JP2006526223A - 加速度のフィードフォワードを使用した正確な動作制御 - Google Patents
加速度のフィードフォワードを使用した正確な動作制御 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006526223A JP2006526223A JP2006509786A JP2006509786A JP2006526223A JP 2006526223 A JP2006526223 A JP 2006526223A JP 2006509786 A JP2006509786 A JP 2006509786A JP 2006509786 A JP2006509786 A JP 2006509786A JP 2006526223 A JP2006526223 A JP 2006526223A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reference frame
- signal
- acceleration
- actuator
- movable object
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D3/00—Control of position or direction
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Vehicle Body Suspensions (AREA)
- Automobile Manufacture Line, Endless Track Vehicle, Trailer (AREA)
Abstract
本発明は高精度位置付け制御装置に関する。基準フレーム(10)上に支持された対象物はアクチュエーター(14)によって移動させられる。基準フレーム(10)に取り付けられた位置センサー(16)は位置信号を生成し、加速度センサー(24)は加速度信号を生成する。制御システムは対象物が最小の追従誤差とともに命令された軌跡に従って移動するように、アクチュエーター(14)を制御するために位置信号及び加速度信号に応答する。
Description
本発明は動作制御に関し、詳細に述べると、加速度信号のフィードフォワードを利用した高精度の動作制御に関する。
高精度の機械は通常、基準となるフレームに対する基板、加工中の製品、マスク、または処理用の器具等の、移動する部材の位置付けを必要とする。一般的な基準フレームは頑丈な花崗岩のベース部であり、そのベース部に移動する部材が搭載され、部材を移動するためのアクチュエーター(または、作動装置)が取り付けられる。当業者には周知なように、花崗岩のベース部自体は建物に対して取り付けられ、花崗岩のベース部への外部源からの動きの影響を最小にするような様式で建物内に収容される。しかしながら、そのような様式で設置されても、外部からの影響はベース部が動くことを引き起こす可能性がある。さらに重要なことに、ベース部は位置付けされる物体が移動するときにも影響を受ける。すなわち、位置付けされる物体の動きによって発生する花崗岩のベース部への反作用力はベース部自体が動くことを引き起こすだろう。また、いくつかの用途においては、基準フレームがそれ自体で動くように命令される場合もある。これらの全ての状況において、ベース部の動きはシステムの正確な位置付けの能力を低下させる。
対象物(または、物体)の基準フレームに対する所望の位置を維持するために、制御システムは移動する対象物に必要な力を発生しなければならない。位置情報及び命令された軌跡を受信する典型的な制御システムにおいて、適当な力の発生は移動する部材の所望の位置と実際の位置との間にいくらかの追従誤差(following error)が存在することを必要とするので、結果として性能の低下を引き起こしている。この分野において、基準フレームの動きを予想し、移動する部材の位置を制御する制御システムに必要な情報を供給することによって、既知のベース部の動きに対する事前の補正を行うことが知られている。しかしながら、そのような情報は常に有効であるとは限らず、また、基準フレームが内部または外部の擾乱によって動くときに予想不可能である。
また、印刷装置において、加速度信号をフィードフォワードの様式で利用することが知られている。例えば、米国特許出願No.6,420,716B1参照。詳細に述べると、この発明は投射システムの動きを補正することを試みている。
1つの側面において、基準フレーム構造物に支持された移動可能な物体(または、対象物)の動きを制御するための、本発明の装置は基準フレームとして機能する構造物を含む。移動可能な物体は構造物に対する動き(または、移動)のために構造物によって支持される。アクチュエーター(または、作動装置)は構造物に取り付けられ、移動可能な物体を構造物に対して移動させるために構成されている。移動可能な物体の基準フレーム構造物に対する位置に応答する位置センサーは位置信号を生成するために備えられる。また、加速度センサーは加速度信号を生成するために基準フレーム構造物に取り付けられる。位置信号及び加速度信号に応答する制御システムは対象物(または、物体)を命令された軌跡に従って移動させるようにアクチュエーターを制御するために備えられる。好まれる実施例において、制御システムはPIDサーボフィルターを含み、加速度信号に比例する信号がPIDサーボフィルターの出力に加えられる(または、加算される)。この実施例において、アクチュエーターを駆動するための増幅器が備えられ、増幅器は加速度信号とPIDサーボフィルターの出力との和に応答する。本発明に対して適当な基準フレーム構造物は花崗岩のベース部である。
図1を参照すると、基準フレームまたはベース部10は、この分野で周知なように、例えば、花崗岩の機械ベース部である。ベース部は外部の擾乱を最小にするために隔離支持体(isolation support)上に支持されてもよい。移動する部材12は基準フレーム10に対する動き(または、移動)のために支持された、例えば、基板、加工中の製品、マスク、または処理用の器具等であってもよい。移動する部材12は複数の自由度で移動してもよいが、図1の例においては、単一の自由度で移動する。移動する部材12は通常、ボールベアリングやエアベアリング等を使用して、摩擦の少ない状態でベース部10上に支持される。
アクチュエーター(または、作動装置)14はベース部10に固定され、移動する部材12がベース部10に対して移動するように、部材に力を適用するように配置されている。位置フィードバックセンサー16はベース部10に対する移動する部材12の位置に応答し、PIDサーボフィルター18に位置フィードバック信号を送信する。当業者には周知なように、PIDサーボフィルターとは比例-積分-微分(Proportional-Integral-Derivative)サーボコントローラーのことである。この分野で周知のように、PIDサーボフィルター18はアクチュエーター14を駆動する増幅器22への入力を与える制御出力信号20を生成するために命令された位置を測定された位置と比較する。当業者には周知なように、PIDサーボコントローラーが必要な力を発生するためには移動する部材の所望の位置と実際の位置の間に(いくらかの)追従誤差(following error)が存在しなければならず、結果としてシステムの能力を低下させている。
特に、ベース部10の動きが存在する場合に、このような追従誤差を減少させるために、加速度センサー24がベース部10に固定される。加速度センサー24は信号調節部材26の入力として利用される出力信号を生成する。当業者には周知なように、信号調節部材26は単に、適当に選択された利得定数であってもよい。信号調節部材26からの出力信号28は加算接合器30で制御出力信号20と組み合わされる。これにより、信号調節部材からの出力信号28が増幅器22への命令を変更し(または、補正し)、アクチュエーター14から移動する部材12に変更された力(または、補正された力)が適用される。
変更された力は、移動する部材12が基準フレームまたはベース部10と「ともにとどまる」ように部材を加速させるのに十分な程度にされ、それによって、追従誤差を容認可能な範囲内に減少させる。出願人は本発明をDanaher Corporation(Westborough, MA)によって生産された大型のガントリー型(gantry type)AC 3500位置付けプラットフォームに対して実施した。これらの機械は電子機器のための高精度基板の製造に使用されている。この機械に対する典型的な用途は、後続の処理ステップが実施される前に移動軸が命令された最終的な位置の±5μm以内であることを必要とする。この機械の場合、移動軸は131mmの増分で移動し、処理量に対する考察は移動が開始された後、約525ms以内に整定基準(±5μm)が達成されることを必要とする。
この実施例で使用された加速度計24はJewel Instruments, LLC(Manchester, NH)から入手可能な部品番号LCF-165の加速度計であった。適当な位置フィードバックセンサー16は50nm/カウントの分解能を有する直線エンコーダーである。したがって、±5μmの整定基準は位置センサー16からの100カウントと等価である。
実験は加速度センサー24が有効な場合と有効でない場合の両方に対して実施された。図2は制御ループにおいて加速度センサー24が利用された場合の、131mmの移動に対する追従誤差vs時間のプロットである。示されているように、(カウントで表された)追従誤差は移動の開始後約510msの時点において100カウント未満に減少している。残留性の振動が存在するが、それらは整定許容範囲内である。図3は制御ループに加速度センサー24が利用されない場合の、時間の関数としてカウント数で測定された追従誤差のプロットである。図3には整定処理におけるベース部10の揺れ(または、振動)の強い影響が示されている。示されているように、追従誤差は約520msの最初のピークで400カウント(20μm)を超え、約780msの第2のピークで250カウント(12.5μm)を超えている。整定における長い遅延は処理ステップの時間を大幅に増大させ、処理量を減少させるので、このような特性レベルは容認できない。
ここで、加速度計の代わりに、ジャイロスコープや傾斜計等の慣性センサーが使用されてもよいことは理解されなければならない。また、2つ以上の自由度が制御される場合、複数の軸に対する慣性計測器が使用されてもよいことは理解されなければならない。
さらに、当業者には本発明に対する変更や改良が明白であり、それらも付随する請求の範囲で規定される本発明の範囲に含まれることは理解されなければならない。
10 基準フレーム
12 移動する部材
14 アクチュエーター
16 位置フィードバックセンサー
18 PIDサーボフィルター
20 制御出力信号
22 増幅器
24 加速度センサー
26 信号調節部材
28 信号調節部材の出力信号
30 加算接合器
12 移動する部材
14 アクチュエーター
16 位置フィードバックセンサー
18 PIDサーボフィルター
20 制御出力信号
22 増幅器
24 加速度センサー
26 信号調節部材
28 信号調節部材の出力信号
30 加算接合器
Claims (8)
- 基準フレーム構造物上に支持された移動可能な物体の動きを制御するための装置であって:
基準フレームとして機能する構造物;
前記構造物に対する移動のために前記構造物によって支持される移動可能な物体;
前記構造物に対して前記移動可能な物体を移動させるために前記構造物に取り付けられたアクチュエーター;
位置信号を生成するために前記基準フレーム構造物に対する前記移動可能な物体の位置に応答する位置センサー;
加速度信号を生成するために前記基準フレーム構造物に取り付けられた加速度センサー;及び、
前記移動可能な物体を命令された軌跡に従って移動させるように前記アクチュエーターを制御するために前記位置信号及び前記加速度信号に応答する制御システムを備える装置。 - 前記制御システムがPIDサーボフィルターを含む、請求項1に記載の装置。
- 前記加速度信号に比例する信号が前記PIDサーボフィルターの出力に加算される、請求項2に記載の装置。
- 前記基準フレーム構造物が花崗岩のベース部である、請求項1に記載の装置。
- 前記アクチュエーターを駆動するための増幅器であって、前記加速度信号と前記PIDサーボフィルターの前記出力の和に応答する増幅器をさらに備える、請求項3に記載の装置。
- 前記加速度センサーが加速度計である、請求項1に記載の装置。
- 前記加速度センサーがジャイロスコープである、請求項1に記載の装置。
- 前記加速度センサーが傾斜計である、請求項1に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/413,027 US20040204777A1 (en) | 2003-04-14 | 2003-04-14 | Precision motion control using feed forward of acceleration |
PCT/US2004/010723 WO2004092845A2 (en) | 2003-04-14 | 2004-04-07 | Precision motion control using feed forward of acceleration |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006526223A true JP2006526223A (ja) | 2006-11-16 |
Family
ID=33131343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006509786A Pending JP2006526223A (ja) | 2003-04-14 | 2004-04-07 | 加速度のフィードフォワードを使用した正確な動作制御 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20040204777A1 (ja) |
EP (1) | EP1616225A2 (ja) |
JP (1) | JP2006526223A (ja) |
KR (1) | KR20060023958A (ja) |
CN (1) | CN1906539A (ja) |
CA (1) | CA2522922A1 (ja) |
WO (1) | WO2004092845A2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7061579B2 (en) * | 2003-11-13 | 2006-06-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7265813B2 (en) | 2004-12-28 | 2007-09-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
NL1036277A1 (nl) * | 2007-12-19 | 2009-06-22 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, stage system and stage control method. |
TW201405264A (zh) * | 2012-07-25 | 2014-02-01 | yong-gui Lv | 可在移動狀態中即時修正誤差的移動裝置及其誤差修正方法 |
JP7128697B2 (ja) * | 2018-09-19 | 2022-08-31 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 |
CN110376880A (zh) * | 2019-08-19 | 2019-10-25 | 成都零启自动化控制技术有限公司 | 一种机载高精度轴稳定跟踪伺服转台方法及系统 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR910005243B1 (ko) * | 1988-12-30 | 1991-07-24 | 삼성전자 주식회사 | 지수함수적 가감속에 의한 서보모터의 위치제어장치 및 방법 |
US5250880A (en) * | 1992-10-22 | 1993-10-05 | Ford Motor Company | Linear motor control system and method |
JP2954815B2 (ja) * | 1993-06-24 | 1999-09-27 | キヤノン株式会社 | 鉛直方向除振装置 |
JP3733174B2 (ja) * | 1996-06-19 | 2006-01-11 | キヤノン株式会社 | 走査型投影露光装置 |
JP4194160B2 (ja) * | 1998-02-19 | 2008-12-10 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
US6244121B1 (en) * | 1998-03-06 | 2001-06-12 | Applied Materials, Inc. | Sensor device for non-intrusive diagnosis of a semiconductor processing system |
US6260282B1 (en) * | 1998-03-27 | 2001-07-17 | Nikon Corporation | Stage control with reduced synchronization error and settling time |
US6140815A (en) * | 1998-06-17 | 2000-10-31 | Dover Instrument Corporation | High stability spin stand platform |
TW468090B (en) * | 1998-12-17 | 2001-12-11 | Asm Lithography Bv | Servo control method, and its application in a lithographic projection apparatus |
US6324904B1 (en) * | 1999-08-19 | 2001-12-04 | Ball Semiconductor, Inc. | Miniature pump-through sensor modules |
JP2001068396A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Canon Inc | ステージ制御装置 |
WO2001052004A1 (en) * | 2000-01-11 | 2001-07-19 | Electro Scientific Industries, Inc. | Abbe error correction system and method |
US6563128B2 (en) * | 2001-03-09 | 2003-05-13 | Cymer, Inc. | Base stabilization system |
US6474159B1 (en) * | 2000-04-21 | 2002-11-05 | Intersense, Inc. | Motion-tracking |
US7024228B2 (en) * | 2001-04-12 | 2006-04-04 | Nokia Corporation | Movement and attitude controlled mobile station control |
US6618120B2 (en) * | 2001-10-11 | 2003-09-09 | Nikon Corporation | Devices and methods for compensating for tilting of a leveling table in a microlithography apparatus |
CA2366030A1 (en) * | 2001-12-20 | 2003-06-20 | Global E Bang Inc. | Profiling system |
US6937911B2 (en) * | 2002-03-18 | 2005-08-30 | Nikon Corporation | Compensating for cable drag forces in high precision stages |
US20030218537A1 (en) * | 2002-05-21 | 2003-11-27 | Lightspace Corporation | Interactive modular system |
US6845287B2 (en) * | 2002-11-20 | 2005-01-18 | Asml Holding N.V. | Method, system, and computer program product for improved trajectory planning and execution |
US7209219B2 (en) * | 2003-03-06 | 2007-04-24 | Asml Netherlands B.V. | System for controlling a position of a mass |
-
2003
- 2003-04-14 US US10/413,027 patent/US20040204777A1/en not_active Abandoned
-
2004
- 2004-04-07 CA CA002522922A patent/CA2522922A1/en not_active Abandoned
- 2004-04-07 JP JP2006509786A patent/JP2006526223A/ja active Pending
- 2004-04-07 WO PCT/US2004/010723 patent/WO2004092845A2/en not_active Application Discontinuation
- 2004-04-07 CN CNA2004800160429A patent/CN1906539A/zh active Pending
- 2004-04-07 KR KR1020057019488A patent/KR20060023958A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-04-07 EP EP04759232A patent/EP1616225A2/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2004092845A3 (en) | 2005-04-14 |
KR20060023958A (ko) | 2006-03-15 |
US20040204777A1 (en) | 2004-10-14 |
EP1616225A2 (en) | 2006-01-18 |
WO2004092845A2 (en) | 2004-10-28 |
CN1906539A (zh) | 2007-01-31 |
CA2522922A1 (en) | 2004-10-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3265670B2 (ja) | ステージ装置、ステージ駆動方法、及び露光装置 | |
EP0557100B1 (en) | Stage driving system | |
JP3217522B2 (ja) | 精密位置決め装置 | |
US9052614B2 (en) | Vibration control apparatus, lithography apparatus, and method of manufacturing article | |
KR20030076275A (ko) | 케이블 항력이 스테이지에 작용하는 것을 방지할 수 있는위치결정 시스템과 스테이지 시스템, 및 케이블 항력이스테이지에 작용하는 것을 방지하는 방법 | |
US7768626B2 (en) | Exposure apparatus | |
JPH11317367A (ja) | ステ―ジ装置、ステ―ジ駆動方法並びに露光装置 | |
JP2000339032A (ja) | 同期位置制御装置および方法 | |
KR20020070642A (ko) | 이중 격리 시스템을 갖는 리소그래피 공구 및 그를구성하기 위한 방법 | |
EP1124078B1 (en) | Active anti-vibration apparatus and exposure apparatus | |
JPH08293459A (ja) | ステージ駆動制御方法及びその装置 | |
JP2002242983A (ja) | 能動的除振装置 | |
JP2006526223A (ja) | 加速度のフィードフォワードを使用した正確な動作制御 | |
US9599185B2 (en) | Vibration control apparatus, lithography apparatus, and article manufacturing method | |
JP2019121656A (ja) | 制御方法、制御装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
JP5473575B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP4313865B2 (ja) | 除振装置 | |
JP2001140972A (ja) | 除振装置 | |
JP3215280B2 (ja) | ステージ位置決め制御装置 | |
JPH0888167A (ja) | 可動体の位置決め制御装置及び定盤の姿勢制御装置及びそれらを使用した半導体露光装置 | |
JPH11102858A (ja) | ステージ位置決め制御装置および能動的除振装置 | |
KR20180090860A (ko) | 노광 장치 및 노광 장치의 제어 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 | |
JP2001242937A (ja) | ステージ装置 | |
WO2019138656A1 (ja) | アクティブ除振装置 | |
US20030097205A1 (en) | Control scheme and system for active vibration isolation |