JP2007013594A - Manufacturing method of piezoelectric device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子機器に用いられる圧電振動子や圧電発振器等の圧電デバイスに関する。 The present invention relates to a piezoelectric device such as a piezoelectric vibrator or a piezoelectric oscillator used in an electronic apparatus.
従来、電子機器の基準信号を発生させるのに圧電デバイスが用いられている。
かかる従来の圧電デバイスとしては、セラミック材料等から成る基板上にシールリングを取着させるとともに、該シールリングの内側に位置する基板の上面に、圧電振動素子としての水晶振動素子を、その一端側でのみ保持する形で実装し、更に前記シールリング上に金属製のカバーを載置・固定することにより水晶振動素子を気密封止した封止構造のものが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
Conventionally, piezoelectric devices are used to generate reference signals for electronic equipment.
As such a conventional piezoelectric device, a seal ring is attached on a substrate made of a ceramic material or the like, and a quartz crystal vibration element as a piezoelectric vibration element is disposed on one end side of the upper surface of the substrate located inside the seal ring. A sealing structure is known in which a quartz vibrating element is hermetically sealed by mounting and fixing a metal cover on the seal ring (see, for example, Patent Documents). 1).
また、この封止構造において、基板内に収容した圧電振動素子に特性を変動させるような過度の熱を与えず、しかも表面実装する際のリフロー半田にも十分に耐えられる構造としてシーム溶接による封止構造が挙げられる。
従来のシーム溶接は、一面が開口した筺体状基板の開口周囲にタングステンやモリブデンを下地層とし、その上にNiメッキ被覆膜などの封止用導体膜を形成し、また、前記シール用導体膜上に42アロイ、コバールなどのシールリングを銀ロウ付けなどで接合する。その後、基板の開口にシールリングと同一の金属材料から成る矩形状カバーを載置し、仮付けした後、シールリングと矩形状カバーとの接合する4辺に、カバー側からローラー電極を押圧しながら当該ローラー電極を通電させつつ回転させることで、カバーとシールリングとの間に大きな電流を印加しての溶接が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
In addition, in this sealing structure, the piezoelectric vibration element accommodated in the substrate is not subjected to excessive heat that changes its characteristics, and is sealed by seam welding as a structure that can sufficiently withstand reflow solder during surface mounting. Stop structure.
In conventional seam welding, tungsten or molybdenum is used as a base layer around the opening of a box-shaped substrate having an opening on one side, and a sealing conductor film such as a Ni plating coating film is formed on the base layer. A seal ring such as 42 alloy or kovar is joined on the film by silver brazing or the like. After that, a rectangular cover made of the same metal material as the seal ring is placed on the opening of the substrate and temporarily attached, and then the roller electrode is pressed from the cover side to the four sides where the seal ring and the rectangular cover are joined. However, welding is performed by applying a large current between the cover and the seal ring by rotating the roller electrode while energizing the roller electrode (see, for example, Patent Document 2).
また、封止方法において、金錫(Au−Sn)ロウ材で接合するものがあり、カーボン治具に収納したまま、封止炉に入れ真空雰囲気内で加熱する方法が知られている。
しかしながら、従来の封止方法であるシーム溶接では、一定以上の溶接面積が必要な為、小型化する際に、水晶振動素子を小型化するとクリスタルインピーダンス(CI)値等の特性が劣化し、基板を小型化すると溶接面積が十分にとることができないので、気密封止性を維持することができないことにより、これ以上水晶振動素子及び基板共に小型化することができなかった。
また、封止時間がかかるとともに、マスター基板での生産をすることが出来ないという欠点があった。
However, since seam welding, which is a conventional sealing method, requires a welding area of a certain size or more, when miniaturizing a crystal resonator element, characteristics such as crystal impedance (CI) value deteriorate, and the substrate is reduced. Since the welding area cannot be sufficiently taken when the size is reduced, the hermetic sealability cannot be maintained, so that neither the quartz resonator element nor the substrate can be further reduced in size.
In addition, it takes a long time to seal, and there are disadvantages that it cannot be produced on a master substrate.
また、従来のカーボン治具を使用し、金錫(Au−Sn)等にて封止する方法では、個片で実施する場合には、キャリア治具からカーボン治具へ移し変える工程が必要な為、生産性が低下してしまうという欠点があった。
また、前記カーボン治具を用いていたために、カーボン治具から塵埃が剥離して収容空間へ侵入することが避けられなかった。そして、一旦収容空間に入り込んだ塵埃などのゴミは容易に取りきれないという欠点があった。
Moreover, in the method of sealing with gold tin (Au—Sn) or the like using a conventional carbon jig, a process of changing from a carrier jig to a carbon jig is required when the method is carried out individually. For this reason, there is a drawback that productivity is lowered.
In addition, since the carbon jig is used, it is inevitable that dust is separated from the carbon jig and enters the accommodation space. In addition, there is a drawback that dust such as dust once entering the accommodation space cannot be easily removed.
そこで、本発明は、前記した問題点を解決し、マスター基板の各基板部の封止を、確実に行うことができるとともに生産性を向上させた圧電デバイスの製造方法を提供することを課題とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-described problems and provide a method for manufacturing a piezoelectric device that can reliably perform the sealing of each substrate portion of a master substrate and improve the productivity. To do.
前記課題を解決するため、本発明は、マトリクス状に配列された複数個の基板部とこの基板部同士の間に設けられる捨代部とを有してなるマスター基板に導体パターンを形成する工程Aと、前記マスター基板の基板部の表主面に前記圧電振動素子を実装する工程Bと、封止材を有するマスターカバーを前記マスター基板に載置する工程Cと、前記マスターカバー側にヒーター電極を接触させつつ当該マスターカバーを加熱し、その熱により封止材を溶融させ、前記マスター基板と前記マスターカバーとを接合させる工程Dと、前記マスター基板を各基板部の外周に沿って切断し、複数個の圧電デバイスを得る工程Eと、を含む圧電デバイスの製造方法である。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a process for forming a conductor pattern on a master substrate having a plurality of substrate portions arranged in a matrix and a discard portion provided between the substrate portions. A, Step B for mounting the piezoelectric vibration element on the front main surface of the substrate portion of the master substrate, Step C for placing a master cover having a sealing material on the master substrate, and a heater on the master cover side The master cover is heated while contacting the electrodes, the sealing material is melted by the heat, and the step D is performed to join the master substrate and the master cover, and the master substrate is cut along the outer periphery of each substrate portion. And a step E of obtaining a plurality of piezoelectric devices.
また、本発明は、前記工程Cにおいて、前記マスターカバーに代えて、封止材を有する個片化されたカバー部を前記マスター基板に載置し、前記工程Dにおいて、前記マスターカバーに代えて、当該カバー部に前記ヒーター電極を接触させつつ当該カバー部を加熱し、その熱により前記封止材を溶融させ、前記マスター基板と前記カバー部とを接合させてもよい。 Further, in the process C, instead of the master cover, instead of the master cover, an individual cover portion having a sealing material is placed on the master substrate, and in the process D, the master cover is replaced with the master cover. The cover electrode may be heated while contacting the heater electrode, the sealing material may be melted by the heat, and the master substrate and the cover portion may be joined.
また、本発明は、前記ヒーター電極が、チタン、モリブデン、タングステン、セラミックスからなっていても良い。 In the present invention, the heater electrode may be made of titanium, molybdenum, tungsten, or ceramics.
また、本発明は、発熱する加熱治具によって前記マスター基板に80℃から150℃の予備加熱を加えても良い。 In the present invention, preliminary heating at 80 ° C. to 150 ° C. may be applied to the master substrate by a heating jig that generates heat.
また、本発明は、前記ヒーター電極を、ハロゲンランプ又はキセノンランプの光源により発熱させても良い。 In the present invention, the heater electrode may be heated by a light source of a halogen lamp or a xenon lamp.
本発明によれば、マスターカバー側にヒーター電極を接触させて前記マスターカバーを加熱し、その熱により封止材を溶融させ、前記マスター基板と前記マスターカバーとを接合させるので、マスター基板にマスターカバーを載置した状態での接合(封止)が可能となり、生産性を向上させることが可能となる。また、ヒーター電極をマスターカバーに接触させることにより、一括的に熱を印加できると共に、マスターカバーの各カバー部に均等に熱がかかるので安定して気密封止することが可能となる。更に、カーボン治具を使用する場合と比較して、塵埃が入る可能性がない為、安定した発振出力をすることが可能となる。 According to the present invention, the heater electrode is brought into contact with the master cover side to heat the master cover, the sealing material is melted by the heat, and the master substrate and the master cover are joined. Bonding (sealing) in a state where the cover is placed is possible, and productivity can be improved. Further, by bringing the heater electrode into contact with the master cover, heat can be applied collectively, and each cover portion of the master cover is equally heated, so that stable airtight sealing can be achieved. Furthermore, since there is no possibility of dust entering compared to the case where a carbon jig is used, stable oscillation output can be achieved.
また、前記ヒーター電極が、チタン、モリブデン、タングステン、セラミックスからなることにより、抵抗値が高く、発熱性が良好なため、容易に温度をコントロールすることが可能となる。また、前記ヒーター電極が前記マスターカバーのカバー部に接触しても、前記カバー部に損傷を与えることなく、安定した気密封止を行うことが可能となる。 Further, since the heater electrode is made of titanium, molybdenum, tungsten, or ceramics, the resistance value is high and the heat generation is good, so that the temperature can be easily controlled. Further, even if the heater electrode contacts the cover portion of the master cover, stable airtight sealing can be performed without damaging the cover portion.
また、前記マスター基板と前記マスターカバーを接合させる前に、加熱治具によって前記マスター基板に80℃から150℃の予備加熱を加えることにより、ヒーター電極が前記マスターカバーのカバー部に接触しても、マスター基板に与える熱影響を最小限にすることで、マスター基板の損傷を防止することが可能となる。 Further, before joining the master substrate and the master cover, a preheating of 80 ° C. to 150 ° C. is applied to the master substrate by a heating jig so that the heater electrode comes into contact with the cover portion of the master cover. By minimizing the thermal effect on the master substrate, it is possible to prevent damage to the master substrate.
また、前記ヒーター電極に、ハロゲンランプ、又はキセノンランプの光源によって、前記ヒーター電極を発熱させるので、前記ヒーター電極の温度上昇を早くすることが可能となるとともに、安定した発熱状態とすることができる。 In addition, since the heater electrode is heated by the light source of the halogen lamp or xenon lamp to the heater electrode, it is possible to quickly increase the temperature of the heater electrode and to achieve a stable heat generation state. .
次に、本発明を実施するための最良の形態(以下、「実施形態」という。)について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。 Next, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “embodiment”) will be described in detail with reference to the drawings as appropriate.
(第一の実施形態)
図1は、個片化する前の状態の一例を示す分解斜視図である。図2は、圧電振動素子を実装したマスター基板にマスターカバーを載置した状態の一例を示す斜視図である。図3は、ヒーター電極をマスターカバーに押圧する前の状態を示す斜視図である。図4は、接合したマスター基板とマスターカバーとを各圧電デバイスごとに切断した状態を示す斜視図である。図5は、圧電デバイスの断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is an exploded perspective view illustrating an example of a state before separation. FIG. 2 is a perspective view showing an example of a state in which a master cover is placed on a master substrate on which a piezoelectric vibration element is mounted. FIG. 3 is a perspective view showing a state before the heater electrode is pressed against the master cover. FIG. 4 is a perspective view showing a state in which the joined master substrate and master cover are cut for each piezoelectric device. FIG. 5 is a cross-sectional view of the piezoelectric device.
図5に示すように、本発明に係る圧電デバイス100は、主に基板(以下、「基板部」という。)1と蓋(以下、「カバー部」という。)2と圧電振動素子5とから構成されている。
ここで、本発明の圧電デバイス100は、マトリクス状に配列された複数個の基板部1と基板部1同士の間に設けられる捨代部Sとを有してなるマスター基板9に導体パターン4が形成されており、このマスター基板4の基板部1の表主面に圧電振動素子5が実装された状態で、封止材6を有するマスターカバー11を当該マスター基板9に載置して、マスターカバー11側にヒーター電極13を接触させつつ当該マスターカバー11を加熱し、その熱により封止材6を溶融させ、マスター基板9とマスターカバー11とを接合し、この状態でマスター基板9とマスターカバー11とを各基板部1の外周に沿って切断して得られる。
As shown in FIG. 5, the
Here, the
基板部1は、例えば、アルミナセラミックス、ガラス−セラミック等のセラミック材料から成る絶縁層を複数層、積層することによって形成されている。この基板部1には、所定幅の縁を有しつつ矩形状に凹む凹部7が形成されており、所定幅の縁に導体パターン4が形成されている。導体パターン4の下面には入力端子(図示せず)、出力端子(図示せず)及びグランド端子(図示せず)を含む複数個の外部端子3(図5参照)が設けられている。なお、捨代部Sも基板部1と同様の材質から構成される。
The
なお、基板部1がアルミナセラミックスからなる場合に、当該基板部1は、所定のセラミック材料粉末に所定量の有機溶剤等を添加・混合して得たセラミックグリーンシートの表面に外部端子3や接続パッドP,導体パターン4等となる導体ペーストを、またセラミックグリーンシートに打ち抜き等を施して予め穿設しておいた貫通孔内にビア導体となる導体ペーストを、従来周知のスクリーン印刷等によって塗布するとともに、これを複数枚積層してプレス成形した後、高温で焼成することにより製作される。
When the
また、基板部1は、この凹部7の内部に水晶からなる圧電振動素子5を収容する役割を果たす。そして、凹部7の底面には、圧電振動素子5の振動電極と電気的に接続される一対の接続パッドPが被着・形成されている。
Further, the
圧電振動素子5は、所定の結晶軸でカットした、厚み30μm〜160μmの水晶片の両主面に一対の振動電極を被着・形成してなり、外部からの変動電圧が一対の振動電極を介して水晶片に印加されると、所定の周波数で厚みすべり振動を起こすようになっている。
このような圧電振動素子5は、その両主面に被着されている振動電極と凹部7の底面の対応する接続パッドPとを導電性接着材8を介して電気的・機械的に接続することによって基板部1の凹部底面に実装される。
The
Such a
この一対の接続パッドPは、図5に示すように、その上面側で圧電振動素子5の振動電極に導電性接着材8を介して電気的に接続され、下面側で基板部1内部の配線導体(図示せず)やビアホール導体(図示せず)等を介して入出力端子(入力端子・出力端子)(図示せず)に電気的に接続される。
As shown in FIG. 5, the pair of connection pads P are electrically connected to the vibration electrodes of the
また、導体パターン4は、例えば、タングステン(W)、モリブデン(Mo)等から成る下地層の表面にニッケル(Ni)層及び金(Au)層を順次被着させることによって10μm〜25μmの厚みに形成されており、所定幅の縁のみならず、その凹部7の内壁面と、基板部1の外側面とにそれぞれ延在されている。
The
この導体パターン4は、後述するカバー部2を封止材6を介して基板部1の上面に接合させるためのものである。このように、かかる導体パターン4を、タングステン(W)、又はモリブデン(Mo)から成る下地層の表面にNi層及びAu層を順次被着させた構成としたことにより、導体パターン4に対する封止材6の濡れ性を良好とすることができ、圧電デバイス100の信頼性及び生産性を向上させることができる。
The
また基板部1の内部には、厚さ方向に貫通するビアホール(図示せず)に設けられたビア導体(図示せず)が埋設されている。これにより、基板部1の上面に被着させた導体パターン4が封止材6を介してカバー部2に接合することによって、カバー部2がビア導体を介して基板部下面のグランド端子(図示せず)と電気的に接続される。このように、金属から成るカバー部2をグランド端子と電気的に接続させておくことにより、圧電デバイス100を使用した場合に、カバー部2がグランド電位に保持されるようになるため、カバー部2のシールド作用によって、圧電振動素子5を外部からの不要な電気的作用より良好に保護することができる。
A via conductor (not shown) provided in a via hole (not shown) penetrating in the thickness direction is embedded in the
このようなグランド端子を含む基板部1下面の外部端子3は、圧電デバイス100をマザーボード等の外部配線基板上に搭載する際に、当該外部配線基板の配線と半田等の導電性接着材を介して電気的に接続するための端子として機能する。
When the
また、基板部1上に配置されるカバー部2は、42アロイ等から成る金属板であって、その下面に、外周に沿ってニッケル(Ni)層を環状に被着させ、このNi層を封止材6を介して基板部上面の導体パターン4に接合させることによって基板部1の上面に取着される。これにより、凹部7が塞がれて圧電振動素子5の凹部7内が気密封止される。同時に、カバー部2が前記したビア導体等を介して基板部1下面のグランド端子に電気的に接続される。
Further, the
次に本発明に係る圧電デバイスの製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing a piezoelectric device according to the present invention will be described.
(工程A)
マスター基板9は、図1及び図5に示すように、矩形状の平板状基板が2層積層され、さらにマトリクス状、即ち、縦m列×横n行の行列状に配置された多数の矩形状の凹部7を有する基板を積層してなる。このマスター基板9には、マトリクス状に配置された凹部7を中心に基板部1を形成しつつ、基板部1同士の間に捨代部Sを形成している。また、凹部7の底面に一対の接続パッドPを形成し、基板部1の上面であって所定幅を有する縁にカバー部2との接合用の導体パターン4が被着・形成されている。そして基板部1の下面側には入出力端子やグランド端子等の外部端子3(図5参照)が被着・形成されている。
(Process A)
As shown in FIGS. 1 and 5, the
(工程B)
マスター基板9の各基板部1に設けられている凹部7の底面にある接続パッドPに、圧電振動素子5を実装する。
マスター基板9の各基板部1の凹部7底面には圧電振動素子5が1個ずつ実装され、圧電振動素子5の振動電極とマスター基板9上面の接続パッドPとが導電性接着剤8(図5参照)を介して電気的・機械的に接続される。
(Process B)
The
One
(工程C)
次に、図2に示すように、圧電振動素子5が実装されているマスター基板9の基板部1の上面に形成された導体パターン4に1対1に対応する複数個のカバー部2を有する金属製のマスターカバー11を、圧電振動素子5が封止されるようにして載置する。
なお、マスターカバー11の上面には、ニッケル(Ni)層が形成され、更にニッケル(Ni)層の上面に、封止材であるクラッド化された金錫(Au−Sn)層が形成される。クラッド化された金錫(Au−Sn)層の厚みは、10μm〜30μmである。例えば、成分比率が、金が80%、錫が20%のものが使用されている。また、このようなマスターカバー11にも、先に述べたマスター基板9と同様に、各カバー部2同士の間に所定の捨代部Sが設けられている。
(Process C)
Next, as shown in FIG. 2, the
A nickel (Ni) layer is formed on the upper surface of the master cover 11, and a clad gold-tin (Au-Sn) layer as a sealing material is further formed on the upper surface of the nickel (Ni) layer. . The thickness of the clad gold-tin (Au—Sn) layer is 10 μm to 30 μm. For example, the component ratio is 80% gold and 20% tin. In addition, similar to the
(工程D)
図3に示すように、マスター基板9にマスターカバー11を載置した状態で、マスターカバー11の全面にヒーター電極13を接触させつつ当該マスターカバー11を加熱し、その熱により封止材6を溶融させ、マスター基板9とマスターカバー11とを接合させる。
(Process D)
As shown in FIG. 3, in a state where the master cover 11 is placed on the
このような、ヒーター電極13を用いた接合装置は、いわゆる「パルスヒート装置」と呼ばれている。
このパルスヒート装置は、電源、電源電圧により加熱されるヒーター電極13、ヒーター電極13に取り付けられた熱電対により構成されている。ヒーター電極13は、チタン、モリブデン、タングステン、セラミックス等の高抵抗値を示す材質を用いるので、熱容量が大きくなっている。
Such a bonding apparatus using the
This pulse heat device is composed of a power source, a
マスター基板9をパルスヒート装置にセットし、パルスヒート装置内で、空気を吸い出して真空状態にし、電源電圧をヒーター電極13に印加してヒーター電極13を発熱させる。
ここで、設定温度に達した後、ヒーター電極13を前記マスターカバー11に押圧させることにより、マスターカバー11とマスター基板9間に介在する封止材6が溶融し、マスターカバー11とマスター基板9とが接合される。
また、ヒーター電極13をマスターカバー11に押圧する際に、スプリング(ばね)などの弾性体14をヒーター電極13に設けておくことにより、適宜の加圧をマスターカバー11の上面に加えることが可能となる。これにより適宜な加圧力でマスターカバー11をマスター基板9に押し付けることができる。
The
Here, after reaching the set temperature, the sealing
Further, when the
また、マスター基板9とマスターカバー11との接合において、マスター基板9の温度を80℃から150℃で加熱治具Kによって加熱しながら、封止を行うのが好ましい。
これは、マスター基板9の温度が80℃から150℃であれば、ヒーター電極13がマスターカバー11のカバー部2に接触しても、マスター基板9に与える熱影響を最小限にすることができ、マスター基板9の損傷を防止することが可能となる。また、マスター基板9に予備加熱を加えることにより、封止材6から発生するガスを外に逃がすことができるので、接合時に生じるボイドの発生を削減することが可能となる。
ここで、最も接合状態が良いのは、マスター基板9の温度が85℃から120℃である場合である。
Further, in joining the
This is because if the temperature of the
Here, the bonding state is best when the temperature of the
なお、マスター基板9の温度が80℃より低いと、良好な接合状態とはならず、マスター基板9の温度が150℃より高いと水晶からなる圧電振動素子5に悪影響を及ぼすこととなる。
If the temperature of the
加熱治具Kは、図示しないヒーターによって加熱されるものであって、パルスヒータ装置でマスターカバー11を加熱する前に、予めマスター基板9を加熱するものである。
The heating jig K is heated by a heater (not shown), and heats the
また、ヒーター電極13を加熱する方法としては、キセノンランプやハロゲンランプ等の光源をヒーター電極13に照射し、ヒーター電極13を熱することによって、ヒーター電極13を加熱させても構わない。
As a method of heating the
キセノンランプは、陰極と陽極とを内部に配置したバルブであり、発光部の最高輝度の位置を集光ミラーの焦点位置に集光し、この焦点位置に光ファイバの射出端から射出する。 The xenon lamp is a bulb in which a cathode and an anode are arranged, and the position of the highest luminance of the light emitting part is condensed at the focal position of the condensing mirror and emitted from the emission end of the optical fiber to this focal position.
また、同様にハロゲンランプは、バルブ内にタングステンフィラメントを備え、ハロゲンガスを封入したものである。このタングステンフィラメントが通電加熱されると、ハロゲンガスと反応し、タングステン−ハロゲン化合物が生成される。タングステン−ハロゲン化合物は、バルブ内の対流により、タングステン−ハロゲン化合物がフィラメント付近に運ばれ、高温によりタングステンとハロゲンガスに分解されて、タングステンは、フィラメントに沈殿するというハロゲンサイクルを繰り返し、光ビームを発生するものである。 Similarly, the halogen lamp is provided with a tungsten filament in a bulb and sealed with a halogen gas. When this tungsten filament is energized and heated, it reacts with the halogen gas to produce a tungsten-halogen compound. The tungsten-halogen compound is transported to the vicinity of the filament by convection in the bulb, decomposed into tungsten and a halogen gas at a high temperature, and tungsten is precipitated in the filament. It is what happens.
ここで発生した光ビームは、ヒーター電極13を熱するのに用いられ、熱されたヒーター電極13をマスターカバー11に接触させることにより封止材6を溶融させ、溶融した封止材6によりマスターカバー11をマスター基板9に接合させることができる。つまり、基板部1の封止を行うことができる。このとき、複数個同時に封止をすることできる。
また、キセノンランプやハロゲンランプで照射することによって、ヒーター電極13に電源電圧を印加することによって加熱させるよりも、電源電圧を供給する為の配線等を真空炉内に引き回す必要がないので、メンテナンス等を効率良く実施することが可能となる。
The light beam generated here is used to heat the
Also, it is not necessary to route the wiring for supplying the power supply voltage into the vacuum furnace by irradiating with a xenon lamp or a halogen lamp rather than heating the
(工程E)
そして、図4に示すように、マスター基板9の各基板部1及びマスターカバー11のカバー部2の外周に沿って切断することにより、接合された各基板部1及びカバー部2を分割(切断)する。
マスター基板9の切断はダイサーを用いたダイシング等によって行なわれ、マスター基板9が個々の基板部1毎に分割されることにより、各圧電デバイス100を得ることができる。
(Process E)
Then, as shown in FIG. 4, by cutting along the outer periphery of each
The
(第二の実施形態)
次に本発明の第二の実施形態に係る圧電デバイスの製造方法について説明する。
本発明の第二の実施形態に係る圧電デバイスの製造方法は、工程Cにおいて、個片化されたカバー部をマスター基板に載置し、工程Dにおいて個々にカバー部をマスター基板に接合する点で第一の実施形態と異なる。
(Second embodiment)
Next, a method for manufacturing a piezoelectric device according to the second embodiment of the present invention will be described.
In the method for manufacturing a piezoelectric device according to the second embodiment of the present invention, in Step C, the separated cover portions are placed on the master substrate, and in Step D, the cover portions are individually joined to the master substrate. This is different from the first embodiment.
つまり、この個片化されているカバー部には封止材が設けられており、マスター基板の各基板部に各々載置して接合する。
したがって、個片化されているカバー部を一つずつ載置し接合する。という工程Cと工程Dを繰り返してカバー部と基板部とを接合する。
That is, the individual cover portions are provided with a sealing material, and are placed on and bonded to each substrate portion of the master substrate.
Therefore, the individual cover portions are placed and bonded one by one. The cover part and the substrate part are joined by repeating the process C and the process D.
なお、これ以外にも、工程Cを繰り返すことによって、個片化されたカバー部をマスター基板に設けられている総て基板部に載置し、工程Dにより各カバー部とマスター基板の基板部とを接合しても良い。
このように、第二の実施形態に係る圧電デバイスの製造方法を構成しても第一の実施形態と同様の効果を奏する。
In addition to this, by repeating step C, the individual cover portions are placed on all the substrate portions provided on the master substrate, and in step D, each cover portion and the substrate portion of the master substrate are placed. And may be joined.
Thus, even if it comprises the manufacturing method of the piezoelectric device which concerns on 2nd embodiment, there exists an effect similar to 1st embodiment.
なお、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。 In addition, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, A various change, improvement, etc. are possible in the range which does not deviate from the summary of this invention.
例えば、圧電デバイスとして、圧電振動素子に水晶を用いた表面実装型の水晶発振器を例にとって説明したが、これに代えて、圧電振動素子として弾性表面波(SAW)フィルタ等の他の圧電振動素子を用いる場合にも本発明は適用可能であり、本実施形態と同様の効果を奏する。また、圧電振動素子に代えて半導体素子を用いることもできる。 For example, a surface-mount type crystal oscillator using a crystal as a piezoelectric vibration element has been described as an example of a piezoelectric device. Instead, another piezoelectric vibration element such as a surface acoustic wave (SAW) filter is used as a piezoelectric vibration element. The present invention is also applicable to the case of using, and has the same effect as the present embodiment. In addition, a semiconductor element can be used instead of the piezoelectric vibration element.
また、上述した実施形態においては、マスターカバー11のカバー部2に封止材6を形成していたが、マスター基板9の基板部1に形成しても良い。
In the above-described embodiment, the sealing
更に、マスター基板9を複数のエリアに分割し、そのエリアごとに複数の基板部を形成すると共に、そのエリアごとにヒーター電極で気密封止しても良い。
Furthermore, the
100 圧電デバイス
1 基板部
2 カバー部
3 外部端子
4 導体パターン
5 圧電振動素子
6 封止材
7 凹部
8 導電性接着材
9 マスター基板
11 マスターカバー
13 ヒーター電極
14 弾性体
S 捨代部
K 加熱治具
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記マスター基板の基板部の表主面に前記圧電振動素子を実装する工程Bと、
封止材を有するマスターカバーを前記マスター基板に載置する工程Cと、
前記マスターカバー側にヒーター電極を接触させつつ当該マスターカバーを加熱し、その熱により前記封止材を溶融させ、前記マスター基板と前記マスターカバーとを接合させる工程Dと、
前記マスター基板を各基板部の外周に沿って切断し、複数個の圧電デバイスを得る工程Eと、を含む圧電デバイスの製造方法。 Forming a conductor pattern on a master substrate having a plurality of substrate portions arranged in a matrix and a surplus portion provided between the substrate portions; and
Mounting the piezoelectric vibration element on the front main surface of the substrate portion of the master substrate; and
Step C for placing a master cover having a sealing material on the master substrate;
Heating the master cover while contacting a heater electrode on the master cover side, melting the sealing material by the heat, and joining the master substrate and the master cover;
A step E of cutting the master substrate along the outer periphery of each substrate portion to obtain a plurality of piezoelectric devices.
前記マスターカバーに代えて、
封止材を有する個片化されたカバー部を前記マスター基板に載置し、
前記工程Dにおいて、
前記マスターカバーに代えて、
当該カバー部に前記ヒーター電極を接触させつつ当該カバー部を加熱し、その熱により前記封止材を溶融させ、前記マスター基板と前記カバー部とを接合させる、
ことを特徴とする請求項1に記載の圧電デバイスの製造方法。 In step C,
Instead of the master cover,
Place the separated cover part having a sealing material on the master substrate,
In step D,
Instead of the master cover,
Heating the cover part while bringing the heater electrode into contact with the cover part, melting the sealing material by the heat, and joining the master substrate and the cover part;
The method for manufacturing a piezoelectric device according to claim 1.
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