JP2007052429A - 光学ペリクルフレーム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ペリクルフレームの外側表面22及び内側表面24と、フレームを貫いて外側表面から内側表面まで延びる少なくとも1つの通気口26と、フィルター28と、を含んでおり、フィルターは、通気口内に配置されており、フレームの外側表面よりもフレームの内側表面に少なくとも3倍は近接して配置される。
【選択図】図3
Description
好適な実施形態を述べる前に、ペリクル保護フォトマスクの輸送中に発生する周囲の圧力が増減する問題を解決するための先行技術の試みを示している図1を、先ず参照する。ペリクル膜2は、ペリクルフレーム4に取り付けられている。フレーム4は、実質的に水平方向に延びるオリフィスチャネル6を含んでいる。フィルター8は、フレーム4のオリフィスチャネル6内に取り付けられている。代わりに、先行技術の中には(図示せず)、フィルター8を、フレーム4の外側に取り付け、オリフィスチャネル6を覆っているものもある。
詳細な説明
先に述べたように、半導体製造で光学ペリクルを使用すると、埃及び他の粒子による汚染の影響を軽減する助けとなり、このようなペリクルは、業界で広く使用されている。図2は、ペリクルフレーム12、ペリクル膜14、及び保護カバー16を含んでいる本開示の光学ペリクル10の或る実施形態を示している。図示のように、ペリクル膜14は、通常、ペリクルフレーム12の上面18に取り付けられ、保護カバー16は、通常、フレームの底面20に取り付けられている。図3に示しているように、保護カバーは、光学ペリクル10から取り外され、ペリクルフレーム12に貼り付けられたペリクル膜14だけが残される。これにより、次に、フォトマスク(図示せず)をペリクルフレームの底部に取り付けることができるようになる。先に述べたように、この状態のフォトマスクは、写真製版で、汚染粒子の影響を最小限に抑えながら、フォトマスクに表されたパターンをシリコンウェーハへ複写するのに用いられることは良く知られている。
Claims (30)
- 光学ペリクルフレームにおいて、
外側表面及び内側表面と、
前記フレームを貫通して前記外側表面から前記内側表面まで延びている、少なくとも1つの通気口と、
前記通気口内に配置されているフィルターであって、前記フレームの前記外側表面に対するよりも前記フレームの前記内側表面に対して少なくとも3倍近い、フィルターとを備えている光学ペリクルフレーム。 - 前記少なくとも1つの通気口は、第1通気口区画と第2通気口区画を備えており、前記第1通気口区画は、前記第2通気口区画の断面積より大きい断面積を有しており、前記第2通気口区画よりも、前記フレームの前記外側表面近くに配置されている、請求項1に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記第1通気口区画は、前記第2通気口区画より少なくとも3倍長い、請求項2に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記第1通気口区画は、前記第2通気口区画より少なくとも6倍長い、請求項2に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記フィルターの高さは、前記第2通気口区画の長さの少なくとも2倍である、請求項2に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記フィルターの高さは、前記第2通気口区画の長さの少なくとも4倍である、請求項2に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記第1通気口区画の長さは、前記フィルターの高さの少なくとも2倍である、請求項2に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記少なくとも1つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫通して直線状に延びており、前記第1及び第2通気口区画の断面は、実質的に円形である、請求項3に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記少なくとも1つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫いて直線状に延びており、前記第1及び第2通気口区画の断面は、実質的に長方形である、請求項3に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記フィルターの断面積は、前記第1通気口区画の断面積より小さいが、前記第2通気口区画の断面積より大きい、請求項3に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記フィルターの断面積は、前記第1通気口区画の断面積とほぼ同じ大きさである、請求項3に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記第1通気口区画は、前記フィルターを位置決めするためのフィルター座を更に備えている、請求項3に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記フィルターは、少なくとも部分的には前記第1通気口区画内に配置されている、請求項10に記載の光学ペリクルフレーム。
- 前記フィルターと前記フィルター座の間に接着剤層を更に備えている、請求項12に記載の光学ペリクルフレーム。
- 光学ペリクルにおいて、
ペリクルフレームであって、外側表面、内側表面、上面、及び底面と、前記フレームを貫いて前記外側表面から前記内側表面まで延びている、少なくとも1つの通気口と、前記通気口内に配置されている、少なくとも1つのフィルターとを備えており、前記ペリクルフレームの前記通気口の位置における断面は実質的にU字型に形成されており、前記フレームの外側表面から前記内側表面に亘る前記フレームの長さの少なくとも3/4において、前記フレームの上面から前記底面まで連続する面が存在していない、ペリクルフレームと、
前記フレームの前記上面を覆うように形成されているペリクル膜とを備えている光学ペリクル。 - 光学ペリクルにおいて、
ペリクルフレーム、ペリクル膜、及び保護カバーの間の領域の境界を画定している、前記ペリクルフレームであって、外側表面、上面、及び底面と、前記フレームを貫いて前記外側表面から前記境界が画定された領域まで延びている少なくとも1つの通気口と、少なくとも1つのフィルターとを備えており、前記フレームの外側表面から前記フィルターまでの距離は、前記フィルターから前記境界が画定された領域までの距離の少なくとも3倍である、ペリクルフレームと、
前記フレームの上面を覆うように形成されているペリクル膜と、
前記フレームの前記底面が取り付けられている保護カバーとを備えている光学ペリクル。 - 前記少なくとも1つの通気口は、第1通気口区画と第2通気口区画を備えており、前記第1通気口区画は、前記第2通気口区画の断面積より大きい断面積を有しており、前記第2通気口区画よりも、前記フレームの前記外側表面近くに配置されている、請求項15に記載の光学ペリクル。
- 前記第1通気口区画は、前記第2通気口区画より少なくとも3倍長い、請求項17に記載の光学ペリクル。
- 前記第1通気口区画は、前記第2通気口区画より少なくとも6倍長い、請求項17に記載の光学ペリクル。
- 前記フィルターの高さは、前記第2通気口区画の長さの少なくとも2倍である、請求項17に記載の光学ペリクル。
- 前記フィルターの高さは、前記第2通気口区画の長さの少なくとも4倍である、請求項17に記載の光学ペリクル。
- 前記第1通気口区画の長さは、前記フィルターの高さの少なくとも2倍である、請求項17に記載の光学ペリクル。
- 前記少なくとも1つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫いて直線状に延びており、前記第1及び第2通気口区画は、実質的に円筒形をしている、請求項18に記載の光学ペリクル。
- 前記少なくとも1つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫いて直線状に延びており、前記第1及び第2通気口区画は、実質的に長方形プリズム形をしている、請求項18に記載の光学ペリクル。
- 前記少なくとも1つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫いて直線状に延びており、前記第1通気口区画は、実質的に円錐形をしている、請求項18に記載の光学ペリクル。
- 前記フィルターの断面積は、前記第1通気口区画の断面積より小さいが、前記第2通気口区画の断面積より大きい、請求項18に記載の光学ペリクル。
- 前記フィルターの断面積は、前記第1通気口区画の断面積とほぼ同じ大きさである、請求項18に記載の光学ペリクル。
- 前記第1通気口区画は、前記フィルターを位置決めするためのフィルター座を更に備えている、請求項18に記載の光学ペリクル。
- 前記フィルターは、少なくとも部分的には前記第1通気口区画内に配置されている、請求項26に記載の光学ペリクル。
- 前記フィルターと前記フィルター座の間に接着剤層を更に備えている、請求項28に記載の光学ペリクル。
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