JP2006524829A - 複数の高分子材料から成る複数の透明な光学素子を製造するための方法および型 - Google Patents
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Abstract
【課題】複数の高分子材料から成る複数の透明な光学素子を製造するための1つの方法および1つの型を提供する。
【解決手段】本発明によって製造される複数の光学素子は、1つの界面反射の減少を示す複数の表面領域を少なくとも有するはずである。本発明によると、1つの高分子材料から成り、対象光学素子に対応する1つの基準素子の表面全体あるいは1つの適切に選択された表面区域を1つの真空中で複数の高エネルギーイオンの作用にさらす。これによって、複数の対象表面上に凸部と凹部とが交互に複数存在する1つの不規則なナノ構造が形成される。その後、1つの薄い導電層を施し、1つの電気化学的成形を行うことによって、このナノ構造によって覆われた1つのネガ断面を有する1つの型を得る。次に、界面反射の低減を実現する1つのナノ構造によって行われる1つの成形工程において、上記型を用いて複数の光学素子を製造する。
【解決手段】本発明によって製造される複数の光学素子は、1つの界面反射の減少を示す複数の表面領域を少なくとも有するはずである。本発明によると、1つの高分子材料から成り、対象光学素子に対応する1つの基準素子の表面全体あるいは1つの適切に選択された表面区域を1つの真空中で複数の高エネルギーイオンの作用にさらす。これによって、複数の対象表面上に凸部と凹部とが交互に複数存在する1つの不規則なナノ構造が形成される。その後、1つの薄い導電層を施し、1つの電気化学的成形を行うことによって、このナノ構造によって覆われた1つのネガ断面を有する1つの型を得る。次に、界面反射の低減を実現する1つのナノ構造によって行われる1つの成形工程において、上記型を用いて複数の光学素子を製造する。
Description
本発明は、複数の高分子材料から複数の透明な光学素子を製造するための1つの方法および複数の型に関する。この方法によって製造される複数の光学素子は、少なくとも1つの表面上の少なくとも複数の特定領域における界面反射の低減を目的としている。
複数の高分子材料で作られたこのような複数の光学素子は、多様な用途に一層頻繁に用いられるようになっている。これらの用途においては反射による損失は望まれないので、このような複数の光学素子の複数の表面で反射されて利用不能になる電磁放射の比率をできるだけ小さく保つ必要がある。従って、この比率を単位面積あたり4%以下、好ましくは1%以下に保つために複数の努力がなされている。
この問題に対してこれまでさまざまな取り組みがなされてきた。
たとえば、いくつかの薄膜を順次、通常は交互の層構造として、積み重ねた複数の層構造を複数の光学素子の複数の表面上に形成することは公知である。このような複数の層構造を施すことはコストがかかるばかりでなく、透過率の1つの低下をもたらすので、このような複数の層構造を複数の光学素子の複数の表面上に接着することに伴う複数の問題を無視することはできない。
このような複数の層構造は通常、それ自体が公知のPVD法あるいはCVD法の複数の手法によって1つの真空中で形成されるので、このような複数の光学素子の大量生産は相応の高コストを伴う。
電磁放射の反射率を減らすために選択された別の方法は、複数の微細構造、いわゆる複数のモスアイ構造、を無反射にしたい複数の表面上に形成する方法である。該当する複数の解決策は、以下の文献によって説明されている。
「Thin solid films 351」(1999)、P.73−78(A.GombertおよびW.Glaubitt) 「Applied Optics 16」1994年、P.2695−2706(D.L.Brundrett、E.N.Glysis、および、T.K.Gaylord)
「Thin solid films 351」(1999)、P.73−78(A.GombertおよびW.Glaubitt) 「Applied Optics 16」1994年、P.2695−2706(D.L.Brundrett、E.N.Glysis、および、T.K.Gaylord)
これら複数の公知の解決策によって各ケースにおいて達成される電磁放射の反射率の1つの低減は、それぞれ複数の狭い入射角範囲および1つの狭いスペクトル範囲に限られる。すなわち、対象となる電磁放射の複数の選択された波長あるいは特定の複数の入射角に限られる。
それ自体が公知の複数の微細構造の形成においては、特に複数の型の製造において、1つの相当な努力が必要であるが、この理由は、このような複数の型に精緻なネガ断面を複数形成する必要があるからである。これは、複数の集束エネルギービームを用いた熱処理あるいは写真食刻形成によって行うこともできる。
いずれにせよ、多大な努力が必要である。さらに、この方法によって製造できる複数の微細構造は相応の複数の最小寸法に制限され、これらの寸法未満では複数のプロセスを進めることができない。
従って、本発明の目的は、界面反射を減らし、同時に製造コストを低減でき、また本発明を多種多様な複数の光学素子の製造に使用できるような1つの方法で、複数の高分子材料で作られた複数の透明な光学素子の表面を処理できる1つの解決策を提案することである。
本発明によると、この目的は、請求項1の複数の特徴を有する1つの方法によって達成することができ、請求項14に記載の1つの型を用いて複数の光学素子を製造することが可能である。
本発明の好都合な複数の実施態様および複数の展開は、複数の従属項に示す複数の特徴によって実現することができる。
少なくとも複数の特定領域における界面反射が低減された表面を有する透明な光学素子を複数製造するための本発明による方法の場合、下記の手順の第1ステップにおいて、1つの高分子材料から成る、「マスター」とも呼ばれる1つの基準素子の対象面を1つの真空室内で複数の高エネルギーイオンにさらす。これら複数の高エネルギーイオンを例えば1つのプラズマによって生成し、基準素子の対象面を1つのイオン衝撃にさらす。
従来製造されていた1つの光学素子を上記のように処理することによって基準素子として使用してもよい。
複数の高エネルギーイオンの影響によって、1つの不規則なナノ構造が基準素子の対象面上に形成される。このナノ構造の特徴は、凸部と凹部とが交互に複数形成されている点である。複数の凸部および複数の凹部が表面全体にさまざまな寸法で形成されるので、このナノ構造によって1つの屈折率傾斜層を実現することができる。
第2のステップでは、この基準素子の対象面を1つの導電性薄膜で被覆する。
次の第3の方法ステップで1つの型を電気化学的に形成できるように、この薄膜は単に複数の導電性のみが実現される厚さにすればよい。
このような1つの型は基準素子の被処理面の1つの完全なネガ断面を有するので、上記のナノ構造の複数の凸部に対応して複数の凹部が、また複数の凹部に対応して複数の凸部が重なり/組み込まれる。
複数の型の製造のための電気化学的形成を1つの従来方法によって行うこともでき、例えばニッケル溶着によってこのような複数の型を得ることもできる。
次に、この方法で製造された複数の型を用いて、複数の対象光学素子をそれ自体が公知の複数の成形法によって大量生産することができる。1つのナノ構造が形成された単一の基準素子から多数の型を電気化学的形成によって製造可能であるので、製造コストのさらなる低減が図れて都合がよい。
本発明によると、複数の水平平坦面あるいは複数の連続曲面を有する1つの単純なデザインの複数の基準素子ばかりでなく、複数の不連続面断面を有する複数の基準素子も、複数の光学素子の製造に使用できる。このような複数の基準素子は光学的に有効な複数の面断面、例えば複数のフレネル断面を有しうるので、本発明による解決策を用いることによって、少なくとも複数の有効側面における界面反射の低減が可能である。
次に、第3の方法ステップで作成されるような1つの型を用いて、複数の光学素子を製造できる。従って、複数のプラスチック製フィルムあるいは複数のシート状素子をホットエンボス加工によって、あるいは複数のプラスチック製小粒体あるいは微粒体から、複数の光学素子を製造することが可能である。
但し、このような複数の型にプラスチックを射出成形することによって複数の光学素子を製造することもまた可能である。
但し、1つの押出エンボス法によって複数の光学素子を製造してもよい。
複数の光学素子を少なくとも2つの材料から形成する場合、ケースごとに各材料の屈折率が異なる場合、および/あるいはより高い耐引掻性を有する1つの面被覆を用いる場合は、UV転写法が都合よく適している。
これら複数の光学素子は、多種多様な複数のプラスチックから製造しうる。所望の複数の光学的性質、ここでは特に屈折率、のほかは、それぞれの成形法にとって重要な複数の性質のみを考慮すればよい。
さらに、光学的に有効なナノ構造を1つの光学素子の1つの表面被覆上に形成することも可能である。例えば、商品名「オルモセル(ORMOCERe)」で市販されている1つの有機無機ハイブリッドポリマーなど、特に好都合な1つの「耐引掻性」被覆をゾルゲル法などによって施し、反射低減ナノ構造の形成中あるいは形成後に硬化させてもよい。ここで、このハイブリッドポリマー内の無機成分は1つのガラス素子(例えば二酸化硅素あるいは1つのシラン)であることが好ましい。
この方法によって、界面反射を低減するナノ構造は、複数のプラスチック製光学素子上に形成できるばかりでなく、複数の成形法による処理が不可能あるいは困難な複数の材料から形成された複数の光学素子の複数の表面上にも形成することができる。例えば、本発明は、1つのガラスから成る複数の光学素子の製造に使用できる。
本発明にとって重要なナノ構造をそれぞれ凹部を介在させながら形成する複数の凸部は、表面上に形成されるさまざまな凸部の高さが30nmから210nmの1つの範囲内に分布するように対象基準素子の表面上に形成してもよい。この場合、これら複数の凸部の平均厚は、各ケースにおいてそれぞれ30nmから150nmの範囲内に分布してもよく、この場合の平均厚とは各ケースにおける凸部の平均高における1つの凸部の厚みを意味するものとする。
複数の凸部の製造においては、それぞれの高さおよび/あるいは厚みが、1つの平均値、例えば高さ120nmおよび厚み80nm、を中心としたそれぞれの範囲内で一様に分布させることが好ましい。
複数の光学素子を製造するための型上のナノ構造のネガインプレッションの寸法は、これら複数の仕様に対応する。
驚くべきことに、複数の基準素子の1つの表面上に形成されたこのような1つのナノ構造を、使用した基準素子の表面上のポジ断面から1つの型の表面上に、特許請求項1による第2のおよび第3の方法ステップによって正確に、寸法誤差があったとしても僅かな誤差で、転写できることが分かった。
面反射を大幅に低減するナノ構造を複数の基準素子上に形成するステップである方法ステップ1について次により詳細に説明する。
1つの高分子可塑材料、好ましくはポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)(CR39)、あるいはメタクリル酸メチルを含有する複数のポリマーでできたこのような1つの基準素子を1つの真空室内に置き、この室内で1つのプラズマの影響にさらす。このプラズマによって複数の高エネルギーイオンが生成され、基準素子の所望の面が複数のイオンによって衝撃される。1つのDCアルゴンプラズマの使用が好ましく、酸素を加えると特に好ましい。
この場合、真空室は内圧10−3mbar未満、好ましくは約3×10−4mbarで作動させる必要がある。
プラズマは少なくとも30sccmの酸素の存在下で動作させるべきである。
生成される複数のイオンは100eVから160eVの範囲内の複数のエネルギーを有すべきであり、また基準素子の材料を考慮してイオンのエネルギーを設定すべきである。表面のイオン衝撃時間についても基準素子の材料を考慮すべきである。
従って、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)製の複数の基準素子をエネルギーが100eVから160eVの範囲、好ましくは120eVから140eVの範囲内に維持された複数のイオンによって200sから400sの間、好ましくは250sから350sの間の時間にわたって衝撃してもよい。
ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)製の複数の基準素子の場合は、複数のイオンのそれぞれの最小エネルギーを120eV、好ましくは150eVとし、イオン衝撃時間を少なくとも500sにすべきである。
本発明による方法によって製造された複数の光学素子の場合、表面の電磁放射の反射率を400nmから1100nmの波長範囲において最大2%に減らすことが可能であった。420nmから870nmの1つの波長範囲、すなわち可視光の大部分、においては、電磁放射の反射率を1.5%未満に減らすことが可能であった。
本発明によって、電磁放射のための多種多様な複数の光学素子、ここでは特に赤外光、可視光のスペクトル範囲、およびUV光の一部のスペクトル範囲における電磁放射のための多種多様な複数の光学素子を多種多様な用途のために製造することができる。さらに、わずかなコスト増で複数の光学的性質が向上させた多種多様な複数の投射光学素子、特に複数のフレネルレンズ、を容易に製造することが可能である。
但し、例えば複数の光学窓および複数のプリズムなど、他の複数の光学素子の製造も可能である。
さらに本発明は、複数の光学レンズ(及び複数のレンズアレイ)、複数のビームスプリッタ、複数の光導波路、複数の散光器、複数のレンチキュラーレンズの製造、および光学的に透明な複数のフィルムにも好適に使用しうる。
さらに重要な1つの用途は、複数の光学ディスプレイあるいは複数の光学表示素子の複数の透明カバーの作成である。例えば、多種多様な電気あるいは電子装置、例えば複数の電話機など、の表示用ディスプレイを本発明に従って製造することができる。
この場合、特に二重反射を防止することができる。
特定の複数の光学表示素子の場合、本発明を1つのカバーとしても使用できるので、複数の低出力光源を使用することが可能である。
一例として本発明を以下により詳細に説明する。
図1は、ポリメタクリル酸メチル製の1つの基準素子上に形成された1つのナノ構造の1つのAFM顕微鏡写真(原子間力顕微鏡)を示す。
このケースでは、ポリメタクリル酸メチル製の1つの基準素子を1つの真空室内に置き、この室内の圧力を7〜8×10−6mbarに下げた。1つのプラズマイオン源APS904(ライボルト・オプティクス社)を用い、30sccmの酸素を追加し、約3×10−4mbarの1つの圧力を維持することによって、1つのアルゴンプラズマを生成した。
このプラズマイオン源は少なくとも120Vの1つのバイアス電圧で作動させた。
この方法によって、少なくとも120eVのエネルギーを有する複数のイオンを発生させ、これら複数のイオンを基準素子のPMMA面に発射することが可能であった。
このイオン衝撃を300sにわたって行った。
図1に示すように、このイオン衝撃によって50nmから120nmの範囲内のさまざまな高さと、50nmから120nmの範囲内の平均厚とを有する複数の凸部を含む1つの不規則なナノ構造の形成が可能であった。図1では、複数の凸部が約1:1の1つのアスペクト比を維持していることも分かる。
1つの最大層厚が5nm、好ましくは1nm未満の1つの金薄膜をそれ自体が公知の1つの薄膜法によって基準素子のナノ構造化された表面上に形成した。
次に、この方法で作成した基準素子を用いて電気化学的な形成を行った。この方法によって、ほぼ同一のネガ断面を有し、さらに1つのナノ構造が重ねられた1つの型をニッケルから製造することが可能であった。次にこの型を用いて複数の光学素子をホットエンボス技術で製造したが、この型から少なくとも5000個のインプレッションを取るまでは磨耗による交換は不要であった。
Claims (21)
- 表面の少なくとも複数の特定領域における界面反射が低減された透明な光学素子を複数製造するための1つの方法であって、
1つの高分子材料から成り、前記対象光学素子に対応する1つの基準素子の前記対象表面を1つの真空中で複数の高エネルギーイオンの前記影響にさらすステップと、
この方法によって、凸部と凹部とが交互に複数配置された1つの不規則なナノ構造を前記対象表面上に形成するステップと、
その後、前記対象表面を1つの導電性薄膜で被膜するステップと、
次に、前記ナノ構造が重ねられた1つのネガ断面を有する1つの型を電気化学的形成法によって得るステップと、
このような1つの型を用いて、前記界面反射を低減する1つのナノ構造を1つの透明な光学素子の少なくとも1つの表面上に1つの成形法によって形成するステップと、を含む方法。 - 請求項1に記載の方法において、光学的に有効な1つの表面断面を有する1つの基準素子を用いることを特徴とする方法。
- 請求項1あるいは2に記載の方法において、前記複数の高エネルギーイオンを1つのアルゴン/酸素プラズマによって生成することを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、ポリメタクリル酸メチル、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)(CR39)、あるいはメタクリル酸メチルを含有する複数のポリマーを前記基準素子の前記製造に使用することを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、前記ナノ構造の前記複数の凸部をそれぞれの高さが30nm〜210nmの前記範囲内になるように前記複数の高エネルギーイオンによって形成することを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、前記ナノ構造の前記複数の凸部の前記複数の平均厚を30nm〜150nmの前記範囲内で形成することを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、前記導電層を1つの金属薄膜として形成することを特徴とする方法。
- 請求項9に記載の方法において、前記導電層を金から形成することを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、前記対象面に衝突する前記複数のイオンが100eVから160eVの前記範囲内の1つのエネルギーを有することを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、前記該当面の1つのイオン衝撃を200sから600sの間の1つの時間にわたって行うことを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、1つのイオン衝撃を10−3mbar未満の1つの圧力で行うことを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、前記複数の光学素子の前記成形をホットエンボス法によって、あるいは1つのプラスチック射出成形法によって行うことを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、前記複数の光学素子の前記成形を押出エンボス加工あるいはUV転写によって行うことを特徴とする方法。
- 先行請求項の何れか1項に記載の方法において、1つの光学素子の前記表面を1つの有機無機ハイブリッドポリマーによって被覆し、このハイブリッドポリマー層の前記表面上に前記ナノ構造を1つの型によって形成することを特徴とする方法。
- 請求項1〜14の何れか1項に記載の1つの方法によって製造される複数の光学素子を製造するための1つの型において、凸部と凹部とが交互に複数配置された1つの不規則なナノ構造が1つの表面上に形成され、
各ケースの前記複数の凹部が30nmから210nmの1つの範囲内の深さをそれぞれ有することを特徴とする型。 - 請求項15に記載の型において、前記複数の凹部が30nmから150nmの前記範囲内の1つの平均内法幅を有することを特徴とする型。
- 請求項15あるいは16に記載の型において、前記複数の凹部のそれぞれの深さおよび/あるいは厚みが1つの平均値を中心とした1つの範囲内に一様に分布することを特徴とする型。
- 請求項15〜17の何れか1項に記載の型において、前記型が複数のフレネルレンズの前記製造のために形成されることを特徴とする型。
- 請求項15〜17の何れか1項に記載の型において、前記型が複数の光学窓、複数の光学レンズ、複数のレンチキュラーレンズ、複数のビームスプリッタ、複数の光導波路、あるいは複数の光学プリズムの前記製造のために形成されることを特徴とする型。
- 請求項15〜17の何れか1項に記載の型において、前記型が光学的に透明な複数のフィルムの前記製造のために形成されることを特徴とする型。
- 請求項15〜17の何れか1項に記載の型において、前記型が複数のディスプレイあるいは複数の光学表示素子のための複数のカバーの前記製造のために形成されることを特徴とする型。
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