JP2006521889A5 - - Google Patents

Claims (22)

1. 選択された組織部位のところで皮膚を引き締め、かつ、前記皮膚の表面を冷却するための器械（１０）であって、
   ＲＦ電極（２０）を含むＲＦ装置（５２）を備え、該ＲＦ装置（５２）は、ＲＦエネルギ源に結合されるように構成されており、
   さらに、前記選択された組織部位への治療を施すのを助けるために利用される情報を記憶するメモリ（５４）を備え、該メモリ（５４）は、前記ＲＦ装置（５２）に結合されており、
   さらに、前記ＲＦ装置（５２）に結合された冷却部材を備える器械（１０）において、
   前記冷却部材は、熱電冷却器（２３）を含む、
   ことを特徴とする器械（１０）。
2. 前記熱電冷却器（２３）は、前記ＲＦ電極（２０）の後面（２４）を冷却して、前記後面（２４）を所望の温度に維持するように構成されることを特徴とする、請求項１に記載の器械（１０）。
3. 前記熱電冷却器（２３）は、前記後面（２４）に隣接し、或いは、前記後面（２４）と接触することを特徴とする、請求項２に記載の器械（１０）。
4. 前記ＲＦ電極（２０）は、誘電体部分及び導電性部分を有することを特徴とする、請求項１から３のいずれか１項に記載の器械（１０）。
5. 前記ＲＦ電極（２０）の少なくとも一部が前記皮膚表面と接触するときに、前記ＲＦ電極（２０）は、前記皮膚表面と容量結合されることを特徴とする、請求項１から４のいずれか１項に記載の器械（１０）。
6. 前記メモリ（５４）は、前記ＲＦ電極（２０）、前記冷却部材、前記ＲＦエネルギ源のうちの少なくとも１つの作動を容易にする情報を記憶するように構成されることを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載の器械（１０）。
7. さらに、前記ＲＦ電極（２０）に結合されたセンサを備えることを特徴とする、請求項１から６のいずれか１項に記載の器械（１０）。
8. 前記センサは、温度センサ（４２）、又は、力センサ（４４）であることを特徴とする、請求項７に記載の器械（１０）。
9. 前記センサは、前記ＲＦ電極（２０）と前記皮膚表面の接触時を検出する温度センサ（４２）であることを特徴とする、請求項７又は８に記載の器械（１０）。
10. 前記ＲＦ電極（２０）の一部が皮膚により持ち上げられたか、或いは、前記ＲＦ電極（２０）の一部が皮膚と接触したかどうかを検出する複数の温度センサ（４２）を含むことを特徴とする、請求項７から９のいずれか１項に記載の器械（１０）。
11. 前記温度センサ（４２）、又は、前記複数の温度センサ（４２）は、熱電対、サーミスタ、赤外線光エミッタ、キャパシタ、インダクタ、又は、熱に敏感なダイオードから選ばれることを特徴とする、請求項８から１０のいずれか１項に記載の器械（１０）。
12. さらに、前記センサ、前記ＲＦ装置（５２）の少なくとも１つに結合されたフィードバック制御装置（５８）を備えることを特徴とする、請求項７から１１のいずれか１項に記載の器械（１０）。
13. 前記ＲＦ電極（２０）は、前記皮膚表面と容量結合されるように構成され、前記フィードバック制御装置（５８）は、電子コントローラ、マルチプレクサの少なくとも１つを含んでおり、前記マルチプレクサは、前記センサ、前記ＲＦ装置（５２）の少なくとも１つに多重送信されることを特徴とする、請求項１２に記載の器械（１０）。
14. 前記ＲＦ電極（２０）は、フレックス回路を含むことを特徴とする、請求項１から１３のいずれか１項に記載の器械（１０）。
15. 前記フレックス回路は、温度センサ（４２）、又は、力センサ（４４）を含むことを特徴とする、請求項１４に記載の器械（１０）。
16. 前記フレックス回路は、誘電体を含むことを特徴とする、請求項１４又は１５に記載の器械（１０）。
17. 前記メモリは、
    前記ＲＦ電極（２０）により送り出される電流の量を制御するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）のエネルギー送出し持続時間を制御するのを助けるように構成され、又は、
    標的温度に対する前記ＲＦ電極（２０）の温度を制御するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）の発火の最大回数を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）により送出し可能な最大許容電圧を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）の使用履歴を提供するのを助けるように構成され、又は、
    制御可能なデューティサイクルを前記冷却部材に与えるのを助けるように構成され、又は、
    前記冷却部材から送り出される冷却の制御可能な送出し量を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）を使用できる時間の長さを提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）の使用量を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）により治療される領域の数を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）を前記皮膚表面に対して移動させる回数を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）の使用の時間、日付のうちの少なくとも一方を提供するのを助けるように構成され、又は、
    角質層の厚さを提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）により送り出されるエネルギーの量を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）の状態を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦエネルギ源の状態を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記ＲＦ電極（２０）により送り出されるエネルギーに応答して組織の変化に関する情報を提供するのを助けるように構成され、又は、
    前記熱電冷却器（２３）に関する温度情報を提供するのを助けるように構成される、
    ことを特徴とする、請求項１から１６のいずれか１項に記載の器械（１０）。
18. 前記ＲＦ装置（５２）は、支持構造体（６０）を含むことを特徴とする、請求項１から１７のいずれか１項に記載の器械（１０）。
19. 前記ＲＦ装置（５２）は、前記支持構造体（６０）の近位部分のところに配置された後板（６２）を含むことを特徴とする、請求項１８に記載の器械（１０）。
20. さらに、前記後板（６２）のところに配置された複数の電気接触パッド（６４）を含むことを特徴とする、請求項１９に記載の器械（１０）。
21. 前記熱電冷却器（２３）の少なくとも一部は、前記後板（６２）を貫通することを特徴とする、請求項１９又は２０に記載の器械（１０）。
22. 前記支持構造体（６０）は、係合部材（６４）を含むことを特徴とする、請求項１８から２１のいずれか１項に記載の器械（１０）。