JP2007040915A - 周期構造の欠陥測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】周期構造が形成された被検査物に、光源からの光を略平行光として照射する光照射手段と、該被検査物から生ずる回折光の画像を検出する画像検出手段を有し、該画像検出手段は、前記回折光の光強度の包絡線におけるメインローブあるいはサイドローブにおいて、回折光強度がピーク強度より低く、0より大きい値を示す回折角度で回折光を画像検出することを特徴とする周期構造の欠陥検出装置を提供する。
【選択図】図1
Description
また、低次の回折光を検出する場合、0次の回折光との分離が難しかった。高次になるほど角分散が大きくなり、自由領域が狭くなったり存在しなくなるため、各次数での分離検出が難しくなっていた。
2・・・集光レンズ
3・・・被検査物
4・・・周期構造の幅
5・・・周期構造の間隔
6、7・・・距離
8・・・画像検出器
9・・・画像処理装置
10・・・回折角度
11・・・周期構造
12、13・・・項
14〜16、18、19、22〜25、27〜30・・・光強度
17、20、21、26、31、32・・・画角
Claims (3)
- 周期構造が形成された被検査物に、光源からの光を略平行光として照射する光照射手段と、該被検査物から生ずる回折光の画像を検出する画像検出手段を有し、該画像検出手段は、前記回折光の光強度の包絡線におけるメインローブにおいて、回折光強度がピーク強度より低く、0より大きい値を示す回折角度で回折光を画像検出することを特徴とする周期構造の欠陥検出装置。
- 周期構造が形成された被検査物に、光源からの光を略平行光として照射する光照射手段と、該被検査物から生ずる回折光の画像を検出する画像検出手段を有し、該画像検出手段は、前記回折光の光強度の包絡線におけるサイドローブにおいて、回折光強度がピーク強度より低く、0より大きい値を示す回折角度で回折光を画像検出することを特徴とする周期構造の欠陥検出装置。
- 前記光照射手段は、光源から多波長の略平行光を照射する請求項1または2記載の周期構造の欠陥検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP4661441B2 JP4661441B2 (ja) | 2011-03-30 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2005
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