JP2007059802A - ウエーハの加工方法およびウエーハの加工方法に用いる粘着テープ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数のストリートによって区画された複数の領域に複数のデバイスが形成されたウエーハの加工方法であって、表面に粘着層が形成さているとともに複数の貫通細孔を備えた粘着テープの外周部表面を環状のフレームの開口部を覆うように装着する粘着テープ装着工程と、環状のフレームに装着された被加工物を吸引保持するチャックテーブル上に載置するとともに環状のフレームを固定するフレーム固定工程と、粘着テープを吸引保持領域に吸引保持するとともに、ウエーハを吸引して粘着テープの表面に貼着せしめるウエーハ貼着工程と、ウエーハをストリートに沿って加工する加工工程とを含む。
【選択図】図6
Description
表面に粘着層が形成さているとともに複数の貫通細孔を備えた粘着テープの外周部表面を環状のフレームの開口部を覆うように装着する粘着テープ装着工程と、
該環状のフレームに装着された該粘着テープにおけるウエーハ貼着領域の裏面を加工装置の被加工物を吸引保持するチャックテーブル上に載置するとともに、該環状のフレームを該チャックテーブルに配設されたクランプによって固定するフレーム固定工程と、
該チャックテーブルに載置された該粘着テープにおけるウエーハ貼着領域の表面にウエーハを載置し、該チャックテーブルの吸引保持領域に吸引力を作用して該粘着テープを吸引保持領域に吸引保持するとともに、ウエーハを吸引して該粘着テープの表面に貼着せしめるウエーハ貼着工程と、
該チャックテーブルの吸引保持領域に吸引保持された該粘着テープの表面に貼着せしめられているウエーハを該加工装置の加工手段によってストリートに沿って加工する加工工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハの加工方法が提供される。
合成樹脂シートの表面に粘着層が形成さているとともに、合成樹脂シートおよび粘着層を貫通する複数の貫通細孔を備えている粘着テープが提供される。
ここで、半導体ウエーハ10をストリート101に沿って加工する加工装置としての切削装置について、図2を参照して説明する。
図2に示された切削装置1は、静止基台2と、該静止基台2に加工送り方向である矢印Xで示す方向に移動可能に配設され被加工物を保持するチャックテーブル機構3と、静止基台2に割り出し送り方向である矢印Yで示す方向(加工送り方向である矢印Xで示す方向に直交する方向)に移動可能に配設されたスピンドル支持機構6と、該スピンドル支持機構6に切り込み送り方向である矢印Zで示す方向に移動可能に配設された切削手段(加工手段)としてのスピンドルユニット7が配設されている。
図2および図3に示すチャックテーブル4は、チャックテーブル支持基台52の上面に配設された円筒状の支持筒体55に図3に示すように軸受56を介して回転可能に支持されている。チャックテーブル4は、図3に示すように円柱状の本体41と、該本体41の上面に配設されポーラスなセラミックス等の多孔性部材によって形成された吸着チャック42とからなっている。本体41はステンレス鋼等の金属材によって形成されており、その上面には円形の嵌合凹部411が設けられている。この嵌合凹部411には、底面の外周部に吸着チャック42が載置される環状の載置棚412が設けられている。また、本体41には嵌合凹部411に開口する吸引通路413が設けられており、この吸引通路413は図示しない吸引手段に連通されている。従って、図示しない吸引手段が作動すると、吸引通路413を通して嵌合凹部411に負圧が作用せしめられる。このように構成されたチャックテーブル4は、図示しない回転駆動手段によって適宜回動せしめられるように構成されている。
先ず、表面に粘着層が形成さているとともに複数の貫通細孔を備えた粘着テープの外周部表面を環状のフレームの開口部を覆うように装着する粘着テープ装着工程を実施する。即ち、図4の(a)に示すように粘着テープ11の外周部110表面を環状のフレーム12の開口部を覆うように装着する。粘着テープ11は、図4の(b)に示すようにポリオレフィンまたは塩化ビニール等の合成樹脂シート111の表面111aに粘着層112が形成されているとともに、レーザー加工等によって合成樹脂シート111および粘着層112を貫通する複数の貫通細孔113が設けられている。
2:静止基台
3:チャックテーブル機構
4:チャックテーブル
41:チャックテーブルの本体
42:吸着チャック
43:クランプ
5:チャックテーブル移動機構
53:加工送り手段
6:スピンドル支持機構
63:割り出し送り手段
7:スピンドルユニット
72:スピンドルハウジング
73:回転スピンドル
74:切削ブレード
77:撮像手段
78:切込み送り手段
10:半導体ウエーハ
101:ストリート
102;デバイス
11:粘着テープ
111:合成樹脂シート
112:粘着層
113:細孔
12:環状のフレーム
Claims (2)
- 表面に複数のストリートが格子状に形成されているとともに該複数のストリートによって区画された複数の領域に複数のデバイスが形成されたウエーハの加工方法であって、
表面に粘着層が形成さているとともに複数の貫通細孔を備えた粘着テープの外周部表面を環状のフレームの開口部を覆うように装着する粘着テープ装着工程と、
該環状のフレームに装着された該粘着テープにおけるウエーハ貼着領域の裏面を加工装置の被加工物を吸引保持するチャックテーブル上に載置するとともに、該環状のフレームを該チャックテーブルに配設されたクランプによって固定するフレーム固定工程と、
該チャックテーブルに載置された該粘着テープにおけるウエーハ貼着領域の表面にウエーハを載置し、該チャックテーブルの吸引保持領域に吸引力を作用して該粘着テープを吸引保持領域に吸引保持するとともに、ウエーハを吸引して該粘着テープの表面に貼着せしめるウエーハ貼着工程と、
該チャックテーブルの吸引保持領域に吸引保持された該粘着テープの表面に貼着せしめられているウエーハを該加工装置の加工手段によってストリートに沿って加工する加工工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハの加工方法。 - 請求項1記載のウエーハの加工方法に用いる粘着テープであって、
合成樹脂シートの表面に粘着層が形成さているとともに、合成樹脂シートおよび粘着層を貫通する複数の貫通細孔を備えている。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011035160A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Hioki Ee Corp | 吸着台および球状体搭載装置 |
JP2011233720A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
JP2012119670A (ja) * | 2010-11-12 | 2012-06-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 半導体ウェハの分割方法及び分割装置 |
JP2013222749A (ja) * | 2012-04-13 | 2013-10-28 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法 |
JP2014011378A (ja) * | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61222146A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-10-02 | Matsushita Electronics Corp | 半導体ウエハ支持装置 |
JPH11111647A (ja) * | 1997-10-06 | 1999-04-23 | Matsushita Electron Corp | 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置 |
JP2001326194A (ja) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | 脆性基板の分割方法 |
-
2005
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61222146A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-10-02 | Matsushita Electronics Corp | 半導体ウエハ支持装置 |
JPH11111647A (ja) * | 1997-10-06 | 1999-04-23 | Matsushita Electron Corp | 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置 |
JP2001326194A (ja) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | 脆性基板の分割方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011035160A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Hioki Ee Corp | 吸着台および球状体搭載装置 |
JP2011233720A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
JP2012119670A (ja) * | 2010-11-12 | 2012-06-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 半導体ウェハの分割方法及び分割装置 |
JP2013222749A (ja) * | 2012-04-13 | 2013-10-28 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法 |
JP2014011378A (ja) * | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法 |
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