JP2007033765A - パターン製造システム、露光装置、及び露光方法 - Google Patents
パターン製造システム、露光装置、及び露光方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 様々な線幅のパターン線を含むテストパターンが形成された複数種類の銅厚のテスト基板を画像認識手段60により撮像し、パターン線の線幅を実測して銅厚、線幅、及び露光補正量の対応関係を示す補正テーブルを作成する。基板に回路パターンを形成する際には、基板毎に銅厚測定部9により基板上に形成された銅箔の銅厚を測定し、測定した銅厚に応じた露光補正量を補正テーブルから求め、求めた露光補正量で露光量を補正する。
【選択図】 図2
Description
A1 穴あけ工程
A2 銅メッキ工程
B 整面工程
C ラミネーション工程
1 パターン製造システム
4 露光装置
5 現像装置
6 エッチング装置
7 CAM
8 ネットワーク
9 銅厚測定部
40 レーザ直描装置
41 データ変換手段
42 テーブル作成部
43 調整手段
44 露光制御手段
45 補正部
46 メモリ
60 画像認識装置
100 加工用パターンデータ
200 画像情報
300 銅厚データ
Claims (5)
- 目標形成パターンを形成するための加工用パターンデータに基づき、基板に付着させた被エッチング材上のレジストに、所定の露光量で直接描画露光する露光部と、
露光された前記レジストを現像してレジストパターンを形成する現像部と、
前記被エッチング材をエッチングして形成パターンを形成するエッチング部と、
所定のパターン線を含むテストパターンが前記形成パターンとして形成された前記被エッチング材の厚さが異なる複数のテスト基板をスキャンして画像情報を得る画像認識手段と、
前記画像情報のパターン線の線幅に基づいて、前記被エッチング材の厚さと、前記所定の露光量を補正する露光補正量及び前記加工用パターンデータの線幅データを補正する線幅補正量の少なくとも一方の補正量との対応関係を表す補正テーブルを作成するテーブル作成手段と、
前記基板上に形成された被エッチング材の厚さを測定する測定手段と、
測定した被エッチング材の厚さに応じた補正量を前記補正テーブルから求め、求めた補正量で前記所定の露光量及び前記加工用パターンデータの線幅データの少なくとも一方を補正する補正部と、
を備えたパターン製造システム。 - 前記テストパターンは、線幅の異なる複数種類のパターン線を含み、前記作成手段は、前記画像情報のパターン線の線幅に基づいて、前記被エッチング材の厚さ、前記線幅、及び前記補正量の対応関係を表す補正テーブルを作成し、前記補正部は、測定した被エッチング材の厚さ及び形成しようとするパターン線の線幅に応じた補正量を前記補正テーブルから求め、求めた補正量で前記所定の露光量及び前記加工用パターンデータの線幅データの少なくとも一方を補正することを特徴とする請求項1記載のパターン製造システム。
- 前記測定手段は、前記基板を複数の領域に分けた分割領域毎に被エッチング材の厚さを測定し、前記補正部は、分割領域毎に前記所定の露光量及び前記加工用パターンデータの線幅データの少なくとも一方を補正することを特徴とする請求項1又は請求項2記載のパターン製造システム。
- 現像及びエッチングを経て目標形成パターンを形成するための加工用パターンデータに基づき、基板に付着させた被エッチング材上のレジストに、所定の露光量で直接描画露光する露光部と、
前記基板上に形成された被エッチング材の厚さを測定した厚さ情報を取得する厚さ情報取得手段と、
前記被エッチング材の厚さと前記所定の露光量を補正する露光補正量及び前記加工用パターンデータの線幅データを補正する線幅補正量の少なくとも一方の補正量との対応関係を表す補正テーブルを記憶する記憶手段と、
前記厚さ情報が示す前記被エッチング材の厚さに応じた補正量を前記補正テーブルから求め、求めた補正量で前記所定の露光量及び前記加工用パターンデータの線幅データの少なくとも一方を補正する補正部と、
を備えた露光装置。 - 現像及びエッチングを経て目標形成パターンを形成するための加工用パターンデータに基づき、基板に付着させた被エッチング材上のレジストに、所定の露光量で直接描画露光を行う方法であって、
前記基板上に形成された被エッチング材の厚さを測定した厚さ情報を取得し、
前記厚さ情報が示す前記被エッチング材の厚さに応じた前記所定の露光量を補正する露光補正量及び前記加工用パターンデータの線幅データを補正する線幅補正量の少なくとも一方の補正量を、前記被エッチング材の厚さと前記所定の露光量を補正する露光補正量及び前記加工用パターンデータの線幅データを補正する線幅補正量の少なくとも一方の補正量との対応関係を表す補正テーブルから求め、求めた補正量で前記所定の露光量及び前記加工用パターンデータの線幅データの少なくとも一方を補正することを特徴とする露光方法。
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JP2005215783A JP2007033765A (ja) | 2005-07-26 | 2005-07-26 | パターン製造システム、露光装置、及び露光方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015099258A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | 株式会社リコー | 画像処理装置及び方法、並びに画像形成装置 |
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-
2005
- 2005-07-26 JP JP2005215783A patent/JP2007033765A/ja active Pending
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JP7271655B2 (ja) | 2018-08-29 | 2023-05-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | フィールドの不均一性に対処するために空間光変調器セクションを予備として保持すること |
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