JP2007076925A - カーボンナノチューブの作製方法及びその固定方法 - Google Patents
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- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 title claims abstract description 115
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 82
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 119
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 119
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 94
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 26
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 23
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 13
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 10
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 6
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 claims 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 4
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
【解決手段】 CNT成長温度より高い融点を有する金属の膜及びこの金属膜の上に触媒を設けた基板上にCNTを成長せしめ、次いでこの金属膜を溶融せしめ、CNTの下端部分をこの溶融金属で被覆し、固定する。被覆されたCNTの下端部分の長さが、成長したCNTの長さの1/3以下となるようにする。
【選択図】 図1
Description
Cui Xaiodong et al., Nano Letters, Vol. 3, No. 6, 2003, pp. 783-787 M. Hiramatsu et al., Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 44, No. 22, 2005, pp. L693-L695
Claims (15)
- 基板上にカーボンナノチューブを成長させる際に、基板上にカーボンナノチューブ成長温度より高い融点を有する金属の膜を形成し、この金属膜の上に触媒を設けた基板を用い、この基板上に原料ガスを供給してカーボンナノチューブを成長させ、次いで該金属膜を該カーボンナノチューブ成長温度より高い温度で溶融させ、カーボンナノチューブの下端部分をこの溶融金属で被覆し、固定することを特徴とする固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記溶融金属で被覆されたカーボンナノチューブの下端部分の長さが、成長したカーボンナノチューブの長さの1/3以下であることを特徴とする請求項1記載の固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記金属膜が、5μm以下の膜厚を有することを特徴とする請求項1又は2記載の固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記金属膜が、Al、Sb、Mg、Au、Ag、Cu、及びこれらの金属の少なくとも1種を含む合金から選ばれた金属からなる膜であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記カーボンナノチューブ成長温度が、400〜1200℃であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記カーボンナノチューブを、熱CVD法、プラズマCVD法、又はリモートプラズマCVD法により成長させることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記触媒が、Fe、Co、Ni及びこれら金属の少なくとも1種を含む合金から選ばれたものであり、EB蒸着法、抵抗加熱蒸着法、又はスパッタ法により前記金属膜上に成膜されているか、又は湿式の塗布法により前記金属膜上に微粒子形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記金属膜を600〜1500℃で溶融させることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 基板上にカーボンナノチューブを成長させる際に、カーボンナノチューブ成長温度より高い融点を有する金属からなる基板を用い、この金属基板上に触媒を成膜又は微粒子化形成して設けた後、この金属基板上に原料ガスを供給してカーボンナノチューブを成長させ、次いで該金属基板の表面部分を該カーボンナノチューブ成長温度より高い温度で溶融させ、カーボンナノチューブの下端部分をこの溶融金属で被覆し、固定することを特徴とする固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記溶融金属で被覆されたカーボンナノチューブの下端部分の長さが、成長したカーボンナノチューブの長さの1/3以下であることを特徴とする請求項9記載の固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記金属基板が、Al、Sb、Mg、Au、Ag、Cu、及びこれらの金属の少なくとも1種を含む合金から選ばれた金属からなる基板であることを特徴とする請求項9又は10に記載の固定されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記カーボンナノチューブ成長温度が、400〜1200℃であり、カーボンナノチューブを、熱CVD法、プラズマCVD法、又はリモートプラズマCVD法により成長させることを特徴とする請求項9〜11のいずれかに記載の固定化されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記触媒が、Fe、Co、Ni及びこれら金属の少なくとも1種を含む合金から選ばれたものであり、EB蒸着法、抵抗加熱蒸着法、又はスパッタ法により前記金属基板上に形成されているか、又は湿式の塗布法により前記金属基板上に微粒子形成されていることを特徴とする請求項9〜12のいずれかに記載の固定化されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 前記金属基板表面部分を600〜1500℃で溶融させることを特徴とする請求項9〜13のいずれかに記載の固定化されたカーボンナノチューブの作製方法。
- 基板上にカーボンナノチューブを成長させる際に、基板上にカーボンナノチューブ成長温度より高い融点を有する金属の膜を形成し、この金属膜の上に触媒を設けた基板を用いるか、又はカーボンナノチューブ成長温度より高い融点を有する金属からなる金属基板の上に触媒を設けた基板を用い、この基板上に原料ガスを供給してカーボンナノチューブを成長させ、次いで該金属膜又は該金属基板の表面部分をカーボンナノチューブ成長温度より高い温度で溶融させ、カーボンナノチューブの下端部分をこの溶融金属で被覆し、固定することを特徴とするカーボンナノチューブの固定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005262727A JP4684053B2 (ja) | 2005-09-09 | 2005-09-09 | カーボンナノチューブの作製方法及びその固定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005262727A JP4684053B2 (ja) | 2005-09-09 | 2005-09-09 | カーボンナノチューブの作製方法及びその固定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007076925A true JP2007076925A (ja) | 2007-03-29 |
JP4684053B2 JP4684053B2 (ja) | 2011-05-18 |
Family
ID=37937596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005262727A Active JP4684053B2 (ja) | 2005-09-09 | 2005-09-09 | カーボンナノチューブの作製方法及びその固定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4684053B2 (ja) |
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