JP2007059802A - ウエーハの加工方法およびウエーハの加工方法に用いる粘着テープ - Google Patents

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Abstract

【課題】特別なテープ貼着装置を用いることなく、ウエーハを環状のフレームに装着された粘着テープに貼着するとともに、ウエーハを粘着テープに貼着した状態で加工することができるウエーハの加工方法を提供する。
【解決手段】複数のストリートによって区画された複数の領域に複数のデバイスが形成されたウエーハの加工方法であって、表面に粘着層が形成さているとともに複数の貫通細孔を備えた粘着テープの外周部表面を環状のフレームの開口部を覆うように装着する粘着テープ装着工程と、環状のフレームに装着された被加工物を吸引保持するチャックテーブル上に載置するとともに環状のフレームを固定するフレーム固定工程と、粘着テープを吸引保持領域に吸引保持するとともに、ウエーハを吸引して粘着テープの表面に貼着せしめるウエーハ貼着工程と、ウエーハをストリートに沿って加工する加工工程とを含む。
【選択図】図6

Description

本発明は、表面に複数のストリートが格子状に形成されているとともに該複数のストリートによって区画された複数の領域に複数のデバイスが形成されたウエーハの加工方法およびウエーハの加工方法に用いる粘着テープに関する。
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハをストリートに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々の半導体チップを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハもストリートに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のストリートに沿った切断は、通常、ダイサーと称されている切削装置によって行われている。この切削装置は、半導体ウエーハ等の被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削する切削ブレードを備えた切削手段と、チャックテーブルと切削手段とを相対的に移動せしめる加工送り手段とを具備している。切削手段は、回転スピンドルと該スピンドルに装着された切削ブレードおよび回転スピンドルを回転駆動する駆動機構を備えたスピンドルユニットを含んでいる。(例えば、特許文献1参照。)
特開平7−106284号公報
また、上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のウエーハをストリートに沿って分割する方法として、ウエーハに形成されたストリートに沿ってパルスレーザー光線を照射することによりレーザー加工溝を形成し、このレーザー加工溝に沿って破断する方法が提案されている。(例えば、特許文献2参照。)
特開平10−305420号公報
上述したように分割されるウエーハは、個々のチップに分割された後においてもウエーハの形態を維持して次工程に搬送できるように、粘着テープを介して環状のフレームに支持される。
而して、ウエーハを環状のフレームに粘着テープを介して支持するためには、ウエーハと粘着テープと環状のフレームを一体に貼着するための特別なテープ貼着装置が必要となる。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、特別なテープ貼着装置を用いることなく、ウエーハを環状のフレームに装着された粘着テープに貼着するとともに、ウエーハを粘着テープに貼着した状態で加工することができるウエーハの加工方法を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、表面に複数のストリートが格子状に形成されているとともに該複数のストリートによって区画された複数の領域に複数のデバイスが形成されたウエーハの加工方法であって、
表面に粘着層が形成さているとともに複数の貫通細孔を備えた粘着テープの外周部表面を環状のフレームの開口部を覆うように装着する粘着テープ装着工程と、
該環状のフレームに装着された該粘着テープにおけるウエーハ貼着領域の裏面を加工装置の被加工物を吸引保持するチャックテーブル上に載置するとともに、該環状のフレームを該チャックテーブルに配設されたクランプによって固定するフレーム固定工程と、
該チャックテーブルに載置された該粘着テープにおけるウエーハ貼着領域の表面にウエーハを載置し、該チャックテーブルの吸引保持領域に吸引力を作用して該粘着テープを吸引保持領域に吸引保持するとともに、ウエーハを吸引して該粘着テープの表面に貼着せしめるウエーハ貼着工程と、
該チャックテーブルの吸引保持領域に吸引保持された該粘着テープの表面に貼着せしめられているウエーハを該加工装置の加工手段によってストリートに沿って加工する加工工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハの加工方法が提供される。
また、本発明によれば、上記ウエーハの加工方法に用いる粘着テープであって、
合成樹脂シートの表面に粘着層が形成さているとともに、合成樹脂シートおよび粘着層を貫通する複数の貫通細孔を備えている粘着テープが提供される。
本発明によれば、複数の貫通細孔を備えた粘着テープを用いるので、特別なテープ貼着装置を用いることなく加工装置のチャックテーブルの吸引保持領域に吸引力を作用することにより、上記複数の貫通孔を通してウエーハを吸引して粘着テープの表面に貼着せしめることができる。
以下、本発明によるウエーハの加工方法およびウエーハの加工方法に用いる粘着テープの好適な実施形態について、添付図面を参照して更に詳細に説明する。
図1には、本発明によるウエーハの加工方法によって加工されるウエーハとしての半導体ウエーハの斜視図が示されている。図1に示す半導体ウエーハ10は、例えば厚さが700μmのシリコンウエーハからなっており、表面10aには格子状のストリート101が形成されており、この格子状のストリート101によって区画された複数の領域にデバイス102が形成されている。
次に、半導体ウエーハ10をストリート101に沿って分割加工するウエーハの加工方法について説明する。
ここで、半導体ウエーハ10をストリート101に沿って加工する加工装置としての切削装置について、図2を参照して説明する。
図2に示された切削装置1は、静止基台2と、該静止基台2に加工送り方向である矢印Xで示す方向に移動可能に配設され被加工物を保持するチャックテーブル機構3と、静止基台2に割り出し送り方向である矢印Yで示す方向(加工送り方向である矢印Xで示す方向に直交する方向)に移動可能に配設されたスピンドル支持機構6と、該スピンドル支持機構6に切り込み送り方向である矢印Zで示す方向に移動可能に配設された切削手段(加工手段)としてのスピンドルユニット7が配設されている。
上記チャックテーブル機構3は、被加工物を保持するチャックテーブル4と、該チャックテーブル4を支持し矢印Xで示す加工送り方向に移動せしめるチャックテーブル移動機構5とからなっている。チャックテーブル移動機構5は、静止基台2上に矢印Xで示す加工送り方向に沿って平行に配設された共通の一対の案内レール51、51と、該案内レール51、51上に矢印Xで示す加工送り方向に移動可能に配設されたチャックテーブル支持基台52と、該チャックテーブル支持基台52を一対の案内レール51、51に沿って移動せしめる加工送り手段53を具備している。
上記チャックテーブル支持基台52は矩形状に形成され、その下面には上記一対の案内レール51、51と嵌合する被案内溝521、521が形成されている。この被案内溝521、521を一対の案内レール51、51に嵌合することにより、チャックテーブル支持基台52は一対の案内レール51、51に沿って移動可能に配設される。
上記加工送り手段53は、上記一対の案内レール51と51の間に平行に配設された雄ネジロッド531と、該雄ネジロッド531を回転駆動するためのサーボモータ532等の駆動源を含んでいる。雄ネジロッド531は、その一端が上記静止基台2に固定された軸受ブロック533に回転自在に支持されており、その他端が上記サーボモータ532の出力軸に連結されている。なお、雄ネジロッド531は、チャックテーブル支持基台52の中央部に形成された雌ネジ522に螺合されている。従って、サーボモータ532によって雄ネジロッド531を正転および逆転駆動することにより、チャックテーブル支持基台52は案内レール51、51に沿って矢印Xで示す加工送り方向に移動せしめられる。
次に、上記チャックテーブル4について、図2および図3を参照して説明する。
図2および図3に示すチャックテーブル4は、チャックテーブル支持基台52の上面に配設された円筒状の支持筒体55に図3に示すように軸受56を介して回転可能に支持されている。チャックテーブル4は、図3に示すように円柱状の本体41と、該本体41の上面に配設されポーラスなセラミックス等の多孔性部材によって形成された吸着チャック42とからなっている。本体41はステンレス鋼等の金属材によって形成されており、その上面には円形の嵌合凹部411が設けられている。この嵌合凹部411には、底面の外周部に吸着チャック42が載置される環状の載置棚412が設けられている。また、本体41には嵌合凹部411に開口する吸引通路413が設けられており、この吸引通路413は図示しない吸引手段に連通されている。従って、図示しない吸引手段が作動すると、吸引通路413を通して嵌合凹部411に負圧が作用せしめられる。このように構成されたチャックテーブル4は、図示しない回転駆動手段によって適宜回動せしめられるように構成されている。
上記チャックテーブル4を構成する本体41の上部には、環状の溝414が形成されている。この環状の溝414内には4個(図2参照)のクランプ43の基部が配設され、このクランプ43の基部が本体41に適宜の固定手段によって取付けられている。また、支持筒体55の上端には、支持テーブル57が配設されている。
図2を参照して説明を続けると、上記スピンドル支持機構6は、静止基台2上に矢印Yで示す割り出し送り方向に沿って平行に配設された一対の案内レール61、61と、該案内レール61、61上に矢印Yで示す方向に移動可能に配設された可動支持基台62を具備している。この可動支持基台62は、案内レール61、61上に移動可能に配設された移動支持部621と、該移動支持部621に取り付けられた装着部622とからなっている。移動支持部621の下面には案内レール61、61と嵌合する一対の被案内溝621a、621aが形成されており、この被案内溝621a、621aを案内レール61、61に嵌合することにより、可動支持基台62は案内レール61、61に沿って移動可能に構成される。また、装着部622は、一側面に矢印Zで示す方向に延びる一対の案内レール622a、622aが平行に設けられている。
図示の実施形態におけるスピンドル支持機構6は、可動支持基台62を一対の案内レール61、61に沿って矢印Yで示す割り出し送り方向に移動させるための割り出し送り手段63を具備している。割り出し送り手段63は、上記一対の案内レール61、61の間に平行に配設された雄ネジロッド631と、該雄ねじロッド631を回転駆動するためのパルスモータ632等の駆動源を含んでいる。雄ネジロッド631は、その一端が上記静止基台2に固定された図示しない軸受ブロックに回転自在に支持されており、その他端が上記パルスモータ632の出力軸に連結されている。なお、雄ネジロッド631は、可動支持基台62を構成する移動支持部631の中央部下面に突出して設けられた図示しない雌ネジブロックに形成された雌ネジ穴に螺合されている。このため、パルスモータ632によって雄ネジロッド631を正転および逆転駆動することにより、可動支持基台62は案内レール61、61に沿って矢印Yで示す割り出し送り方向に移動せしめられる。
図示の実施形態のおけるスピンドルユニット7は、ユニットホルダ71と、該ユニットホルダ71に取り付けられたスピンドルハウジング72と、該スピンドルハウジング72に回転可能に支持された回転スピンドル73を具備している。ユニットホルダ71は、上記装着部622に設けられた一対の案内レール622a、622aに摺動可能に嵌合する一対の被案内溝71a、71aが設けられており、この被案内溝71a、71aを上記案内レール622a、622aに嵌合することにより、矢印Zで示す切り込み送り方向に移動可能に支持される。上記回転スピンドル73はスピンドルハウジング72の先端から突出して配設されており、この回転スピンドル73の先端部に切削ブレード74が装着されている。切削ブレード74を装着した回転スピンドル73は、サーボモータ75等の駆動源によって回転駆動せしめられる。なお、切削ブレード74の両側には、切削ブレード74による切削部に切削水を供給する切削水供給ノズル76が配設されている。上記スピンドルハウジング72の先端部には、上記チャックテーブル4上に保持された被加工物を撮像し、上記切削ブレード74によって切削すべき領域を検出するための撮像手段77を具備している。この撮像手段77は、顕微鏡やCCDカメラ等の光学手段からなっており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。
図示の実施形態におけるスピンドルユニット7は、ホルダ71を一対の案内レール622a、622aに沿って矢印Zで示す方向に移動させるための切込み送り手段78を具備している。切込み送り手段78は、上記加工送り手段53および割り出し送り手段63と同様に案内レール622a、622a の間に配設された雄ネジロッド(図示せず)と、該雄ネジロッドを回転駆動するためのパルスモータ782等の駆動源を含んでおり、パルスモータ782によって図示しない雄ネジロッドを正転および逆転駆動することにより、ユニットホルダ71とスピンドルハウジング72および回転スピンドル73を案内レール622a、622a に沿って矢印Zで示す切り込み送り方向に移動せしめる。
図示の実施形態における切削装置1は以上のように構成されており、以下、切削装置1を用いて上記半導体ウエーハ10をストリート101に沿って切削する加工方法について説明する。
先ず、表面に粘着層が形成さているとともに複数の貫通細孔を備えた粘着テープの外周部表面を環状のフレームの開口部を覆うように装着する粘着テープ装着工程を実施する。即ち、図4の(a)に示すように粘着テープ11の外周部110表面を環状のフレーム12の開口部を覆うように装着する。粘着テープ11は、図4の(b)に示すようにポリオレフィンまたは塩化ビニール等の合成樹脂シート111の表面111aに粘着層112が形成されているとともに、レーザー加工等によって合成樹脂シート111および粘着層112を貫通する複数の貫通細孔113が設けられている。
次に、上記図4の(a)に示すように環状のフレーム12に装着された粘着テープ11におけるウエーハ貼着領域の裏面をチャックテーブルに載置するとともに、環状のフレーム12をチャックテーブルに配設されたクランプによって固定するフレーム固定工程を実施する。即ち、図5に示すように環状のフレーム12に装着された粘着テープ11におけるウエーハ貼着領域115の裏面115bをチャックテーブル4の吸着チャック42上に載置するとともに、環状のフレーム12をクランプ43によって固定する。
上述したフレーム固定工程を実施したならば、図6の(a)に示すようにチャックテーブル4に載置された粘着テープ11におけるウエーハ貼着領域115の表面115aにウエーハ10を載置し、チャックテーブル4の吸引保持領域に吸引力を作用して粘着テープ11を吸引保持領域に吸引保持するとともに、ウエーハ10を吸引して粘着テープ11のウエーハ貼着領域115の表面115aに貼着せしめるウエーハ貼着工程を実施する。即ち、チャックテーブル4の吸引保持領域である吸着チャック42上に載置された粘着テープ11におけるウエーハ貼着領域115の表面115aに半導体ウエーハ10の裏面10bを載置する。従って、半導体ウエーハ10は、表面10aが上側となる。そして、図示しない吸引手段を作動すると、吸引通路413を通して嵌合凹部411に負圧が作用せしめられ、この結果、多孔性部材によって形成された吸着チャック42の上面(吸引保持領域)に吸引力が作用して、粘着テープ11を吸引保持領域に吸引保持するとともに、図6の(b)に示すように粘着テープ11に設けられた複数の貫通細孔113を通して負圧が半導体ウエーハ10の裏面10bに作用するため半導体ウエーハ10が吸引され粘着テープ11の粘着層112に貼着される。このように、粘着テープ11を用いることにより、特別なテープ貼着装置を用いることなく多孔質粘着テープ11の表面に半導体ウエーハ10を吸引して貼着せしめることができる。
上述したウエーハ貼着工程を実施したならば、加工送り手段53を作動してチャックテーブル4を撮像手段77の直下まで移動せしめる。チャックテーブル4が撮像手段77の直下に位置付けられると、撮像手段77および図示しない制御手段によって半導体ウエーハ10の切削加工すべき加工領域を検出するアライメント作業を実行する。即ち、撮像手段77および図示しない制御手段は、半導体ウエーハ10の所定方向に形成されているストリート101と、ストリート101に沿って切削する切削ブレード74との位置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理を実行し、切削加工すべき加工領域のアライメントを遂行する。また、半導体ウエーハ10に形成されている上記所定方向に対して直交する方向に延びるストリート101に対しても、同様に切削加工すべき加工領域のアライメントが遂行される。
上述したように、半導体ウエーハ10の切削加工すべき加工領域を検出するアライメント作業を実行したならば、チャックテーブル4の吸引保持領域に吸引保持された粘着テープ11の粘着層112に貼着せしめられている半導体ウエーハ10をストリート101に沿って加工する加工工程を実施する。即ち、チャックテーブル4を切削領域に移動し、図7に示すように所定のストリート101の一端を切削ブレード74の直下より図7において僅かに右側に位置付ける。そして、切削ブレード74を回転しつつ切削ブレード74を矢印Z1で示す方向に所定量切り込み送りし、上記加工送り手段53を作動してチャックテーブル4を図7において矢印X1で示す方向に所定の切削送り速度で移動する。なお、上記切り込み送り量は、半導体ウエーハ10の裏面10b(下面)に達する位置に設定されている。そして、チャックテーブル4に保持された半導体ウエーハ10の所定のストリート101の他端が図7に示すように切削ブレード74の直下より僅かに左側に達したら、チャックテーブル4の移動を停止するとともに、切削ブレード74を矢印Z2で示す方向に後退せしめる。この結果、半導体ウエーハ10は、所定のストリート101に沿って切断される。
上述した加工工程を半導体ウエーハ10に所定方向に形成された全てのストリート101に沿って実施したならば、チャックテーブル4を90度回動する。そして、半導体ウエーハ10に上記所定方向と直交する方向に形成された全てのストリート101に沿って上述した加工工程を実施する。この結果、半導体ウエーハ10には、全てのストリート101に沿って切断される。このように、半導体ウエーハ10の全てのストリート101に沿って切断することにより、半導体ウエーハ10は各デバイス毎の半導体チップに分割される。なお、個々に分割された半導体チップは環状のフレーム12に装着された多孔質粘着テープ11に貼着されているので、バラバラにはならずウエーハの形態が維持されている。このようにして分割された個々の半導体チップは、環状のフレーム12に装着された多孔質粘着テープ11に貼着された状態で次工程に搬送される。
以上、本発明を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は実施形態のみに限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲で種々の変形は可能である。例えば、上述した実施形態においては半導体ウエーハ10に形成されたストリート101に沿って切削する例を示したが、本発明は半導体ウエーハ10に形成されたストリート101に沿ってレーザー光線を照射するレーザー加工方法に適用することができる。
本発明によるウエーハの加工方法によって加工される半導体ウエーハの斜視図 本発明によるウエーハの加工方法を実施する切削装置の斜視図。 図2に示す切削装置に装備されるチャックテーブルの要部断面図。 本発明によるウエーハの加工方法における粘着テープ装着工程の説明図。 本発明によるウエーハの加工方法におけるフレーム固定工程の説明図。 本発明によるウエーハの加工方法におけるウエーハ貼着工程の説明図。 本発明によるウエーハの加工方法における加工工程の説明図。
符号の説明
1:切削装置
2:静止基台
3:チャックテーブル機構
4:チャックテーブル
41:チャックテーブルの本体
42:吸着チャック
43:クランプ
5:チャックテーブル移動機構
53:加工送り手段
6:スピンドル支持機構
63:割り出し送り手段
7:スピンドルユニット
72:スピンドルハウジング
73:回転スピンドル
74:切削ブレード
77:撮像手段
78:切込み送り手段
10:半導体ウエーハ
101:ストリート
102;デバイス
11:粘着テープ
111:合成樹脂シート
112:粘着層
113:細孔
12:環状のフレーム

Claims (2)

  1. 表面に複数のストリートが格子状に形成されているとともに該複数のストリートによって区画された複数の領域に複数のデバイスが形成されたウエーハの加工方法であって、
    表面に粘着層が形成さているとともに複数の貫通細孔を備えた粘着テープの外周部表面を環状のフレームの開口部を覆うように装着する粘着テープ装着工程と、
    該環状のフレームに装着された該粘着テープにおけるウエーハ貼着領域の裏面を加工装置の被加工物を吸引保持するチャックテーブル上に載置するとともに、該環状のフレームを該チャックテーブルに配設されたクランプによって固定するフレーム固定工程と、
    該チャックテーブルに載置された該粘着テープにおけるウエーハ貼着領域の表面にウエーハを載置し、該チャックテーブルの吸引保持領域に吸引力を作用して該粘着テープを吸引保持領域に吸引保持するとともに、ウエーハを吸引して該粘着テープの表面に貼着せしめるウエーハ貼着工程と、
    該チャックテーブルの吸引保持領域に吸引保持された該粘着テープの表面に貼着せしめられているウエーハを該加工装置の加工手段によってストリートに沿って加工する加工工程と、を含む、
    ことを特徴とするウエーハの加工方法。
  2. 請求項1記載のウエーハの加工方法に用いる粘着テープであって、
    合成樹脂シートの表面に粘着層が形成さているとともに、合成樹脂シートおよび粘着層を貫通する複数の貫通細孔を備えている。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011035160A (ja) * 2009-07-31 2011-02-17 Hioki Ee Corp 吸着台および球状体搭載装置
JP2011233720A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2012119670A (ja) * 2010-11-12 2012-06-21 Tokyo Seimitsu Co Ltd 半導体ウェハの分割方法及び分割装置
JP2013222749A (ja) * 2012-04-13 2013-10-28 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法
JP2014011378A (ja) * 2012-07-02 2014-01-20 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61222146A (ja) * 1985-02-12 1986-10-02 Matsushita Electronics Corp 半導体ウエハ支持装置
JPH11111647A (ja) * 1997-10-06 1999-04-23 Matsushita Electron Corp 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置
JP2001326194A (ja) * 2000-05-16 2001-11-22 Disco Abrasive Syst Ltd 脆性基板の分割方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61222146A (ja) * 1985-02-12 1986-10-02 Matsushita Electronics Corp 半導体ウエハ支持装置
JPH11111647A (ja) * 1997-10-06 1999-04-23 Matsushita Electron Corp 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置
JP2001326194A (ja) * 2000-05-16 2001-11-22 Disco Abrasive Syst Ltd 脆性基板の分割方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011035160A (ja) * 2009-07-31 2011-02-17 Hioki Ee Corp 吸着台および球状体搭載装置
JP2011233720A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2012119670A (ja) * 2010-11-12 2012-06-21 Tokyo Seimitsu Co Ltd 半導体ウェハの分割方法及び分割装置
JP2013222749A (ja) * 2012-04-13 2013-10-28 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法
JP2014011378A (ja) * 2012-07-02 2014-01-20 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法

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