JP2007063200A - ポリイソシアネートの製造方法およびポリイソシアネートの製造装置 - Google Patents
ポリイソシアネートの製造方法およびポリイソシアネートの製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007063200A JP2007063200A JP2005252581A JP2005252581A JP2007063200A JP 2007063200 A JP2007063200 A JP 2007063200A JP 2005252581 A JP2005252581 A JP 2005252581A JP 2005252581 A JP2005252581 A JP 2005252581A JP 2007063200 A JP2007063200 A JP 2007063200A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- sulfuric acid
- polyisocyanate
- chlorine
- dehydration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
【解決手段】 ニトロ化槽2で芳香族系原料をニトロ化した後、ポリアミン製造槽3でこれを還元してポリアミンを製造する一方、塩化カルボニル製造槽4で塩素と一酸化炭素とを反応させて塩化カルボニルを製造し、ポリイソシアネート製造槽5で塩化カルボニルとポリアミンとを反応させてポリイソシアネートを得る。次いで、塩化水素酸化槽8で副生した塩化水素ガスを酸化して塩素および水の混合物を生成させた後、脱水槽9でこれを硫酸で脱水し、脱水に用いた硫酸をニトロ化槽2でのニトロ化に用いるとともに、脱水槽9で乾燥した塩素を塩化カルボニル製造槽4での塩化カルボニルの製造に用いる。
【選択図】 図1
Description
このような反応においては、ポリアミンから、対応するポリイソシアネートが生成されるとともに、大量の塩化水素ガスが副生する。
そして、副生した塩化水素ガスを酸化して、塩素を工業的に製造することが提案されている(例えば、特許文献1および特許文献2参照。)。
脱水に用いる硫酸の濃度は、例えば、97重量%以上の高濃度であることが、脱水効率の向上を図る上で好ましいが、そのような高濃度に濃縮して、再度循環使用しようとすると、濃縮のための工数がかかり、コストの上昇を招く。他方、乾燥に用いた硫酸を循環使用せずに、そのまま廃棄すると、硫酸の消費が多大となって、やはり、コストの上昇が不可避となる。
また、本発明のポリイソシアネートの製造方法において、脱水工程では、混合物および硫酸を脱水槽へ連続的に供給し、脱水槽内で連続的に接触させた後、水を吸収した硫酸を連続的に排出するようにしており、脱水工程における硫酸の単位時間あたりの供給量を、ニトロ化工程における硫酸の単位時間あたりの損失量に対応させることが好適である。
また、本発明のポリイソシアネートの製造方法では、脱水工程において、脱水槽へ供給する硫酸の濃度が97重量%以上であることが好適である。
また、本発明のポリイソシアネートの製造方法では、脱水工程において得られた塩素を、塩化カルボニル製造工程において、一酸化炭素と反応させて塩化カルボニルを得ることが好適である。
脱水工程において得られた塩素を、塩化カルボニル製造工程において、一酸化炭素と反応させて塩化カルボニルを得るようにすれば、塩素を系外に排出することなく、循環使用することができるので、副生した塩化水素を、有効利用することができると同時に、環境への負荷を低減することができる。
また、本発明のポリイソシアネートの製造装置において、脱水槽において得られた塩素を、塩化カルボニル製造槽において、一酸化炭素と反応させて塩化カルボニルを得るために、脱水槽から塩化カルボニル製造槽へ塩素を供給するための塩素供給ラインを備えていることが好適である。
図1において、このポリイソシアネートの製造装置1は、ニトロ化槽2と、ポリアミン製造槽3と、塩化カルボニル製造槽4と、ポリイソシアネート製造槽5と、塩化水素精製塔6と、塩化水素吸収塔7と、塩化水素酸化槽8と、脱水槽9と、これらを接続するための接続ライン(配管)10と、硫酸供給ライン11と、塩素供給ライン12とを備えている。
ニトロ化槽2には、芳香族原料および硝酸が連続的に供給されるとともに、ニトロ化工程で循環使用される硫酸が連続的に供給され、さらに、ニトロ化工程における硫酸の単位時間あたりの損失量に対応する量の硫酸が後述する脱水槽9から連続的に供給される。
ニトロ化工程での損失量に対応して補填される硫酸は、例えば、60〜100重量%、好ましくは、70〜98重量%の硫酸(水溶液)であって、後述するように、脱水槽9から硫酸供給ライン11を介して連続的に供給される。
生成したニトロ化芳香族化合物は、廃酸中に分散されるので、ニトロ化芳香族化合物と廃酸とを、液―液分離して、ニトロ化芳香族化合物から廃酸を分離する。分離後の廃酸は、循環して、再度ニトロ化に用いるが、この分離において、ニトロ化芳香族化合物から分離できなかった廃酸が、損失(ロス)となる。また、廃酸を循環使用するに際しては、ニトロ化生成水および持ち込み水に相当する水分を系内もしくは系外で濃縮除去し、例えば、60〜95重量%程度の硫酸濃度に濃縮して再使用するが、この濃縮の際にも損失が発生する。これらの損失の合計は、硫酸の場合には、硫酸全体に対して、その損失量が、例えば、0.01〜1重量%/hとなる。
水素添加触媒は、特に制限されず、Ni、Mo、Fe、Co、Cu、Pt、Pd、Rhなどの金属を含有する公知の触媒から適宜選択することができる。工業的には、好ましくは、パラジウムカーボン触媒やラネーニッケル触媒が用いられる。水素添加触媒の使用量は、特に制限されないが、例えば、供給されるニトロ化芳香族化合物100重量部/hに対して、例えば、0.001〜1重量部、好ましくは、0.01〜0.1重量部である。
そして、ポリアミン製造槽3には、ニトロ化槽2から接続ライン10を介してニトロ化芳香族化合物が連続的に供給される。すると、ニトロ化芳香族化合物のニトロ基がアミノ基に還元される(ポリアミン製造工程)。このポリアミン製造工程では、ポリアミン製造槽3を、例えば、20〜250℃、好ましくは、50〜200℃で、0〜10MPa−ゲージ、好ましくは、0.1〜7MPa−ゲージに設定する。
一方、ニトロ化芳香族化合物がニトロベンゼンである場合には、アニリンが生成される。ニトロ化芳香族化合物がニトロベンゼンである場合、つまり、芳香族原料としてベンゼンを用いる場合には、ポリアミン製造槽3は、さらに、アニリンとホルムアルデヒドとを縮合させて、ポリメチレンポリフェニルポリアミンを製造するための縮合槽を、反応槽の下流側に備えている。
ホルムアルデヒドは、アニリン1モルに対して、例えば、0.3〜0.6モル、好ましくは、0.4〜0.5モルとなる割合で、連続的に供給される。
そして、縮合槽には、アニリンが連続的に供給される。すると、塩酸下、アニリンとホルムアルデヒドとが縮合して、ポリアミンとして、ポリメチレンポリフェニルポリアミン(MDA)が生成する。
塩化カルボニル製造槽4は、塩素(Cl2)と一酸化炭素(CO)とを反応させて、塩化カルボニル(COCl2)を製造するための反応槽であれば、特に制限されず、例えば、活性炭触媒を充填した固定床式反応器などから構成される。また、塩化カルボニル製造槽4は、接続ライン10を介してポリイソシアネート製造槽5と接続されている。
塩素ガスおよび一酸化炭素ガスの供給量は、ポリイソシアネートの製造量や副生する塩化水素ガスの副生量によって、適宜設定される。また、塩素ガスは、後述するように、脱水槽9から塩酸供給ライン12を介して供給される塩素が用いられる。
得られた塩化カルボニルは、塩化カルボニル製造槽4において、適宜、冷却により液化して液化状態としてもよく、適宜の溶媒に吸収させて溶液とすることもできる。得られた塩化カルボニル中の一酸化炭素を除去し、必要に応じて、塩化カルボニル製造槽4に再供給することもできる。
塩化カルボニルは、塩化カルボニル製造槽4から、ガスのまま、あるいは、上記したように、液化状態や溶液状態で、ポリアミンに対して、1〜60モル過剰となる割合で、供給される。
溶媒としては、特に制限されないが、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、例えば、クロロトルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、例えば、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル類、例えば、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。好ましくは、クロロベンゼンまたはジクロロベンゼンが挙げられる。
例えば、ポリアミンがトルエンジアミン(TDA)である場合には、ポリイソシアネートとして、トリレンジイソシアネート(TDI)が提供され、ポリアミンがポリメチレンポリフェニルポリアミン(MDA)である場合には、ポリイソシアネートとして、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート(MDI)が提供される。
塩化水素精製塔6は、副生した塩化水素ガスを、飛沫同伴する溶媒や塩化カルボニルと分離して精製できれば、特に制限されず、例えば、凝縮器を装備したトレー塔や充填塔などから構成される。また、塩化水素精製塔6は、接続ライン10を介して、塩化水素酸化槽8に接続されている。
塩化水素精製塔6において、好ましくは、塩化水素ガス中の有機物の濃度を、1重量%以下、好ましくは、100ppm以下にし、かつ、塩化水素ガス中の一酸化炭素の濃度を、10容量%以下、好ましくは、5容量%以下にする。塩化水素ガス中の不純物を、このレベルに低減することにより、後述する塩化水素酸化反応において、触媒の活性低下や部分失活等の触媒に対する悪影響を低減または予防することができる。その結果、原単位の向上や塩化水素酸化反応や反応器における温度分布の均一化などを達成することができ、反応器を安定化させることができる。さらに、塩化水素ガスの塩素への転換率を向上させることができる。
塩化水素酸化槽8は、塩化水素ガスを酸化して、塩素(Cl2)を製造するための反応槽であれば、特に制限されず、例えば、触媒として酸化クロムを用いる流動床式反応器や、触媒として酸化ルテニウムを用いる固定床式反応器等から構成される。また、塩化水素酸化槽8は、接続ライン10を介して塩化水素吸収塔7に接続されている。
そして、塩化水素酸化槽8では、塩化水素ガスが酸素(O2)によって酸化され、塩素が生成し、水(H2O)が副生する(塩化水素酸化工程)。この酸化反応(塩化水素酸化反応)において、塩化水素の塩素への変換率は、例えば、60%以上、好ましくは、70〜95%である。
塩化水素吸収塔7は、未酸化(未反応)の塩化水素ガス(水の吸収により生成した塩酸を含む。)を水に吸収させて塩酸(塩化水素の水溶液:HClaq)を調製できるものであれば、特に制限されず、公知の吸収塔から構成される。また、塩化水素吸収塔7は、接続ライン10を介して脱水槽9に接続されている。
また、この塩化水素吸収塔7では、得られた塩酸を、そのまま、工業用途として所望する濃度で提供するため、塩化水素吸収塔7へ供給される水量を調整することにより、塩酸の濃度(塩酸中の塩化水素の濃度)を所定濃度に調整している。また、一旦吸収した塩酸を加熱して再び塩化水素ガスを発生させ、その塩化水素を所定量の水で吸収させることによって、塩酸の濃度を調整することもできる。
脱水槽9は、硫酸(H2SO4)と、塩素および水の混合ガスとを、接触させて、混合ガスから水を脱水することができれば、特に制限されず、公知の脱水槽が用いられる。脱水槽9には、硫酸供給ライン11を介して、ニトロ化槽2が接続されており、また、塩素供給ライン12を介して、塩化カルボニル製造槽4が接続されている。
図2において、この脱水塔20は、上下方向に延びる密閉の円筒形状をなし、上段、中段および下段には、互いに間隔を隔てて充填室21が設けられている。充填室21には、ラシヒリングやベルルサドルなどの充填物が充填されている。
また、脱水塔20の下部には、塩化水素吸収塔7に接続されている接続ライン10が接続されている。また、脱水塔20の上部には、硫酸を流下させるための硫酸流下ライン22が接続されている。また、塔底には、硫酸供給ライン11が接続されるとともに、塔頂には、塩素供給ライン12が接続されている。
これによって、硫酸が流下して混合ガスと連続的に向流状態で接触し、特に各充填室21において効率よく気−液接触し、混合ガス中の水分を吸収して脱水する(脱水工程)。混合ガスの脱水によって得られた塩素ガスは、塩素供給ライン12へ連続的に排出される。
なお、脱水塔20内は、硫酸による水分の吸収によって発熱するが、この脱水塔20では、下部循環ライン23および上部循環ライン25において、硫酸水溶液を一部循環しており、下部循環ライン23および上部循環ライン25にそれぞれ介在されている冷却器24によって、脱水塔20内の温度を、例えば、0〜60℃、好ましくは、10〜40℃に制御している。
また、脱水槽9から塩素供給ライン12へ排出され、脱水により乾燥した塩素は、塩素供給ライン12を介して塩化カルボニル製造槽4へ供給され、塩化カルボニルを製造するための原料として用いられる。
そして、このポリイソシアネートの製造装置1では、脱水槽9において、脱水に用いた硫酸を、ニトロ化槽2における芳香族系原料のニトロ化に用いるので、脱水に用いた硫酸の有効利用を図ることができ、ポリイソシアネートの製造コストの低減を図ることができる。
一方、脱水後の硫酸は、水を吸収して70〜80重量%となるため、これを再度97重量%以上に濃縮して循環使用しようとすると、96重量%に濃縮する場合に比べて、濃縮のための工数が格段にかかり、コストの上昇を招く。他方、脱水後の硫酸を循環使用せずに、そのまま廃棄すると、硫酸の消費が多大となって、やはりコストの上昇が不可避となる。
また、このポリイソシアネートの製造装置1では、脱水槽9において、硫酸流下ライン22からの硫酸の単位時間あたりの供給量を、ニトロ化槽2における硫酸の損失量に対応するように調整しているので、ニトロ化槽2において、硫酸を追加する必要がなく、硫酸のより一層の有効利用を図ることができる。
2 ニトロ化槽
3 ポリアミン製造層
4 塩化カルボニル製造槽
5 ポリイソシアネート製造槽
8 塩化水素酸化槽
9 脱水槽
11 硫酸供給ライン
12 塩素供給ライン
Claims (6)
- 芳香族系原料を、硫酸および硝酸を用いてニトロ化することにより、芳香族系原料の芳香環にニトロ基を導入するニトロ化工程と、
ニトロ化工程において芳香族系原料の芳香環に導入されたニトロ基をアミノ基に還元してポリアミンを得るポリアミン製造工程と、
塩素と一酸化炭素とを反応させて塩化カルボニルを得る塩化カルボニル製造工程と、
塩化カルボニル製造工程において得られた塩化カルボニルと、ポリアミン製造工程において得られたポリアミンと、を反応させてポリイソシアネートを得るポリイソシアネート製造工程と、
ポリイソシアネート製造工程において副生した塩化水素を酸化して、塩素および水の混合物を得る塩化水素酸化工程と、
塩化水素酸化工程において得られた混合物を硫酸と接触させて、混合物を脱水することにより、塩素を得る脱水工程とを備え、
脱水工程で用いた硫酸を、ニトロ化工程で用いることを特徴とする、ポリイソシアネートの製造方法。 - 脱水工程では、混合物および硫酸を脱水槽へ連続的に供給し、脱水槽内で連続的に接触させた後、水を吸収した硫酸を連続的に排出するようにしており、
脱水工程における硫酸の単位時間あたりの供給量を、ニトロ化工程における硫酸の単位時間あたりの損失量に対応させることを特徴とする、請求項1に記載のポリイソシアネートの製造方法。 - 脱水工程において、脱水槽へ供給する硫酸の濃度が97重量%以上であることを特徴とする、請求項2に記載のポリイソシアネートの製造方法。
- 脱水工程において得られた塩素を、塩化カルボニル製造工程において、一酸化炭素と反応させて塩化カルボニルを得ることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のポリイソシアネートの製造方法。
- 芳香族系原料を、硫酸および硝酸を用いてニトロ化することにより、芳香族系原料の芳香環にニトロ基を導入するニトロ化槽と、
ニトロ化槽において芳香族系原料の芳香環に導入されたニトロ基をアミノ基に還元してポリアミンを得るポリアミン製造槽と、
塩素と一酸化炭素とを反応させて塩化カルボニルを得る塩化カルボニル製造槽と、
塩化カルボニル製造槽において得られた塩化カルボニルと、ポリアミン製造槽において得られたポリアミンと、を反応させてポリイソシアネートを得るポリイソシアネート製造槽と、
ポリイソシアネート製造槽において副生した塩化水素を酸化して、塩素および水の混合物を得る塩化水素酸化槽と、
塩化水素酸化槽において得られた混合物を硫酸と接触させて、混合物を脱水することにより、塩素を得る脱水槽と、
脱水槽で用いた硫酸をニトロ化槽で用いるために、脱水槽からニトロ化槽へ硫酸を供給するための硫酸供給ラインと
を備えていることを特徴とする、ポリイソシアネートの製造装置。 - 脱水槽において得られた塩素を、塩化カルボニル製造槽において、一酸化炭素と反応させて塩化カルボニルを得るために、脱水槽から塩化カルボニル製造槽へ塩素を供給するための塩素供給ラインを備えていることを特徴とする、請求項5に記載のポリイソシアネートの製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005252581A JP4791783B2 (ja) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | ポリイソシアネートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005252581A JP4791783B2 (ja) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | ポリイソシアネートの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007063200A true JP2007063200A (ja) | 2007-03-15 |
JP4791783B2 JP4791783B2 (ja) | 2011-10-12 |
Family
ID=37925791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005252581A Active JP4791783B2 (ja) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | ポリイソシアネートの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4791783B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007326854A (ja) * | 2006-05-13 | 2007-12-20 | Bayer Materialscience Ag | 塩素とイソシアネート類の結合製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275001A (ja) * | 1986-02-21 | 1987-11-30 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 塩素の工業的製造方法 |
JPH0952873A (ja) * | 1995-08-04 | 1997-02-25 | Bayer Ag | トルイレンジイソシアネートの製造方法、トルイレンジアミンと水の特定の混合物、及びトルイレンジイソシアネートを製造するための混合物の使用 |
JP2001516333A (ja) * | 1995-12-28 | 2001-09-25 | イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 塩素再循環を利用したイソシアネート製造 |
WO2004014845A1 (de) * | 2002-08-02 | 2004-02-19 | Basf Aktiengesellschaft | Integriertes verfahren zur herstellung von isocyanaten |
WO2006095761A1 (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-14 | Mitsui Chemicals Polyurethanes, Inc. | ポリイソシアネートの製造方法およびポリイソシアネートの製造装置 |
JP2006282642A (ja) * | 2005-04-05 | 2006-10-19 | Mitsui Chemicals Polyurethanes Inc | ポリイソシアネート製造装置 |
JP2006282660A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-10-19 | Mitsui Chemicals Polyurethanes Inc | ポリイソシアネートの製造方法およびポリイソシアネートの製造装置 |
-
2005
- 2005-08-31 JP JP2005252581A patent/JP4791783B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275001A (ja) * | 1986-02-21 | 1987-11-30 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 塩素の工業的製造方法 |
JPH0952873A (ja) * | 1995-08-04 | 1997-02-25 | Bayer Ag | トルイレンジイソシアネートの製造方法、トルイレンジアミンと水の特定の混合物、及びトルイレンジイソシアネートを製造するための混合物の使用 |
JP2001516333A (ja) * | 1995-12-28 | 2001-09-25 | イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 塩素再循環を利用したイソシアネート製造 |
WO2004014845A1 (de) * | 2002-08-02 | 2004-02-19 | Basf Aktiengesellschaft | Integriertes verfahren zur herstellung von isocyanaten |
WO2006095761A1 (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-14 | Mitsui Chemicals Polyurethanes, Inc. | ポリイソシアネートの製造方法およびポリイソシアネートの製造装置 |
JP2006282660A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-10-19 | Mitsui Chemicals Polyurethanes Inc | ポリイソシアネートの製造方法およびポリイソシアネートの製造装置 |
JP2006282642A (ja) * | 2005-04-05 | 2006-10-19 | Mitsui Chemicals Polyurethanes Inc | ポリイソシアネート製造装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007326854A (ja) * | 2006-05-13 | 2007-12-20 | Bayer Materialscience Ag | 塩素とイソシアネート類の結合製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4791783B2 (ja) | 2011-10-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5216198B2 (ja) | イソシアネートの製造方法 | |
CN101070292B (zh) | 联合生产氯和异氰酸酯的方法 | |
JP2009196991A (ja) | イソシアネートの製造方法 | |
JP4785515B2 (ja) | 塩素の製造方法 | |
JP2009537453A (ja) | 塩化水素および酸素からの塩素製造方法 | |
KR101429417B1 (ko) | 폴리이소시아네이트의 제조 방법 및 폴리이소시아네이트의 제조 장치 | |
JP2006219369A (ja) | 塩素の製造方法 | |
JP4791783B2 (ja) | ポリイソシアネートの製造方法 | |
RU2518110C1 (ru) | Способ преобразования ароматического нитросоединения в амины | |
CN109641175B (zh) | 制备异氰酸酯的方法 | |
US9290438B2 (en) | Method for starting a reaction during the production of aromatic amines from nitroaromatics |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080219 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20101125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110719 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110722 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140729 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4791783 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |