JP2007040839A - 周期性パターンのピッチ検査方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 デルタ配列され周期性を有するパターンのピッチ検査を簡便に行う方法を提案する。
【解決手段】 マスク１に形成された開口部についての画像のパターンＳ１，Ｓ２，…のｘ方向のピッチを検査については、先ず、パターンＳ１，Ｓ２，…をｘｙ座標系に倣うようにした状態でパターン中心座標を算出し、この中心座標のｙ座標値の小さい順に［１］，［２］，［３］，…とラベリングする。そして、ピッチ線に対応する行Ｌ１とＬ２とＬ３の近傍に中心があるパターンのラベルを選択し、Ｌ１に属するラベル［１］〜［４］、Ｌ２に属する［５］〜［８］、Ｌ３に属する［９］〜［１２］とを検出する。そして、隣り合う２つの行Ｌ１とＬ２に属するラベル［１］〜［８］に対してそのパターン中心座標のｘ座標値の大きさの順にラベル［１］〜［８］を並べ替え、その並べ替えたラベルの番号の順にピッチ検査を行うようにして、斜めに隣り合うパターンのｘ方向のピッチを検査するようにした。
【選択図】 図１

Description

本発明は、例えば略同一形状の開口部が整列配設されたパターンを形成するためのマスクなどの、周期的に設けられた複数のパターンを有する検査対象物における周期性パターンのピッチ検査方法に関する。

従来の周期性パターンの検査方法に関しては、特許文献１に開示されているものが知られている。この特許文献１には、カラーテレビのカラーブラウン管に用いられるシャドウマスクなどのように、基板に光透過性を有するパターンがデルタ配列により周期的に形成されている製品におけるパターンの面積のズレやそのムラを検出する際に適用して好適な、周期性のパターンの検査方法及び装置に関して記載されている。

この周期性のパターンの検査方法は、各パターンがデルタ配列された周期性パターンを有する検査対象物を撮像してパターン画像を入力し、入力されたパターン画像上の各パターンについて面積を測定し、測定された各パターンの面積をそれぞれ輝度値に変換し、変換された各輝度値を一定数の画素を単位とする単位画素にそれぞれ設定し、各輝度値がそれぞれ設定された設定単位画素を、前記各パターンの配列順序に対応付けてデルタ配列した面積画像を作成し、作成された面積画像から、隣接する設定単位画素間に存在する輝度情報がない無設定単位画素に、周囲近傍の設定単位画素の輝度値により補間した輝度値を設定して検査対象画像を作成し、作成された検査対象画像に基づいて面積ズレやそのムラを検査するようにしたものである。

これにより、周期性パターンを有する検査対象物全体について、各パターンの面積のズレ欠陥を容易に検査することができるだけでなく、許容範囲内のズレが局所的に生じている面積のムラ欠陥をも容易に検査することができるようにしている。
特開２００３−０１４６５７号公報（第２頁，図３）

しかしながら、特許文献１に開示されている周期性パターンの検査方法では、１つのパターンの面積に対して１つの画素の輝度値を対応付け、画素をデルタ配列に並べて面積画像を作成するので、当該マスクのパターンにムラがあるかどうかを検査し合否の判定を行うことができるものの、このムラの発生要因を知ることはできない。
すなわち、周期性パターンにパターンの面積ばらつきだけでなく孔のピッチばらつきによる誤差がある場合、何れに要因があるのか分離して判定することができず、マスク作製工程へのフィードバックが適正に行われにくいという不都合がある。

ところで、近年、新しい画面表示装置として有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を用いた有機ＥＬパネルが、パネル自体が光るため明るくコントラストの高い表示ができる、裏側に光源を必要としないためパネルを薄くすることができる、反応速度が速く動画の表示に向いている、などの液晶表示パネルにない特長を有するため実用化の検討が盛んに行われている。

この有機ＥＬパネルでカラー表示させるときには、例えば図８に示すように、少なくとも光の３原色であるＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３種の発光用有機材料によるストライプパターンを３つ並べて配置すると共に、３つ並設されたストライプパターンを１単位としてマトリックス状に基材上に配置している。この配置は、例えばパーソナルコンピュータの画面表示能力における標準的なＸＧＡ規格では、横と縦にドットがそれぞれ１０２４ドットと７６８ドット、つまり有効なドットが１０２４×７６８のマトリックスをなすように配列される。

そして、基材上に、図８に示すストライプパターンをマトリックス状に配列・形成する方法は、開口部１ａが図９に示すようにマトリックス状に形成された蒸着マスクを共通に用い、３種のストライプパターン間のピッチ寸法ｕずつ蒸着マスクをずらしながら、それぞれの発光用有機材料を順次蒸着して形成するようにしている。
このため、蒸着マスクは、図９に示すように、それぞれの開口部１ａの大きさのばらつきだけでなく、ｘ，ｙそれぞれの開口ピッチＰ，Ｑの寸法ばらつきも有機ＥＬパネルでの表示ムラに影響を及ぼすものとなる。
このようなことから、図９に示す開口のピッチＰ，Ｑの寸法検査が行われ、所定量以上のばらつきがあるときには不合格とし蒸着マスクとして使用しないようにしている。

一方、図８に示すようなドットをマトリックス状に配列されたパターンに対し、より高精細な表示をおこなわせるため３種の発光用有機材料からなるストライプパターンが、図６に示すデルタ配列されたパターンを有する有機ＥＬパネルが検討されている。このデルタ配列されたパターンを形成するために、開口部１ａが図７に示すようなデルタ配列をなす蒸着マスクが用いられる。
そして、デルタ配列をなす蒸着マスクでも、マトリックス状に配列されたものと同様に、図７に示す開口部１ａのピッチＰ，Ｑについての寸法測定が行われているが、図７に示す開口部１ａのピッチｐ，ｑについての寸法測定は行われていなかった。

ピッチｐ，ｑの寸法測定が行われていないのは、図９に示すマトリックス状に配置された開口部１ａのピッチＰ，Ｑについては、例えば行列上の位置と開口パターンとの対応から番号付けして容易に隣り合うパターンを決定し、隣り合うパターン間のピッチを算出することができるのに対し、図７に示す開口部１ａのピッチｐ，ｑの寸法測定では対象パターンがマトリックスの配列から外れており、かつ対象となる測定箇所が多いため、寸法の算出までに多くの手順と時間を必要とするためである。

本発明はかかる点に鑑み、マトリックス配列、デルタ配列の何れで形成されたパターンでも、そのパターンのピッチ寸法を簡便に検査することができる周期性パターンのピッチ検査方法を提案するものである。

上記課題を解決するため、本発明はｘ軸方向とｙ軸方向とに周期性を有する周期性パターンのピッチ検査方法において、周期性パターンの画像を画像処理部に取り込む画像取込工程と、取り込まれたパターンの画像の各々からパターンの中心座標を算出する中心座標算出工程と、パターンに対して算出されたパターン中心のｘｙ座標値のうちの第１の座標値に基づき順序付けする順序付け工程と、順序付けにより隣り合ったパターン中心間のピッチ寸法を算出する測長工程と、を有するものである。

このように構成した本発明周期性パターンのピッチ検査方法によれば、取り込まれたパターンの画像を画像処理し得られたパターン中心座標をｘｙ座標系の値として算出すると共に、複数のパターンをそのパターン中心座標の、例えば第１の座標値をｘ座標値としこの大きさの順に並べ、隣り合うパターンのパターン中心のｘ座標値からｘ軸方向に関するピッチ寸法を算出することができる。

また、本発明は上記記載の周期性パターンのピッチ検査方法において、周期性パターンの繰返しの最小単位を長方形の４つの頂点と長方形の中央とに配されたデルタ配列とし、周期性パターンの第１の座標値に基づく順序付けを、第２座標軸に平行で隣り合う２直線の近傍にパターン中心が配されるパターンに対して、パターン中心の第１の座標値の大きさの順に番号を付すようにしたものである。

このように構成した本発明周期性パターンのピッチ検査方法によれば、デルタ配列とされた周期性パターンの例えば第１の座標値をｘ座標値としこのｘ軸方向の順序付けは、ｘ軸に平行な直線の近傍に並んで中心を有するパターンと、この直線に平行で隣り合う１直線の近傍に並んで中心を有するパターンとについて、パターン中心座標のｘ座標値の大きさの順に番号を付し、この番号順にパターン中心間のピッチ寸法を求め、ｘ軸に平行な２列のパターン中心について隣り合う番号を有するパターン同士のピッチ寸法を得ることができる。

また、本発明は上記記載の周期性パターンのピッチ検査方法において、パターンの第２の座標軸方向の２直線の間隔を、長方形の１つの頂点と長方形の中央の点との第２の座標軸方向の距離としたものである。

このように構成した本発明周期性パターンのピッチ検査方法によれば、デルタ配列とされた周期性パターンの例えば第１の座標値をｘ座標値としこのｘ軸方向の順序付けは、１つのパターン中心とそのパターンの斜め隣のパターン中心とが隣り合うように順序付けされるので、１つのパターンとその斜め隣りのパターンとのパターン中心間のｘ軸方向のピッチ寸法を得ることができる。

さらに、本発明は上記記載の周期性パターンのピッチ検査方法において、周期性パターンの繰返しの最小単位を長方形の４つの頂点に配されたマトリックス配列とし、周期性パターンの第１の座標値に基づく順序付けを、第２の座標軸に平行な１直線の近傍にパターン中心が配されるパターンに対して、パターン中心の第１の座標値の大きさの順に番号を付すようにしたものである。

このように構成した本発明周期性パターンのピッチ検査方法によれば、周期性パターンの例えば第１の座標値をｘ座標値としてこのｘ軸方向の順序付けは、第２の座標軸方向であるｙ軸方向に略一直線上に並んでいるパターンのパターン中心座標のｘ軸座標値の大きさの順に番号を付し、この番号順にピッチ寸法を求め、隣り合うパターンのパターン中心間のｘ軸方向のピッチ寸法を得ることができる。

本発明周期性パターンのピッチ検査方法によれば、パターンのパターン中心座標値の第１の座標値について大きさの順に並べ、この大きさの順にパターン中心座標値から中心間距離を求め、第１の座標軸の方向について隣り合うパターンや斜めに隣り合うパターンのパターン中心間のピッチ寸法を順次求めることができる。

本発明周期性パターンのピッチ検査方法を実施するための最良形態の例を図１〜図７を参照して説明する。
以下では、この図１〜図７を説明するに図８，図９に対応する部分には同一の符号を付し説明する。
また、以下では、周期性パターンを有する被検査対象物として、有機ＥＬパネルの作製の際に発光用有機材料を形成するために用いる蒸着マスク（以下、単に「マスク」という）を例に説明する。

有機ＥＬパネルは、パネル自体が光るため明るく高コントラスト表示ができると共に光源が不要なため薄くすることができ、さらに反応速度が速い、などの従来の液晶表示パネルにない特長を有する表示デバイスである。 この有機ＥＬパネルでカラー表示させるときには、例えば図６に示すように、少なくとも光の３原色であるＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３種の発光用有機材料によるストライプパターンを３つ並べて配置すると共に、これらを基材全面にデルタ配列状に配置する。

そして、基材に、図６に示すストライプパターンをデルタ配列状に配列・形成する方法は、図７に示すように、縦長の矩形形状とされた開口部１ａが多数形成されたマスク１を共通に用い、３種のストライプパターン間のピッチ寸法ｕずつマスク１をずらしながら、それぞれの発光用有機材料を順次蒸着して形成するようにしている。

マスク１は、図７に示すように、長方形の頂点をなす４点ｗ１，ｗ２，ｗ４，ｗ５と長方形内の中央の点ｗ３とにパターン中心を有する５つの開口部１ａが、長方形の頂点をなす４点ｗ１，ｗ２，ｗ４，ｗ５については、x軸方向にピッチ寸法Ｐ、ｙ軸方向にピッチ寸法Ｑ、中央の点ｗ３については、点ｗ１からx軸方向にｐ、ｙ軸方向にｑだけずらした位置に周期的に開口・配設されたものである。つまり、面心格子としてみたとき、長方形の４つの頂点が格子の格子点となり、中央の点が面心点に対応する。

そして、マスク１は、例えば開口部１ａの端面形状を良好に形成することができる電鋳法などにより、パターン設計上xｙ座標軸方向にピッチ寸法Ｐ，Ｑで作製されるが、実際にはパターン形成のときの転写位置ズレや成長異常、変形などによりパターン中心はピッチ寸法Ｐ，Ｑの格子点の近傍、また面心点の近傍にばらついてしまう。
このため、作製されたマスク１を蒸着に用い表示させたとき、色や明るさのムラなどが許容限度以内で蒸着用のマスクとして使用できるものであるか否かの検査を使用する前に実施しておくことが必須となる。

図２は、ピッチ検査装置の概略を示す構成図である。ＸＹテーブル３上に載置されたマスク１は、その上方に配設された撮像カメラ（以下、「カメラ」という）１０によりマスク１に形成された周期性パターンが順次撮像され、取り込まれた画像が画像処理部４により処理され開口部１ａのピッチが計算される。このとき、画像処理部４から出力された信号が装置制御部５に入力され、必要に応じてＸＹテーブル３を駆動制御する。
すなわち、ＸＹテーブル３の移動と画像取り込み及びピッチの計算を繰り返してマスク１の全面を走査して検査を行う。そして、パターンのピッチ寸法の算出と当該マスク１の作製精度の合否の判定を行う。

以下、本例の周期性パターンのピッチ検査方法を、図１〜図５，図７を参照して説明する。
図４及び図５は、図３に示すマスク１のピッチ検査装置の動作の一例を説明する動作フローである。
図３に示すマスク１は、図７と同様の開口部パターンを有し、この開口部パターンの外側領域で４隅部付近の予め決められた位置に例えば小径孔によるアライメント用のマーク１ｂを設けたものである。

先ず、図４のステップＳ１０１に示すように、電源を投入し、ＸＹテーブル３を原点復帰動作させる。
そして、ＸＹテーブル３上にマスク１を載置・固定する（ステップＳ１０２）。このとき、マスク１は、図示しない位置決めピンなどによりＸＹテーブル３上の所定位置に例えば外形合わせで位置決め固定される。

次に、ＸＹテーブル３が原点位置から駆動され、マスク１のアライメントマーク１ｂの１つがカメラ２の略直下となる位置まで所定量移動される（ステップＳ１０３）。そして、このアライメントマーク１ｂの画像を取り込んで画像処理し、アライメントマーク１ｂの中心座標を、予め設定されているｘｙ座標系での座標値として算出する（ステップＳ１０４）。
次に、マスク１のＸＹテーブル３上における傾きの算出に十分な数のマーク１ｂを認識したかどうかを判断する（ステップＳ１０５）。そして、マスク１の傾きの算出に十分となるまでステップＳ１０３〜Ｓ１０５を繰り返し処理する。なお、アライメントマーク１ｂは、少なくとも２箇所以上で画像を取り込み、その中心座標の値を算出しておく。

そして、複数のアライメントマーク１ｂについての中心座標から本来の設計上のマスクがＸＹテーブルに載置された理想的な状態に対して、当該マスク１のＸＹテーブル上での回転とマスク１中心のずれを算出し、補正値とする（ステップＳ１０６）。
なお、ここではマスク１にアライメントマーク１ｂが予め設けられたもので説明したが、これに限らず開口部１ａそのものをアライメントマークとして用いてもよく、この場合、パターン形状が大きなものとなるため、妥当な補正値を得るためには多くの開口部１ａを用いるのがよい。

次に、マスク１のパターンを撮像するため、予め決められた移動量でＸＹテーブル３を移動させ（ステップＳ１０７）、このときのマスク１の開口部１ａのパターンをカメラ２で取り込む（ステップＳ１０８）。
そして、取り込まれたパターンについて、そのパターンの中心座標を算出する（ステップＳ１０９）。
そして、マスク１の全パターン形成領域について、カメラ２による画像取り込みが完了しているかを判定し（ステップＳ１１０）、未完のときはステップＳ１０７〜Ｓ１１０を繰り返し実行する。
これにより、マスク１上の全パターンの中心座標が画像処理部でのｘｙ座標系での座標値として算出される。

次に、算出された全パターンの中心座標値を、先のアライメント補正値で補正する。これにより、パターン格子の方向が、画像処理部でのｘｙ座標系のｘ軸方向とｙ軸方向とに略一致するようにパターン中心座標が補正される（ステップＳ１１１）。

次に、得られた中心座標のｙ座標値に基づき、例えばｙ座標値が小さい順に各パターンにラベル［１］，［２］，［３］，…を付ける（ステップＳ１１２）。
つまり、得られたパターン中心座標（ｘ，ｙ）に対して、ラベル［１］→（ｘ_１，ｙ_１），ラベル［２］→（ｘ_２，ｙ_２），ラベル［３］→（ｘ_３，ｙ_３），…と対応付ける。

そして、図５のステップＳ１１３に示すように、ｘ軸方向のピッチ寸法のうち、斜めに隣り合うパターン間、行内で隣り合うパターン間の何れについて求めるのかを選択する。
斜めに隣り合うパターン間のときはステップＳ１１４へ進み、行内で隣り合うパターン間のときはステップＳ１１５に進む。

そして、斜めに隣り合うパターン間のときは、得られた中心座標のｙ座標値に基づいて、図３に示すように、パターンの並びの行Ｌ１，Ｌ２，…に属するラベルを選択したのち、隣り合う２つの行、つまりＬ１とＬ２，Ｌ３とＬ４，…、に属するラベルを選択する（ステップＳ１１４）。

次に、選択されたラベル対し、このラベルに対応したパターン中心座標のｘ座標値に基づいて、例えばｘ座標値が小さい順にラベルを並べ替える（ステップＳ１１６）。
そして、２つの行単位で並べ替えられたラベルの順に対応するパターン中心座標からｘ軸方向のピッチ寸法を算出する（ステップＳ１１７）。
なお、このステップＳ１１２（図４），ステップＳ１１４，Ｓ１１６，Ｓ１１７（図５）の処理内容は、後で別途説明する。
以上でデルタ配列の斜め隣りのパターン間でのｘ軸方向のピッチ寸法を求めることができる。

一方、行内で隣り合うパターン間のときは、得られた中心座標のｙ座標値に基づいて、図３に示すように、行Ｌ１，Ｌ２，…それぞれに属するラベルを選択する（ステップＳ１１５）。そして、ステップＳ１１６，Ｓ１１７を順に処理する。
以上により、デルタ配列の行内で隣り合うパターン間でのｘ軸方向のピッチ寸法を求めることができる。

次に、ｙ軸方向のピッチ寸法のうち、斜めに隣り合うパターン間、行内で隣り合うパターン間について求めるのかを選択する（ステップＳ１１８）。
斜めに隣り合うパターン間のときはステップＳ１１９へ進み、行内で隣り合うパターン間のときはステップＳ１２０に進む。

次に、得られた中心座標のｘ座標値に基づいて、図３に示すように、列Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，…に属するラベルを選択する（ステップＳ１２１）。
次に、２つの列単位で選択されたラベル対し、このラベルに対応したパターン中心座標のｙ座標値に基づいて、例えばｙ座標値が小さい順にラベルを並べ替える（ステップＳ１２１）。
そして、２つの列単位でｙ座標値の小さい順とされたラベルに対応するパターン中心座標からｙ軸方向のピッチ寸法を算出する（ステップＳ１２２）。
以上でデルタ配列の斜め隣りのパターン間でのｙ軸方向のピッチ寸法を求めることができる。

一方、列内で隣り合うパターン間のときは、得られた中心座標のｘ座標値に基づいて、図３に示すように、列Ｒ１，Ｒ２，…それぞれに属するラベルを選択する（ステップＳ１２０）。そして、ステップＳ１２１，Ｓ１２２を順に処理する。
以上により、デルタ配列の列内で隣り合うパターン間でのｙ軸方向のピッチ寸法を求めることができる。

最後に、得られたｘ軸及びｙ軸方向のパターン中心間のピッチ寸法とパターン中心の許容誤差寸法から当該マスクの合否を判定する（ステップＳ１２３）。

図１は、図４に示すステップＳ１１２のラベル付けから、図５に示すＳ１１６のピッチ間寸法の算出までについての説明のため、マスク１の一部について示したものである。図１でＳ１，Ｓ２，…は、説明のためのマスク１に形成された開口部１ａ，１ａ，…に対応するパターンの識別のための記号で、パターンＳ１，Ｓ２，…は周期性であることからそのパターン中心が、図１に示すように、本来ｘ軸に平行なピッチ線Ｌ１，Ｌ２，…とｙ軸に平行なピッチ線Ｒ１，Ｒ２，…の交点に配されるように設計される。しかし、上述したように種々の要因により、実際に形成されるパターンはピッチ線に対して、例えば図１に示すように、そのパターン中心がずれることになる。

先ず、ステップＳ１１２のラベル付けについて説明する。
図１に示すようにピッチ線に対してそのパターン中心がずれているとき、原点Ｏに対し各パターン中心のｙ座標値が小さい方から並べると、Ｓ４，Ｓ１，Ｓ３，Ｓ２，Ｓ７，Ｓ，Ｓ８，Ｓ５，Ｓ１０，Ｓ９，Ｓ１２，Ｓ１１となる。

そして、この並びを基に、パターンにラベル［１］〜［１２］を対応付ける（図１）。
すなわち、ラベルの数字を添え字としてパターン中心座標を示すと、ラベル［１］のパターン中心は（ｘ_１，ｙ_１）、ラベル［２］のパターン中心は（ｘ_２，ｙ_２）、…、ラベル［１２］のパターン中心は（ｘ_１２，ｙ_１２）となる。そして、ｙ_１＜ｙ_２＜…＜ｙ_１１＜ｙ_１２である。
この結果、パターンＳ４に対しラベル［１］、パターンＳ１にラベル［２］、Ｓ２に［４］、Ｓ３に［３］、Ｓ７に［５］、Ｓ６に［６］、Ｓ８に［７］、Ｓ５に［８］、Ｓ１０に［９］、Ｓ９に［１０］、Ｓ１２に［１１］、Ｓ１１に［１２］が対応することになる。
この段階では、画像処理部４では１２個のパターンＳ１〜Ｓ１２が図１に示すように配置されていることは解釈されておらず、ラベル［１］〜［１２］とそのパターン中心座標が対応付けられているだけである。

次に、ステップＳ１１４の２行単位でのラベル選択について説明する。
図１に示すように、設計上のパターン原点Ｏが（ｘ_０，ｙ_０）で、斜めで隣り合うパターンのｙ軸方向の設計ピッチ寸法をｑとし、パターン形成後のパターン中心の設計ピッチ寸法からのずれの許容寸法を±δとする。
そして、ラベル［１］〜［１２］に対応する１２個のパターンのパターン中心座標のy座標値に対し、ｙ_０−δ＜ｙ＜ｙ_０＋δ、ｙ_０＋ｑ−δ＜ｙ＜ｙ_０＋ｑ＋δ、ｙ_０＋２ｑ−δ＜ｙ＜ｙ_０＋２ｑ＋δという３つの条件の何れかを満足するラベルを選択する。

これにより、ｙ_０−δ＜ｙ＜ｙ_０＋δを満足するラベル［１］〜［４］と、ｙ_０＋ｑ−δ＜ｙ＜ｙ_０＋ｑ＋δを満足するラベル［５］〜［８］と、ｙ_０＋２ｑ−δ＜ｙ＜ｙ_０＋２ｑ＋δを満足するラベル［９］〜［１２］が選択される。このとき、ラベル［１］〜［４］に対応するパターン、ラベル［５］〜［８］に対応するパターン、ラベル［９］〜［１２］に対応するパターンがそれぞれ略直線状に並んで行をなしていることがわかる。
そして、ラベル［１］〜［１２］が属している行の隣り合う２行を単位として、結局行Ｌ１とＬ２についてラベル［１］〜［８］と、行Ｌ２とＬ３についてラベル［５］〜［１２］が選択される。

次に、ステップＳ１１６の選択されたラベルについての並べ替えについて説明する。
ステップＳ１１４で選択された行Ｌ１とＬ２に属するラベル［１］〜［８］に対応するパターン中心座標のｘ座標値の小さい値を持つ順にラベルを並べ替える。すなわち、図１に示すように、ラベルの順を［２］，［８］，［４］，［６］，［３］，［５］，［１］，［７］と並べ替える。
また、行Ｌ２とＬ３に属するラベル［５］〜［１２］に対応するパターン中心座標のｘ座標値の小さい値を持つ順に並べ替え、ラベルの順を［１０］，［８］，［９］，［６］，［１２］，［５］，［１１］，［７］と並べ替える。

次に、ステップＳ１１７のピッチ寸法の算出について説明する。
上述のように、行Ｌ１とＬ２に属するラベル［２］，［８］，［４］，［６］，［３］，［５］，［１］，［７］に対応してパターンＳ１，Ｓ５，Ｓ２，Ｓ６，Ｓ３，Ｓ７，Ｓ１，Ｓ８が並ぶので、その中心座標（ｘ_２，ｙ_２），（ｘ_８，ｙ_８），（ｘ_４，ｙ_４），（ｘ_６，ｙ_６），（ｘ_３，ｙ_３），（ｘ_５，ｙ_５），（ｘ_１，ｙ_１），（ｘ_７，ｙ_７）からｘ_８−ｘ_２，ｘ_４−ｘ_８，ｘ_６−ｘ_４，ｘ_３−ｘ_６，ｘ_５−ｘ_３，ｘ_１−ｘ_５，ｘ_７−ｘ_１を算出し、行Ｌ１とＬ２の近傍に配置されパターンＳ１〜Ｓ８の斜めに隣り合うパターンのピッチ寸法ｐ_１１，ｐ_１２，ｐ_２１，…を求めることができる。

同様に、行Ｌ２とＬ３に属するラベル［１０］，［８］，［９］，［６］，［１２］，［５］，［１１］，［７］
に対応してパターンＳ９，Ｓ５，Ｓ１０，Ｓ６，Ｓ１１，Ｓ７，Ｓ１２，Ｓ８が並ぶので、その中心座標から行Ｌ２とＬ３の近傍に配置されパターンＳ５〜Ｓ１２の斜めに隣り合うパターンのピッチ寸法を求めることができる。

また、ｙ軸方向のピッチ寸法についてのステップＳ１１９，Ｓ１２１，Ｓ１２２でも上述と同様にして、ラベルの並び［２］，［１０］，［８］，［４］，［９］，［６］，［３］，［１２］，［５］，［１１］，［１］，［７］から、列Ｒ１とＲ２の近傍に配置されパターンＳ１，Ｓ９，Ｓ５での斜めに隣り合うパターン間のピッチ寸法ｑ_１１，ｑ_１２を求めることができる（図１参照）。

一方、図１に示すｘ軸方向の設計ピッチＰのピッチ線Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５，Ｒ７に対応するピッチ寸法は、ステップＳ１１５，Ｓ１１６，Ｓ１１７で算出することができる。また、ｙ軸方向の設計ピッチＱのピッチ線Ｌ１，Ｌ３に対応するピッチ寸法は、ステップＳ１２０，Ｓ１２１，Ｓ１２２で算出することができる。

本例の周期性パターンのピッチ検査方法によれば、デルタ配列されたマスクについて斜め隣りの開口部同士のｘ軸あるいはｙ軸方向のピッチ検査を容易に行うことができる。また、開口部の中心が長方形の頂点に配されるようなマトリックス配列についても設定を切換えて検査を行うことができ、デルタ配列のピッチ検査とマトリックス配列のピッチ検査とを任意に組み合わせて実施することができる。

本発明周期性パターンのピッチ検査方法は、上述例に限ることなく本発明の要旨を逸脱することなく、その他種々の構成を採り得ることは勿論である。

マスクのパターンの説明に供する平面図である。 ピッチ検査装置の概略を示す構成図である。 本発明周期性パターンのピッチ検査方法での検査対象であるマスクの形態の例である。 本発明周期性パターンのピッチ検査方法の実施の形態の例を示す処理フロー前半部分である。 図４例に続く処理フローの後半部分である。 有機ＥＬパネルに形成される発光材料のデルタ配列されたパターンの例である。 図６例のパターンを形成する蒸着マスクの開口部の配列を一部拡大して示した説明図である。 従来の有機ＥＬパネルに形成される発光材料のパターンの例である。 図８例のパターンを形成する蒸着マスクの開口部の配列を一部拡大して示した説明図である。

符号の説明

１…マスク、１ａ…開口部、１ｂ…小径孔、２…カメラ、３…ＸＹテーブル、４…画像処理部、５…装置制御部

Claims (4)

1. ｘ軸方向とｙ軸方向とに周期性を有する周期性パターンのピッチ検査方法において、
   前記周期性パターンの画像を画像処理部に取り込む画像取込工程と、
   取り込まれた前記パターンの画像の各々から前記パターンの中心座標を算出する中心座標算出工程と、
   前記パターンに対して算出されたパターン中心のｘｙ座標値のうちの第１の座標値に基づき順序付けする順序付け工程と、
   前記順序付けにより隣り合った前記パターン中心間のピッチ寸法を算出する測長工程と、
   を有する
   ことを特徴とする周期性パターンのピッチ検査方法。
2. 請求項１記載の周期性パターンのピッチ検査方法において、
   前記周期性パターンの繰返しの最小単位を長方形の４つの頂点と前記長方形の中央とに配されたデルタ配列とし、前記周期性パターンの前記第１の座標値に基づく順序付けを、
   第２の座標軸に平行で隣り合う２直線の近傍に前記パターン中心が配される前記パターンに対して、前記パターン中心の前記第１の座標値の大きさの順に番号を付すようにした
   ことを特徴とする周期性パターンのピッチ検査方法。
3. 請求項２記載の周期性パターンのピッチ検査方法において、
   前記パターンの前記第２の座標軸方向の２直線の間隔を、
   前記長方形の１つの頂点と前記長方形の中央の点との前記第２の座標軸方向の距離とした
   ことを特徴とする周期性パターンのピッチ検査方法。
4. 請求項１記載の周期性パターンのピッチ検査方法において、
   前記周期性パターンの繰返しの最小単位を長方形の４つの頂点に配されたマトリックス配列とし、前記周期性パターンの前記第１の座標値に基づく順序付けを、
   第２の座標軸に平行な１直線の近傍に前記パターン中心が配される前記パターンに対して、前記パターン中心の前記第１の座標値の大きさの順に番号を付すようにした
   ことを特徴とする周期性パターンのピッチ検査方法。
   

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