JP2007027331A5 - - Google Patents

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Claims (13)

  1. 第1のコイルと該第1のコイルにより発生する磁束変化を検出する第2のコイルとを有する電磁アクチュエータと、
    前記電磁アクチュエータをフィードバック制御する電磁アクチュエータ制御部と、
    を備え、
    前記電磁アクチュエータ制御部は、
    前記第1のコイルに変調信号を与える変調部と、
    前記第2のコイルからの出力信号を復調する復調部と、
    を有し、
    前記復調部によって復調された出力信号に基づいて前記電磁アクチュエータをフィードバック制御することを特徴とする駆動装置。
  2. 前記変調信号は、前記フィードバック制御における目標値に基づいて生成されることを特徴とする請求項1に記載の駆動装置。
  3. 前記電磁アクチュエータ制御部は、前記目標値と前記復調部で復調された信号とに基づいて前記電磁アクチュエータをフィードバック制御することを特徴とする請求項2に記載の駆動装置。
  4. 前記電磁アクチュエータ制御部は、前記変調部及び前記復調部の少なくとも一方に位相調整部を有することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の駆動装置。
  5. 前記電磁アクチュエータ制御部は、前記復調部で復調された信号の高調波成分を除去するフィルタを有することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の駆動装置。
  6. 前記目標値は、前記電磁アクチュエータで発生する力に基づいて生成され、
    前記電磁アクチュエータ制御部は、前記目標値に平方根演算を施すスケール変換部を有し、該スケール変換部からの出力信号と前記復調部で復調された信号とに基づいて前記電磁アクチュエータをフィードバック制御することを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の駆動装置。
  7. 前記第1のコイルを駆動する電力増幅部と、
    前記第1のコイルに流れる電流を検出する電流検出部と、
    前記第1のコイルに流れる電流をフィードバック制御するコイル制御部と、
    を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の駆動装置。
  8. 前記電磁アクチュエータはEコア及びIコアを有し、
    前記第1のコイル及び前記第2のコイルは、前記Eコアにそれぞれ取り付けられることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の駆動装置。
  9. 粗動ステージと微動ステージとを備えるステージ装置であって、
    前記微動ステージは、請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の駆動装置を含み
    前記粗動ステージに対して前記微動ステージが駆動されることを特徴とするステージ装置。
  10. 粗動ステージと微動ステージとを備えるステージ装置であって、
    駆動コイルが発生する磁束を用いて前記粗動ステージに対して前記微動ステージを駆動する電磁アクチュエータと、
    前記駆動コイルが発生する磁束変化を検出する検出コイルと、
    前記駆動コイルに供給する前記微動ステージを駆動するための第1信号および前記検出コイルによって検出された前記磁束変化を示す第2信号に基づいて前記電磁アクチュエータの駆動をフィードバック制御する制御部とを有し、
    前記制御部は、前記第1信号を増幅するための増幅部と、前記第1信号を変調するための変調部と、前記増幅部によって増幅された前記第1信号と前記変調部によって変調された前記第1信号とを加算する加算器と、前記第2信号を復調するための復調部と、前記復調部によって復調された前記第2信号の高調波成分を除去するフィルタとを有することを特徴とするステージ装置。
  11. 請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の駆動装置と、
    パターンを形成した原版に照射される露光光を基板に投影するための光学系と、
    前記基板または前記原版を保持し前記駆動装置により位置決めされるステージ装置と、
    を備えることを特徴とする露光装置。
  12. 請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の駆動装置によって、投影光学系を支持するためのマウントを駆動することを特徴とする露光装置。
  13. 請求項11又は請求項12に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    露光された前記基板を現像する工程と、
    を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7472958B2 (ja) 2017-03-31 2024-04-23 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4366386B2 (ja) 2006-09-07 2009-11-18 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
US7579793B2 (en) * 2007-02-14 2009-08-25 Honeywell International Inc. System and method for efficient wide dynamic range coil drive
US20080285005A1 (en) * 2007-05-15 2008-11-20 Jean-Marc Gery System and method for measuring and mapping a sideforce for a mover
JP5180555B2 (ja) * 2007-10-04 2013-04-10 キヤノン株式会社 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2009094163A (ja) * 2007-10-04 2009-04-30 Canon Inc 温度制御装置、露光装置およびデバイス製造方法
US9081307B2 (en) * 2010-07-09 2015-07-14 Asml Netherlands B.V. Variable reluctance device, stage apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
EP2492928A3 (en) * 2011-02-22 2017-08-30 ASML Netherlands BV Electromagnetic actuator, stage apparatus and lithographic apparatus
IL218588A (en) * 2011-03-23 2015-09-24 Asml Netherlands Bv A method and system for calculating the electromagnetic scattering properties of a structure and for reconstructing approximate structures
JP2012235026A (ja) * 2011-05-06 2012-11-29 Canon Inc 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法
WO2014044496A2 (en) * 2012-09-19 2014-03-27 Asml Netherlands B.V. Method of calibrating a reluctance actuator assembly, reluctance actuator and lithographic apparatus comprising such reluctance actuator
JP6466333B2 (ja) * 2012-10-15 2019-02-06 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 作動機構、光学装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
JP6181956B2 (ja) * 2013-03-26 2017-08-16 キヤノン株式会社 ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
NL2010611C2 (en) * 2013-04-10 2014-10-13 Univ Delft Tech Magnetic actuator and method of controlling such a magnetic actuator.
US9729201B2 (en) * 2014-04-24 2017-08-08 Empire Technology Development Llc Broadcasting a message using modulated power
JP7169359B2 (ja) 2018-01-17 2022-11-10 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー レーザチャンバにおける放電性能を調整する装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3689885A (en) * 1970-09-15 1972-09-05 Transitag Corp Inductively coupled passive responder and interrogator unit having multidimension electromagnetic field capabilities
US4463354A (en) * 1981-12-09 1984-07-31 Sears Lawrence M Apparatus for communicating utility usage related information from a utility usage location to a portable utility usage registering device
GB8627241D0 (en) * 1986-11-14 1986-12-17 Chubb Lips Nederland Bv Identification token
US4922200A (en) * 1989-08-25 1990-05-01 Ldj Electronics, Inc. Apparatus for measuring the hysteresis loop of magnetic film
US5008664A (en) * 1990-01-23 1991-04-16 Quantum Solutions, Inc. Apparatus for inductively coupling signals between a downhole sensor and the surface
NL9100407A (nl) 1991-03-07 1992-10-01 Philips Nv Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel.
JP2728018B2 (ja) * 1995-04-18 1998-03-18 日本電気株式会社 送信回路
US6486941B1 (en) 2000-04-24 2002-11-26 Nikon Corporation Guideless stage
JP2002280801A (ja) * 2001-03-16 2002-09-27 Mitsubishi Electric Corp アンテナ装置及び導波管回転結合器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7472958B2 (ja) 2017-03-31 2024-04-23 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法

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