とケース2とで異なる値を示すことになる。
条件2を満たす時期についても同様に、ヒータ起動から3.5[sec]経過した時点におけるガスセンサの活性化状態がケース1とケース2とで異なることから、第2条件時間変数T2は、ケース1とケース2とで異なる値を示すことになる。
つまり、同一のガスセンサを評価する場合であっても、試料ガスの切換時期に対するヒータ起動時期の相対時間が異なる場合には、活性化所要時間の検出結果が異なる値となる可能性があることが判る。
これに対して、本実施形態のガスセンサ評価装置においては、上述したように、ヒータ起動タイミング(S140)が試料ガスの切換時期を基準として定められることから(S130)、試料ガスの切換時期に対するヒータ起動時期の相対時間を一定にすることができる。このため、本実施形態のガスセンサ評価装置を用いたガスセンサ評価方法によれば、試料ガスのガス雰囲気の切換時期とヒータ起動時期との時間間隔にバラツキが生じるのを防止でき、活性化所要時間の検出結果に誤差が生じるのを防止できる。
ここで、ガスセンサの活性化所要時間を評価したときの評価結果について、本実施形態のガスセンサ評価装置を用いた場合(より具体的には、上記ケース1のみでガスセンサの活性化所要時間を評価した場合)と、従来のガスセンサ評価装置を用いた場合とを比較した測定結果を、図5に示す。
なお、比較測定は、同一のガスセンサについて複数回にわたり活性化所要時間の評価を行い、活性化所要時間のバラツキを調べる方法により実施した。図5では、従来のガスセンサ評価装置における測定結果を比較例として記載している。
図5に示す測定結果から分かるように、従来のガスセンサ評価装置を用いた場合には、活性化所要時間の検出結果に大きなバラツキが生じているのに対して、本実施形態のガスセンサ評価装置を用いた場合には、活性化所要時間の検出結果におけるバラツキが小さくなっていることが判る。
このことから、本発明方法を適用した本実施形態のガスセンサ評価装置は、従来の装置に比べて、活性化所要時間の検出誤差が小さくなることから、活性化所要時間の検出精度の向上を図ることができる。
以上説明したように、本実施形態のガスセンサ評価装置によるガスセンサ評価方法によれば、試料ガスにおける酸素の濃度切換時期を基準としてヒータによるガスセンサの加熱開始時期が一定時期に定められることから、試料ガスの切り換え時期とヒータ起動時期との相対的な時間差が一定となる。
よって、本実施形態のガスセンサ評価装置によるガスセンサ評価方法によれば、試料ガスのガス雰囲気の切換時期とヒータ起動時期との時間間隔にバラツキが生じるのを防止でき、活性化所要時間の検出結果に誤差が生じるのを防止できることから、同一品番のガスセンサにおける活性化所要時間の評価を行うにあたっての評価精度の向上を図ることができる。
また、本実施形態では、ガス加熱部43および添加ガス加熱部77が図示しない温度センサを用いて検知してフィードバック制御を行うことで試料ガスの温度を目標温度に制御しており、試料ガスの温度を一定に制御している。このように試料ガスの温度を一定にすることで、試料ガスの温度の影響による評価対象ガスセンサ51の温度変化を抑制することができる。これにより、活性化所要時間の評価にあたり、試料ガスの温度が変動することに起因して活性化所要時間に誤差が生じるのを防止できる。
よって、本実施形態のガスセンサ評価装置におけるガスセンサ評価方法によれば、試料ガスの温度変化に起因する活性化所要時間の検出誤差が生じるのを防止でき、活性化所要時間の検出精度をさらに向上することができる。
また、本実施形態のガスセンサ評価装置においては、試料ガスにおける酸素濃度を切り換えるにあたり、リッチ空燃比における排気ガスの酸素濃度、リーン空燃比における排気ガスの酸素濃度のいずれかに切り換えている。試料ガスの酸素濃度をこのように切り換えることで、試料ガスの切り換えによってガスセンサのセンサ出力が大きく変化することから、ガスセンサの活性化状態の判定が容易になる。
これにより、活性化状態であるにもかかわらず、未活性化状態であると誤判定されるのを防止でき、活性化状態の誤判定を防止できることから、これに伴い、活性化所要時間を検出する際に検出誤差が生じるのを抑制できる。
よって、本実施形態のガスセンサ評価装置におけるガスセンサ評価方法によれば、ガスセンサの活性化状態の誤判定に起因する活性化所要時間の検出誤差を抑制することができ、活性化所要時間の検出精度をさらに向上できる。
以上、本発明方法の実施形態について説明したが、本発明方法は、上記実施形態に限定されることはなく、種々の態様をとることができる。
例えば、上記実施形態では、試料ガスにおける特定成分(酸素)の濃度切換時期と同時期にヒータ起動時期を設定する形態について説明したが、ヒータ起動時期は試料ガスのガス雰囲気の切換時期と同時期に限られることはなく、例えば、試料ガスのガス雰囲気の切換時期から一定時間経過後にヒータ起動時期を設定しても良い。
例えば、上記実施形態では、試料ガスにおける特定成分(酸素)の濃度切換時期と同時期にヒータ起動時期を設定する形態について説明したが、ヒータ起動時期は試料ガスのガス雰囲気の切換時期と同時期に限られることはなく、例えば、試料ガスのガス雰囲気の切換時期から一定時間経過後にヒータ起動時期を設定しても良い。
つまり、試料ガスのガス雰囲気の切換時期から一定時間経過後にヒータ起動時期を設定する場合においても、試料ガスの切り換え時期とヒータ起動時期との相対的な時間差が一定となることから、試料ガスのガス雰囲気の切換時期とヒータ起動時期との時間間隔にバラツキが生じるのを防止でき、活性化所要時間の検出結果に誤差が生じるのを防止できることから、活性化所要時間の評価精度の向上を図ることができる。
また、評価対象のガスセンサは、酸素を検出する酸素センサに限られることはなく、NOxセンサなど他のガスを検出するものであっても良く、ヒータの加熱により活性化する構成のガスセンサであれば、本発明方法のガスセンサ評価方法を適用することができる。さらに、内燃機関の排気ガスにおける酸素濃度を検出するガスセンサとしては、理論空燃比(λ=1.0)を境界としてセンサ出力が変化することでリッチ空燃比又はリーン空燃比の判定が可能な酸素センサ(いわゆるλセンサ)に限られず、空燃比に応じてセンサ出力が変化する全領域空燃比センサであってもよい。
なお、全領域空燃比センサを評価する場合には、試料ガスとして、リッチまたはリーンの2種類の試料ガスを用いる場合に限られることはなく、センサ出力が異なる2種類の試料ガスを供給すればよい。例えば、リッチ空燃比における異なる2つの空燃比(例えば、λ=0.7とλ=0.9の2種類の空燃比)にそれぞれ対応する2種類の試料ガスを切り換えて供給しても良く、あるいは、リーン空燃比における異なる2つの空燃比(例えば、λ=1.1とλ=1.3の2種類の空燃比)にそれぞれ対応する2種類の試料ガスを切り換えて供給しても良い。
また、評価対象のガスセンサは、有底筒型のセンサ素子(検出素子)を備える構成に限られることはなく、板型のセンサ素子を備える構成であってもよい。
さらに、活性化所要時間の判定条件は、上記の条件1および条件2を満たす判定条件に限られることはなく、例えば、「ヒータ起動後、初めて550[mV]を超えたこと」のように活性化所要時間の判定条件を単純にしても良い。あるいは、上記の条件1および条件2に対してさらに「条件2を満足した後、1[sec]経過したこと」を加えた条件を活性化所要時間の判定条件とすることで、ガスセンサが確実に活性化状態となっている時期を活性化所要時間として判定しても良い。また、判定条件におけるセンサ出力の値は、上記実施形態の数値に限られることはなく、評価対象ガスセンサの特性に応じて適宜設定すればよい。
さらに、活性化所要時間の判定条件は、上記の条件1および条件2を満たす判定条件に限られることはなく、例えば、「ヒータ起動後、初めて550[mV]を超えたこと」のように活性化所要時間の判定条件を単純にしても良い。あるいは、上記の条件1および条件2に対してさらに「条件2を満足した後、1[sec]経過したこと」を加えた条件を活性化所要時間の判定条件とすることで、ガスセンサが確実に活性化状態となっている時期を活性化所要時間として判定しても良い。また、判定条件におけるセンサ出力の値は、上記実施形態の数値に限られることはなく、評価対象ガスセンサの特性に応じて適宜設定すればよい。
また、上記実施形態では、ガス加熱部43により試料ガスの温度を一定にする実施形態を記載したが、試料ガス供給部11における各ガスの温度が一定温度となる環境下の場合には、ガス加熱部43による温度制御を行わなくてもよい。
さらに、試料ガスの生成方法は、ガス貯蔵部に貯蔵された各種ガスを混合して試料ガスを生成する実施形態に限られることはなく、実際の内燃機関を用いて生成される排気ガスを試料ガスとして用いても良い。この場合、内燃機関の空燃比を切り換えることで、試料ガス中の特定成分の濃度を切り換えることができる。
なお、図4によれば、活性化所要時間の検出誤差は、試料ガスの切替周期が長くなるほど検出誤差は大きくなると理解できる。このことから、試料ガスの切替周期を長く設定する必要がある用途において本発明方法を適用することで、活性化所要時間の検出誤差が生じるのを効果的に抑制でき、検出精度の向上を図ることができる。
ところで、製造ラインにおいて多数のガスセンサを検査する場合には、活性化所要時間の検出誤差によって製品検査結果が誤った結果となると、本来であれば合格品と評価されるべきガスセンサが誤って不良品と判定されることや、本来であれば不良品と評価されるべきガスセンサが誤って合格品と判定されることが生じる。
そのため、製造ラインにおいて多数のガスセンサを検査する場合に、本発明方法のガスセンサ評価方法を適用することで、活性化所要時間の誤検出に起因するガスセンサの合否判定に誤りが生じるのを防止でき、ガスセンサの合否判定精度を向上できる。
1…ガスセンサ評価装置、11…試料ガス供給部、13…センサ反応部、15…装置制御部、17…試料ガス分析部、19…水分添加部、21…ガス貯蔵部、41…反応部ガス配管、43…ガス加熱部、45…第1ガス導入部、47…第2ガス導入部、49…評価対象ガスセンサ設置部、51…評価対象ガスセンサ、53…ヒータ駆動回路、101…ガスセンサ(酸素センサ)、102…検出素子、103…セラミックヒータ、104…ケーシング。
Claims (3)
- ヒータの加熱により測定対象ガス中の特定成分を検出可能な活性化状態となるガスセンサについて、前記ヒータによる加熱開始から前記ガスセンサが活性化状態となるまでの活性化所要時間を評価するガスセンサ評価方法であって、
前記特定成分を含む試料ガスを前記ガスセンサに供給し、前記試料ガスに対する前記ガスセンサのセンサ出力に基づいて前記活性化所要時間を評価するにあたり、
前記試料ガスとして前記特定成分の濃度が異なる第1ガスと第2ガスを周期的に切り換えつつ前記試料ガスを供給し、
前記試料ガスにおける前記第1ガスから前記第2ガスへの切換時期または第2ガスから第1ガスへの切換時期を基準として定められる時期に、前記ヒータによる前記ガスセンサの加熱を開始し、
前記センサ出力が前記試料ガスにおける前記特定成分の濃度変化に応じた変化状態となる活性化時期を検出し、
前記ヒータによる加熱開始時期から前記活性化時期までの時間を前記活性化所要時間として評価すること、
を特徴とするガスセンサ評価方法。 - 前記試料ガスの温度が一定であること、
を特徴とする請求項1に記載のガスセンサ評価方法。 - 前記測定対象ガスが内燃機関の排気ガスであり、
前記特定成分が酸素であり、
前記試料ガスにおける酸素濃度を周期的に切り換えるにあたり、予め定められたリッチ空燃比に対応した酸素濃度となるように調整された前記第1ガスと、予め定められたリーン空燃比に対応した酸素濃度となるように調整された前記第2ガスと、に切り換えること、
を特徴とする請求項1または2に記載のガスセンサ評価方法。
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