JP2007053280A - 半導体加熱ヒータ用容器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体を加熱するためのヒータ2を収容支持する容器1であって、ヒータ2を設置する開口部の反対側の底面又は側面に少なくとも一つの貫通孔3を有し、その貫通孔3の直径が容器1の高さよりも小さい。また、各貫通穴3の間の最短距離をA(mm)及び容器1の板厚をB(mm)としたとき、A×B≧1.0の関係式を満たすことが好ましい。容器1を支持台4に設置するとき、容器1と支持台4の間に容器支持足5により空隙を設けることが好ましい。
【選択図】 図4
Description
直径330mm、厚み10mm、焼結助剤であるイットリウム含有量が酸化物換算で0.6重量%の窒化アルミニウム(AlN)基板を準備した。このAlN基板に、Wペーストをスクリーン印刷して発熱体回路を形成した。使用したWペーストは、W粉末にイットリア(Y2O3)を1.0重量%加え、更に有機溶剤とバインダーを加えて、ペースト状にしたものである。これを窒素雰囲気中にて800℃で脱脂処理した後、窒素雰囲気中にて1800℃で焼き付け、ヒータ基板を得た。
上記実施例1における試料7、試料14、試料21、試料28の容器を用い、図4又は図5に図示する方法で容器を支持台上に設置した。即ち、容器と支持台の間に直径4mmの複数のステンレス棒を溶接して容器支持足とし、この容器支持足により容器と支持台の間隔が15mmとなるように容器を設置した。各容器の開口部に上記ヒータを設置し、上記実施例1と同様にして、ウェハの均熱性を測定した。
1a 水平支持縁部
1b 垂直支持足部
2 ヒータ
3、3a 貫通孔
4 支持台
5 容器支持足
Claims (4)
- 半導体を加熱するためのヒータを収容支持する容器であって、その開口部にヒータを設置し、開口部の反対側の底面又は側面に少なくとも一つの貫通孔を有すると共に、貫通孔の直径が容器の高さよりも小さいことを特徴とする半導体加熱ヒータ用容器。
- 前記各貫通穴の間の最短距離をA(mm)及び容器の板厚をB(mm)としたとき、A×B≧1.0の関係式を満たすことを特徴とする、請求項1に記載の半導体加熱ヒータ用容器。
- 前記容器が支持台に設置され、容器と支持台の間に空隙を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の半導体加熱ヒータ用容器。
- 前記容器及びヒータを搭載したことを特徴とする半導体製造装置。
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- 2005-08-19 JP JP2005238227A patent/JP2007053280A/ja active Pending
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