JP2007042308A - 摺動子および電子部品 - Google Patents

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Abstract

【課題】 特に、低コストでしかも摺動特性に優れた摺動子および電子部品を提供することを目的としている。
【解決手段】 基板に設けられた導電部を有する摺動面を摺動する摺動子4a,4b,4cにおいて、前記摺動子4a,4b,4cは、基材11と、前記基材11の前記摺動面を摺動する先端部10に設けられた、ロジウムからなる摺動突起12と、を有して構成されることで、前記摺動子4a,4b,4cの製造コストを低く抑えることが出来るとともに、摺動特性を向上させることが出来る。
【選択図】 図2

Description

本発明は、基板と摺動子とが相対的に摺動するエンコーダ等の電子部品に係り、特に、低コストで、摺動特性等に優れる摺動子および電子部品に関する。
下記の特許文献1は、エンコーダ等に使用される摺動接点に関して記載されている。特許文献1では、Ag−Pd−Cu合金で細線に形成した多線束を台材に溶接し、その後、前記多線束の先端をR形状に曲げ加工して、前記摺動接点を形成している(例えば特許文献1の[0006]欄を参照)。
特開平5−275202号公報
しかしながら特許文献1に示す摺動接点には次の問題点があった。
まず、上記のように、Ag−Pd−Cuからなる合金を形成し、その合金を細線に形成して前記多線束を形成しており、このように前記多線束全体を、Ag−Pd−Cu合金で形成していること、さらに、前記多線束を台材に溶接すること等により、前記摺動接点のコストが非常に高くなった。
また、Ag−Pd−Cu合金は、Ag等に比べて硬度が高いものの、ビッカース硬度が270程度であり、摺動接点として十分な硬度を有しておらず、摩耗により摺接面積の増加や、それに伴う摩耗粉への摺動子の乗り上げなどの、摺動特性の劣化が問題となった。
また、特許文献1では、多線束を台材に溶接するが、この溶接時に、前記多線束の根元が変形等しやすいため、製品ごとに摺動特性のばらつきが生じやすいといった問題もあった。
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、低コストでしかも摺動特性等に優れた摺動子および電子部品を提供することを目的としている。
本発明は、基板に設けられた導電部を有する摺動面を摺動する摺動子において、
前記摺動子は、基材と、前記基材の前記摺動面を摺動する先端部に設けられた、ロジウムからなる摺動突起と、を有して構成されることを特徴とするものである。
ロジウムは高価である一方、ビッカース硬度が700程度と非常に高く化学的性質も安定している。本発明では、前記ロジウムからなる摺動突起を、前記摺動子の先端部にのみ部分的に設けることで、耐摩耗性等に代表される摺動特性や接触信頼性を向上させることが出来るとともに、前記基材を低コストの材質で形成できるから、摺動子の製造コストを低く抑えることが可能になる。
本発明では、前記摺動突起は複数設けられていることが、前記導電部との接触信頼性を向上させることができ、また、より前記摺動特性を向上させることができ好ましい。
また本発明では、前記摺動突起は、前記基材に融着されていることが好ましい。これにより、摺動突起が強固に前記基材に取り付けられ、前記摺動突起が摺動時に取れる等の不具合を回避できる。
また本発明では、前記摺動突起は、メタルジェット方式により前記基材に融着されることが、適切且つ簡単に、前記摺動突起を前記基材の表面に融着させることができ好ましい。
また本発明における電子部品は、上記のいずれかに記載された摺動子と、摺動面の少なくとも一部に導電部を有する基板と、を有して成ることを特徴とするものである。
本発明では電子部品の製造コストを低く抑えることができ、しかも摺動特性および接触信頼性を向上させることが可能である。
摺動子を構成する基材の先端にのみ、ロジウムからなる摺動突起を設けることで、摺動子の製造コストを低く抑えることが出来るとともに、摺動特性および接触信頼性を向上させることが出来る。
図1はエンコーダの構成を示す部分正面図である。
図1に示す接点基板1は、絶縁基板2と、前記絶縁基板2上に所定パターンで形成された導電塗膜3とを有して構成される。
前記絶縁基板2は、熱可塑性樹脂基板であることが好ましく、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)にガラス繊維とミネラル(鉱物)を添加して押し出し成形したものを使用する。
前記絶縁基板2の表面に所定パターンで形成された導電塗膜3は印刷形成されたものであり、加熱乾燥工程、熱プレス工程、及び最終加熱工程を経て完全に硬化させられる。
前記導電塗膜3は、リング状にパターン形成されたコモン領域3aと、前記コモン領域3aの内周に沿って所定の間隔を置いて、内方向に凸状にパターン形成されたA相領域3bと、前記コモン領域3aの外周に沿って所定の間隔を置いて外方向に凸状にパターン形成されたB相領域3cとで構成される。
図1に示すように、エンコーダにはコモン摺動子4a、第1摺動子4b及び第2摺動子4cが固定して設けられている。またこれら摺動子4a,4b,4cの後端部は図示しない外部接続部に取り付けられる。
図1に示すエンコーダでは、前記接点基板1が中心1aを軸として回転すると、前記コモン摺動子4aは前記コモン領域3a上を常に摺動し、前記第1摺動子4bは、前記A相領域3b上と前記A相領域3b間の絶縁基板表面を交互に摺動し、また前記第2摺動子4cは、前記B相領域3c上と前記B相領域3c間の絶縁基板表面を交互に摺動する。
図2は、図1に示す各摺動子4a,4b,4cの裏面側(摺接面側)を上にして示した部分斜視図である。図3は図2に示す前記摺動子4a,4b,4cの先端部10を板厚方向から切断した部分拡大断面図である。前記摺動子4a,4b,4cの先端部10は、前記接点基板1表面に形成された導電塗膜3上を摺動する部分である。なお図2,図3に示す符号10aは、図1に示す摺動子4a,4b,4cの摺接面である裏面に相当するが、説明の便宜上、「表面10a」して説明することとする。
図2および図3に示すように前記摺動子4a,4b,4cは、基材11と、前記基材11の先端部10の表面10aに形成されたロジウムからなる摺動突起12とを有して構成される。
前記基材11は、図3に示すように、例えばりん青銅板13の全ての面上に、ニッケルメッキ層(下地層)14が施され、さらに前記ニッケルメッキ層14の全ての面上に銀メッキ層15が施されたものである。りん青銅板13に前記ニッケルメッキ層14を介して前記銀メッキ層15をメッキ形成することで、局部電池形成による、絶縁性の銅酸化物の生成を抑制し、前記銀メッキ層15の表面に溶出し、導通不良が発生することを防いでいる。
前記ロジウムから成る摺動突起12は前記基材11の先端部10の表面10aに融着している。前記摺動突起12を構成するロジウムは、前記基材11の最表面層である銀メッキ層15を構成する銀と金属結合しており、前記摺動突起12は強固に前記基材11に取り付けられている。
前記摺動突起12は後述する製造方法で説明するように、例えば、メタルジェット方式で形成されたものである。メタルジェット方式を用いることでロジウムから成る摺動突起12を適切に前記基材11に融着させることが可能である。
前記摺動突起12は、前記基材11の先端部10の表面10aに、例えば略半球状で融着し、図3に示すように前記摺動突起12の表面12aは、丸みを帯びている(凸型曲面状で形成されている)。これにより、前記摺動突起12が滑らかに前記接点基板1の導電塗膜3上を摺動でき、前記接点基板1側に損傷等を与える不具合を抑制できる。なお、前記メタルジェット方式を用いることで、前記摺動突起12の表面12aを適切に半球状や半楕円球に形成できる。
図4に示す実施形態のように、前記摺動突起12自体は略球状あるいは楕円球であり、前記摺動突起12の一部が前記基材11の先端部10の表面10aに埋め込まれてもよい。ただし前記摺動突起12の表面12aは図3と同様に、前記基材11の先端部10の表面10aから一部、半球状や半楕円球状で突出した状態になっている。また図4においても、前記摺動突起12を構成するロジウムは、前記基材11の最表面層である銀メッキ層15を構成する銀と金属結合しており、前記摺動突起12は強固に前記基材11に取り付けられている。
前記摺動突起12を構成するロジウムは、非常に硬度が高い(ビッカース硬度700程度、モース硬度6)。銀、金(モース硬度2.5〜3)、パラジウム(モース硬度4.8)や特許文献1記載のAg−Pd−Au合金(ビッカース硬度270程度、モース硬度はおおよそ4)のいずれと比較しても、前記ロジウムの硬度は高い。従って、展延性の高い金のように摺動により容易に摩耗したり、絶縁領域に金を延ばしてしまう問題がない。またロジウムは銀のように硫化して電気絶縁性の硫化銀を生成する問題や、パラジウムのように空気中の有機物の重合触媒として働き、接点部に電気絶縁性の有機物(通称;ブラウンパウダー)を生成する「ポリマリゼーション」の問題等がなく化学的性質が安定している。そしてこのように硬度が高く化学的性質も優れたロジウムからなる前記摺動突起12の表面12aが前記基材11の表面10aから突出しているため、前記摺動子4a,4b,4cの先端部10は前記接点基板1の摺動面に、前記摺動突起12の部分が当接し、これにより耐摩耗性等に代表される摺動特性や接触信頼性を従来に比べて向上させることが出来る。
また図2〜図4に示すように、前記摺動突起12を前記摺動子4a,4b,4cの先端部10の一部にのみに設けているから、高価なロジウムの使用を少なく出来る。特に、本実施形態では、前記基材11を、特に従来から知られている安価なりん青銅板13等で形成できるため、前記摺動子4a,4b,4cの製造コストを低く抑えることが可能である。
また、前記摺動子4a,4b,4cを構成する基材11に、優れた摺動特性や接触信頼性の要件が必要なくなるため、材質や構造の選択性を従来に比べて広げることができる。例えば前記基材11をりん青銅板13のみ、あるいは前記基材11をりん青銅板13とニッケルメッキ層14とで構成することも可能である。また、バネ性に優れたステンレスにニッケルクラッドを貼り付けたものも使用できる。特に、前記基材11には弾性接点として優れ、繰り返しの使用によっても前記摺動子4a,4b,4cの先端部10の接点基板1の摺動面に対する付勢力(接触力)を一定に保ち得る材質を選択することが好ましい。また図3,図4で示す実施形態では、基材11の最表層が銀メッキ層15であるが、例えば銀メッキ層15が硫化した場合でも、接点基板1の表面に接触するのは摺動突起12であるため、接触不良を起こすことがなくなる。
また、接点基板1が中心1aを軸として回転し、前記摺動子4a,4b,4cが固定されているエンコーダ等の電子部品において、前記銀メッキ層15を前記基材11の最表層に設け、前記基材11の外部接続部との取付部16には、前記銀メッキ層15が露出しているため、前記取付部16を図示しないプリント基板に設けた前記外部接続部の導電パターン(図示せず)に適切に半田付けが出来る。したがって簡単且つ確実に、ばらつき小さく前記摺動子4a,4b,4cを前記外部接続部に取り付けることが出来る。摺動突起12を構成するロジウムに対し半田付けは出来ない。したがって前記基材11の全ての面にロジウムをメッキ等で形成してしまうと、上記したように製造コストが高くなるばかりでなく、前記取付部16を半田付けできないという不具合が生じる。しかし本実施形態では、前記ロジウムからなる摺動突起12を前記基材11の先端部10にのみ設けているから、前記基材11の最表層を半田可能な材質で形成すれば、前記取付部16を適切に外部接続部に半田付けできる。
また図2〜図4では、前記摺動突起12が複数設けられているが、前記摺動突起12は一個であってもよい。ただし前記摺動突起12を複数設け、しかもこのとき各摺動突起12を点在させたほうが、前記接点基板1の摺動面の導電塗膜3上をより確実に前記摺動突起12が摺動し、接触信頼性を向上させることが可能である。
また図1に示すエンコーダでは、接点基板1が中心1aを軸として回転し、摺動子4a,4b,4cが固定されていたが、逆に摺動子4a,4b,4cが回転し接点基板1が固定されている態様であっても本実施形態を使用できる。またエンコーダに限らず、可変抵抗器の摺動子などにも本実施形態を適用できる。
次に図2に示す摺動子4a,4b,4cの製造方法について説明する。
まず、摺動子4a,4b,4cの折り曲げ加工前の平面形状に加工されたりん青銅板13の全ての面に、ニッケルメッキ層(下地層)14をメッキ形成し、さらに前記ニッケルメッキ層14の全ての面に銀メッキ層15をメッキ形成して基材11を形成する。そして、前記基材11を図2に示すように折り曲げ加工する。
図5はメタルジェット装置20の一部分の断面形状を示す部分断面図である。前記メタルジェット装置20を構成するノズル23内には線材21およびガスを通すための細孔22が形成されている。ノズル23先端の開口部24の近傍には、前記開口部24からガスが流れ出るのを止めるための遮断板25が設けられており、また前記遮断板25によって前記細孔22を封鎖したときにガスを逃がすためのバイパス口26が設けられている。
電極27は例えばタングステンからなり、その先端が開口部24より突き出した線材21の先端の近傍に位置するように配置されている。
図5に示すように、ロジウムからなる線材21を、前記細孔22内に通し前記開口部24より突き出した状態にする。このとき前記遮断板25により前記細孔22を封鎖して、ガスを前記バイパス口26から噴出させ、前記ガスが前記開口部24に流れないようにする。これにより前記線材21と電極27との間に電圧を印加して放電を発生させる。
前記放電を以下の工程により行う。まず大きな電圧値(1000V以上)をきわめて短い時間発生させ、前記線材21の先端と電極27との間に放電を生じさせる。次に、印加電圧値を低下させていき、低い電圧値(数百V)で一定時間(高電圧値のときの時間よりも長い時間)に保って、前記線材21の先端に溶融球28が成長するのに必要なエネルギーを与える。そして前記溶融球28が所定の大きさまで成長した後、前記遮断板25を開く方向に移動させて、細孔22から開口部24を通じて外部に高速ガス流を噴射させる。このガス流の圧力により前記溶融球28は切り離されて飛翔する。
このとき図2に示す基材11の先端部10の表面10aを前記メタルジェット装置20のノズル23の開口部24に対向させることで、ロジウムからなる前記溶融球28が前記基材11の先端部10の表面10aに融着する。
上記したメタルジェット方式により、ロジウムからなる摺動突起12を適切且つ簡単に前記基材11の融着させることが出来、また上記した動作を繰り返し行えば、複数の夫々ほぼ同じ大きさの摺動突起12を、前記基材11に融着させることが出来る。
上記したメタルジェット方式では、高融点金属にも適用できる。ロジウムの融点は概ね2000℃であり、金の融点(概ね1000℃)やNiの融点(概ね1500℃)などに比べて高いが、このような高融点材料でも溶融球28を形成でき、ロジウムからなる摺動突起12を、所定の大きさで且つ所定場所に所定数だけ融着させることが出来る。
上記した摺動子4a,4b,4cの製造方法によれば、まず基材11を所定の形状に曲げ加工した後、前記ロジウムからなる摺動突起12を形成する。
前記ロジウムは、硬度が非常に高いため、前記ロジウムを仮に前記基材11の全ての面にメッキ等した場合、所定形状に曲げ加工することが難しくなり、また曲げ加工によって前記ロジウムで形成されたメッキ層にクラック等が生じるといった問題が発生しやすいが、本実施形態では、ロジウムを設ける前に基材11を曲げ加工し、その後、上記したメタルジェット方式を用いて、前記基材11の先端部10の表面10aにのみ部分的に、ロジウムからなる摺動突起12を設けるため、特に上記した曲げ加工の困難性やクラック等の問題は生じず、簡単且つ適切に前記摺動子4a,4b,4cを形成できる。またロジウムは非常に高価な材料であるが、本実施形態では、基材11の先端部10に、数個、ロジウムからなる摺動突起12を設けるだけであるため、前記摺動子4a,4b,4cの製造コストが従来に比べて、さほど上昇しない。むしろ、前記基材11には、耐摩耗性等の摺動特性や接触信頼性が特に必要なくなるため、前記基材11の材質や構造を従来に比べてより自由に選択でき、したがって例えば、前記基材11を従来に比べてより安価な材質で形成することもでき、摺動子4a,4b,4cの製造コストを従来に比べて低く抑えることも可能である。
エンコーダの構成を示す部分正面図、 摺動子の摺接面側を上にして示した部分斜視図、 図2に示す前記摺動子の先端部を板厚方向から切断した部分拡大断面図、 図3とは異なる構造の前記摺動子の先端部を板厚方向から切断した部分拡大断面図、 メタルジェット装置の一部分の断面形状を示す部分断面図、
符号の説明
1 接点基板
2 絶縁基板
3 導電塗膜
3a コモン領域
3b A相領域
3c B相領域
4a コモン摺動子
4b 第1摺動子
4c 第2摺動子
10 (摺動子の)先端部
11 基材
12 摺動突起
13 りん青銅板
14 ニッケルメッキ層(下地層)
15 銀メッキ層
20 メタルジェット装置
21 線材
22 細孔
25 遮断板
27 電極
28 溶融球

Claims (5)

  1. 基板に設けられた導電部を有する摺動面を摺動する摺動子において、
    前記摺動子は、基材と、前記基材の前記摺動面を摺動する先端部に設けられた、ロジウムからなる摺動突起と、を有して構成されることを特徴とする摺動子。
  2. 前記摺動突起は複数設けられている請求項1記載の摺動子。
  3. 前記摺動突起は、前記基材に融着されている請求項1又は2に記載の摺動子。
  4. 前記摺動突起は、メタルジェット方式により前記基材に融着される請求項3記載の摺動子。
  5. 請求項1ないし4のいずれかに記載された摺動子と、摺動面の少なくとも一部に導電部を有する基板と、を有して成ることを特徴とする電子部品。
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