JPH08227092A - 焦点板及びその製造方法 - Google Patents
焦点板及びその製造方法Info
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- JPH08227092A JPH08227092A JP3373195A JP3373195A JPH08227092A JP H08227092 A JPH08227092 A JP H08227092A JP 3373195 A JP3373195 A JP 3373195A JP 3373195 A JP3373195 A JP 3373195A JP H08227092 A JPH08227092 A JP H08227092A
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- focusing screen
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 明るいファインダー像が得られるとともに大
きなボケ量が得られ、しかも回折現象の生じることのな
い焦点板を提供することを目的とする。 【構成】 透明基板の表面に樹脂層を積層し、この樹脂
層の表面に圧縮方向の内部残留応力を有する薄膜を積層
し、これに熱処理して前記樹脂層を軟化させるとともに
前記薄膜を伸張せしめ、もって前記薄膜を皺よらせて焦
点板を製造する。
きなボケ量が得られ、しかも回折現象の生じることのな
い焦点板を提供することを目的とする。 【構成】 透明基板の表面に樹脂層を積層し、この樹脂
層の表面に圧縮方向の内部残留応力を有する薄膜を積層
し、これに熱処理して前記樹脂層を軟化させるとともに
前記薄膜を伸張せしめ、もって前記薄膜を皺よらせて焦
点板を製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はおもに一眼レフカメラに
使用される焦点板に関する。
使用される焦点板に関する。
【０００２】
【従来の技術】一眼レフカメラのファインダーにおいて
は撮像光学系による像を焦点板上に結像させ、この像の
ボケ具合を観察してピントを合わせている。このためフ
ァインダー像が明るくて且つハッキリしたボケ像が得ら
れる焦点板が求められるのであるが、実際には、焦点板
の拡散性を大きくするとボケ量は大きくなる反面ファイ
ンダー像が暗くなり、逆に焦点板の拡散性を小さくする
とファインダー像は明るくなるがボケ量が減少するとい
う相反する現象を生じる。
は撮像光学系による像を焦点板上に結像させ、この像の
ボケ具合を観察してピントを合わせている。このためフ
ァインダー像が明るくて且つハッキリしたボケ像が得ら
れる焦点板が求められるのであるが、実際には、焦点板
の拡散性を大きくするとボケ量は大きくなる反面ファイ
ンダー像が暗くなり、逆に焦点板の拡散性を小さくする
とファインダー像は明るくなるがボケ量が減少するとい
う相反する現象を生じる。
【０００３】このような問題点を解決するものとして特
開昭６０−１１４８３４号公報では、焦点板の表面に微
小なマイクロレンズを規則的なパターンで形成し、マイ
クロレンズのパワーと配列を適切に設定することにより
ボケ量が大きく且つ視野の明るい焦点板を得るようにし
ていたが、規則的なパターンによって回折現象が生じる
ためファインダー像に虹色の干渉色がつくという欠点が
あった。
開昭６０−１１４８３４号公報では、焦点板の表面に微
小なマイクロレンズを規則的なパターンで形成し、マイ
クロレンズのパワーと配列を適切に設定することにより
ボケ量が大きく且つ視野の明るい焦点板を得るようにし
ていたが、規則的なパターンによって回折現象が生じる
ためファインダー像に虹色の干渉色がつくという欠点が
あった。
【０００４】そこで本出願人は先に特開昭６４−２９８
２７号公報において、マイクロレンズの表面を不規則的
に粗面化することによって回折現象の発生を抑えること
のできる焦点板を提案している。このような焦点板は、
金属面に角錐状の規則的な凸レリーフを形成し、該角錐
状凸レリーフの面に電気めっきを施して各角錐をレンズ
面にする工程と、該電気めっきによるレンズ面をＡＢＳ
樹脂に転写する工程と、この転写されたＡＢＳ樹脂をエ
ッチングにより粗面化する工程と、この粗面化されたＡ
ＢＳ樹脂に導電化処理を施す工程と、この導電化された
ＡＢＳ樹脂を金型に電鋳法により転写し、この転写面を
光学素材に転写する工程とによって製造することができ
る。
２７号公報において、マイクロレンズの表面を不規則的
に粗面化することによって回折現象の発生を抑えること
のできる焦点板を提案している。このような焦点板は、
金属面に角錐状の規則的な凸レリーフを形成し、該角錐
状凸レリーフの面に電気めっきを施して各角錐をレンズ
面にする工程と、該電気めっきによるレンズ面をＡＢＳ
樹脂に転写する工程と、この転写されたＡＢＳ樹脂をエ
ッチングにより粗面化する工程と、この粗面化されたＡ
ＢＳ樹脂に導電化処理を施す工程と、この導電化された
ＡＢＳ樹脂を金型に電鋳法により転写し、この転写面を
光学素材に転写する工程とによって製造することができ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述の先願
の技術では、ＡＢＳ樹脂にエッチングを施す必要があ
り、そのためにクロム酸−硫酸の化学エッチング液を使
用していた。しかしながらクロム酸は人体に有害である
ため、エッチング液洗浄や廃液処理に特殊な設備を必要
とし、コスト面および作業性に問題があった。
の技術では、ＡＢＳ樹脂にエッチングを施す必要があ
り、そのためにクロム酸−硫酸の化学エッチング液を使
用していた。しかしながらクロム酸は人体に有害である
ため、エッチング液洗浄や廃液処理に特殊な設備を必要
とし、コスト面および作業性に問題があった。
【０００６】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、先願発明のような危険な薬品を使用することなく、
明るいファインダー像が得られるとともに大きなボケ量
が得られ、しかも回折現象の生じることのない焦点板を
提供することを目的とする。
で、先願発明のような危険な薬品を使用することなく、
明るいファインダー像が得られるとともに大きなボケ量
が得られ、しかも回折現象の生じることのない焦点板を
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１に係る本発明の焦点板は、透明基板と、この
透明基板の表面に積層された樹脂層と、この樹脂層の表
面に積層された薄膜とからなり、前記薄膜が皺よって不
規則な凹凸面になっていることを特徴としている。
に請求項１に係る本発明の焦点板は、透明基板と、この
透明基板の表面に積層された樹脂層と、この樹脂層の表
面に積層された薄膜とからなり、前記薄膜が皺よって不
規則な凹凸面になっていることを特徴としている。
【０００８】また請求項２に係る本発明の焦点板の製造
方法は、透明基板の表面に樹脂層を積層し、この樹脂層
の表面に圧縮方向の内部残留応力を有する薄膜を積層
し、これに熱処理を施して前記樹脂層を軟化させるとと
もに前記薄膜を伸張せしめ、もって前記薄膜を皺よらせ
ることを特徴としている。
方法は、透明基板の表面に樹脂層を積層し、この樹脂層
の表面に圧縮方向の内部残留応力を有する薄膜を積層
し、これに熱処理を施して前記樹脂層を軟化させるとと
もに前記薄膜を伸張せしめ、もって前記薄膜を皺よらせ
ることを特徴としている。
【０００９】そして請求項３に記載したように、前記薄
膜はＳｉＯ2 ，ＣｅＯ2 ，ＷＯ3 ，またはＴａ2 Ｏ5 の
いずれかを含む誘電体薄膜であるのが望ましい。
膜はＳｉＯ2 ，ＣｅＯ2 ，ＷＯ3 ，またはＴａ2 Ｏ5 の
いずれかを含む誘電体薄膜であるのが望ましい。
【００１０】また請求項４に記載したように、前記薄膜
は複数層からなる反射防止膜として形成しても良い。
は複数層からなる反射防止膜として形成しても良い。
【００１１】さらに請求項５に記載したように、基板の
表面に樹脂層を積層し、この樹脂層の表面に圧縮方向の
内部残留応力を有する薄膜を積層し、これに熱処理して
前記樹脂層を軟化させるとともに前記薄膜を伸張せし
め、もって前記薄膜を皺よらせ、これを電鋳反転して型
を製造し、この型を用いたプレス成形によって焦点板を
製造しても良い。
表面に樹脂層を積層し、この樹脂層の表面に圧縮方向の
内部残留応力を有する薄膜を積層し、これに熱処理して
前記樹脂層を軟化させるとともに前記薄膜を伸張せし
め、もって前記薄膜を皺よらせ、これを電鋳反転して型
を製造し、この型を用いたプレス成形によって焦点板を
製造しても良い。
【００１２】
【作用】上記構成からなる本発明の焦点板を製造するに
は、樹脂層の表面に圧縮方向の内部残留応力を有する薄
膜を積層してから熱処理を施す。すると内部応力によっ
て薄膜が伸張する。これは面積が大きくなることで内部
に残留している圧縮応力を解放しようとするためであ
る。ところがこのとき薄膜自体は樹脂層の上に形成され
ており、その樹脂層は熱処理により軟化した状態になっ
ている。そのため薄膜が伸張した分だけ皺が発生し樹脂
の表層部と一体的に不規則な凹凸パターンを形成するこ
とになる。そしてこのようなランダムな凹凸パターンで
は回折現象は発生することはない。
は、樹脂層の表面に圧縮方向の内部残留応力を有する薄
膜を積層してから熱処理を施す。すると内部応力によっ
て薄膜が伸張する。これは面積が大きくなることで内部
に残留している圧縮応力を解放しようとするためであ
る。ところがこのとき薄膜自体は樹脂層の上に形成され
ており、その樹脂層は熱処理により軟化した状態になっ
ている。そのため薄膜が伸張した分だけ皺が発生し樹脂
の表層部と一体的に不規則な凹凸パターンを形成するこ
とになる。そしてこのようなランダムな凹凸パターンで
は回折現象は発生することはない。
【００１３】また薄膜材料としては内部に圧縮応力を有
する状態で積層できる透明な素材であればよいが、とく
に請求項３に列挙した材料が適している。本発明では薄
膜内部の圧縮応力が全応力値（内部応力×膜厚）で１０
Ｐａ・ｍ程度必要であるが、これらの材料では比較的簡
単にこの値が得られるからである。なおＳｉＯ2 の薄膜
をエネルギー硬化性樹脂上に積層した場合、長さ１０μ
ｍ，深さ０．１〜１μｍ程度の微細なすじ状の皺が発生
する。
する状態で積層できる透明な素材であればよいが、とく
に請求項３に列挙した材料が適している。本発明では薄
膜内部の圧縮応力が全応力値（内部応力×膜厚）で１０
Ｐａ・ｍ程度必要であるが、これらの材料では比較的簡
単にこの値が得られるからである。なおＳｉＯ2 の薄膜
をエネルギー硬化性樹脂上に積層した場合、長さ１０μ
ｍ，深さ０．１〜１μｍ程度の微細なすじ状の皺が発生
する。
【００１４】また請求項４に記載したように薄膜を複数
層形成し、これらの膜厚，材料を組み合わせて反射防止
膜を構成すると、樹脂表面の反射が防止され、焦点板の
明るさが向上するとともに表面の乱反射によるフレアー
が防止される。
層形成し、これらの膜厚，材料を組み合わせて反射防止
膜を構成すると、樹脂表面の反射が防止され、焦点板の
明るさが向上するとともに表面の乱反射によるフレアー
が防止される。
【００１５】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明に係る焦点
板及びその製造方法の実施例を説明する。なお、図面の
説明において同一の要素には同一符号を付し、重複する
説明を省略する。
板及びその製造方法の実施例を説明する。なお、図面の
説明において同一の要素には同一符号を付し、重複する
説明を省略する。
【００１６】（実施例１）
【００１７】まず、本発明の実施例１を説明する。
【００１８】図１は焦点板の製造方法における薄膜積層
後の状態を示す（ａ）断面図、および（ｂ）平面図であ
り、図２は完成した焦点板を示す（ａ）断面図、および
（ｂ）平面図である。
後の状態を示す（ａ）断面図、および（ｂ）平面図であ
り、図２は完成した焦点板を示す（ａ）断面図、および
（ｂ）平面図である。
【００１９】まず、透明基板１の表面に樹脂層２を積層
する。透明基板１は、大きさ３０mm×４０mm，厚さ１．
３mmで両面とも研磨されたＢＫ７ガラスの平板である。
樹脂層２はウレタンアクリレート系のエネルギー硬化性
樹脂を厚さ１００μｍにディッピングしたのち紫外線照
射して硬化させたものである。なお本実施例では透明基
板１と樹脂層２との間の剥離防止のためシランカップリ
ング剤３を介在させている。具体的には信越化学（株）
製ＫＢＭ−５０３をエタノール希釈したものを１nm以下
の厚さにスピンコートし、１００℃で２０分乾燥させ
た。
する。透明基板１は、大きさ３０mm×４０mm，厚さ１．
３mmで両面とも研磨されたＢＫ７ガラスの平板である。
樹脂層２はウレタンアクリレート系のエネルギー硬化性
樹脂を厚さ１００μｍにディッピングしたのち紫外線照
射して硬化させたものである。なお本実施例では透明基
板１と樹脂層２との間の剥離防止のためシランカップリ
ング剤３を介在させている。具体的には信越化学（株）
製ＫＢＭ−５０３をエタノール希釈したものを１nm以下
の厚さにスピンコートし、１００℃で２０分乾燥させ
た。
【００２０】なお透明基板の材質としては、ガラスのほ
か合成樹脂の板材でもよい。合成樹脂としてはＰＭＭ
Ａ，ＰＣ，アモルファスポリオレフィン，ＴＰＸ，ＰＢ
Ｓ，ＣＲ−３９などが使用可能である。特にＰＭＭＡは
透明性など光学性能が優れていること、射出成形が容易
であることから好ましい。
か合成樹脂の板材でもよい。合成樹脂としてはＰＭＭ
Ａ，ＰＣ，アモルファスポリオレフィン，ＴＰＸ，ＰＢ
Ｓ，ＣＲ−３９などが使用可能である。特にＰＭＭＡは
透明性など光学性能が優れていること、射出成形が容易
であることから好ましい。
【００２１】次に、樹脂層２の表面に圧縮方向の内部残
留応力を有する薄膜４を積層する。ＲＦマグネトロンス
パッタリング法によりＳｉＯ2 の誘電体薄膜を１０００
nmの厚さに成膜した。成膜条件は、基板は加熱せず、Ａ
ｒガス導入圧１Ｐａ、投入電力５００Ｗである。積層さ
れた薄膜４の内部残留応力は圧縮方向で１００Ｐａ・ｍ
であった。これは同一の成膜条件で直径３インチのＳｉ
ウェハに積層したときのウェハの反り量から測定した。
留応力を有する薄膜４を積層する。ＲＦマグネトロンス
パッタリング法によりＳｉＯ2 の誘電体薄膜を１０００
nmの厚さに成膜した。成膜条件は、基板は加熱せず、Ａ
ｒガス導入圧１Ｐａ、投入電力５００Ｗである。積層さ
れた薄膜４の内部残留応力は圧縮方向で１００Ｐａ・ｍ
であった。これは同一の成膜条件で直径３インチのＳｉ
ウェハに積層したときのウェハの反り量から測定した。
【００２２】なおこのような誘電体薄膜を形成するには
真空蒸着法またはスパッタリング法によるのが生産性・
光学性能確保の観点から望ましいが、他の成膜技術たと
えばイオンプレーティング法，ＰＶＤ法，ＣＶＤ法など
でも可能である。
真空蒸着法またはスパッタリング法によるのが生産性・
光学性能確保の観点から望ましいが、他の成膜技術たと
えばイオンプレーティング法，ＰＶＤ法，ＣＶＤ法など
でも可能である。
【００２３】次に、熱処理して樹脂層２を軟化させると
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度９０℃、湿度
９０％の環境に２４時間放置した。
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度９０℃、湿度
９０％の環境に２４時間放置した。
【００２４】以上の工程によって得られた焦点板の表面
は、図３の顕微鏡写真に示される如く、長さ１０μｍ前
後，深さ１μｍ程度の細いすじ状に全面が皺よった状態
になっていた。
は、図３の顕微鏡写真に示される如く、長さ１０μｍ前
後，深さ１μｍ程度の細いすじ状に全面が皺よった状態
になっていた。
【００２５】（実施例２）
【００２６】次に、本発明の実施例２を説明する。
【００２７】図４は焦点板の製造方法における（ａ）熱
処理前の焦点板を示す断面図、および（ｂ）完成した焦
点板を示す断面図である。本実施例は樹脂層の表面にフ
レネルレンズ５を成形した点と、薄膜を多層構造として
反射防止機能を持たせた点において前記実施例１と異な
っている。
処理前の焦点板を示す断面図、および（ｂ）完成した焦
点板を示す断面図である。本実施例は樹脂層の表面にフ
レネルレンズ５を成形した点と、薄膜を多層構造として
反射防止機能を持たせた点において前記実施例１と異な
っている。
【００２８】まず、透明基板１の表面に樹脂層２を積層
する。樹脂層２の表面にはフレネルレンズ５が形成され
ている。具体的にはエネルギー硬化性樹脂のディッピン
グを繰り返して厚さ０．６mmに積層し、これにフレネル
レンズ成形型を押しつけて成形し、その後、紫外線照射
して硬化させたものである。
する。樹脂層２の表面にはフレネルレンズ５が形成され
ている。具体的にはエネルギー硬化性樹脂のディッピン
グを繰り返して厚さ０．６mmに積層し、これにフレネル
レンズ成形型を押しつけて成形し、その後、紫外線照射
して硬化させたものである。
【００２９】次に、樹脂層２の表面に圧縮方向の内部残
留応力を有する薄膜４を積層する。電子線加熱の真空蒸
着法により樹脂層２から順に、ＳｉＯ2 （光学的膜厚nd
＝６０nm）、ＣｅＯ2 （nd＝３６nm）、ＳｉＯ2 （nd＝
１８５nm）の３層からなる反射防止膜を積層する。成膜
条件は、基板は加熱せず、蒸着室の到達圧力１×１０ -3
Ｐａ以下とした。薄膜４の内部残留応力は１０Ｐａ・ｍ
であった。
留応力を有する薄膜４を積層する。電子線加熱の真空蒸
着法により樹脂層２から順に、ＳｉＯ2 （光学的膜厚nd
＝６０nm）、ＣｅＯ2 （nd＝３６nm）、ＳｉＯ2 （nd＝
１８５nm）の３層からなる反射防止膜を積層する。成膜
条件は、基板は加熱せず、蒸着室の到達圧力１×１０ -3
Ｐａ以下とした。薄膜４の内部残留応力は１０Ｐａ・ｍ
であった。
【００３０】次に、熱処理して樹脂層２を軟化させると
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度７０℃、湿度
４０％の環境に２４時間放置した。
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度７０℃、湿度
４０％の環境に２４時間放置した。
【００３１】以上の工程によって得られた焦点板の表面
には、長さ１０μｍ前後，深さ０．２μｍ程度の細いす
じ状に全面が皺よった状態になっていた。また焦点板の
反射率は図５の如く４５０〜７００nmの範囲で３％以下
であった。
には、長さ１０μｍ前後，深さ０．２μｍ程度の細いす
じ状に全面が皺よった状態になっていた。また焦点板の
反射率は図５の如く４５０〜７００nmの範囲で３％以下
であった。
【００３２】（実施例３）
【００３３】次に、本発明の実施例３を説明する。
【００３４】図６は、焦点板の製造方法における、
（ａ）熱処理前の焦点板を示す断面図、および（ｂ）完
成した焦点板を示す断面図である。本実施例は樹脂層の
表面にマイクロレンズ６を成形した点と、薄膜を多層構
造として反射防止機能を持たせた点、さらに透明基板の
裏面にフレネルレンズ５を設けた点において前記実施例
１と異なっている。
（ａ）熱処理前の焦点板を示す断面図、および（ｂ）完
成した焦点板を示す断面図である。本実施例は樹脂層の
表面にマイクロレンズ６を成形した点と、薄膜を多層構
造として反射防止機能を持たせた点、さらに透明基板の
裏面にフレネルレンズ５を設けた点において前記実施例
１と異なっている。
【００３５】まず、透明基板１の表面に樹脂層２を積層
する。樹脂層２の表面にはマイクロレンズ６が形成さ
れ、裏面にはフレネルレンズ５が形成されている。表面
のマイクロレンズ６は、エネルギー硬化性樹脂を厚さ１
００μｍにディッピングしたのち後述する電鋳型を押し
つけて成形する。裏面のフレネルレンズは前記実施例２
と同様にして成形する。両面の成形後、紫外線照射して
樹脂を硬化させる。
する。樹脂層２の表面にはマイクロレンズ６が形成さ
れ、裏面にはフレネルレンズ５が形成されている。表面
のマイクロレンズ６は、エネルギー硬化性樹脂を厚さ１
００μｍにディッピングしたのち後述する電鋳型を押し
つけて成形する。裏面のフレネルレンズは前記実施例２
と同様にして成形する。両面の成形後、紫外線照射して
樹脂を硬化させる。
【００３６】次に、樹脂層２の表面に圧縮方向の内部残
留応力を有する薄膜４を積層する。マグネトロンスパッ
タリング法により樹脂層２から順に、ＳｉＯ2 （nd＝６
０nm）、Ｔａ2 Ｏ5 （nd＝３６nm）、ＳｉＯ2 （nd＝１
８５nm）の３層からなる反射防止膜を積層する。成膜条
件は、基板は加熱せず、処理室の到達圧力１Ｐａとし
た。薄膜４の内部残留応力は２０Ｐａ・ｍであった。
留応力を有する薄膜４を積層する。マグネトロンスパッ
タリング法により樹脂層２から順に、ＳｉＯ2 （nd＝６
０nm）、Ｔａ2 Ｏ5 （nd＝３６nm）、ＳｉＯ2 （nd＝１
８５nm）の３層からなる反射防止膜を積層する。成膜条
件は、基板は加熱せず、処理室の到達圧力１Ｐａとし
た。薄膜４の内部残留応力は２０Ｐａ・ｍであった。
【００３７】次に、熱処理して樹脂層２を軟化させると
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度４０℃、湿度
９０％の環境に２４時間放置した。
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度４０℃、湿度
９０％の環境に２４時間放置した。
【００３８】以上の工程によって得られた焦点板の表面
には、長さ１０μｍ前後，深さ０．２μｍ程度の細いす
じ状に全面が皺よった状態になっていた。また焦点板の
反射率は図７の如く４５０〜７００nmの範囲で３％以下
であった。
には、長さ１０μｍ前後，深さ０．２μｍ程度の細いす
じ状に全面が皺よった状態になっていた。また焦点板の
反射率は図７の如く４５０〜７００nmの範囲で３％以下
であった。
【００３９】次に、本実施例で使用した電鋳型の作り方
について図８〜図１０を参照して説明する。
について図８〜図１０を参照して説明する。
【００４０】まず３０mm×４０mm高さ２０mmの直方体の
金属片よりなるマスター型ブランク７の３０mm×４０mm
の平面に機械加工により規則的な角錐レリーフ８を形成
する。角錐レリーフ８は先端角１２０度のバイトによっ
て４０mmの辺に平行に１５μｍピッチで平行に溝加工を
したのち、その溝に対し１２０度，２４０度をなす方向
に同ピッチで溝加工して形成され、六角錐９と三角錐１
０とが規則的に配列されている。
金属片よりなるマスター型ブランク７の３０mm×４０mm
の平面に機械加工により規則的な角錐レリーフ８を形成
する。角錐レリーフ８は先端角１２０度のバイトによっ
て４０mmの辺に平行に１５μｍピッチで平行に溝加工を
したのち、その溝に対し１２０度，２４０度をなす方向
に同ピッチで溝加工して形成され、六角錐９と三角錐１
０とが規則的に配列されている。
【００４１】図１０において、１１は角錐レリーフ８面
に施したニッケルの電気めっき層であり、めっきによる
スムージングによって角錐頂部と稜線を丸め、各角錐レ
リーフ８をマイクロ凸レンズ１２に形成する。なおニッ
ケル電気めっきは、ワット浴を用い基礎光沢剤としてア
トテック社製のベロアＮｏ５０（商品名）をめっき液１
リットル当たり２０ミリリットル加えて、液温を５０〜
５４℃に保ちカソードロッキング法により行う。このよ
うにしてマイクロレンズ作成用のマスター型７ａを得
る。そしてこのマスター型７ａを電鋳反転することによ
りマイクロレンズ１２を反転凹にした電鋳型７ｂを作成
した。
に施したニッケルの電気めっき層であり、めっきによる
スムージングによって角錐頂部と稜線を丸め、各角錐レ
リーフ８をマイクロ凸レンズ１２に形成する。なおニッ
ケル電気めっきは、ワット浴を用い基礎光沢剤としてア
トテック社製のベロアＮｏ５０（商品名）をめっき液１
リットル当たり２０ミリリットル加えて、液温を５０〜
５４℃に保ちカソードロッキング法により行う。このよ
うにしてマイクロレンズ作成用のマスター型７ａを得
る。そしてこのマスター型７ａを電鋳反転することによ
りマイクロレンズ１２を反転凹にした電鋳型７ｂを作成
した。
【００４２】（実施例４）
【００４３】次に、本発明の実施例４を説明する。
【００４４】図１１は焦点板を構成する透明基板を示す
断面図である。また図１２は焦点板の製造方法における
熱処理前の焦点板を示す断面図であり、図１３は完成し
た焦点板を示す断面図である。本実施例は前記実施例３
をより簡易化したものであって、ガラス基板を使用せず
にあらかじめ裏面にフレネルレンズ５が形成された透明
樹脂板を請求項にいう透明基板として使用した点が異な
っている。
断面図である。また図１２は焦点板の製造方法における
熱処理前の焦点板を示す断面図であり、図１３は完成し
た焦点板を示す断面図である。本実施例は前記実施例３
をより簡易化したものであって、ガラス基板を使用せず
にあらかじめ裏面にフレネルレンズ５が形成された透明
樹脂板を請求項にいう透明基板として使用した点が異な
っている。
【００４５】まず、透明基板１の表面に樹脂層２を積層
する。透明基板１は、大きさ３０mm×４０mm，中心部の
厚さ１mmで裏面にフレネルレンズ５が形成されたＰＭＭ
Ａ樹脂板である。樹脂層２の表面には前記実施例３と同
様に電鋳型を用いてマイクロレンズ６が形成されてい
る。
する。透明基板１は、大きさ３０mm×４０mm，中心部の
厚さ１mmで裏面にフレネルレンズ５が形成されたＰＭＭ
Ａ樹脂板である。樹脂層２の表面には前記実施例３と同
様に電鋳型を用いてマイクロレンズ６が形成されてい
る。
【００４６】次に、樹脂層２の表面に圧縮方向の内部残
留応力を有する薄膜４を積層する。電子線加熱の真空蒸
着法により樹脂層２から順に、ＳｉＯ2 （nd＝２５n
m）、ＷＯ3 （nd＝３０nm）、ＳｉＯ2 （nd＝４７n
m）、ＷＯ3 （nd＝２６０nm）、ＳｉＯ2 （nd＝１２３n
m）の５層からなる反射防止膜を積層する。成膜条件
は、基板は加熱せず、蒸着室の到達圧力１×１０-3Ｐａ
以下とした。薄膜４の内部残留応力は３０Ｐａ・ｍであ
った。
留応力を有する薄膜４を積層する。電子線加熱の真空蒸
着法により樹脂層２から順に、ＳｉＯ2 （nd＝２５n
m）、ＷＯ3 （nd＝３０nm）、ＳｉＯ2 （nd＝４７n
m）、ＷＯ3 （nd＝２６０nm）、ＳｉＯ2 （nd＝１２３n
m）の５層からなる反射防止膜を積層する。成膜条件
は、基板は加熱せず、蒸着室の到達圧力１×１０-3Ｐａ
以下とした。薄膜４の内部残留応力は３０Ｐａ・ｍであ
った。
【００４７】次に、熱処理して樹脂層２を軟化させると
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度６０℃、湿度
８０％の環境に２４時間放置した。
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度６０℃、湿度
８０％の環境に２４時間放置した。
【００４８】以上の工程によって得られた焦点板の表面
には、長さ１０μｍ前後，深さ０．３μｍ程度の細いす
じ状に全面が皺よった状態になっていた。また焦点板の
反射率は図１４の如く４００〜７００nmの範囲で１％以
下であった。
には、長さ１０μｍ前後，深さ０．３μｍ程度の細いす
じ状に全面が皺よった状態になっていた。また焦点板の
反射率は図１４の如く４００〜７００nmの範囲で１％以
下であった。
【００４９】（実施例５）
【００５０】次に、本発明の実施例５を説明する。
【００５１】図１５は焦点板を構成する透明基板を示す
断面図である。また図１６は焦点板の製造方法における
熱処理前の焦点板を示す断面図であり、図１７は完成し
た焦点板を示す断面図である。本実施例は焦点板の表面
にフレネルレンズ５を形成し皺よらせるとともに、裏面
にはマイクロレンズ６を形成したものである。ただし実
際に使用する際にはフレネルレンズ５を下面（撮影レン
ズ側）に向けて使用するものである。
断面図である。また図１６は焦点板の製造方法における
熱処理前の焦点板を示す断面図であり、図１７は完成し
た焦点板を示す断面図である。本実施例は焦点板の表面
にフレネルレンズ５を形成し皺よらせるとともに、裏面
にはマイクロレンズ６を形成したものである。ただし実
際に使用する際にはフレネルレンズ５を下面（撮影レン
ズ側）に向けて使用するものである。
【００５２】まず、透明基板１の表面に樹脂層２を積層
する。透明基板１は、大きさ３０mm×４０mm，厚さ１mm
で裏面に微小なマイクロレンズ６が規則配列されたＰＭ
ＭＡ樹脂板である。樹脂層２の表面には前記実施例２と
同様にしてフレネルレンズ５が形成されている。
する。透明基板１は、大きさ３０mm×４０mm，厚さ１mm
で裏面に微小なマイクロレンズ６が規則配列されたＰＭ
ＭＡ樹脂板である。樹脂層２の表面には前記実施例２と
同様にしてフレネルレンズ５が形成されている。
【００５３】次に、樹脂層２の表面に圧縮方向の内部残
留応力を有する薄膜４を積層する。電子線加熱の真空蒸
着法により樹脂層２から順に、ＳｉＯ2 （nd＝２５n
m）、Ｔａ2 Ｏ5 （nd＝３０nm）、ＳｉＯ2 （nd＝４７n
m）、Ｔａ2 Ｏ5 （nd＝２６０nm）、ＳｉＯ2 （nd＝１
２３nm）の５層からなる反射防止膜を積層する。成膜条
件は、基板は加熱せず、蒸着室の到達圧力１×１０-3Ｐ
ａ以下とした。薄膜４の内部残留応力は４０Ｐａ・ｍで
あった。
留応力を有する薄膜４を積層する。電子線加熱の真空蒸
着法により樹脂層２から順に、ＳｉＯ2 （nd＝２５n
m）、Ｔａ2 Ｏ5 （nd＝３０nm）、ＳｉＯ2 （nd＝４７n
m）、Ｔａ2 Ｏ5 （nd＝２６０nm）、ＳｉＯ2 （nd＝１
２３nm）の５層からなる反射防止膜を積層する。成膜条
件は、基板は加熱せず、蒸着室の到達圧力１×１０-3Ｐ
ａ以下とした。薄膜４の内部残留応力は４０Ｐａ・ｍで
あった。
【００５４】次に、熱処理して樹脂層２を軟化させると
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度７０℃、湿度
７０％の環境に２４時間放置した。
ともに薄膜４を伸張させる。熱処理は温度７０℃、湿度
７０％の環境に２４時間放置した。
【００５５】以上の工程によって得られた焦点板の表面
には、長さ１０μｍ前後，深さ０．４μｍ程度の細いす
じ状に全面が皺よった状態になっていた。また焦点板の
反射率は図１８の如く４００〜７００nmの範囲で１％以
下であった。
には、長さ１０μｍ前後，深さ０．４μｍ程度の細いす
じ状に全面が皺よった状態になっていた。また焦点板の
反射率は図１８の如く４００〜７００nmの範囲で１％以
下であった。
【００５６】なお、上記実施例の説明から理解されるよ
うに、各請求項に記載された本発明は以下のように具体
化することが可能である。
うに、各請求項に記載された本発明は以下のように具体
化することが可能である。
【００５７】（１）請求項１，２における樹脂としてエ
ネルギー硬化性樹脂を用いること。本発明では透明基板
の表面に積層した樹脂層を熱処理により軟化させる必要
があるので、熱可塑性を有する樹脂を用いる必要がある
が、特にエネルギー硬化性樹脂が好適である。これは、
一般にエネルギー硬化性樹脂は通常の熱可塑性樹脂より
も可撓性が高く粘性的であり、とくに高温高湿度環境に
おいてこの性質が増進し非常に変形しやすくなるからで
ある。そして、所定の皺が形成された後、通常の環境に
戻せば、もとの形状に戻ることはなく長期的に安定した
状態になる。
ネルギー硬化性樹脂を用いること。本発明では透明基板
の表面に積層した樹脂層を熱処理により軟化させる必要
があるので、熱可塑性を有する樹脂を用いる必要がある
が、特にエネルギー硬化性樹脂が好適である。これは、
一般にエネルギー硬化性樹脂は通常の熱可塑性樹脂より
も可撓性が高く粘性的であり、とくに高温高湿度環境に
おいてこの性質が増進し非常に変形しやすくなるからで
ある。そして、所定の皺が形成された後、通常の環境に
戻せば、もとの形状に戻ることはなく長期的に安定した
状態になる。
【００５８】（２）請求項１，２における樹脂層の表面
にあらかじめマイクロレンズやフレネルレンズを形成し
ておき、この上に薄膜を積層して皺を発生させると、前
記先願における発明と同等の効果つまりマイクロレンズ
の規則配列による回折現象を不規則な皺によって抑止す
る効果を有する焦点板を簡単に製造することができる。
にあらかじめマイクロレンズやフレネルレンズを形成し
ておき、この上に薄膜を積層して皺を発生させると、前
記先願における発明と同等の効果つまりマイクロレンズ
の規則配列による回折現象を不規則な皺によって抑止す
る効果を有する焦点板を簡単に製造することができる。
【００５９】（３）請求項１，２における透明基板の裏
面にフレネルレンズを形成すること。この場合には、集
光用のフレネルレンズを一体化してコンパクトな焦点板
を得ることができる。
面にフレネルレンズを形成すること。この場合には、集
光用のフレネルレンズを一体化してコンパクトな焦点板
を得ることができる。
【００６０】（４）請求項２における熱処理が温度６０
〜１００℃かつ湿度８０〜１００％の環境に１０分以上
放置する工程であること。熱処理は温度４０〜１２０℃
であるか、または湿度４０〜１００％の環境に放置する
ことでも一応目的を達することができる。しかし、とく
に皺を深く形成するには、温度６０〜１００℃かつ湿度
８０〜１００％の環境が好ましい。この場合、放置後１
０分程度から徐々に皺が形成され、２４時間程度でパタ
ーン形成の進行が停止し、形状が安定する。
〜１００℃かつ湿度８０〜１００％の環境に１０分以上
放置する工程であること。熱処理は温度４０〜１２０℃
であるか、または湿度４０〜１００％の環境に放置する
ことでも一応目的を達することができる。しかし、とく
に皺を深く形成するには、温度６０〜１００℃かつ湿度
８０〜１００％の環境が好ましい。この場合、放置後１
０分程度から徐々に皺が形成され、２４時間程度でパタ
ーン形成の進行が停止し、形状が安定する。
【００６１】
【発明の効果】以上説明したように本発明の焦点板及び
その製造方法によれば、以下の効果が得られる。
その製造方法によれば、以下の効果が得られる。
【００６２】請求項１，２によれば、表面が皺よって不
規則な凹凸面であり十分な拡散性を有する焦点板を金型
などを使用せず簡単に得られる。そして本発明ではクロ
ム酸などの有害物質を使用しないため安全であり、廃液
処理施設等に特殊な設備を要することもない。
規則な凹凸面であり十分な拡散性を有する焦点板を金型
などを使用せず簡単に得られる。そして本発明ではクロ
ム酸などの有害物質を使用しないため安全であり、廃液
処理施設等に特殊な設備を要することもない。
【００６３】請求項３によれば、適切な材料の選択によ
り薄膜内部に十分な圧縮応力を発生させることができ、
微細で深い皺を形成することが可能になる。
り薄膜内部に十分な圧縮応力を発生させることができ、
微細で深い皺を形成することが可能になる。
【００６４】請求項４によれば、焦点板の表面に反射防
止膜が形成されているので、樹脂表面の反射が防止さ
れ、焦点板の明るさが向上するとともに表面の乱反射に
よるフレアーを防止することができる。
止膜が形成されているので、樹脂表面の反射が防止さ
れ、焦点板の明るさが向上するとともに表面の乱反射に
よるフレアーを防止することができる。
【００６５】請求項５によれば、本発明による焦点板を
母型としてプレス成形型を得るので、請求項１によって
製造するのと同等な焦点板をより安価に大量生産でき
る。
母型としてプレス成形型を得るので、請求項１によって
製造するのと同等な焦点板をより安価に大量生産でき
る。
【図１】本発明の実施例１による焦点板の製造方法にお
ける薄膜積層後の状態を示す（ａ）断面図、および
（ｂ）平面図である。
ける薄膜積層後の状態を示す（ａ）断面図、および
（ｂ）平面図である。
【図２】本発明の実施例１によって完成した焦点板を示
す（ａ）断面図、および（ｂ）平面図である。
す（ａ）断面図、および（ｂ）平面図である。
【図３】本発明の実施例１の焦点板について、（ａ）熱
処理前の状態、および（ｂ）熱処理後に完成した焦点板
の表面の状態、をそれぞれ撮影した顕微鏡写真である。
処理前の状態、および（ｂ）熱処理後に完成した焦点板
の表面の状態、をそれぞれ撮影した顕微鏡写真である。
【図４】本発明の実施例２による焦点板の製造方法にお
ける、（ａ）熱処理前の焦点板を示す断面図、および
（ｂ）完成した焦点板を示す断面図である。
ける、（ａ）熱処理前の焦点板を示す断面図、および
（ｂ）完成した焦点板を示す断面図である。
【図５】本発明の実施例２による焦点板についての分光
反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射率
である。
反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射率
である。
【図６】本発明の実施例３による焦点板の製造方法にお
ける、（ａ）熱処理前の焦点板を示す断面図、および
（ｂ）完成した焦点板を示す断面図である。
ける、（ａ）熱処理前の焦点板を示す断面図、および
（ｂ）完成した焦点板を示す断面図である。
【図７】本発明の実施例３による焦点板についての分光
反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射率
である。
反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射率
である。
【図８】実施例３の焦点板の製造に使用される電鋳型の
製造方法を説明する図である。
製造方法を説明する図である。
【図９】実施例３の焦点板の製造に使用される電鋳型の
製造方法を説明する図である。
製造方法を説明する図である。
【図１０】実施例３の焦点板の製造に使用される電鋳型
の製造方法を説明する図である。
の製造方法を説明する図である。
【図１１】本発明の実施例４の焦点板を構成する透明基
板を示す断面図である。
板を示す断面図である。
【図１２】本発明の実施例４による焦点板の製造方法に
おける熱処理前の焦点板を示す断面図である。
おける熱処理前の焦点板を示す断面図である。
【図１３】本発明の実施例４による焦点板の製造方法に
おける完成した焦点板を示す断面図である。
おける完成した焦点板を示す断面図である。
【図１４】本発明の実施例４による焦点板についての分
光反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射
率である。
光反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射
率である。
【図１５】本発明の実施例５の焦点板を構成する透明基
板を示す断面図である。
板を示す断面図である。
【図１６】本発明の実施例５による焦点板の製造方法に
おける熱処理前の焦点板を示す断面図である。
おける熱処理前の焦点板を示す断面図である。
【図１７】本発明の実施例４による焦点板の製造方法に
おける完成した焦点板を示す断面図である。
おける完成した焦点板を示す断面図である。
【図１８】本発明の実施例５による焦点板についての分
光反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射
率である。
光反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射
率である。
１ 透明基板 ２ 樹脂層 ３ カップリング剤 ４ 薄膜（誘電体薄膜） ５ フレネルレンズ ６ マイクロレンズ ７ マスター型ブランク ８ 角錐レリーフ ９ 六角錐 １０ 三角錘 １１ めっき層 １２ マイクロレンズ
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基板と、この透明基板の表面に積層
された樹脂層と、この樹脂層の表面に積層された薄膜と
からなり、前記薄膜が皺よって不規則な凹凸面になって
いることを特徴とする焦点板。 - 【請求項２】 透明基板の表面に樹脂層を積層し、この
樹脂層の表面に圧縮方向の内部残留応力を有する薄膜を
積層し、これに熱処理して前記樹脂層を軟化させるとと
もに前記薄膜を伸張せしめ、もって前記薄膜を皺よらせ
ることを特徴とする焦点板の製造方法。 - 【請求項３】 前記薄膜がＳｉＯ2 ，ＣｅＯ2 ，Ｗ
Ｏ3 ，またはＴａ2 Ｏ5のいずれかを含む誘電体薄膜で
ある請求項１記載の焦点板または請求項２記載の焦点板
の製造方法。 - 【請求項４】 前記薄膜が複数層からなる反射防止膜と
なっていることを特徴とする請求項１記載の焦点板また
は請求項２記載の焦点板の製造方法。 - 【請求項５】 基板の表面に樹脂層を積層し、この樹脂
層の表面に圧縮方向の内部残留応力を有する薄膜を積層
し、これに熱処理して前記樹脂層を軟化させるとともに
前記薄膜を伸張せしめ、もって前記薄膜を皺よらせ、こ
れを電鋳反転して型を得ることを特徴とする焦点板成形
型の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3373195A JPH08227092A (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | 焦点板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3373195A JPH08227092A (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | 焦点板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08227092A true JPH08227092A (ja) | 1996-09-03 |
Family
ID=12394556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3373195A Withdrawn JPH08227092A (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | 焦点板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08227092A (ja) |
-
1995
- 1995-02-22 JP JP3373195A patent/JPH08227092A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020507 |