JP2007066972A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ダイオード素子に起因する寄生抵抗、寄生容量が小さく、電流集中の発生が抑制された保護素子を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】 半導体装置は、半導体基板1と、半導体基板1上に形成された埋込み絶縁膜2と、埋込み絶縁膜2上に形成された活性領域30と、活性領域30の表層部分に選択的に埋込まれた部分分離絶縁膜4と、活性領域30に形成されたダイオード素子とを備える。ダイオード素子は、活性領域30における部分分離絶縁膜4の下層に位置する部分に形成されるP型シリコン層3と、埋込み絶縁膜2に達し、部分分離絶縁膜4およびP型シリコン層3を挟むように形成された、P型拡散層5およびN型拡散層6とを有する。
【選択図】 図1
【解決手段】 半導体装置は、半導体基板1と、半導体基板1上に形成された埋込み絶縁膜2と、埋込み絶縁膜2上に形成された活性領域30と、活性領域30の表層部分に選択的に埋込まれた部分分離絶縁膜4と、活性領域30に形成されたダイオード素子とを備える。ダイオード素子は、活性領域30における部分分離絶縁膜4の下層に位置する部分に形成されるP型シリコン層3と、埋込み絶縁膜2に達し、部分分離絶縁膜4およびP型シリコン層3を挟むように形成された、P型拡散層5およびN型拡散層6とを有する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体装置に関し、特に、入出力保護機能を有する半導体装置に関する。
シリコン基板上に形成されたMOS型半導体素子を有する半導体装置では、通常、該半導体装置の内部回路と外部との入出力信号用のパッドとの間に、ESD(ElectroStatic-Discharge)サージ用の保護回路が挿入される。サージ保護回路としては、たとえば、ダイオード素子が用いられる。
基板としてバルクシリコン基板が用いられる場合、ダイオード素子は、シリコン基板に形成されたウエル層と呼ばれる第1導電型(P型)の不純物層と、素子分離領域で囲まれた第2導電型(N型)の不純物層とのPN接合により形成される。たとえば、信号線が、N型の不純物層に接続されている場合は、信号線に入力されたサージは、このPN接合を介して、GND線に接続されているシリコン基板に放出される。
しかしながら、基板としてSOI(Silicon On Insulator)基板が用いられ、埋め込み酸化膜上のシリコン層にダイオード素子が形成される場合、シリコン基板側にサージを逃がす経路が埋め込み酸化膜により遮断される。特に、ドレインやソースが埋め込み酸化膜にまで達する場合は、上述したバルクシリコン基板を用いると異なり、縦方向にPN接合が形成できないため、横方向のPN接合、即ち横型のダイオード素子を通じて、サージを逃がすことが必要となる。
以下に、従来のSOI基板におけるダイオード素子について説明する。
たとえば、特開平11−121750号公報(特許文献1)においては、ESD耐性の向上が図られたSOI構造を有する半導体装置が開示されている。ここでは、シリコン基板上に埋め込み酸化膜を介して第1導電型(P型)のシリコン薄膜が形成され、第1導電型の高濃度拡散層と第2導電型(N型)の高濃度拡散層とが、互いにある程度の距離を隔てて形成される。それらの領域は、埋め込み酸化膜にまで到達する素子分離絶縁膜(以下、これを完全分離絶縁膜と称する場合がある。)により、他の素子と電気的に分離されている。なお、それらの拡散層の一部に、シリサイド層が形成されている。すなわち、拡散層の一部にシリサイド層が形成されないシリサイドブロック層が形成されている。
たとえば、特開平11−121750号公報(特許文献1)においては、ESD耐性の向上が図られたSOI構造を有する半導体装置が開示されている。ここでは、シリコン基板上に埋め込み酸化膜を介して第1導電型(P型)のシリコン薄膜が形成され、第1導電型の高濃度拡散層と第2導電型(N型)の高濃度拡散層とが、互いにある程度の距離を隔てて形成される。それらの領域は、埋め込み酸化膜にまで到達する素子分離絶縁膜(以下、これを完全分離絶縁膜と称する場合がある。)により、他の素子と電気的に分離されている。なお、それらの拡散層の一部に、シリサイド層が形成されている。すなわち、拡散層の一部にシリサイド層が形成されないシリサイドブロック層が形成されている。
このように、SOI基板が用いられ、そのシリコン層が薄膜(厚み:0.2μm以下程度)である場合は、横方向(基板の主表面方向)にPN接合が形成されることとなる。本願明細書では、比較的低濃度なP型不純物層と高濃度なN型不純物層との接合により形成されるダイオード素子をNP型ダイオード素子と称し、比較的低濃度なN型不純物層と高濃度なP型不純物層との接合により形成されるダイオード素子をPN型ダイオード素子と称する。この2つのダイオード素子によりESD保護回路の一部が形成される。
また、たとえば、非特許文献1(Figure.2(b))においても、ESD保護ダイオードが開示されている。ここでは、ゲート絶縁膜およびゲート電極を隔てて、第1導電型の高濃度拡散層と第2導電型の高濃度拡散層とが形成されている。
さらに、非特許文献1(Figure 2(a))においては、埋め込み酸化膜上に形成する横型ダイオードの代わりに、埋め込み酸化膜下のシリコン基板を利用することにより、縦方向のダイオード素子を形成したESD保護ダイオードが開示されている。このダイオードは、バルク基板を用いたNP型ダイオードとほぼ同じ構造を有し、コンタクトプラグを介して、埋め込み酸化膜よりも上方の上層配線と接続されている。
また、非特許文献2においては、SOI基板上に形成されるMOSトランジスタの放熱性を高める冷却用プラグを備えた半導体装置が開示されている。
また、特開2000−243973号公報(特許文献2)においては、SOI基板上に形成された部分分離領域を含む半導体装置が開示されている。ここで、部分分離領域は、上層部に設けられた部分絶縁領域と、下層部に存在するSOI構造におけるシリコン層の一部である半導体領域とから構成される。
特開平11−121750号公報
特開2000−243973号公報
A.Salman et.al.,"ESD Protection for SOI Technology using an Under-The-Box(Substrate)Diode Structure",Electrical overstress/Electrostatic Discharge Symposium proceedings 2004,IEEE,2004
F.Komatsu et.al.,"Suppression of Self-Heating in Hybrid Trench Isolated SOI MOSFETs with Poly-Si plug and W plug",Extended Abstracts of the 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials:Tokyo,2004,Japan Society of Applied Physics,pp.234-235
特許文献1に記載のダイオード素子では、第1および第2導電型の拡散層は、イオン注入により形成されるが、それぞれを形成する際にフォトレジストを用いて形成する必要があるため、第1導電型拡散層と第2導電型拡散層との間の距離が一義的に決定できないという問題がある。
また、特許文献1および非特許文献1中のFigure.2(b)に記載のダイオード素子では、拡散層の一部にシリサイド化しない領域(シリサイドブロック層)が存在するため、この領域の寄生抵抗が大きくなるという問題がある。さらに、これらのダイオード素子では、SOI構造におけるシリコン層全体にPN接合が形成されることから、深さ方向の濃度プロファイルが不均一となり、入力されるサージの電流密度が深さ方向に不均一となり、局所的に過度の電流集中が生じることが懸念される。
また、非特許文献1中のFigure.2(b)に記載のダイオード素子では、ゲート電極を隔てて第1導電型の高濃度拡散層と第2導電型の高濃度拡散層とが配置されることにより、高濃度拡散層とゲート電極間とのオーバラップ領域(フリンジ部分)に比較的大きな寄生容量が生じ、デバイスが高速動作する場合、この寄生容量を介して、入出力信号に大きな損失を伴うという問題がある。
また、非特許文献1中のFigure.2(a)に記載のダイオード素子では、通常のMOS型半導体素子の作製工程以外に、埋め込み酸化膜下に第1および第2導電型の拡散層を形成する工程や、埋め込み酸化膜を部分的に除去する工程などの新たな工程の追加が必要であって、製造コストが非常に高くなるという問題があった。
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、ダイオード素子に起因する寄生抵抗、寄生容量が小さく、電流集中の発生が抑制された保護素子を有する半導体装置を提供することにある。
本発明に係る半導体装置は、半導体基板と、半導体基板上に形成された埋込み絶縁膜と、埋込み絶縁膜上に形成された活性領域と、埋込み絶縁膜との間に活性領域を残すように、該活性領域の表層部分に埋込まれた素子分離絶縁膜と、活性領域に形成されたダイオード素子とを備え、ダイオード素子は、活性領域における素子分離絶縁膜の下層に位置する部分に形成される第1または第2導電型の低濃度不純物領域と、埋込み絶縁膜に達し、素子分離絶縁膜および低濃度不純物領域を挟むように形成された、第1導電型の第1高濃度不純物領域および第2導電型の第2高濃度不純物領域とを有する。
なお、「低濃度不純物領域」とは、「第1と第2高濃度不純物領域」と比較して相対的に不純物濃度が低い領域を意味する。換言すると、「第1と第2高濃度不純物領域」とは、「低濃度不純物領域」と比較して相対的に不純物濃度が高い領域を意味する。
本発明によれば、ダイオード素子に起因する寄生抵抗、寄生容量が小さく、電流集中の発生が抑制された保護素子を有する半導体装置を提供することができる。
以下に、本発明に基づく半導体装置の実施の形態について説明する。なお、同一または相当する部分に同一の参照符号を付し、その説明を繰返さない場合がある。
(実施の形態1)
図1は、実施の形態1に係る半導体装置であるNP型ダイオード素子の鳥瞰模式図である。また、図2は、上記NP型ダイオード素子の断面模式図である。
図1は、実施の形態1に係る半導体装置であるNP型ダイオード素子の鳥瞰模式図である。また、図2は、上記NP型ダイオード素子の断面模式図である。
図1,図2を参照して、本実施の形態に係る半導体装置は、P型のシリコン基板1と、埋込み絶縁膜2と、活性領域30とを含むSOI構造を有する。
埋込み絶縁膜2は、100nm〜500nm程度の厚みを有する。活性領域30は、30nm〜200nm程度の厚みを有するシリコン層であり、P型シリコン層3と、P型拡散層5と、N型拡散層6とを含んで構成される。活性領域30上には、D2の幅を有し、活性領域30の深さ方向の一部に形成された部分分離絶縁膜4が設けられる。P型拡散層5上、N型拡散層6上には、シリサイド膜5S,6Sがそれぞれ形成される。シリサイド膜5S,6Sは、それぞれプラグ5P,6Pを介して上層配線5W,6Wと接続される。上層配線5Wは、接地線に接続され、上層配線6Wは、信号線に接続される。以上の構成により、図1,図2中の「A」部にNP接合が形成され、NP型のダイオード素子が形成される。
上記ダイオード素子は、半導体基板1上において、アレイ配置される。このようにすることで、途中工程の変更により容易にサージ耐圧の強弱の調整を図ることができる。
図3は、NP型ダイオード素子のアレイ端部の断面模式図である。図3を参照して、ダイオード素子のアレイ端部には、埋込み絶縁膜2に達する完全分離絶縁膜40が形成されている。これにより、ダイオード素子と他の要素素子(たとえばMOS型半導体素子)とが電気的に分離される。
図4〜図7は、上記NP型ダイオード素子の形成過程における第1〜第4工程を示す断面模式図である。また、図8は、図7の状態を示す鳥瞰模式図である。
図4を参照して、シリコン基板1上に埋込み絶縁膜2が形成され、埋込み絶縁膜2上に薄膜シリコン層(SOI層)が形成される。このSOI基板にP型の不純物を注入し、活性領域30を構成するP型シリコン層3を形成する。その後、図5に示すように、P型シリコン層3上にSiO2膜41およびSiN膜42が形成され、その積層構造の一部分に、レジストマスクRMを用いて「溝部」としての凹部3Aが形成される。ここで、凹部3Aは、その底面が埋込み絶縁膜2にまで達しないように形成される。これにより、部分分離絶縁膜4の下層にP型シリコン層3が残存する。次に、図6に示すように、凹部3A内からSiN膜42上にレジストマスクRM2が形成される。レジストマスクRM2は、一部の凹部3Aを露出させるように形成される。そして、レジストマスクRM2をマスクとしてP型シリコン層3をエッチングすることにより、埋込み絶縁膜2に達する凹部3Bが形成される。図7を参照して、凹部3A,3B内にたとえばSiO2膜からなる絶縁膜を埋込むことにより、部分分離絶縁膜4および完全分離絶縁膜40が形成される。
素子分離領域は、たとえば、図8に示すように、四角形のドーナツ型に形成される。本実施の形態に係るダイオード素子においては、部分分離絶縁膜4の内周側に位置するP型シリコン層3は、一辺の長さがD1の正方形形状を有する。
再び図1を参照して、部分分離絶縁膜4の外周側にP型拡散層5が形成され、部分分離絶縁膜4の内周側にN型拡散層6が形成される。P型拡散層5およびN型拡散層6は、P型シリコン層3よりも高濃度の不純物を含む。P型拡散層5上およびN型拡散層6上には、シリサイド層5S,6Sが形成される。その後、図2に示すように、シリサイド膜5S,6Sに達するプラグ5P,6Pおよび上層配線5W,6Wが形成される。
なお、本実施の形態に係るダイオード素子において、部分分離絶縁膜4の下層に残存するP型シリコン層3の厚みD3は、10nm以上100nm以下程度である。
次に、上記ダイオード素子の動作について説明する。
図9は、上記NP型ダイオード素子を動作させるための状態を示す断面模式図である。図9を参照して、P型拡散層5は、上層配線5Wを介して接地線GNDに接続される。また、N型拡散層6は、上層配線6Wを介して信号線SLに接続される。
図9は、上記NP型ダイオード素子を動作させるための状態を示す断面模式図である。図9を参照して、P型拡散層5は、上層配線5Wを介して接地線GNDに接続される。また、N型拡散層6は、上層配線6Wを介して信号線SLに接続される。
図10は、上記NP型ダイオード素子の電流−電圧特性を示す図である。
NP型ダイオード素子がESD保護素子として動作する場合は、順方向電流特性により、サージを接地線GND端子側に運ぶ機能が必要となる。図10に示す電流−電圧特性は、P型シリコン層3の幅(D2)が0.5μm程度である場合におけるNP型ダイオードの順方向特性、すなわち、信号線電位を負方向に挿引した場合において、TLP(Transmission Line Pulse)テストと呼ばれる手法を用いて評価した結果である。なお、ここでは、ダイオード素子が物理的に破壊するまでの電流特性を示している。図10に示すように、ダイオード素子が破壊する電流値は、1.5A程度(>1.33A)である。このことは、サージ耐圧の一規格であるHBM(Human Body Model)耐性で、2kV程度は確保されることに対応する。このように、本実施の形態に係るダイオード素子は、ESD保護素子として十分機能することがわかる。
NP型ダイオード素子がESD保護素子として動作する場合は、順方向電流特性により、サージを接地線GND端子側に運ぶ機能が必要となる。図10に示す電流−電圧特性は、P型シリコン層3の幅(D2)が0.5μm程度である場合におけるNP型ダイオードの順方向特性、すなわち、信号線電位を負方向に挿引した場合において、TLP(Transmission Line Pulse)テストと呼ばれる手法を用いて評価した結果である。なお、ここでは、ダイオード素子が物理的に破壊するまでの電流特性を示している。図10に示すように、ダイオード素子が破壊する電流値は、1.5A程度(>1.33A)である。このことは、サージ耐圧の一規格であるHBM(Human Body Model)耐性で、2kV程度は確保されることに対応する。このように、本実施の形態に係るダイオード素子は、ESD保護素子として十分機能することがわかる。
図11は、P型シリコン層3の幅(D2)が0.5μm程度である場合における上記NP型ダイオード素子の逆方向電流(リーク電流)−電圧特性を示す図である。
保護素子としてのダイオード素子には、通常の内部回路動作時に、信号線の電位として、逆方向の電圧が印加されている。たとえば、電源電圧が1.2Vであれば、最大1.2Vの逆方向電圧が印加される。この場合、1.2Vの逆方向電圧作用時に、リーク電流値が十分に低い値となっていることが必要である。これに対し、本実施の形態に係るダイオード素子では、図11に示すように、1.2V時に1pA以下のリーク電流値となっていることから、このダイオード素子の内部回路動作時の消費電力は、極めて小さいことがわかる。また、図11の例では、ダイオード素子の耐圧は7V程度である。
ところで、上記NP型ダイオード素子におけるNP接合面積は、4×D3×D1で与えられる。そして、N型の電極サイズは、半導体基板1の主表面へのN型拡散層6の投影面積:D1×D1で与えられる。ここで、NP接合面積とN型の電極サイズとを一致させることで、サージを効率よく接地線GNDに運ぶことができる。すなわち、
4×D3×D1=D1×D1
が満たされることが好ましい。
4×D3×D1=D1×D1
が満たされることが好ましい。
なお、部分分離絶縁膜4の幅D2は、適宜変更が可能であるが、0.1μm以下程度であることが好ましい。その理由について、以下に説明する。
「130nmノード」のMOS型半導体素子とともに上記ダイオード素子を形成する場合、P型シリコン層3の不純物濃度は、5×1017(/cm3)となり、N型拡散層6の不純物濃度(P型シリコン層3との界面近傍の濃度)は、1×1019(/cm3)となる。この時、逆バイアスの電圧が3V程度に達したときに、100nm程度の空乏層が形成され、P型シリコン層(厚み:100nm)がすべて空乏化する。その後、電圧を印加し続けると、D2=0.1μmの場合、逆バイアスの電圧が4V程度に達したときに、NP接合のブレークダウンが発生する。
「130nmノード」のMOS型半導体素子においては、5V程度で該半導体素子の絶縁膜が破壊されるため、保護素子には、内部電圧が5V以内で動作することが求められる。上述したダイオード素子は、逆方向でも4V程度でブレークダウンして、サージを良好に接地線GND側に運ぶことが可能である。このように、部分分離絶縁膜4の幅を0.1μm以下程度に設定することにより、「130nmノード」のMOS型半導体素子とともに形成され、双方向(順方向、逆方向)のサージ(ESD)に対して有効な保護素子が作製できる。
次に、ダイオード素子の面内均一性について説明する。図5に示す工程で凹部3Aを形成する際に、埋込み絶縁膜2上に残存させるP型シリコン層3の厚みD3にばらつきが生じる。当該ばらつきにより、その後形成されるダイオード素子のNP接合の面積にばらつきが生じる。この結果、図10に示される破壊電流値にばらつきが生じる。これに対し、本実施の形態に係るダイオード素子では、D3が一番小さくなるワーストケースでESD保護素子として必要な電流値(たとえば1.33A)が満たされるように、ダイオード素子のアレイ個数を決定している。
ダイオード素子のアレイ数は、たとえば100個以上であるが、破壊電流値に余裕があれば、MOS型半導体素子作製工程において、一部の配線層を変更してアレイ数を容易に少なくすることが可能である。
上述した内容について要約すると、以下のようになる。すなわち、本実施の形態に係る半導体装置は、半導体基板1と、半導体基板1上に形成された埋込み絶縁膜2と、埋込み絶縁膜2上に形成された活性領域30と、活性領域30における深さ方向の一部に形成された(より具体的には、埋込み絶縁膜2との間に活性領域30を残すように、活性領域30の表層部分に埋込まれた)「素子分離絶縁膜」としての部分分離絶縁膜4と、活性領域30に形成されたダイオード素子とを備える。ダイオード素子は、活性領域30における部分分離絶縁膜4の下層に位置する部分に形成される「低濃度不純物領域」としてのP型シリコン層3と、埋込み絶縁膜2に達し、部分分離絶縁膜4およびP型シリコン層3を挟むように形成された、「第1高濃度不純物領域」としてのP型拡散層5および「第2高濃度不純物領域」としてのN型拡散層6とを有する。ここでは、P型が「第1導電型」となり、N型が「第2導電型」となる。なお、P型シリコン層3に代えて、N型シリコン層が設けられてもよい。
上記半導体装置において、半導体基板1の主表面上から見た部分分離絶縁膜4はドーナツ形状を有している。そして、活性領域30上において、部分分離絶縁膜4がアレイ状に配置されている。
上記半導体装置において、ドーナツ形状を有する部分分離絶縁膜4の内周側に位置する活性領域30の半導体基板1への投影面積(D1×D1)と、ドーナツ形状の内周長(4×D1)とP型シリコン層3の厚み(D3)とを乗じて得られた値とが等しい。
上記半導体装置は、埋込み絶縁膜2に達するように形成された「他の素子分離絶縁膜」としての完全分離絶縁膜40をさらに備えている。完全分離絶縁膜40は、活性領域30上における部分分離絶縁膜4のアレイ端部に隣接する位置に設けられている。
本実施の形態によれば、上述した構成により、寄生容量が小さく、電流集中の発生が抑制された保護素子を有する半導体装置が得られる。
本実施の形態では、NP型ダイオード素子の例について説明したが、PN型ダイオード素子についても、N型/P型を入れ替えるのみで、上記と同様に形成可能である。また、電流/電圧特性に関しても、NP型ダイオード素子の場合とほぼ同じ結果となる。
(実施の形態2)
図12は、実施の形態2に係る半導体装置であるNP型ダイオード素子の鳥瞰模式図である。図12を参照して、本実施の形態に係る半導体装置においては、アレイ配置された複数のダイオード素子間に、完全分離絶縁膜40が設けられている。
図12は、実施の形態2に係る半導体装置であるNP型ダイオード素子の鳥瞰模式図である。図12を参照して、本実施の形態に係る半導体装置においては、アレイ配置された複数のダイオード素子間に、完全分離絶縁膜40が設けられている。
ところで、SOI基板上に形成されたMOS型半導体素子や横型ダイオード素子が、高速および大電流駆動されると、それらの素子の自己発熱により特性の劣化や破壊に至ることがある。これは、SOI層の下層に、熱伝導率が低い埋込み絶縁膜2があり、効率よく放熱することができないためである。これに対し、シリコン基板1は、熱伝導率が比較的高いため、埋込み絶縁膜2を通過してシリコン基板1に達する放熱経路を設けることで、放熱性を良くすることができる。
本実施の形態に係るダイオード素子では、図13に示すように、完全分離絶縁膜40が形成された後、その完全分離絶縁膜40および埋込み絶縁膜2の一部に、シリコン基板1に達する開口が設けられる。次に、表面に露出しているシリコンに対して、シリサイド膜1Sが形成される。そして、シリサイド膜1Sに接続されるプラグ1Pが形成される。上層配線5Wは、プラグ1P,5Pの双方に接続される。これにより、ダイオード素子で生じる熱をシリコン基板1に逃がす放熱経路が得られる。この結果、ESD保護耐性の向上が期待される。
このように、本実施の形態によれば、簡易な素子作製フローにより、ESD保護耐性の向上を図ることができる。
上述した内容について要約すると、以下のようになる。すなわち、本実施の形態に係る半導体装置において、埋込み絶縁膜2の下層に位置する半導体基板1は、P型の半導体基板である。そして、上記半導体装置は、P型拡散層5と半導体基板1とを電気的に接続する「接続部」としてのプラグ1Pをさらに備えている。
(実施の形態3)
図14は、実施の形態3に係る半導体装置であるNP型ダイオード素子の断面模式図である。図14を参照して、本実施の形態に係る半導体装置は、実施の形態2に係る半導体装置の変形例である。本実施の形態に係る半導体装置において、P型拡散層5と半導体基板1とを電気的に接続する「接続部」はプラグ5Pである。プラグ5Pは、「第1高濃度不純物領域」としてのP型拡散層5と半導体基板1とに接続される「シェアードコンタクト」である。
図14は、実施の形態3に係る半導体装置であるNP型ダイオード素子の断面模式図である。図14を参照して、本実施の形態に係る半導体装置は、実施の形態2に係る半導体装置の変形例である。本実施の形態に係る半導体装置において、P型拡散層5と半導体基板1とを電気的に接続する「接続部」はプラグ5Pである。プラグ5Pは、「第1高濃度不純物領域」としてのP型拡散層5と半導体基板1とに接続される「シェアードコンタクト」である。
このように、ダイオード素子で生じる熱をシリコン基板1に逃がす放熱経路をシェアードコンタクトで形成することで、半導体装置の小型化を図ることができる。
図15は、上記半導体装置の変形例であるPN型ダイオード素子の断面模式図である。図15を参照して、本変形例においては、シリコン基板1上にN型のウエル層1Nが形成される。ウエル層1Nは、埋込み絶縁膜2上にN型シリコン層3Nを形成する際に、同じ工程にて形成することが可能である。
完全分離絶縁膜40および埋込み絶縁膜2の一部に、シリコン基板1に達する開口が設けられる。次に、表面に露出しているシリコンに対して、シリサイド膜1Sが形成される。本変形例において、N型拡散層6と半導体基板1とを電気的に接続する「接続部」は、「第1高濃度不純物領域」としてのN型拡散層6と半導体基板1とに接続される「シェアードコンタクト」であるプラグ6Pである。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、上述した各実施の形態の特徴部分を適宜組合わせることは、当初から予定されている。また、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 シリコン基板、1N N型シリコン層、1P,5P,6P プラグ、1S,5S,6S シリサイド膜、2 埋込み絶縁膜、3 P型シリコン層、3A 凹部、3N N型シリコン層、4 部分分離絶縁膜、5 P型拡散層、5W,6W 上層配線、6 N型拡散層、30 活性領域、40 完全分離絶縁膜、41 SiO2膜、42 SiN膜、RM,RM2 レジストマスク。
Claims (7)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された埋込み絶縁膜と、
前記埋込み絶縁膜上に形成された活性領域と、
前記埋込み絶縁膜との間に前記活性領域を残すように、該活性領域の表層部分に埋込まれた素子分離絶縁膜と、
前記活性領域に形成されたダイオード素子とを備え、
前記ダイオード素子は、
前記活性領域における前記素子分離絶縁膜の下層に位置する部分に形成される第1または第2導電型の低濃度不純物領域と、
前記埋込み絶縁膜に達し、前記素子分離絶縁膜および前記低濃度不純物領域を挟むように形成された、第1導電型の第1高濃度不純物領域および第2導電型の第2高濃度不純物領域とを有する、半導体装置。 - 前記活性領域上において、前記素子分離絶縁膜がアレイ状に配置される、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板の主表面上から見た前記素子分離絶縁膜はドーナツ形状を有し、
ドーナツ形状を有する前記素子分離絶縁膜の内周側に位置する前記活性領域の前記半導体基板への投影面積と、
前記ドーナツ形状の内周長と前記低濃度不純物領域の厚みとを乗じて得られた値とが等しい、請求項2に記載の半導体装置。 - 前記活性領域上における前記素子分離絶縁膜のアレイ端部に隣接する位置に設けられ、前記埋込み絶縁膜に達するように形成された他の素子分離絶縁膜をさらに備えた、請求項1から請求項3のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記素子分離絶縁膜の幅が0.1μm以下である、請求項1から請求項4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記埋込み絶縁膜の下層に位置する前記半導体基板は第1導電型の半導体基板であり、
前記第1高濃度不純物領域と前記半導体基板とを電気的に接続する接続部をさらに備えた、請求項1から請求項5のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記接続部は、前記第1高濃度不純物領域と前記半導体基板とに接続されるシェアードコンタクトである、請求項6に記載の半導体装置。
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JP2005247699A JP2007066972A (ja) | 2005-08-29 | 2005-08-29 | 半導体装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014508402A (ja) * | 2011-01-24 | 2014-04-03 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | Soi基板の活性層内に形成されるデバイス構造体、製造する方法、及び、集積回路の設計構造体 |
-
2005
- 2005-08-29 JP JP2005247699A patent/JP2007066972A/ja not_active Withdrawn
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