JPH11317367A

JPH11317367A - ステ―ジ装置、ステ―ジ駆動方法並びに露光装置

Info

Publication number: JPH11317367A
Application number: JP11073042A
Authority: JP
Inventors: Kazuaki Saeki; 和明佐伯; Yuan Bausan; ユアンバウサン
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-03-20
Filing date: 1999-03-18
Publication date: 1999-11-16
Also published as: US6008610A

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明の課題は、高精度走査位置決めシステ
ム用の位置制御装置であって、最小の同期誤差を持つと
ともに、システムの整定時間を最小にするような位置制
御装置を提供することである。【解決手段】上記課題を解決するために、本位置制御
装置は、走査中、アクチュエータを用いて両微調整ステ
ージを相対的に６自由度になるように調整することによ
って、いかなる同期誤差をも走査過程中に動的に修正す
ることができるようにした。更に、アクチュエータを用
いて、システムの加速及び減速の間に微調整ステージを
正方向送りすることにより、システムの整定時間を最小
化できるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高精度位置決め装
置の動きを検出し、制御するための位置制御装置及び方
法に関するものである。より詳しくは、本発明は、走査
型マイクロリソグラフィに用いられる微動ステージに対
する同期位置決め制御に係わるものである。

【０００２】

【従来の技術】位置制御装置は、画定された通路に従っ
て工作機械やリソグラフィ・ステージ等のシステムを駆
動するのに用いられる。通路は１方向例えばＸ方向を持
つこともあるし、２方向例えばＸ及びＹ方向を持つこと
もある。一般に、半導体ウェーハ加工用のリソグラフィ
装置では、マスク（レチクル）を２次元面内で位置決め
するのにステージが用いられ、また一方で、プレート
（ウェーハ）を位置決めするのに別個のステージが用い
られる。これらのステージは、ステージと他の部品、例
えば放射エネルギー源やそのエネルギーを合焦する投影
レンズとを支える基礎構造体に対して動かされる。ステ
ージは、ステップアンドリピート型で動かされる場合も
あるし、露光の間ステージが一定速度を保つ走査型で動
かされる場合もある。

【０００３】ステージを駆動し、位置決めするために用
いる位置制御装置がすでに知られている。米国特許第
５，１８４，０５５号、及び４，９５２，８５８号を参
照されたい。一般に、位置制御装置は、ステージの振動
を制約する補償力と関連がある。このことは、駆動され
ているステージの加速（及び減速）が数多く行われるス
テップアンドリピート・システムの場合に特に当てはま
る。システムの振動ないし共振を制約するために、位置
制御装置は加速度をフィードバック制御機構として利用
する。

【０００４】図1は、制御対象１６における振動を制約
する位置制御装置１０を示すブロック図である。位置制
御装置１０は、ノード１４から位置決め誤差信号を受け
取る制御回路１２を持つ。位置決め誤差信号は、制御対
象の所望位置と実際の現在位置との差を表す。実際の位
置は、レーザ干渉計又は他の適当な位置測定装置によっ
て測定される。制御回路１２は、位置決め誤差信号を受
け取り、制御信号を生成する。Ｘ−Ｙステージ等の制御
対象１６は、制御回路１２からの制御信号とフィードバ
ック回路２０からの加速度フィードバック信号との差を
表す信号をノード１８から受け取る。加速度フィードバ
ック信号を供給する加速度センサ（図示せず）が、制御
対象１６に取り付けられている。フィードバック回路２
０は、加速度フィードバック信号の利得を調整し、結果
として生じた信号をノード１８に供給する。レーザ干渉
計等の位置測定装置２２が、制御対象１６の実際の現在
位置を表す信号を与える。そのあと、位置測定装置２２
からの信号は、ノード１４にフィードバックされる。

【０００５】こうして、図1の位置制御装置は、制御対
象１６を新しい所望位置へ動かす。加速度フィードバッ
ク・ループを用いると、制御回路１２からの制御信号
を、制御対象１６の現在の加速度に応じて修正すること
が可能になる。その結果、制御対象１６は、その共振が
減少するように移動される。

【０００６】しかし、ステージは、走査型で動かされる
場合は一定速度で動かされる。ステージは、主として走
査の初めと終りに加速度を受ける。従って、走査型シス
テムの場合には、システムの共振によって生じる問題
は、ステップアンドリピート・システムの場合のように
支配的ではない。

【０００７】しかしながら、走査型システムでは、両ス
テージ（マスク用ステージとプレ−ト用ステージ）は同
期した状態で動かされなければならない。位置制御装置
は、両ステージ間の位置合わせ（アラインメント）を維
持しながら、両ステージを一定速度で駆動しなければな
らない。ミクロン以下の規模で画像を生成するマイクロ
リソグラフィの場合のように極めて高い精度が求められ
る場合には、両ステージ間に少しでも位置合わせ誤差が
あれば、露光像に欠陥が生じる。両ステージ間の位置合
わせ誤差は、同期誤差として知られている。従って、一
定速度で両ステージを駆動し、最小の同期誤差を持つ位
置制御装置が必要となる。

【０００８】更に、プレートの露光はシステムが一定速
度の時にしか行われないので、システムは、ステージが
露光を始める前の走査の開始時に一定速度まで加速する
のを待たなければならず、また、走査の終了時にステー
ジを減速する前に露光を終えなければならない。システ
ムを加速したり減速したりするのに費やされる時間は、
そのシステムの整定時間として知られているが、これは
システムのスル−プットに対する制約になる。システム
の効率を高めるためには、この整定時間を短縮すること
が望ましい。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の問題点に鑑みて、最小の同期誤差を持つとともに、シ
ステムの整定時間を最小にするような位置制御装置を提
供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の位置制御装置は、マイクロリソグラフィ・
システム等の高精度走査型位置決め装置における微動ス
テージの動きを同期した状態に制御するようにしてい
る。そのため、走査中に一定速度で動く粗動ステージに
２つの微動ステージを取り付けている。１つの実施例で
は、各微動ステージは、粗動ステージに取り付けられた
フレーム要素を含むようにしている。このフレーム要素
は、アクチュエータを介して、マスク又はプレートを保
持する保持要素に取り付けられている。走査中、本位置
制御装置は、アクチュエータを用いて両微動ステージを
相対的に６自由度になるように調整する。微動ステージ
を調節することによって、いかなる同期誤差をも走査過
程中に動的に修正することが可能である。更に、アクチ
ュエータを用いて、システムの加速及び減速の間に微動
ステージをフィ−ドフォワ−ドすることによって、シス
テムの整定時間を最小化することができる。

【００１１】エンコ−ダをアクチュエータに結合して、
粗動ステージに対する微動ステージの位置の変化率（速
度）を示す信号を出力するようにしている。微動ステー
ジの実際の位置は干渉計によって測定する。本位置制御
装置は、微動ステージの実際の位置を表す信号に関する
位置フィードバック・ループを用いて、アクチュエータ
を制御するための制御信号を生成する。粗動ステージに
対する微動ステージの速度を表す信号に関する速度フィ
ードバック・ループが、その制御信号を修正して微動ス
テージを同期した状態に制御する。

【００１２】すなわち、一実施例を表す図面に対応付け
て説明すると、請求項１記載のステージ装置は、粗動ス
テージ（１０２）に移動可能に接続された第１の微動ス
テージ（１０４）と、この第１の微動ステージ（１０
４）を粗動ステージ（１０２）に対して駆動するアクチ
ュエータ（１１８）と、このアクチュエータ（１１８）
に接続され、粗動ステージ（１０２）に対する第１の微
動ステージ（１０４）の速度に対応する速度信号を出力
する第１のセンサ（１１９）と、第１の微動ステージ
（１０４）の位置に関する位置信号を出力する位置測定
装置と、アクチュエータ（１１８）を制御する位置決め
制御回路（２００）とを備えたステージ装置であって、
この位置決め制御回路（２００）が、前記位置信号に応
答する位置フィードバック回路（ＩＸ１，２０４Ｘ）
と、前記速度信号に応答する速度フィードバック回路
（１１８、２１８、２２４、２３０）とを有している。

【００１３】請求項１５記載のステージ装置は、第１方
向に移動するステージ（１０２）と；このステージ（１
０２）に追従可能な第１微動ステージ（１０４）と；ス
テージ（１０２）に追従するように第１微動ステージ
（１０４）を駆動する駆動装置（１１８）と；ステージ
（１０２）が前記第１方向に移動している間のステージ
（１０２）に対する第１微動ステージ（１０４）の位置
を測定する位置測定装置と；駆動装置（１１８）に接続
され、ステージ（１０２）に追従するように第１微動ス
テージ（１０４）に第１速度信号を出力する速度信号出
力装置（１０９）と；前記位置測定装置に応じて前記第
１微動ステージの位置を制御する位置フィ−ドバック回
路（ＩＸ１，２０４Ｘ）と；速度信号出力装置（１０
９）に応じて第１微動ステージ（１０４）の駆動を制御
する速度フィ−ドバック回路（１１８、２１８、２２
４、２３０）とを備えている。

【００１４】請求項１７記載の露光装置は、パターンが
形成されたマスクと基板とを同期移動して、前記マスク
のパターンを前記基板に形成する露光装置にであって、
第１方向に移動する粗動ステージ（１０２）と；粗動ス
テージ（１０２）に対して可動に接続され、前記マスク
を保持する第１微動ステージと（１０４）；第１微動ス
テージ（１０４）を駆動する駆動装置（１１８）と；こ
の駆動装置（１１８）に接続され、粗動ステージ（１０
２）の速度に応じた重み付けで第１微動ステージの位置
を制御する制御装置（２５２Ｘ，２５０Ｘ）とを備えて
いる。

【００１５】なお、一実施例を表す図面に対応付けて本
発明を説明したが、本発明がこれに限定されるものでは
ないことはいうまでもない。

【００１６】

【発明の実施の形態】図2は、単純化して示した走査型
マイクロリソグライ位置決めテーブル機構１００の正面
図を示す。このテーブル機構１００は、粗動ステージ１
０２、マスク（レチクル）微動ステージ１０４、及びプ
レート（ウェーハ）微動ステージ１０６を含む。図2に
は、投影レンズ１０８、照明装置１１０、並びに、マス
ク微動ステージ１０４とプレート微動ステージ１０６と
の位置９を制御する位置制御装置１０１も示されてい
る。粗動ステージ１０２は防振装置(図示せず)によって
支えられ、例えば線形サーボモータとボールねじとによ
って、又はロータリ・モータによって従来方式で駆動さ
れる。粗動ステージ１０２は、当業界ではよく知られて
いるように、空気軸受やころ軸受等の耐摩擦軸受で支え
てもよい。粗動ステージ１０２は、照明装置１１０と投
影レンズ１０８とが相対的に静止した状態のままで、従
来方式で一定速度でＸ座標の方向に走査される。粗動ス
テージの走査は当業者にはよく知られているので、これ
以上の説明を要しない。本発明は、走査型マイクロリソ
グラフィ・システムに関して記述したものであるが、他
の高精度位置決めシステムにも当てはまることを理解さ
れたい。

【００１７】照明装置１１０は、従来のマイクロリソグ
ラフィ用照明装置であり、半導体ウェーハやガラスプレ
−トなどの基板を露光するのに用いられるビーム１１２
を生成する。本発明には、適当な照明設備でさえあれ
ば、高圧水銀ランプ、ＡｒＦレーザ、ＫＲＦレーザ、紫
外線、Ｘ線、イオンビーム、又は電子ビーム等、いかな
る光源を使用してもよい。投影レンズ１０８は、従来の
マイクロリソグラフィ装置に用いられるレンズ系であっ
てもよい。照明装置１１０と投影レンズ１０８とは共に
静止しており、防振装置（図示せず）によって支えられ
ている。

【００１８】図3は、マイクロリソグライ位置決めテー
ブル機構１００の斜視図を示す。この位置決めテーブル
の機構１００はＸ軸方向に駆動されるので、マスク微動
ステージ１０４とプレート微動ステージ１０６とは、照
明装置１１０と投影レンズ１０８（図3では示さず）と
を横切って走査される。図3に示すように、照明装置１
１０によって照明されているマスク微動ステージ１０４
上の点（点Ａとして示す）は、露光されているプレート
微動ステージ１０６上の点（点Ａ´として示す）と位置
合わせされている。粗動ステージ１０２が一定速度で走
査している時、マスク微動ステージ１０４上の点Ａと、
プレート微動ステージ１０６上の点Ａ´とは、位置合わ
せされた状態のままでなければならない。微動ステージ
１０４、１０６の間に、同期誤差として知られる位置合
わせ誤差が少しでもあれば、露光されたプレートに不正
確さが生じる。同期誤差は、解像度がミクロン以下の規
模であるマイクロリソグライにおいて特に重要である。

【００１９】粗動ステージ１０２が動いている間、マス
ク微動ステージ１０４とプレート微動ステージ１０６と
は、粗動ステージ１０２に対して動き、いかなる同期誤
差をも動的に修正し、こうして点Ａと点Ａ‘とを位置合
わせされた状態に保つ。図3に示すように、マスク微動
ステージ１０４とプレート微動ステージ１０６との組合
わさった動きは、6つの自由度を持つ。例えば、マスク
微動ステージ１０４はＸ、Ｙ、θＺ座標内を動き、一
方、プレート微動ステージ１０６はθＸ、θＹ、Ｚ座標
内を動く。しかしながら、微動ステージ１０４、１０６
は、本発明によれば、例えば一方の微動ステージを粗動
ステージ１０２に対して静止状態に保つ一方、他方の微
動ステージをまるまる6つの自由度で動かすといった、
いかなる動きの組合わせ方をしてもよいことが理解され
よう。

【００２０】図4は、本発明の一実施例によるマスク微
動ステージ１０４の側面図を示す。このマスク微動ステ
ージ１０４は、粗動ステージ１０２に取り付けられたマ
スクフレーム１１４を含む。マスクホルダ１１６は、ア
クチュエータ１１８、１２０、１２２を介して、マスク
フレーム１１４に連結されている。マスク１２４が、当
業界ではよく理解されているように、従来の方法でマス
クホルダ１１６によって保持されている。アクチュエー
タ１１８、１２０、１２２が、マスクホルダ１１６とマ
スクフレーム１１４との間に配設されている。それは、
粗動ステージ１０２が矢印１０３で示すようなＸ方向に
一定速度で動いている間に、アクチュエータ１１８、１
２０、１２２が、マスクホルダ１１６をＸ、Ｙ、又はθ
Ｚ座標内で動かして、これらの方向におけるいかなる同
期誤差をも修正できるようにするためである。マスク微
動ステージ１０４を動かすということは、マスクホルダ
１１６を動かすことを必然的に伴うことが理解されよ
う。

【００２１】アクチュエータ１１８は、マスクホルダ１
１６をＸ座標内で動かし、一方アクチュエータ１２０、
１２２は、もし同じ方向に同時に動かされるならば、マ
スクホルダ１１６をＹ座標内で動かすことができる。
又、アクチュエータ１２０、１２２は、もし一方のアク
チュエータが１方向に、他方のアクチュエータよりも余
計に動かされるならば、マスクホルダをθＺ方向に動か
すことができる。

【００２２】システム精度を制御するため、微動ステー
ジ１０４、１０６の実際の位置は相対的に測定され、
又、既知の定位置に対して測定される。マスクホルダ１
１６の実際の位置は、レーザ干渉計等の位置測定装置に
よって測定される。図４は、マスクホルダ１１６上の測
定ミラー１２６、１２７、１２８を示すが、これらは、
Ｘ、Ｙ、θＺ座標内のマスクホルダ１１６の位置を測定
するのに用いられる。レ−ザ干渉計は差動式の装置であ
るから、マスクホルダ１１６の実際の位置を得るために
は、マスクホルダ１１６の位置を、図2に示す投影レン
ズ１０８等、位置決めテーブル機構の静止要素に対して
測定する。しかし、マスクホルダ１１６の位置は、プレ
ート・ステージ１０６に対しても測定されなければなら
ない。従って、プレート・ステージ１０６も、Ｘ、Ｙ、
θＺ座標内におけるその位置を測定するために測定ミラ
ー１２６、１２７、１２８を持つ。マスクホルダ１１６
のθＸ、θＹ、Ｚ座標も測定ミラー１５４、１５６、１
５８を用いて測定され、同じ座標内のプレート微動ステ
ージ１０６の位置と比較される。レーザ干渉計によるス
テージの現在位置の測定は、十分、当業者の技量の範囲
内にある。

【００２３】図5は、エンコ−ダ１１９が付設されたア
クチュエータ１１８の詳細側面図である。アクチュエー
タ１２０、１２２は、アクチュエータ１１８と同じもの
であることを理解されたい。アクチュエータ１１８は、
マスクフレーム１１４に取り付けられたボイスコイル
（線形）モータ１３０を含むボイスコイル・アクチュエ
ータであってもよい。モータ１３０は、矢印１３５で示
すように、マスクフレーム１１４に平行な方向にウェッ
ジ（くさび部材）１３４を駆動する軸１３２を動かす。
ウェッジ１３４の動きは、ローラ１３６に伝達され、ロ
ーラ１３６は、矢印１３７で示すように、ウェッジ１３
４によりマスクフレーム１１４に対して垂直に動く。ロ
ーラ１３６はマスクホルダ１１６に接しているので、ロ
ーラの垂直運動はマスクホルダ１１６に伝達される。ア
クチュエータ１１８は例として示したもので、別のアク
チュエータ、例えば他の種類の電磁アクチュエータやね
じ式アクチュエータ等を使用してもよい。

【００２４】アクチュエータ１１８を通じてマスクホル
ダ１１６に与えられる駆動量を決定するために、エンコ
−ダ１１９等のセンサがアクチュエータ１１８の軸１３
２に直接取り付けられている。エンコ−ダ１１９はアク
チュエータ１１８の位置を測定する。図２に示す位置制
御装置１０１は、エンコ−ダ１１９からの位置情報を用
いて、アクチュエータ１１８の位置の変化率を測定す
る。この変化率は、近似的に、Ｘ座標における、粗動ス
テージ１０２に対するマスクホルダ１１６の速度の大き
さである。エンコ−ダ１１９はアクチュエータ１１８に
直接取り付けられているので、マスクホルダ１１６のた
わみ(flexation)や振動は、マスクホルダ１１６の速度
測定にはほとんど影響を与えないはずである。位置制御
装置１０１が、Ｙ、θＺ座標における、粗動ステージ１
０２に対するマスクホルダ１１６の近似速度を決定でき
るように、追加のエンコ−ダが、同様に、それぞれのア
クチュエータ１２０、１２２に直接取り付けられる。エ
ンコ−ダによって与えられたマスクホルダ１１６の速度
測定値は、位置制御装置における速度フィードバック・
ループに用いられる。

【００２５】別の選択可能な実施例では、マスクホルダ
１１６は、アクチュエータを介して粗動ステージ１０２
に連結されているので、マスクフレーム１１４は不必要
である。このような実施例では、アクチュエータ１２
０、１２２がマスクホルダ１１６と粗動ステージ１０２
との間に配設されている場合には、これらのアクチュエ
ータを用いて、マスクホルダ１１６をＹ、θＺ座標内で
動かしてもよい。しかし、アクチュエータ１１８を粗動
ステージ１０２に取り付けて、ウェッジ１３４とローラ
１３６を使用することなく、直接にマスクホルダをＸ座
標内で動かすのに用いてもよい。

【００２６】図６はプレート微動ステージ１０６の詳細
を示す図面であり、図６（ａ）、（ｂ）は、それぞれプ
レート微動ステージ１０６の正面図及び側面図を示す。
プレート微動ステージ１０６は、粗動ステージ１０２に
連結されたプレートフレーム１４０と、従来の方法でプ
レート１４４を保持するプレートホルダ１４２とを含
む。アクチュエータ１４６、１４８、１５０は、図６
（ａ）、（ｂ）に示すように、プレートフレーム１４０
とプレートホルダ１４２との間に配置され、プレートホ
ルダ１４２がθＸ、θＹ、Ｚ座標内を動き得るようにし
てある。粗動ステージ１０２は、図６（ｂ）において矢
印１０３で示すように、Ｘ方向に一定速度で動かされ、
一方、プレートホルダ１４２は、θＸ、θＹ、Ｚ座標内
のいかなる同期誤差をも補償するようにアクチュエータ
１４６、１４８、１５０によって動かされる。アクチュ
エータ１４６、１４８、１５０は、図５に示すアクチュ
エータ１１８に類似している。しかしながら、本発明
は、異なった個数のアクチュエータ及び／又は別に選択
可能な位置に配置されたアクチュエータを用いて実施し
てもよいことが理解されよう。更に、マスクステージ１
０４とプレートステージ１０６との間の６自由度は、本
発明から逸脱することなく相互に交換してもよいことも
了解されよう。

【００２７】θＸ、θＹ、Ｚ座標において、投影レンズ
１０８とマスクホルダ１１６とに対するプレートホルダ
１４２の現在位置は、図６（ａ）、（ｂ）に示すよう
に、プレートホルダ１４２上に位置する位置センサ１５
４Ａ、１５６Ａ、１５８Ａによって測定される。上述の
ように、プレートホルダ１４２は、そのＸ、Ｙ、θＺ位
置を測定するために、付属の測定ミラー１２６、１２
７、１２８を持つ。図5のアクチュエータ１１８の場合
と同様に、エンコ−ダがアクチュエータ１４６、１４
８、１５０に結合され、プレートホルダ１４２に与えら
れた運動の量を検出する。エンコ−ダをアクチュエータ
に直接取り付けることによって、プレートホルダ１４２
の運動が、プレートホルダ１４２のたわみや振動等の要
因に影響されることなしに、正確に検出することができ
るようになる。

【００２８】走査中、粗動ステージ１０２は、マスク微
動ステージ１０４とプレート微動ステージ１０６とを一
定速度で運ぶ。しかしながら、走査過程中に、粗動ステ
ージ１０２の運動における僅かのずれ、又は微動ステー
ジ１０４及び１０６の間の同期誤差があれば、プレート
１４４の露光に欠陥が生じることになる。

【００２９】図７は、マスク微動ステージ１０４とプレ
ート微動ステージ１０６との同期誤差を示す図であり、
図７（ａ）は、粗動ステージ１０２がα度のヨーイング
を持つ場合の同期誤差の一例を示す。このヨーイング
は、説明のために、図７（ａ）に大きく誇張して示して
いる。投影レンズ１０８と照明装置１１０とは静止して
いる。図７（ａ）に示すように、微動ステージ１０４及
び１０６上のそれぞれの点Ａ及びＡ´は、粗動ステージ
１０２のヨーイングのせいで、もはや位置合わせされた
状態にはない。この同期誤差を補償するためには、マス
ク微動ステージ１０４がＸ方向に距離δＸだけ動くよう
にしてもよく、且つ／又は微動ステージ１０６がプレー
トホルダ１４２を負のθＹ方向にα度だけ動かしてもよ
い。

【００３０】図７（ｂ）は、同期誤差に関する別の例
で、粗動ステージ１０２がβ度のロ−リング（横揺れ）
を持つ場合の例を示す。このロ−リングは、説明のため
に、図７（ｂ）に大きく誇張して示している。粗動ステ
ージ１０２のロ−リングによって、微動ステージ１０
４、１０６上のそれぞれの点Ａ及びＡ´の間に位置合わ
せ誤差が生じる。この同期誤差を補償するためには、マ
スク微動ステージ１０４が負のＹ方向に距離δＹだけ動
くようにしてもよく、且つ／又はプレート微動ステージ
１０６が負のθＸ方向にβ度だけ動くようにしてもよ
い。

【００３１】同期誤差の別の原因が図７（ｃ）に示され
る。図７（ｃ）は、分かりやすいように、プレートフレ
ーム１４０及びマスクフレーム１１４を付けてないプレ
ートホルダ１４２及びマスクホルダ１１６を示す。も
し、プレートホルダ１４２が図示のようにθＹ方向に回
転させられ、その結果プレートホルダ１４２がマスクホ
ルダ１１６と水平にならなくなれば短縮効果（倍率誤
差）が生じる。Ｘ−Ｙ面におけるプレートホルダ１４２
の正面の位置は、量γＸだけ小さくなる。この同期誤差
を補償するためには、マスクホルダ１１６を負のＸ方向
にγＸだけ動かされなければならない。もしプレートホ
ルダ１４２がθＸ方向に回転すれば、やはり同じ種類の
同期誤差がＹ方向に生じる。マスクホルダ１１６がＹ方
向に適当な量だけ動くことによっても、この同期誤差を
補償することができる。

【００３２】プレートホルダ１４２とマスクホルダ１１
６との間の距離の誤差という形を取る同期誤差の別の原
因を示す。図７（ｄ）は、分かりやすいように、再びプ
レートフレーム１４０及びマスクフレーム１１４を付け
てないプレートホルダ１４２及びマスクホルダ１１６の
正面図を示す。もしプレートホルダ１４２が図示のよう
にθＸ方向に回転させられれば、プレートホルダ１４２
の上端と下端とは、Ｚ方向に量ΔＺだけ誤差を生じる。
この同期誤差を補償するためには、プレートホルダ１４
２は負のＺ方向にΔＺだけ動かされなければならない。

【００３３】粗動ステージ１０２が一定速度でＸ方向に
動いている間に、プレート１４４の露光が行われる。し
かし、粗動ステージ１０２は、プレート１４４の露光の
前に、一定速度になるまで加速されなければならず、そ
して露光は粗動ステージ１０２を減速させる前に終了し
なければならない。加速又は減速に要する時間は整定時
間として知られる。整定時間は、スル−プットを制約
し、従ってシステムの効率に影響を及ぼす。

【００３４】図８は粗動ステージ１０２及びマスクホル
ダ１１６の状態を表す図である。図８（ａ）は粗動ステ
ージ１０２のＸ座標における加速度−時間を表すグラフ
であり、図８（ｂ）は粗動ステージ１０２のＸ座標にお
ける速度−時間を表すグラフであり、図８（ｃ）は粗動
ステージ１０２のＸ座標における位置−時間を表すグラ
フである。また、図８（ｄ）はＸ座標における粗動ステ
ージ１０２の追従誤差−時間を表すグラフであり、図８
（ｅ）はマスクホルダ１１６の追従誤差−時間を表すグ
ラフである。図８（ａ）は、時刻t０からｔ１までの粗
動ステージ１０２の加速度と、時刻ｔ２からｔ３までの
粗動ステージ１０２の減速度とをグラフで示したもので
ある。粗動ステージは、時刻ｔ１とｔ２との間で一定速
度Ｖcであり、この間にプレート１４４の露光が行われ
る。図８（ｂ）は、粗動ステージ１０２の速度のグラフ
表示であるが、その速度は時刻ｔ０とｔ１との間で増大
し、時刻ｔ2とｔ3との間で減少している。粗動ステージ
１０２は、時刻ｔ１とｔ２との間で一定速度Ｖｃであ
る。従って、図８（ｃ）に示すように、粗動ステージ１
０２の位置は、時刻ｔ1とｔ２との間の時間に対して直
線関係を持つ。

【００３５】加速及び減速中に追従誤差が生じるので、
プレート１４４の露光は、粗動ステージ１０２が一定速
度の時にのみ行われ得る。追従誤差とは、粗動ステージ
１０２の実際の位置と所望のステージ位置との差のこと
である。前述のように、図８（ｄ）はＸ座標における粗
動ステージ１０２の追従誤差−時間を表すグラフであ
り、時刻ｔ０からｔ１まで粗動ステージ１０２はＸＦＥ
の追従誤差を受け時刻ｔ2からｔ３まで−ＸＦＥの追従
誤差が生じる。

【００３６】マスクステージ１０４は、マスクホルダ１
１６をＸ座標内で動かすアクチュエータ１１８を用いる
ことによって、追従誤差を補償する。粗動ステージ１０
２がＸ座標内で一定速度Ｖcまで加速すると、位置制御
装置１０１は、アクチュエータ１１８を用いてマスクホ
ルダ１１６を正方向に送る。こうして、マスクホルダ１
１６は粗動ステージ１０２よりも速い所望の一定速度に
達し、これにより追従誤差を減少させる。更に、粗動ス
テージ１０２が一定速度から減速している時、位置制御
装置１０１は、マスクホルダ１１６を正方向に送って、
より長い時間の間マスクホルダ１１６を一定速度Ｖcに
保つ。図８（ｅ）はマスクホルダ１１６の追従誤差を示
しており、マスクホルダ１１６はｔＦＦ１からｔＦＦ２
まで一定速度Ｖｃになり、これによって整定時間を縮小
し、スル−プットを増大することができる。

【００３７】図9は、本発明による、マスク微動ステー
ジ１０４を制御する位置制御装置１０１に用いられる位
置決め制御回路２００の略図である。

【００３８】ディジタル信号プロセッサ、又はマイクロ
プロセッサ等の軌道指令コンピュータ(trajectory comm
and computer)２０２は、マスク微動ステージ１０４の
Ｘ、Ｙ、θＺ座標内の所望の位置及び速度についての指
令信号を発生する。指令コンピュータ２０２により生成
された位置指令信号は、ノード２０４Ｘ、２０４Ｙ、２
０４Ｔにおいて、マスクホルダ１１６の重心の実際の
Ｘ、Ｙ、θＺ位置を表す信号と比較される。マスクホル
ダ１１６の実際の位置は、図４に示すような測定ミラー
１２６，１２７，１２８を用いたレ−ザ干渉計によって
決定される。もちろん、実際位置の測定には別の方法を
用いてもよい。

【００３９】レ−ザ干渉計により測定されるような、マ
スクホルダ１１６の実際の重心の位置と、軌道指令コン
ピュータ２０２により与えられた所望位置との差は位置
誤差として知られる。位置誤差信号がノード２０４Ｘ、
２０４Ｙ、２０４Ｔで生成される。座標ごとの位置語差
信号は、簡単な比例ゲインであるフィルタ２０６Ｘ、２
０６Ｙ、２０６Ｔで増幅される。座標ごとの、増幅され
た位置語差信号は、このあと従来の２次ノッチフィルタ
２０８Ｘ、２０８Ｙ、２０８Ｔによって濾波される。ノ
ッチフィルタ２０８Ｘ、２０８Ｙ、２０８Ｔは、図９で
は点線で示しているが、これは別の選択可能な実施例で
は除かれる場合があるからである。

【００４０】座標ごとの位置語差信号は、ライン２０９
Ｘ、２０９Ｙ、２０９Ｔを介して座標変換センタ２１０
に供給される。座標変換センタ２１０とは、アクチュエ
ータ１１８、１２０、１２２を制御するのに必要な制御
信号を発生するためのソフトウェアを用いるコンピュー
タのことである。

【００４１】軌道指令コンピュータ２０２は、追従誤差
を補償するのに用いられる、所望速度を得るための速度
制御信号も発生する。座標変換センタ２１０は、ライン
２１１Ｘ、２１１Ｙ、２１１Ｔを介して、軌道指令コン
ピュータ２０２からＸ、Ｙ、θＺ座標に関する速度指令
信号を受け取り、これらの速度制御信号に基づき、座標
変換センタ２１０はフィ−ドフォワ−ド指令を生成す
る。これらの制御信号とフィ−ドフォワ−ド指令とは、
ノード２１２、２１４、２１６において結合される。結
果して生じた制御信号は、ノード２１８、２２０、２２
２において、速度フィードバック・ループからのアクチ
ュエータ速度信号と結合される。結果として発生した信
号は、このあとＰＩフィルタ２２４、２２６、２２８に
それぞれ送り込まれる。

【００４２】各ＰＩフィルタ２２４、２２６、２２８
は、受信したそれぞれの制御信号の比例と積分とを実行
し、マスクホルダ１１６に取り付けられたそれぞれのア
クチュエータ１１８、１２０、１２２を駆動する信号を
発生する。アクチュエータ１１８、１２０、１２２に直
接取り付けられたエンコ−ダには、速度フィードバック
・ループが設けられている。各エンコ−ダは、これを取
り付けたアクチュエータの位置を表すアクチュエータ位
置信号を生成する。これらのアクチュエータ位置信号
は、ライン１１８ＥＮＣ、１２０ＥＮＣ、１２２ＥＮＣ
を介して伝達され、それぞれ、差動回路２３０、２３
２、２３４に送り込まれる。差動回路２３０、２３２、
２３４は、アクチュエータ位置信号の１次導関数を利用
してアクチュエータ速度信号を生成する。このアクチュ
エータ速度信号は、アクチュエータ１１８、１２０、１
２２の位置の変化率すなわち速度を表す。アクチュエー
タ１１８、１２０、１２２の速度は、システムの安定性
維持のため、ノード２１８、２２０、２２２において、
制御信号から減じられる。

【００４３】マスクホルダ上の測定ミラー１２６、１２
７、１２８の、投影レンズ１０８等、他の要素に対する
実際の位置、並びにプレートホルダ１４２に対する位置
を測定する干渉計によって、位置フィードバック・ルー
プが与えられる。干渉計によって生成され、ミラー１２
６、１２７、１２８の実際の位置を表す位置信号は、ラ
インＩＸ１、ＩＸ２、ＩＹを介して２次座標変換センタ
２４０に供給される。この座標変換センタ２４０は、測
定ミラー１２６、１２７、１２８の位置の干渉計による
測定値を、マスクホルダ１１６の重心のＸ、Ｙ、θＺ座
標に変換する。更に、マスクホルダ１１６のＺ座標位置
は、プレートホルダ１４２のＺ座標位置と比較される。
この情報は、又、図７（ｃ）に示す短縮誤差を含めて、
マスクホルダ１１６とプレートホルダ１４２との間の一
切のレベリング誤差を修正できるように、座標変換セン
タ２４０にも供給される。次いで、マスクホルダ１１６
の重心を表す座標信号は、ノード２０４Ｘ、２０４Ｙ、
２０４Ｔにおいて、位置指令信号から減じられる。

【００４４】図９も適応フィルタ２５０Ｘ、２５０Ｙ、
２５０Ｔを含むが、これらの適応フィルタは、粗動ステ
ージ１０２の速度を受信するほか、ブロック２５２Ｘ、
２５２Ｙ、２５２Ｔを介して、それぞれのノード２０４
Ｘ、２０４Ｙ、２０４Ｔから位置誤差信号を受信する。
これらの粗動ステージ１０２の速度及び位置誤差信号を
用いて、ブロック２５２Ｘ、２５２Ｙ、２５２Ｔは、マ
スクホルダ１１６の位置を更新するための重み信号Ｗ
（ｎ＋１）を生成する。重み信号が表す信号は、次の平
均最小２乗適応アルゴリズムに従って生成される。

【００４５】Ｗ（ｎ＋１）＝Ｗ（ｎ）＋２ｕ（ｅｎ）*Ｖ（ｃ） [式１] ここで、Ｗ（ｎ＋１）は更新後の重み、Ｗ（ｎ）は更新
前の重み、２uは係数、ｅｎはマスクホルダ１１６に要
求されている位置と現在のマスクホルダ１１６の位置と
のずれを表し、Ｖ（ｃ）は粗動ステージ１０２の速度を
表す。係数２uは、更新前の重みがいかに迅速に更新後
の重みに収束するかに影響する。もし大きな係数が用い
られれば、重みは迅速に収束するが、システムは不安定
になる可能性があり、ことによるとシステムの振動ない
し発振を引き起こすかもしれない。一方、小さな係数が
用いられた場合は、システムは安定であるが、収束時間
はより長くなる。一実施例においては、係数２uは、重
みが１０サイクルごとに１回、又はほぼ５秒ごとに１回
更新されるように選ばれる。

【００４６】ブロック２５２Ｘ、２５２Ｙ、２５２Ｔ
は、式１に従って重みを更新するように従来方式でプロ
グラムされたディジタル信号プロセッサ、又はマイクロ
プロセッサであってもよい。ブロック２５２Ｘ、２５２
Ｙ、２５２Ｔの出力信号は、それぞれの適応フィルタ２
５０Ｘ、２５０Ｙ、２５０Ｔにより受信されるが、これ
らのフィルタは、このような重みを粗動ステージ１０２
の速度と結合する。

【００４７】座標変換センタ２１０は、適応フィルタ２
５０Ｘ、２５０Ｙ、２５０Ｔから重み信号を受け取る。
座標変換センタ２１０は、その重み信号の変換を行う。
このあと、その変換された重み信号は、ノード２５２、
２５４、２５６において制御信号と結合される。

【００４８】このように、マスクホルダ１１６の位置決
めは、適応フィルタ２５０Ｘ、２５０Ｙ、２５０Ｔを使
用して、位置誤差信号、並びに粗動ステージ１０２の速
度に基礎を置くことになる。粗動ステージ１０２の速度
と、マスクホルダ１１６の所望位置からのずれとは互い
に比例するので、マスクホルダ１１６をその所望位置ま
で駆動している時の粗動ステージ１０２の速度を検討す
ることが、制御の安定性の向上につながる。更に、レジ
スト感度や露光強度等の露光条件を最も良く適応させる
ために、種々の粗動ステージ１０２速度を用いてもよい
が、適応フィルタ２５０Ｘ、２５０Ｙ、２５０Ｔによっ
て生成される重み信号は、使用する特定の粗動ステージ
１０２速度に比例するように設定すべきである。

【００４９】図１０は、プレート微動ステージ１０６を
制御するための位置制御回路３００のブロック図であ
る。この位置制御回路３００は、回路２００と類似して
おり、両者において同じ名称の構成部品は同じものであ
る。しかし、位置制御回路３００は、プレートホルダ１
４２のθＸ、θＹ、Ｚ座標を制御するものである。構成
部品の名称はこれを反映している。制御回路２００と制
御回路３００の両方とも、位置制御装置１０１の内部に
あってよいことが理解されよう。

【００５０】本発明を特定の実施例について説明した
が、これらの実施例を種々に変更して実施できること
は、当業者には明らかであろう。例えば、微動ステージ
１０４、１０６は、本発明によって、一方の微動ステー
ジが６自由度で動かされ、他方の微動ステージが粗動ス
テージ１０２に対して静止状態にあるように変更するこ
ともできる。更に、微動ステージ１０４、１０６を粗動
ステージ１０２に直接連結してもよく、こうすればフレ
ーム１１４及び１４０が不必要になる。

【００５１】上記実施例では基板（プレート）とマスク
とが垂直方向に沿って配置されたいわゆる縦型タイプの
露光装置を例に挙げて説明したが、基板とマスクとが水
平方向に沿って支持され、倒立系（正立系でも適用は可
能）の投影光学系を有した露光装置にも上記実施例説明
したステージ駆動方法を適用することができる。以下図
１１を用いて説明する。なお、ここでは、基板としてウ
エハＷを用いることとする。

【００５２】図１１に示す走査型露光装置３０２では、
不図示のエキシマレーザ光源（KrF,ArF）あるいは固体
レーザ光源（Ｆ2）からの露光用照明光がコラム３３０
に支持された照明光学系３０４に入射するようになって
いる。照明光学系３０４は、マスクＭの照明領域を可変
に設定するブラインド機構、フライアイレンズ、コンデ
ンサレンズ等を有し、マスクＭを露光用照明光にて照明
する。マスクステージ３０６とマスク微動ステージ３０
８とは、マスクＭを走査方向（Ｘ方向）に駆動する。マ
スク微動ステージ３０８は、マスクステージ３０６に接
続されており、後述のウエハステージWSTに追従するよ
うにＸ方向に駆動する。このマスク微動ステージ３０８
に先の実施例の制御が適用されている。また、マスク微
動ステージ３０８はヨーイング補正のために微少回転移
動も行う。また、マスクステージ３０６とマスク微動ス
テージ３０８との一端にはレーザ干渉計３１０、３１２
からの測長ビ−ムを反射する移動鏡３１４、３１６が固
定され、マスクＭのＸ方向の位置がレーザ干渉計３１
０、３１２によって計測される。

【００５３】マスクＭに形成されたパターンの像は、コ
ラム３３２に支持された投影光学系ＰＬにより例えば１
／４に縮小されてウエハＷに結像される。ウエハＷは、
ＸＹＺ方向に移動可能なウエハステージＷＳＴに載置さ
れている。このウエハステージＷＳＴは、不図示の防振
機構を介してコラム３１８に移動可能に支持され、ウエ
ハ駆動系３２０の指令に基づいて駆動される。

【００５４】露光時には、マスクステージ３０６とマス
ク微動ステージ３０８とをマスク駆動系３２２によりＸ
方向に一定速度Ｖ１で走査する。これに同期して、ウエ
ハステージＷＳＴをウエハ駆動系３２０により−Ｘ方向
に一定速度Ｖ２で走査する。投影光学系ＰＬの投影倍率
を１／４とすると、速度Ｖ２はｖ１／４である。このよ
うにして、マスクＭとウエハＷとを同期して走査するこ
とにより、マスクのパターンの像がウエハに投影露光さ
れる。なお、ウエハステージＷＳＴのＸ方向の一端には
レーザ干渉計３２４からの測長ビ−ムを反射する移動鏡
３２６が固定され、ウエハステージＷＳＴのＸ方向の座
標位置がレーザ干渉計３２４によって計測される。図示
は省略したがウエハステージＷＳＴのＹ方向の一端にも
Ｘ方向と同様に、レーザ干渉計からの測長ビ−ムを反射
する移動鏡が固定され、ウエハステージＷＳＴのＹ方向
の座標位置がレーザ干渉計によって計測される。

【００５５】走査型露光装置３０２における露光動作の
制御は、主制御部３２８により統括的に管理される。主
制御部３２８は、レーザ干渉計３１０、３１２、３２４
等からの位置情報、駆動系３２０、３２２等からの速度
情報等に基づいて、走査露光時にマスクＭとウエハＷと
の相対位置関係を維持しつつ、マスクＭとウエハＷとを
相対移動させることにある。なお、ウエハステージＷＳ
Ｔにも微動ステージ機構を設けてもいいことはいうまで
もない。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来技術による位置制御装置のブロック図を
示す図である。

【図２】粗動ステージ、マスク微動ステージ、及びプ
レート微動ステージを含む単純化されたマイクロリソグ
ライ位置決めテーブル機構の正面図を示す図である。

【図３】図2のマイクロリソグライ位置決めテーブル
の機構の斜視図を示す図である。

【図４】粗動ステージに取り付けられたマスクフレー
ムと、アクチュエータを介してマスクフレームに連結さ
れたマスクホルダとを含むマスク微動ステージの側面図
を示す図である。

【図５】マスクフレームとマスクホルダとの間に配設
されたアクチュエータの側面図を示す図である。

【図６】図６はプレート微動ステージ１０６の詳細を
示す図面であり、図６（ａ）、（ｂ）は、それぞれプレ
ート微動ステージ１０６の正面図及び側面図を示す図で
ある。

【図７】図７は、マスク微動ステージ１０４とプレー
ト微動ステージ１０６との同期誤差を示す図であり、図
７（ａ）は粗動ステージ１０２がヨ−イングを持つ場合
の例であり、図７（ｂ）は粗動ステージ１０２がロ−リ
ングを持つ場合の例であり、図７（ｃ）、（ｄ）はプレ
ートホルダ１４２が回転誤差を持つ場合の例である。

【図８】図８は粗動ステージ１０２及びマスクホルダ
１１６の状態を表す図であり、図８（ａ）は粗動ステー
ジ１０２のＸ座標における加速度−時間を表すグラフで
あり、図８（ｂ）は粗動ステージ１０２のＸ座標におけ
る速度−時間を表すグラフであり、図８（ｃ）は粗動ス
テージ１０２のＸ座標における位置−時間を表すグラフ
であり、図８（ｄ）はＸ座標における粗動ステージ１０
２の追従誤差−時間を表すグラフであり、図８（ｅ）は
マスクホルダ１１６の追従誤差−時間を表すグラフであ
る。

【図９】本実施例によるマスク微動ステージを制御す
る位置決め制御回路の略図を示す図である。

【図１０】本実施例によるプレート微動ステージを制
御する位置決め制御回路の略図を示す図である。

【図１１】走査型露光装置の概略を示す図である。

【符号の説明】

１００マイクロリソグライ位置決
めテーブル機構１０１位置制御装置１０２粗動ステージ１０４マスク微動ステージ１０６プレート微動ステージ１１４マスクフレーム１１６マスクホルダ１１８、１２０、１２２アクチュエータ（マスク微
動ステージ用）１１９エンコ−ダ１２４マスク１４０プレートフレーム１４２プレートホルダ１４４プレート１４６、１４８、１５０アクチュエータ（プレート
微動ステージ用）１５４、１５６、１５８センサ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】粗動ステージに移動可能に接続された第１
の微動ステージと；前記第１の微動ステージを前記粗動
ステージに対して駆動するアクチュエータと；前記アク
チュエータに接続され、前記粗動ステージに対する前記
第１の微動ステージの速度に対応する速度信号を出力す
る第１のセンサと；前記第１の微動ステージの位置に関
する位置信号を出力する位置測定装置と；前記アクチュ
エータを制御する位置決め制御回路と；を備えたステー
ジ装置において、前記位置決め制御回路が、前記位置信
号に応答する位置フィードバック回路と、前記速度信号
に応答する速度フィードバック回路とを有していること
を特徴とするステージ装置。
【請求項２】前記第１の微動ステージは、前記粗動ステ
ージに固着された微動ステージ・フレームと、該微動ス
テージ・フレームに結合されたホルダとを有し、前記微
動ステージ・フレームと前記ホルダとの間に前記アクチ
ュエータを配設し、前記アクチュエータが前記ホルダを
前記微動ステージ・フレームに対して駆動することを特
徴とする請求項１記載のステージ装置。
【請求項３】前記ホルダがマスクを保持することを特徴
とする請求項２記載のステージ装置。
【請求項４】前記アクチュエータは複数配設されてお
り、前記複数のアクチュエータは、前記微動ステージ・
フレームに対して、少なくとも３つの自由度で前記ホル
ダを動かすことを特徴とする請求項２記載のステージ装
置。
【請求項５】前記粗動ステージに移動可能に結合された
第２の微動ステージと；前記第２の微動ステージを前記
粗動ステージに対して駆動する第２のアクチュエータ
と；前記第２のアクチュエータに結合され、前記粗動ス
テージに対する前記第２の微動ステージの速度に対応す
る第２の速度信号を供給する第２のセンサとを備え、前記位置測定装置は、前記第２の微動ステージの位置に
関する第２の位置信号を出力し；前記位置制御回路は、
前記第２の位置信号に応答する第２の位置フィードバッ
ク回路と、前記第２の速度信号に対応する第２の速度フ
ィードバック回路とを有していることを特徴とする請求
項１から４のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項６】前記第１の微動ステージと前記第２の微動
ステージとを同期駆動する駆動装置を備えたことを特徴
とする請求項５記載ステージ装置。
【請求項７】前記位置測定装置が、前記第１の微動ステ
ージと前記第２の微動ステージとの相対的な位置を測定
することを特徴とする請求項５または６記載のステージ
装置。
【請求項８】前記位置測定装置が、干渉計であることを
特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載のステ
ージ装置。
【請求項９】粗動ステージに接続された微動ステージを
駆動するステージ駆動方法であって、前記粗動ステージに接続された第１の微動ステージに所
望位置を得るための指令信号を供給する工程と；前記第
１の微動ステージの位置を表す位置信号を供給する工程
と；前記指令信号と前記位置信号とを比較して位置誤差
信号を生成する工程と；前記位置誤差信号に基づいて、
前記第１の微動ステージの駆動を制御する制御信号を生
成する工程と；前記粗動ステージに対する前記第１の微
動ステージの速度を表す速度信号を供給する工程と；前
記制御信号と前記速度信号と比較して、移動信号を生成
する工程と；前記移動信号に応じて、前記第１の微動ス
テージを前記粗動ステージに対して駆動する工程と；を
含むことを特徴とするステージ駆動方法。
【請求項１０】前記粗動ステージに接続された第２の微
動ステージに所望位置を得るための第２の指令信号を供
給する工程と；前記第２の微動ステージの位置を表す第
２の位置信号を供給する工程と；前記第２の指令信号と
前記第２の位置信号とを比較して第２の位置誤差信号を
生成する工程と；前記第２の位置誤差信号に基づいて、
前記第２の微動ステージの駆動を制御する第２の制御信
号を生成する工程と；前記粗動ステージに対する前記第
２の微動ステージの速度を表す第２の速度信号を供給す
る工程と；前記第２の制御信号を前記第２の速度信号と
比較して、第２の移動信号を生成する工程と；前記第２
の移動信号に応じて、前記第２の微動ステージを前記粗
動ステージに対して動かす工程と；を含むことを特徴と
する請求項９記載のステージ駆動方法。
【請求項１１】前記第１の微動ステージと前記第２の微
動ステージとを同期制御することを特徴とする請求項１
０に記載のステージ駆動方法。
【請求項１２】前記微動ステージの所望速度を得るため
の速度指令信号を供給する工程と；前記速度指令信号に
基づいてフィ−ドフォワ−ド信号を生成する工程と；前
記フィ−ドフォワ−ド指令信号に応じて、前記微動ステ
ージを前記粗動ステージに対して動かす工程と；を含む
ことを特徴とする請求項９に記載のステージ駆動方法。
【請求項１３】前記粗動ステージの速度を表す第３の速
度信号を供給する工程と；前記第３の速度信号と前記位
置誤差信号とに基づいて、重み信号を生成する工程と；
前記重み信号と前記制御信号と結合する工程と；を含む
ことを特徴とする請求項９に記載のステージ駆動方法方
法。
【請求項１４】前記重み信号を生成する前記工程が、最
小２乗平均を用いていることを特徴とする請求項１３に
記載のステージ駆動方法方法。
【請求項１５】第１方向に移動するステージと；前記ス
テージに追従可能な第１微動ステージと；前記ステージ
に追従するように前記第１微動ステージを駆動する駆動
装置と；前記ステージが前記第１方向に移動している間
の前記ステージに対する前記第１微動ステージの位置を
測定する位置測定装置と；前記駆動装置に接続され、前
記ステージに追従するように前記第１微動ステージに第
１速度信号を出力する速度信号出力装置と；前記位置測
定装置に応じて前記第１微動ステージの位置を制御する
位置フィ−ドバック回路と；前記速度信号出力装置に応
じて前記第１微動ステージの駆動を制御する速度フィ−
ドバック回路とを備えたことを特徴とするステージ装
置。
【請求項１６】前記速度信号出力装置の少なくとも一部
が前記駆動装置に接続されていることを特徴とする請求
項１６記載のステージ装置。
【請求項１７】パターンが形成されたマスクと基板とを
同期移動して、前記マスクのパターンを前記基板に形成
する露光装置において、第１方向に移動する粗動ステージと；前記粗動ステージ
に対して可動に接続され、前記マスクを保持する第１微
動ステージと；前記第１微動ステージを駆動する駆動装
置と；前記駆動装置に接続され、前記粗動ステージの速
度に応じた重み付けで前記第１微動ステージの位置を制
御する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１８】前記制御装置は適応フィルタを有してい
ることを特徴とする露光装置。