JP2006514102A - 2−オキソ−エタンスルホンアミド誘導体 - Google Patents
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Abstract
11βHSD1の阻害に使用する式(I)の化合物(式中、可変基は本明細書に記載のとおりである)が記載される。
【化1】
【化1】
Description
本発明は化合物、または薬剤的に受容できるその塩に関する。これらの化合物はヒト11−β−ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ1型酵素(11βHSD1)阻害活性を有し、従ってメタボリックシンドロームを含む疾患状態の処置に有用性があり、ヒトのような、温血動物の処置の方法に有用である。また、本発明は上記化合物の製造のための工程、それらを含む医薬組成物、およびヒトのような温血動物において11βHSD1を阻害する医薬品の製造におけるそれらの使用に関する。
グルココルチコイド(ヒトではコルチゾール、齧歯類ではコルチコステロン)は逆調節ホルモンである、すなわちそれらはインスリンの作用を妨害する(Dallman MF,Strack AM,Akana SF et al.1993;Front Neuroendocrinol 14,303−347)。それらは糖新生に関与する肝酵素の発現を調節し、脂肪組織からグリセロール(脂肪分解増大)および筋肉からアミノ酸(蛋白質合成減少および蛋白質分解増大)を放出することにより基質供給を増す。また、グルココルチコイドは前脂肪細胞からトリグリセリドを貯蔵できる成熟脂肪細胞への分化に重要である(Bujalska IJ et al.1999;Endocrinology 140,3188−3196)。“ストレス”に誘導されるグルココルチコイドが中心性肥満に関連する疾患状態にこのことが重要である可能性があり、そのような中心性肥満はそれ自体が2型糖尿病、高血圧および心血管疾患の重要な危険因子である(Bjorntorp P&Rosmond R 2000;Int.J.Obesity 24,S80−S85)。
グルココルチコイド活性は単にコルチゾールの分泌によってだけでなく、11−ベータヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ、11βHSD1(コルチゾンを活性化する)および11βHSD2(コルチゾールを活性化する)による活性化コルチゾールと不活性コルチゾンの細胞内相互変換により組織レベルでも制御されることは現在十分に証明されている(Sandeep TC&Walker BR 2001 Trends in Endocrinol&Metab.12,446−453)。この機序がヒトにおいて重要である可能性があるということは、インスリン感受性を増大させるカルベノキソロン(11βHSD1および11βHSD2を共に阻害する抗潰瘍薬)処置を使用して初めに示され(Walker BR et al.1995;J.Clin.Endocrinol.Metab.80,3155−3159)、11βHSD1が活性グルココルチコイドの組織レベルを減少させることによりインスリンの作用を都合よく調節している可能性があることを示唆する(Walker BR et al.1995;J.Clin.Endocrinol.Metab.80,3155−3159)。
臨床的には、クッシング症候群はコルチゾール過剰に関連し、それが今度はグルコース不耐性、中心性肥満(この蓄積部位における前脂肪細胞分化の刺激により引き起こされる)、高脂血症および高血圧に関連する。クッシング症候群はメタボリックシンドロームと多数の明白な類似点を有する。たとえメタボリックシンドロームが一般に過剰な循環コルチゾールレベルと関連していなくても(Jessop DS et al.2001;J.Clin.Endocrinol.Metab.86,4109−4114)、組織内の異常に高い11βHSD1活性が同じ作用を有すると予想される。肥満男性では、痩せた対照と同じか、またはそれより低い血漿中コルチゾールレベルを有するにもかかわらず、皮下脂肪の11βHSD1活性が非常に促進されていることが示された(Rask E et al.2001;J.Clin.Endocrinol.Metab.1418−1421)。さらに、メタボリックシンドロームに関連した中心性脂肪は、皮下脂肪よりかなり高レベルの11βHSD1活性を示す(Bujalska IJ et al.1997;Lancet 349,1210−1213)。したがって、グルココルチコイド、11βHSD1およびメタボリックシンドローム間に関連があると考えられる。
11βHSD1ノックアウトマウスは、絶食に反応した糖新生酵素のグルココルチコイド誘発活性化の低下、およびストレスまたは肥満に反応して、より低い血漿中グルコースレベルを示し(Kotelevtsev Y et al.1997;Proc.Natl.Acad.Sci USA 94,14924−14929)、2型糖尿病において血漿中グルコースレベルおよび肝グルコース産出を低下させることにおける11βHSD1阻害の有用性を示唆する。さらに、これらのマウスは低トリグリセリド量、増加したHDLコレステロールおよび増加したアポリポ蛋白質AIレベルを有する抗アテローム形成性リポ蛋白質特性を示す(Morton NM et al.2001;J.Biol.Chem.276,41293−41300)。この表現型は脂質異化酵素およびPPARαの肝臓発現増加のためである。さらに、このことはメタボリックシンドロームの高脂血症の処置における11βHSD1阻害の有用性を示唆する。
メタボリックシンドロームと11βHSD1間の関連の最も納得のいく証明は、11βHSD1を過剰発現するトランスジェニックマウスの最近の研究に見られる(Masuzaki H et al.2001;Science 294,2166−2170)。脂肪特異的プロモーターの制御下で発現される場合、11βHSD1トランスジェニックマウスはコルチコステロンの高脂肪レベル、中心性肥満、インスリン抵抗性糖尿病、高脂血症および過食症を有する。さらに重要なことには、これらのマウスの脂肪における増大した11βHSD1活性レベルは、肥満対照に見られるものと類似している。肝11βHSD1活性および血漿中コルチコステロンレベルは正常であるが、肝門脈コルチコステロンレベルは3倍増加し、このことが肝臓における代謝作用の原因であると考えられる。
結局、肥満男性における11βHSD1レベルと同様のレベルで、ただ脂肪だけにおいてそれを過剰発現することにより、マウスに完全なメタボリックシンドロームを模倣できることが現在明らかである。
11βHSD1組織分布は広範で、グルココルチコイド受容体のそれと重複する。したがって、11βHSD1阻害は潜在的に多数の生理的/病的役割におけるグルココルチコイドの作用を妨害してよい。11βHSD1はヒト骨格筋に存在し、蛋白質ターンオーバーおよびグルコース代謝におけるインスリンの同化作用に対するグルココルチコイドの妨害は実証されている(Whorwood CB et al.2001;J.Clin.Endocrinol.Metab.86,2296−2308)。骨格筋はしたがって11βHSD1に基づいた治療の重要な標的でなければならない。
また、グルココルチコイドはインスリン分泌を低下させ、このことはグルココルチコイド誘発インスリン抵抗性を悪化させる可能性がある。膵臓ランゲルハンス島は11βHSD1を発現し、カルベノキソロンはインスリン遊離に対する11−デヒドロコルチコステロンの作用を阻害することができる(Davani B et al.2000;J.Biol.Chem.275,34841−34844)。したがって、糖尿病の治療において、11βHSD1阻害剤はインスリン抵抗性に対して組織レベルで作用するだけでなく、インスリン分泌自体を増大させてもよい。
また、骨格発達および骨機能はグルココルチコイド作用によって調節される。11βHSD1はヒト骨破骨細胞および骨芽細胞に存在し、カルベノキソロンによる健康なボランティアの処置は、骨形成マーカーを変化させずに骨吸収マーカーの減少を示した(Cooper MS et al 2000;Bone 27,375−381)。骨における11βHSD1活性の阻害は骨粗鬆症の処置における保護機序として使用することができる。
また、グルココルチコイドは緑内障のような眼の疾患に関与する可能性がある。11βHSD1はヒトの眼圧に影響を与えることが示されていて、11βHSD1の阻害により緑内障に関連する、上昇した眼圧の緩和が期待できる(Rauz S et al.2001;Investigative Opthalmology&Visual Science 42,2037−2042)。
齧歯類およびヒトの両方において11βHSD1とメタボリックシンドローム間には説得力のある関連があると考えられる。証拠によると、2型肥満糖尿病患者において11βHSD1をとりわけ阻害する薬物は、肝糖新生を低下させることにより血糖を低下させ、中心性肥満を減らし、アテローム形成性リポ蛋白質表現型を改善し、血圧を下げ、そしてインスリン抵抗性を低下させることが示唆される。筋肉におけるインスリン作用は促進され、そして該島のβ細胞からのインスリン分泌も促進されるかもしれない。
現在、2種の主要な、承認されたメタボリックシンドロームの定義がある。
1)メタボリックシンドロームのAdult Treatment Panel(ATP III 2001 JMA)による定義は、患者が3以上の以下の症状を有する場合、かかる症候群が存在することを示唆する:
・少なくとも男性で40インチ(102cm)、女性で35インチ(88cm)の胴囲;
・少なくとも150mg/dl(1.69mmol/l)の血清中トリグリセリドレベル;
・男性で40mg/dl(1.04mmol/l)未満、女性で50mg/dl(1.29mmol/l)未満のHDLコレステロールレベル;
・少なくとも135/80mmHgの血圧;および/または
・少なくとも110mg/dl(6.1mmol/l)の血糖(血清中グルコース)。
2)WHO審議会は以下の定義を推奨し、その定義は因果関係を意味せず、後日改善されることになる実用的定義であると示唆される:
・患者が、少なくとも以下の状態の1種:
グルコース不耐性、耐糖能異常(IGT)または糖尿病および/またはインスリン抵抗性;と、
2種以上の以下の状態:
・動脈血圧上昇;
・血漿中トリグリセリド上昇
・中心性肥満
・微小アルブミン尿症
とを有する。
1)メタボリックシンドロームのAdult Treatment Panel(ATP III 2001 JMA)による定義は、患者が3以上の以下の症状を有する場合、かかる症候群が存在することを示唆する:
・少なくとも男性で40インチ(102cm)、女性で35インチ(88cm)の胴囲;
・少なくとも150mg/dl(1.69mmol/l)の血清中トリグリセリドレベル;
・男性で40mg/dl(1.04mmol/l)未満、女性で50mg/dl(1.29mmol/l)未満のHDLコレステロールレベル;
・少なくとも135/80mmHgの血圧;および/または
・少なくとも110mg/dl(6.1mmol/l)の血糖(血清中グルコース)。
2)WHO審議会は以下の定義を推奨し、その定義は因果関係を意味せず、後日改善されることになる実用的定義であると示唆される:
・患者が、少なくとも以下の状態の1種:
グルコース不耐性、耐糖能異常(IGT)または糖尿病および/またはインスリン抵抗性;と、
2種以上の以下の状態:
・動脈血圧上昇;
・血漿中トリグリセリド上昇
・中心性肥満
・微小アルブミン尿症
とを有する。
本発明者らは、本発明で定義された化合物、または薬剤的に受容できるその塩が有効な11βHSD1阻害剤であり、したがってメタボリックシンドロームに関連した疾患状態の処置に有用性があることを見出している。
したがって、11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における、式(I)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される:
[式中:
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC0〜4アルキレン−Y−およびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてよく;
nは0〜5であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択されるか;またはR2およびR3は一緒にC2〜6アルキレンを形成し;式中、R2およびR3は場合により独立してR8から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてよく;
R4およびR5の一方はC1〜4アルキルから選択され、そして他方は水素またはC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
Yは−S(O)a−、−O−、−C(O)−、−NR12−、−C(O)NR13−、−NR14C(O)−、またはSO2NR15−、であり;式中aは0〜2であり;
R12、R13、R14およびR15は、独立して水素、フェニルおよびC1〜4アルキルから選択され;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルから独立して選択され;ここで、R6およびR8は場合により1以上のR11により炭素上で置換されてもよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルファモイル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される]。
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC0〜4アルキレン−Y−およびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてよく;
nは0〜5であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択されるか;またはR2およびR3は一緒にC2〜6アルキレンを形成し;式中、R2およびR3は場合により独立してR8から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてよく;
R4およびR5の一方はC1〜4アルキルから選択され、そして他方は水素またはC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
Yは−S(O)a−、−O−、−C(O)−、−NR12−、−C(O)NR13−、−NR14C(O)−、またはSO2NR15−、であり;式中aは0〜2であり;
R12、R13、R14およびR15は、独立して水素、フェニルおよびC1〜4アルキルから選択され;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルから独立して選択され;ここで、R6およびR8は場合により1以上のR11により炭素上で置換されてもよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルファモイル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される]。
本発明の別の態様にしたがって、11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における、式(I)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される:
[式中:
環Aはアリールまたはヘテロアリールから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC0〜4アルキレン−Y−およびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択されるか、または隣接炭素上の2つのR1がオキシC1〜4アルコキシを形成してもよく;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてもよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてもよく;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択されてもよく;式中、R2およびR3は場合により独立してR8から選択される1以上の基により炭素上で置換されてもよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてもよく;
R4およびR5は独立してC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
Yは−S(O)a−、−O−、−NR12−、−C(O)、−C(O)NR13−、−NR14C(O)−、またはSO2NR15−、であり;式中aは0〜2であり;
R12、R13、R14およびR15は、独立して水素、フェニルおよびC1〜4アルキルから選択され;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルから独立して選択され;ここで、R6およびR8は独立して場合により1以上のR11により炭素上で置換されてもよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される]。
環Aはアリールまたはヘテロアリールから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC0〜4アルキレン−Y−およびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択されるか、または隣接炭素上の2つのR1がオキシC1〜4アルコキシを形成してもよく;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてもよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてもよく;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択されてもよく;式中、R2およびR3は場合により独立してR8から選択される1以上の基により炭素上で置換されてもよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてもよく;
R4およびR5は独立してC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
Yは−S(O)a−、−O−、−NR12−、−C(O)、−C(O)NR13−、−NR14C(O)−、またはSO2NR15−、であり;式中aは0〜2であり;
R12、R13、R14およびR15は、独立して水素、フェニルおよびC1〜4アルキルから選択され;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルから独立して選択され;ここで、R6およびR8は独立して場合により1以上のR11により炭素上で置換されてもよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される]。
本発明の別の態様にしたがって、11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における、式(I)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される:
[式中:
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC0〜4アルキレン−Y−およびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてよく;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択され;式中、R2およびR3は独立して場合によりR8から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてよく;
R4およびR5の一方はC1〜4アルキルから選択され、そして他方は水素またはC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
Yは−S(O)a−、−O−、−NR12−、−C(O)、−C(O)NR13−、−NR14C(O)−、またはSO2NR15−、であり;式中aは0〜2であり;
R12、R13、R14およびR15は、独立して水素、フェニルおよびC1〜4アルキルから選択され;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルから独立して選択され;ここで、R6およびR8は独立して場合により1以上のR11により炭素上で置換されてよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される]。
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC0〜4アルキレン−Y−およびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてよく;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択され;式中、R2およびR3は独立して場合によりR8から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてよく;
R4およびR5の一方はC1〜4アルキルから選択され、そして他方は水素またはC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
Yは−S(O)a−、−O−、−NR12−、−C(O)、−C(O)NR13−、−NR14C(O)−、またはSO2NR15−、であり;式中aは0〜2であり;
R12、R13、R14およびR15は、独立して水素、フェニルおよびC1〜4アルキルから選択され;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルから独立して選択され;ここで、R6およびR8は独立して場合により1以上のR11により炭素上で置換されてよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される]。
本発明の別の態様にしたがって、式(Ia)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩が提供される:
[式中:
環Aはフェニル、ピリジル、チアゾリル、チエニルおよびフリルから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてよく;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択され;式中、R2およびR3は場合により独立してR8から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてよく;
R4およびR5はC1〜4アルキルから独立して選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから独立して選択され;ここで、R6およびR8は独立して場合により1以上のR11により炭素上で置換されてよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される];ただし、前記化合物は(N−メチル−N−ブチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン;[1−(N,N−ジメチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−ニトロフェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−フルオロ−2−メチルアミノフェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(3−メトキシ−4−メチル−6−アミノフェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(3−メトキシ−6−アミノフェニル)ケトン、(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(2−アミノ−4−メトキシフェニル)ケトン;[1−(N−メチル−N−ブチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン;または(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(チエン−2−イル)ケトンではない。
環Aはフェニル、ピリジル、チアゾリル、チエニルおよびフリルから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてよく;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択され;式中、R2およびR3は場合により独立してR8から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして上記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてよく;
R4およびR5はC1〜4アルキルから独立して選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから独立して選択され;ここで、R6およびR8は独立して場合により1以上のR11により炭素上で置換されてよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される];ただし、前記化合物は(N−メチル−N−ブチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン;[1−(N,N−ジメチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−ニトロフェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−フルオロ−2−メチルアミノフェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(3−メトキシ−4−メチル−6−アミノフェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(3−メトキシ−6−アミノフェニル)ケトン、(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)ケトン;(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(2−アミノ−4−メトキシフェニル)ケトン;[1−(N−メチル−N−ブチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン;または(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(チエン−2−イル)ケトンではない。
本明細書では、“アルキル”という用語は直鎖および分枝鎖アルキル基を共に包含するが、個々のアルキル基、たとえば“プロピル”の意味は直鎖だけに特定される。たとえば、“C1〜4アルキル”は、プロピル、イソプロピルおよびt−ブチルを包含する。しかし、個々のアルキル基、たとえば“プロピル”の意味は直鎖だけに特定され、個々の分枝鎖アルキル基、たとえば“イソプロピル”の意味は分枝鎖だけに特定される。同様の取扱いが他の基にも適用され、したがって“カルボシクリルC1〜4アルキル”は1−カルボシクリルプロピル、2−カルボシクリルエチルおよび3−カルボシクリルブチルを包含する。“ハロ”という用語はフルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードを表す。
任意の置換基が“1以上”の基から選択される場合、この定義は特定された基の1つから選択されているすべての置換基、または2以上の特定された基から選択されている置換基を包含すると理解すべきである。
“ヘテロアリール”は完全に不飽和の3〜12原子を含む単または二環であり、それらの少なくとも1原子は窒素、硫黄または酸素から選択され、そしてそれらは特記しなければ、炭素または窒素に結合していてよい。適切には、“ヘテロアリール”は、完全に不飽和の5または6原子を含む単環、または8〜10原子を含む二環を表し、それらの少なくとも1原子は窒素、硫黄または酸素から選択され、そしてそれらは特記しなければ、炭素または窒素に結合していてよい。“ヘテロアリール”という用語の例、および適切な意味は、チエニル、フリル、チアゾリル、ピラゾリル、イソキサゾリル、イミダゾリル、ピロリル、チアジアゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリル、ピラニル、インドリル、ピリミジル、ピラジニル、ピラダジニル、ベンゾチエニル、ピリジルおよびキノリルである。とりわけ、“ヘテロアリール”はチエニル、フリル、チアゾリル、ピリジル、ベンゾチエニル、イミダゾリルまたはピラゾリルを表す。
“アリール”は、3〜12原子を含む、完全に不飽和の、単または二環式炭素環である。適切には、“アリール”は5〜6原子を含む単環、または9〜10原子を含む二環である。“アリール”の適切な意味はフェニルまたはナフチルを包含する。とりわけ、“アリール”はフェニルである。
“ヘテロシクリル”は、少なくとも1原子が窒素、硫黄または酸素から選択される3〜12原子を含む、飽和、部分的に飽和または不飽和の、単または二環であり、そしてそれらは特記しない限り、炭素または窒素に結合していてよく、ここで、−CH2−基は場合により−C(O)−によって置換されてもよく、または環の硫黄原子が場合により酸化されてS−オキシドを形成してもよい。好ましくは、“ヘテロシクリル”は、少なくとも1原子が窒素、硫黄または酸素から選択される5または6原子を含む、飽和、部分的に飽和または不飽和の、単または二環であり、そしてそれらは特記しない限り、炭素または窒素に結合していてよく、ここで、−CH2−基は場合により−C(O)−によって置換されてもよく、または環の硫黄原子が場合により酸化されてS−オキシド(複数のS−オキシド)を形成してもよい。“ヘテロシクリル”という用語の例および適切な意味はチエニル、ピペリジニル、モルホリニル、フリル、チアゾリル、ピリジル、イミダゾリル、1,2,4−トリアゾリル、チオモルホリニル、クマリニル、ピリミジニル、フタリジル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリダジニル、ベンゾチエニル、ベンズイミダゾリル、テトラヒドロフリル、[1,2,4]トリアゾロ[4,3−a]ピリミジニル、ピペリジニル、インドリル、1,3−ベンゾジオキソリルおよびピロリジニルである。
“カルボシクリル”は3〜12原子を含む、飽和、部分的に飽和または不飽和の、単環または二環であり;ここで、−CH2−基は場合により−C(O)−によって置換されてよい。好ましくは“カルボシクリル”は5もしくは6原子を含む単環、または9もしくは10原子を含む二環である。“カルボシクリル”の適切な意味としては、シクロプロピル、シクロブチル、1−オキソシクロペンチル、シクロペンチル、シクロペンテニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、フェニル、ナフチル、テトラリニル、インダニルまたは1−オキソインダニルが挙げられる。とりわけ“カルボシクリル”はシクロヘキシル、フェニル、ナフチルまたは2〜6−ジオキソシクロヘキシルである。
“C1〜4アルカノイルオキシ”の例としては、アセトキシが挙げられる。“C1〜4アルコキシカルボニル”の例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−およびt−ブトキシカルボニルが挙げられる。“C1〜4アルコキシ”の例としては、メトキシ、エトキシ、およびプロポキシが挙げられる。“オキシC1〜4アルコキシ”の例としては、オキシメトキシ、オキシエトキシおよびオキシプロポキシが挙げられる。“C1〜4アルカノイルアミノ”の例としては、ホルムアミド、アセタミド、プロピオニルアミノが挙げられる。“C1〜4アルキルS(O)a(式中aは0〜2)”の例としては、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メシルおよびエチルスルホニルが挙げられる。“C1〜4アルキルスルホニル”の例としては、メシルおよびエチルスルホニルが挙げられる。“C1〜4アルカノイル”の例としては、プロピオニルおよびアセチルが挙げられる。“N−(C1〜4アルキル)アミノ”の例としては、メチルアミノおよびエチルアミノが挙げられる。“N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ”の例としては、ジ−N−メチルアミノ、ジ−(N−エチル)アミノおよびN−エチル−N−メチルアミノが挙げられる。“C2〜4アルケニル”の例としてはビニル、アリルおよび1−プロペニルである。“C2〜4アルキニル”の例としては、エチニル、1−プロピニルおよび2−プロピニルが挙げられる。“N−(C1〜4アルキル)スルファモイル”の例としては、N−(C1〜3アルキル)スルファモイル、N−(メチル)スルファモイルおよびN−(エチル)スルファモイルが挙げられる。“N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル”の例としては、N,N−(ジメチル)スルファモイルおよびN−(メチル)−N−(エチル)スルファモイルが挙げられる。“N−(C1〜4アルキル)カルバモイル”の例としてはメチルアミノカルボニルおよびエチルアミノカルボニルが挙げられる。“N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル”の例としては、ジメチルアミノカルボニルおよびメチルエチルアミノカルボニルが挙げられる。“C1〜4アルキルスルホニルアミノ”の例としてはメシルアミノおよびエチルスルホニルアミノが挙げられる。“C0〜4アルキレン”の例としては、直接結合、メチレンおよびエチレンが挙げられる。“トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ”の例としては、トリ−(メチル)シリルオキシ、ジメチル−t−ブチルシリルオキシが挙げられる。“C2〜5アルキレン”の例としては、プロピレンおよびブチレンが挙げられる。
本発明の化合物の適切な薬剤的に受容できる塩は、たとえば無機または有機酸、たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸またはマレイン酸との酸付加塩のような、十分に塩基性である本発明の化合物の酸付加塩が挙げられる。さらに、十分に酸性である本発明の化合物の適切な薬剤的に受容できる塩は、アルカリ金属塩、たとえばナトリウムもしくはカリウム塩、アルカリ土類金属塩、たとえばカルシウムもしくはマグネシウム塩、アンモニウム塩または生理的に受容できるカチオンを与える有機塩基との塩、たとえばメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、ピペリジン、モルホリンもしくはtris−(2−ヒドロキシエチル)アミンとの塩が挙げられる。
式(I)のある種の化合物はキラル中心および/または幾何異性中心(E−およびZ−異性体)を有していてもよく、そして本発明は11βHSD1阻害活性を有するそのような光学的異性体、ジアステレオマーおよび幾何異性体をすべて包含すると理解すべきである。
本発明は11βHSD1阻害活性を有する式(I)の化合物の互変異性型のいずれか、またはすべてを包含すると理解すべきである。
また、非溶媒和型だけでなく、溶媒和型、たとえば水和型として存在してよいと理解すべきである。本発明は11βHSD1阻害活性を有するそのような溶媒和型のすべてを包含すると理解すべきである。
また、非溶媒和型だけでなく、溶媒和型、たとえば水和型として存在してよいと理解すべきである。本発明は11βHSD1阻害活性を有するそのような溶媒和型のすべてを包含すると理解すべきである。
可変基の具体的な意味は以下のとおりである。そのような意味は上記または下記に記載された定義、特許請求の範囲または態様のいずれでも適宜使用してよい。
環Aはアリールから選択される。
環Aはアリールから選択される。
環Aはヘテロアリールである。
環Aはカルボシクリルである。
環Aはヘテロシクリルである。
環Aはカルボシクリルである。
環Aはヘテロシクリルである。
環Aはフェニルである。
環Aはピリジル、フェニル、チエニル、フリルまたはピラジニルである。
環Aはピリド−2−イル、フェニル、チエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イルである。
環Aはピリジル、フェニル、チエニル、フリルまたはピラジニルである。
環Aはピリド−2−イル、フェニル、チエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イルである。
環Aはピリジル、フェニル、チエニル、フリル、ピラジリル、1,2,3−チアジアゾリル、チアゾリル、シクロヘキシル、ナフチル、シクロヘキセニル、ピラゾリル、ベンゾチエニル、インドリル、1,1,3−トリオキソ−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンズイソチアゾリル、1,3−ベンゾジオキソリル、シクロペンチル、テトラヒドロピラニル、1−オキソオクタヒドロピリド[1,2−a]ピラジニル、1,2,3,4−テトラヒドロナフチル、ピペリジニルおよびベンズチアゾリルである。
環Aはピリド−2−イル、ピリド−3−イル、フェニル、チエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イル、1,2,3−チアジアゾール−5−イル、チアゾール−2−イル、チアゾール−5−イル、シクロヘキシル、ナフタ−2−イル、シクロヘクス−1−エニル、ピラゾール−3−イル、ベンゾチエン−2−イル、インドール−5−イル、1,1,3−トリオキソ−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンズイソチアゾール−6−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、シクロペンチル、テトラヒドロピラン−4−イル、1−オキソオクタヒドロピリド[1,2−a]ピラジン−7−イル、1,2,3,4−テトラヒドロナフタ−2−イル、ピペリジン−4−イルおよびベンズチアゾール−2−イルである。
R1はハロ、シアノ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C1〜4アルコキシまたはC1〜4アルカノイルから選択される。
R1はフルオロ、クロロ、シアノ、メチル、1−プロペニル、メトキシまたはアセチルから選択される。
R1はフルオロ、クロロ、シアノ、メチル、1−プロペニル、メトキシまたはアセチルから選択される。
R1はハロ、ニトロ、シアノ、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;ここでR1は場合によりR6から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよい。
R1はフルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、シアノ、スルファモイル、メチル、エチル、t−ブチル、アリル、エチニル、メトキシ、イソプロポキシ、アセチル、ジメチル−t−ブチルシリルオキシ、フェニルおよびピリミジン−4−イルアミノであり:ここでR1は場合によりR6から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよい。
R1はハロ、ニトロ、シアノ、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;ここでR1は場合によりR6から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよく;
ここで
Yは−NR12−であり;
R12は水素であり;そして
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択される。
ここで
Yは−NR12−であり;
R12は水素であり;そして
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択される。
R1はフルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、シアノ、スルファモイル、メチル、エチル、t−ブチル、アリル、エチニル、メトキシ、イソプロポキシ、アセチル、ジメチル−t−ブチルシリルオキシ、フェニルおよびピリミジン−4−イルアミノであり:ここでR1は場合によりR6から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよく;
ここで
R6はフルオロ、クロロ、エテニル、アセチル、アセチルアミノおよびフェニルから選択される。
ここで
R6はフルオロ、クロロ、エテニル、アセチル、アセチルアミノおよびフェニルから選択される。
R1はフルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、シアノ、スルファモイル、メチル、アリル、t−ブチル、エチニル、メトキシ、イソプロポキシ、アセチル、アリルオキシ、トリフルオロメチル、フェニル、ベンジルオキシ、4−クロロフェニル、3−オキソブチル、2−クロロピリミジン−4−イル、アセタミドメチルおよびジメチル−t−ブチルシリルオキシから選択される。
Yは−NR12−である。
R12は水素である。
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択される。
R12は水素である。
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択される。
R6はフルオロ、クロロ、エテニル、アセチル、アセチルアミノおよびフェニルから選択される。
環Aがフェニルの場合、R1は2−フルオロ、3−フルオロ、4−フルオロ、2,4−ジフルオロ、3−クロロ、3−シアノ、4−シアノ、3−メチル、3−(1−プロペニル)、3−メトキシ、4−メトキシまたは4−アセチルから選択される。
環Aがフェニルの場合、R1は2−フルオロ、3−フルオロ、4−フルオロ、2,4−ジフルオロ、3−クロロ、3−シアノ、4−シアノ、3−メチル、3−(1−プロペニル)、3−メトキシ、4−メトキシまたは4−アセチルから選択される。
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよい。
nは0〜2であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよい。
nは0である。
nは0〜2であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよい。
nは0である。
nは1である。
nは2である。
nは3である。
nは2である。
nは3である。
R1、nおよび環Aは一緒にフェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェニル、3−メチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、3−イソプロポキシフェニル、4−イソプロポキシフェニル、3−シアノフェニル、4−シアノフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、4−スルファモイルフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、3−アリルフェニル、3−アリルオキシフェニル、4−アリルオキシフェニル、4−エチニルフェニル、3−ベンジルオキシフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、4−(3−オキソブチル)フェニル、4−(ジメチル−t−ブチルシリルオキシ)フェニル、4−(2−クロロピリミジン−4−イルアミノ)フェニル、4−(アセトアミドメチル)フェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジメチルフェニル、3,5−ジベンジルオキシフェニル、3−メトキシ−4−クロロフェニル、3−フルオロ−4−クロロフェニル、3−シアノ−4−メトキシフェニル、3−ヨード−4−メトキシフェニル、3−ニトロ−4−クロロフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、ビフェニル−3−イル、ビフェニル−4−イル、シクロヘキシル、6−シアノナフト−2−イル、シクロヘクス−1−エン−1−イル、シクロペンチル、3−フェニルシクロペンチル、ピリド−2−イル、2−メチルピリド−5−イル、チエン−2−イル、5−クロロチエン−2−イル、3−クロロ−4−メチルチエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イル、1,2,3−チアジアゾール−5−イル、チアゾール−2−イル、チアゾール−5−イル、4,5−ジクロロチアゾール−3−イル、5−(4−クロロフェニル)ピラゾール−3−イル、ベンゾチエン−2−イル、インドール−5−イル、1,1,3−トリオキソ−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンズイソチアゾリルゾール−6−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、テトラヒドロピラン−4−イル、1−オキソオクタヒドロピリド[1,2−a]ピラジン−7−イル、1,2,3,4−テトラヒドロナフト−2−イル、1−(ピリド−4−イル)ピペリジン−4−イルおよびベンゾチアゾール−2−イルを形成する。
R1、nおよび環Aは一緒にフェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、3−イソプロポキシフェニル、4−イソプロポキシフェニル、3−シアノフェニル、4−シアノフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、4−スルファモイルフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、3−アリルフェニル、3−アリルオキシフェニル、4−アリルオキシフェニル、4−エチニルフェニル、3−ベンジルオキシフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、4−(3−オキソブチル)フェニル、4−(ジメチル−t−ブチルシリルオキシ)フェニル、4−(2−クロロピリミジン−4−イルアミノ)フェニル、4−(アセトアミドメチル)フェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジメチルフェニル、3,5−ジベンジルオキシフェニル、3−メトキシ−4−クロロフェニル、3−フルオロ−4−クロロフェニル、3−シアノ−4−メトキシフェニル、3−ヨード−4−メトキシフェニル、3−ニトロ−4−クロロフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、ビフェニル−3−イル、ビフェニル−4−イル、シクロヘキシル、6−シアノナフト−2−イル、シクロヘクス−1−エン−1−イル、シクロペンチル、3−フェニルシクロペンチル、ピリド−2−イル、2−メチルピリド−5−イル、チエン−2−イル、5−クロロチエン−2−イル、3−クロロ−4−メチルチエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イル、1,2,3−チアジアゾール−5−イル、チアゾール−2−イル、チアゾール−5−イル、4,5−ジクロロチアゾール−3−イル、5−(4−クロロフェニル)ピラゾール−3−イル、ベンゾチエン−2−イル、インドール−5−イル、1,1,3−トリオキソ−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンズイソチアゾール−6−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、テトラヒドロピラン−4−イル、1−オキソオクタヒドロピリド[1,2−a]ピラジン−7−イル、1,2,3,4−テトラヒドロナフト−2−イル、1−(ピリド−4−イル)ピペリジン−4−イルおよびベンゾチアゾール−2−イルを形成する。
R2およびR3は共に水素である。
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択される。
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択されるか、またはR2およびR3は一緒にC2〜6アルキレンを形成する。
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択される。
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択されるか、またはR2およびR3は一緒にC2〜6アルキレンを形成する。
R2およびR3は独立して水素またはメチルから選択される
R2およびR3は独立して水素またはメチルから選択されるか、またはR2およびR3は一緒にブチレンを形成する。
R2およびR3は独立して水素またはメチルから選択されるか、またはR2およびR3は一緒にブチレンを形成する。
R2およびR3は共に水素である。
R2およびR3は共にメチルである。
R2およびR3は一緒になってブチレンを形成する。
R2およびR3は共にメチルである。
R2およびR3は一緒になってブチレンを形成する。
R2およびR3の一方は水素であり、他方はメチルである。
R4およびR5は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択され;式中R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される。
R4およびR5は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択され;式中R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される。
R4およびR5の一方は水素およびC1〜4アルキルから選択され、他方はC1〜4アルキルから選択され;式中R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される。
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される。
R4およびR5の一方は水素、メチル、イソプロピルおよびエチルから選択され、他方はメチル、イソプロピル、プロピルおよびエチルから選択され;式中R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよい。
R4およびR5は独立してメチル、エチル、プロピルおよびイソプロピルから選択され;式中R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよく;そして
R10はメトキシおよびN,N−ジメチルアミノから選択される。
R10はメトキシおよびN,N−ジメチルアミノから選択される。
R4およびR5の一方は水素、メチル、イソプロピルおよびエチルから選択され、他方はメチル、イソプロピル、プロピルおよびエチルから選択され;式中R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基によって炭素上で置換されてもよく;そして
R10はメトキシ、イソプロポキシおよびN,N−ジメチルアミノから選択される。
R10はメトキシ、イソプロポキシおよびN,N−ジメチルアミノから選択される。
R4およびR5は独立してメチル、エチル、2−メトキシエチル、2−(N,N−ジメチルアミノ)プロピルおよびイソプロピルから選択される。
R4およびR5の一方は水素、メチル、イソプロピルおよびエチルから選択され、他方はメチル、イソプロピル、プロピル、2−メトキシエチル、2−ジメチルアミノエチル、2−(イソプロポキシ)エチルおよびエチルから選択される。
R4およびR5の一方は水素、メチル、イソプロピルおよびエチルから選択され、他方はメチル、イソプロピル、プロピル、2−メトキシエチル、2−ジメチルアミノエチル、2−(イソプロポキシ)エチルおよびエチルから選択される。
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される。
R10はメトキシ、イソプロポおよびN,N−ジメチルアミノから選択される。
R10はメトキシ、イソプロポおよびN,N−ジメチルアミノから選択される。
R4およびR5はそれらが結合する窒素と一緒にイソプロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、N−(メチル)−N−(プロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(イソプロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−[2−(イソプロポキシ)エチル]アミノ、N−[メチル]−N−(2−ジメチルアミノエチル)アミノおよびN−(エチル)−N−(イソプロピル)アミノを形成する。
したがって、本発明の別の側面において、11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における、式(I)の化合物(先に記載)、または薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される:
[式中:
環Aはピリジル、フェニル、チエニル、フリルまたはピラジニルであり;
R1はハロ、シアノ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C1〜4アルコキシまたはC1〜4アルカノイルから選択され;
nは0〜2であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択され;
R4およびR5は独立してC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される]。
[式中:
環Aはピリジル、フェニル、チエニル、フリルまたはピラジニルであり;
R1はハロ、シアノ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C1〜4アルコキシまたはC1〜4アルカノイルから選択され;
nは0〜2であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択され;
R4およびR5は独立してC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される]。
したがって、本発明の別の側面において、11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における、式(I)の化合物(先に記載)、または薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される:
[式中:
環Aはピリド−2−イル、フェニル、チエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イルであり;
R1はフルオロ、クロロ、シアノ、メチル、1−プロペニル、メトキシまたはアセチルから選択され;
nは0〜2であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は独立して水素またはメチルから選択され;
R4およびR5は独立してメチル、エチル、2−メトキシエチル、2−(N,N−ジメチルアミノ)プロピルおよびイソプロピルから選択される]。
[式中:
環Aはピリド−2−イル、フェニル、チエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イルであり;
R1はフルオロ、クロロ、シアノ、メチル、1−プロペニル、メトキシまたはアセチルから選択され;
nは0〜2であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は独立して水素またはメチルから選択され;
R4およびR5は独立してメチル、エチル、2−メトキシエチル、2−(N,N−ジメチルアミノ)プロピルおよびイソプロピルから選択される]。
したがって、本発明の別の側面において、11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における式(I)の化合物(先に記載)、または薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される:
[式中、
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルであり;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
ここで:
Yは−NR12−であり
R12は水素であり;そして
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択され;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択され;
R4およびR5の一方は水素およびC1〜4アルキルから選択され、そして他方はC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される]。
[式中、
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルであり;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
ここで:
Yは−NR12−であり
R12は水素であり;そして
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択され;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択され;
R4およびR5の一方は水素およびC1〜4アルキルから選択され、そして他方はC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される]。
したがって、本発明の別の側面において、11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における式(I)の化合物(先に記載)、または薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される:
[式中、
R1、nおよび環Aは一緒にフェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェニル、3−メチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、3−イソプロポキシフェニル、4−イソプロポキシフェニル、3−シアノフェニル、4−シアノフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、4−スルファモイルフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、3−アリルフェニル、3−アリルオキシフェニル、4−アリルオキシフェニル、4−エチニルフェニル、3−ベンジルオキシフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、4−(3−オキソブチル)フェニル、4−(ジメチル−t−ブチルシリルオキシ)フェニル、4−(2−クロロピリミジン−4−イルアミノ)フェニル、4−(アセトアミドメチル)フェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジメチルフェニル、3,5−ジベンジルオキシフェニル、3−メトキシ−4−クロロフェニル、3−フルオロ−4−クロロフェニル、3−シアノ−4−メトキシフェニル、3−ヨード−4−メトキシフェニル、3−ニトロ−4−クロロフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、ビフェニル−3−イル、ビフェニル−4−イル、シクロヘキシル、6−シアノナフト−2−イル、シクロヘクス−1−エン−1−イル、シクロペンチル、3−フェニルシクロペンチル、ピリド−2−イル、2−メチルピリド−5−イル、チエン−2−イル、5−クロロチエン−2−イル、3−クロロ−4−メチルチエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イル、1,2,3−チアジアゾール−5−イル、チアゾール−2−イル、チアゾール−5−イル、4,5−ジクロロチアゾール−3−イル、5−(4−クロロフェニル)ピラゾール−3−イル、ベンゾチエン−2−イル、インドール−5−イル、1,1,3−トリオキソ−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンズイソチアゾール−6−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、テトラヒドロピラン−4−イル、1−オキソオクタヒドロピリド[1,2−a]ピラジン−7−イル、1,2,3,4−テトラヒドロナフト−2−イル、1−(ピリド−4−イル)ピペリジン−4−イルおよびベンゾチアゾール−2−イルを形成し;
R2およびR3は独立して水素またはメチルから選択され;そして
R4およびR5はそれらが結合する窒素と一緒にイソプロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、N−(メチル)−N−(プロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(イソプロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−[2−(イソプロポキシ)エチル]アミノ、N−(メチル)−N−(2−ジメチルアミノエチル)アミノおよびN−(エチル)−N−(イソプロピル)アミノを形成する]。
[式中、
R1、nおよび環Aは一緒にフェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェニル、3−メチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、3−イソプロポキシフェニル、4−イソプロポキシフェニル、3−シアノフェニル、4−シアノフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、4−スルファモイルフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、3−アリルフェニル、3−アリルオキシフェニル、4−アリルオキシフェニル、4−エチニルフェニル、3−ベンジルオキシフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、4−(3−オキソブチル)フェニル、4−(ジメチル−t−ブチルシリルオキシ)フェニル、4−(2−クロロピリミジン−4−イルアミノ)フェニル、4−(アセトアミドメチル)フェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジメチルフェニル、3,5−ジベンジルオキシフェニル、3−メトキシ−4−クロロフェニル、3−フルオロ−4−クロロフェニル、3−シアノ−4−メトキシフェニル、3−ヨード−4−メトキシフェニル、3−ニトロ−4−クロロフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、ビフェニル−3−イル、ビフェニル−4−イル、シクロヘキシル、6−シアノナフト−2−イル、シクロヘクス−1−エン−1−イル、シクロペンチル、3−フェニルシクロペンチル、ピリド−2−イル、2−メチルピリド−5−イル、チエン−2−イル、5−クロロチエン−2−イル、3−クロロ−4−メチルチエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イル、1,2,3−チアジアゾール−5−イル、チアゾール−2−イル、チアゾール−5−イル、4,5−ジクロロチアゾール−3−イル、5−(4−クロロフェニル)ピラゾール−3−イル、ベンゾチエン−2−イル、インドール−5−イル、1,1,3−トリオキソ−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンズイソチアゾール−6−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、テトラヒドロピラン−4−イル、1−オキソオクタヒドロピリド[1,2−a]ピラジン−7−イル、1,2,3,4−テトラヒドロナフト−2−イル、1−(ピリド−4−イル)ピペリジン−4−イルおよびベンゾチアゾール−2−イルを形成し;
R2およびR3は独立して水素またはメチルから選択され;そして
R4およびR5はそれらが結合する窒素と一緒にイソプロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、N−(メチル)−N−(プロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(イソプロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−[2−(イソプロポキシ)エチル]アミノ、N−(メチル)−N−(2−ジメチルアミノエチル)アミノおよびN−(エチル)−N−(イソプロピル)アミノを形成する]。
したがって、本発明の別の側面において、11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における式(I)の化合物(先に記載)、または薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される:
[式中、
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルであり;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
ここで:
Yは−NR12−であり
R12は水素であり;そして
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択され;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択されるか、またはR2およびR3は一緒にC2〜6アルキレンを形成し;
R4およびR5の一方は水素およびC1〜4アルキルから選択され、そして他方はC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される]。
[式中、
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルであり;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
ここで:
Yは−NR12−であり
R12は水素であり;そして
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択され;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択されるか、またはR2およびR3は一緒にC2〜6アルキレンを形成し;
R4およびR5の一方は水素およびC1〜4アルキルから選択され、そして他方はC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される]。
したがって、本発明の別の側面において、11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における式(I)の化合物(先に記載)、または薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される:
[式中、
R1、nおよび環Aは一緒にフェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、3−イソプロポキシフェニル、4−イソプロポキシフェニル、3−シアノフェニル、4−シアノフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、4−スルファモイルフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、3−アリルフェニル、3−アリルオキシフェニル、4−アリルオキシフェニル、4−エチニルフェニル、3−ベンジルオキシフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、4−(3−オキソブチル)フェニル、4−(ジメチル−t−ブチルシリルオキシ)フェニル、4−(2−クロロピリミジン−4−イルアミノ)フェニル、4−(アセトアミドメチル)フェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジメチルフェニル、3,5−ジベンジルオキシフェニル、3−メトキシ−4−クロロフェニル、3−フルオロ−4−クロロフェニル、3−シアノ−4−メトキシフェニル、3−ヨード−4−メトキシフェニル、3−ニトロ−4−クロロフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、ビフェニル−3−イル、ビフェニル−4−イル、シクロヘキシル、6−シアノナフト−2−イル、シクロヘクス−1−エン−1−イル、シクロペンチル、3−フェニルシクロペンチル、ピリド−2−イル、2−メチルピリド−5−イル、チエン−2−イル、5−クロロチエン−2−イル、3−クロロ−4−メチルチエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イル、1,2,3−チアジアゾール−5−イル、チアゾール−2−イル、チアゾール−5−イル、4,5−ジクロロチアゾール−3−イル、5−(4−クロロフェニル)ピラゾール−3−イル、ベンゾチエン−2−イル、インドール−5−イル、1,1,3−トリオキソ−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンズイソチアゾール−6−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、テトラヒドロピラン−4−イル、1−オキソオクタヒドロピリド[1,2−a]ピラジン−7−イル、1,2,3,4−テトラヒドロナフト−2−イル、1−(ピリド−4−イル)ピペリジン−4−イルおよびベンゾチアゾール−2−イルを形成し;
R2およびR3は独立して水素またはメチルから選択されるか、またはR2およびR3は一緒にブチレンを形成し;
R4およびR5はそれらが結合する窒素と一緒にイソプロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、N−(メチル)−N−(プロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(イソプロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−[2−(イソプロポキシ)エチル]アミノ、N−(メチル)−N−(2−ジメチルアミノエチル)アミノおよびN−(エチル)−N−(イソプロピル)アミノを形成する]。
[式中、
R1、nおよび環Aは一緒にフェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、3−イソプロポキシフェニル、4−イソプロポキシフェニル、3−シアノフェニル、4−シアノフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、4−スルファモイルフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、3−アリルフェニル、3−アリルオキシフェニル、4−アリルオキシフェニル、4−エチニルフェニル、3−ベンジルオキシフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、4−(3−オキソブチル)フェニル、4−(ジメチル−t−ブチルシリルオキシ)フェニル、4−(2−クロロピリミジン−4−イルアミノ)フェニル、4−(アセトアミドメチル)フェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジメチルフェニル、3,5−ジベンジルオキシフェニル、3−メトキシ−4−クロロフェニル、3−フルオロ−4−クロロフェニル、3−シアノ−4−メトキシフェニル、3−ヨード−4−メトキシフェニル、3−ニトロ−4−クロロフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、ビフェニル−3−イル、ビフェニル−4−イル、シクロヘキシル、6−シアノナフト−2−イル、シクロヘクス−1−エン−1−イル、シクロペンチル、3−フェニルシクロペンチル、ピリド−2−イル、2−メチルピリド−5−イル、チエン−2−イル、5−クロロチエン−2−イル、3−クロロ−4−メチルチエン−2−イル、フル−2−イル、ピラジン−2−イル、1,2,3−チアジアゾール−5−イル、チアゾール−2−イル、チアゾール−5−イル、4,5−ジクロロチアゾール−3−イル、5−(4−クロロフェニル)ピラゾール−3−イル、ベンゾチエン−2−イル、インドール−5−イル、1,1,3−トリオキソ−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンズイソチアゾール−6−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、テトラヒドロピラン−4−イル、1−オキソオクタヒドロピリド[1,2−a]ピラジン−7−イル、1,2,3,4−テトラヒドロナフト−2−イル、1−(ピリド−4−イル)ピペリジン−4−イルおよびベンゾチアゾール−2−イルを形成し;
R2およびR3は独立して水素またはメチルから選択されるか、またはR2およびR3は一緒にブチレンを形成し;
R4およびR5はそれらが結合する窒素と一緒にイソプロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、N−(メチル)−N−(プロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(イソプロピル)アミノ、N−(メチル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−(2−メトキシエチル)アミノ、N−(イソプロピル)−N−[2−(イソプロポキシ)エチル]アミノ、N−(メチル)−N−(2−ジメチルアミノエチル)アミノおよびN−(エチル)−N−(イソプロピル)アミノを形成する]。
本発明の別の側面において、本発明の好ましい化合物は実施例のいずれか1種または薬剤的に受容できるその塩である。
本発明の別の側面において、本発明の好ましい化合物は実施例2、8、12、14、31、35、55、75もしくは82、または薬剤的に受容できるその塩である。
本発明の別の側面において、本発明の好ましい化合物は実施例2、8、12、14、31、35、55、75もしくは82、または薬剤的に受容できるその塩である。
本発明の別の側面において、本発明の好ましい化合物は参照実施例のいずれか1種または薬剤的に受容できるその塩である。
本発明の別の側面は式(I)または(Ia)の化合物または薬剤的に受容できるその塩を製造するための工程を提供し、その工程(ここで、特記しない限り、可変基は式(I)または(Ia)に記載のとおりである)は以下のものを含む:
工程1):式(II)の化合物(式中、Vは置換可能な基である):
本発明の別の側面は式(I)または(Ia)の化合物または薬剤的に受容できるその塩を製造するための工程を提供し、その工程(ここで、特記しない限り、可変基は式(I)または(Ia)に記載のとおりである)は以下のものを含む:
工程1):式(II)の化合物(式中、Vは置換可能な基である):
と式(III)の有機金属試薬(式中Mは金属試薬である):
を反応させること:
工程2):式(IV)の化合物(式中、Lは置換可能な基である):
工程2):式(IV)の化合物(式中、Lは置換可能な基である):
と式(V)のアミン;
を反応させること:
工程3):式(VI)の化合物(式中RxOC(O)−はエステルである):
工程3):式(VI)の化合物(式中RxOC(O)−はエステルである):
と式(VII)の化合物:
を反応させること:
工程4):R2が水素ではない、式(I)の化合物の場合;式(VIII)の化合物:
工程4):R2が水素ではない、式(I)の化合物の場合;式(VIII)の化合物:
を脱プロトンし、そして式(IX)の化合物(式中R2は水素ではなく、Lは置換可能な基である):
R2−L
(IX)
と反応させること;
そしてその後必要であるか、または所望する場合、
i)式(I)の化合物を別の式(I)の化合物に変換すること;
ii)いずれかの保護基を除去すること;
iii)薬剤的に受容できるその塩を形成すること。
R2−L
(IX)
と反応させること;
そしてその後必要であるか、または所望する場合、
i)式(I)の化合物を別の式(I)の化合物に変換すること;
ii)いずれかの保護基を除去すること;
iii)薬剤的に受容できるその塩を形成すること。
Lは置換可能な基であり、Lの適切な意味としてはハロ、とりわけフルオロまたはクロロが挙げられる。
Vは置換可能な基であり、Vの適切な意味としてはWeinrebアミドN−メチル−N−メトキシアミンが挙げられる。
Vは置換可能な基であり、Vの適切な意味としてはWeinrebアミドN−メチル−N−メトキシアミンが挙げられる。
Mは金属試薬である。Mの適切な意味としてはMgBrおよびリチウムのようなグリニャール試薬が挙げられる。
基RxOC(O)−はエステルである。Rxの適切な意味はメチルおよびエチルである。
基RxOC(O)−はエステルである。Rxの適切な意味はメチルおよびエチルである。
先に記載の反応は標準条件で実行してよい。先に記載の中間体は市販されて、当該技術分野で公知であるか、または公知の手順で製造することができる。
本発明の化合物における種々の置換基のいくつかは、先に記載の工程の前か、またはすぐ後のいずれかに、標準芳香族置換反応により導入されるか、または慣用の官能基改変により作製されてよいと理解され、そのまま本発明の工程側面に包含される。そのような反応および改変には、たとえば芳香族置換反応による置換基の導入、置換基の還元、置換基のアルキル化および置換基の酸化が挙げられる。そのような手順のための試薬および反応条件は化学技術分野で公知である。芳香族置換反応の具体的な例としては濃縮硝酸を使用したニトロ基の導入、フリーデルクラフト条件下で、たとえばアシルハライドおよびルイス酸(たとえばアルミニウムトリクロリド)を使用したアシル基の導入;フリーデルクラフト条件下で、たとえばアルキルハライドおよびルイス酸(たとえばアルミニウムトリクロリド)を使用したアルキル基の導入;およびハロゲノ基の導入が挙げられる。改変の具体的な例としては、たとえばニッケル触媒による接触水素化、または加熱した塩酸存在下での鉄処理によるニトロ基からアミノ基への還元;アルキルチオからアルキルスルフィニルまたはアルキルスルホニルへの酸化が挙げられる。
本発明の化合物における種々の置換基のいくつかは、先に記載の工程の前か、またはすぐ後のいずれかに、標準芳香族置換反応により導入されるか、または慣用の官能基改変により作製されてよいと理解され、そのまま本発明の工程側面に包含される。そのような反応および改変には、たとえば芳香族置換反応による置換基の導入、置換基の還元、置換基のアルキル化および置換基の酸化が挙げられる。そのような手順のための試薬および反応条件は化学技術分野で公知である。芳香族置換反応の具体的な例としては濃縮硝酸を使用したニトロ基の導入、フリーデルクラフト条件下で、たとえばアシルハライドおよびルイス酸(たとえばアルミニウムトリクロリド)を使用したアシル基の導入;フリーデルクラフト条件下で、たとえばアルキルハライドおよびルイス酸(たとえばアルミニウムトリクロリド)を使用したアルキル基の導入;およびハロゲノ基の導入が挙げられる。改変の具体的な例としては、たとえばニッケル触媒による接触水素化、または加熱した塩酸存在下での鉄処理によるニトロ基からアミノ基への還元;アルキルチオからアルキルスルフィニルまたはアルキルスルホニルへの酸化が挙げられる。
また、本明細書に記載の反応のいくつかでは化合物の任意の感受性基を保護することが必要であってよい/所望されてよいことが理解されるであろう。保護が必要であるか、または所望される場合の例および保護のための適切な方法は当業者に公知である。慣用の保護基は標準的な慣例に従って使用することができる(説明のためには、T.W.Green,Protective Groups in Organic Synthesis,John Wiley and Sons,1991を参照されたい)。したがって、反応物がアミノ、カルボキシまたはヒドロキシのような基を含む場合、本明細書に記載の反応のいくつかでは基を保護することが所望されてよい。
アミノまたはアルキルアミノ基の適切な保護基は、たとえばアシル基、たとえばアセチルのようなアルカノイル基、アルコキシカルボニル基、たとえばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルもしくはt−ブトキシカルボニル基、アリールメトキシカルボニル基、たとえばベンジルカルボニル、またはアロイル基、たとえばベンゾイルである。上記の保護基の脱保護条件は必然的に保護基の選択と共に変化する。したがって、たとえばアルカノイルもしくはアルコキシカルボニル基のようなアシル基、またはアロイル基は、たとえばアルカリ金属水酸化物、たとえば水酸化リチウムまたはナトリウムのような適切な塩基による加水分解により除去することができる。あるいは、t−ブトキシカルボニル基のようなアシル基は、たとえば塩酸、硫酸もしくは燐酸またはトリフルオロ酢酸のような適切な酸による処置により除去してもよく、そしてベンジルオキシカルボニル基のようなアリールメトキシカルボニル基は、たとえばパラジウム‐炭素のような触媒による水素添加、またはルイス酸、たとえばトリス(トリフルオロ酢酸)ホウ素による処置により除去してもよい。第1アミノ基の適切な代替保護基は、たとえば、ジメチルアミノプロピルアミンのようなアルキルアミン、またはヒドラジンによる処理により除去することができるフタロイル基である。
ヒドロキシ基の適切な保護基は、たとえばアシル基、たとえばアセチルのようなアルカノイル基、アロイル基、たとえばベンゾイル、またはアリールメチル基、たとえばベンジルである。上記の保護基の脱保護条件は必然的に保護基の選択と共に変化することになる。したがって、たとえばアルカノイルのようなアシル基またはアロイル基は、たとえばアルカリ金属水酸化物、たとえば水酸化リチウムまたはナトリウムのような適切な塩基による加水分解により除去することができる。あるいは、ベンジル基のようなアリールメチル基は、たとえばパラジウム‐炭素のような触媒による水素添加により除去してもよい。
カルボニル基の適切な保護基は、たとえば、エステル化基、たとえば水酸化ナトリウムのような塩基による加水分解により除去することができるメチルもしくはエチル基、または、酸、たとえばトリフルオロ酢酸のような有機酸による処置により除去することができるt−ブチル基、またはたとえばパラジウム‐炭素のような触媒による水素添加により除去することができるベンジル基である。
保護基は化学技術分野で公知の慣用の技術を使用して、いずれか都合のよい合成段階において除去することができる。
先に記載のように、本発明で説明した化合物は11βHSD1阻害活性を有する。これらの特性は以下のアッセイを使用して評価することができる。
先に記載のように、本発明で説明した化合物は11βHSD1阻害活性を有する。これらの特性は以下のアッセイを使用して評価することができる。
アッセイ
HeLa細胞(ヒト子宮頚癌由来細胞)はベータ‐ガラクトシダーゼレポーター遺伝子(pSV−B−ガラクトシダーゼに由来する3kb lacZ遺伝子)に結合したグルココルチコイド反応エレメント(GRE)の4コピーを含む構築物により安定にトランスフェクションされた。これらの細胞はさらに、全長ヒト11βHSD1酵素を含む構築物(pCMVHyg)により安定にトランスフェクションされ、GRE4−βGal/11βHSD1細胞が作製された。アッセイの原理は以下のとおりである。コルチゾンは細胞により自由に取り込まれ、11βHSD1オキソ‐レダクターゼ活性によりコルチゾールに変換され、そしてコルチゾール(コルチゾンではない)はグルココルチコイド受容体に結合し、それを活性化する。次に活性化されたグルココルチコイド受容体はGREに結合し、そしてβ‐ガラクトシダーゼの転写および翻訳を開始する。その後比色アッセイにより酵素活性を高感度でアッセイすることができる。11βHSD1阻害剤はコルチゾンからコルチゾールへの変換を減じ、したがってβ‐ガラクトシダーゼの産生を減らす。
HeLa細胞(ヒト子宮頚癌由来細胞)はベータ‐ガラクトシダーゼレポーター遺伝子(pSV−B−ガラクトシダーゼに由来する3kb lacZ遺伝子)に結合したグルココルチコイド反応エレメント(GRE)の4コピーを含む構築物により安定にトランスフェクションされた。これらの細胞はさらに、全長ヒト11βHSD1酵素を含む構築物(pCMVHyg)により安定にトランスフェクションされ、GRE4−βGal/11βHSD1細胞が作製された。アッセイの原理は以下のとおりである。コルチゾンは細胞により自由に取り込まれ、11βHSD1オキソ‐レダクターゼ活性によりコルチゾールに変換され、そしてコルチゾール(コルチゾンではない)はグルココルチコイド受容体に結合し、それを活性化する。次に活性化されたグルココルチコイド受容体はGREに結合し、そしてβ‐ガラクトシダーゼの転写および翻訳を開始する。その後比色アッセイにより酵素活性を高感度でアッセイすることができる。11βHSD1阻害剤はコルチゾンからコルチゾールへの変換を減じ、したがってβ‐ガラクトシダーゼの産生を減らす。
細胞は10% ウシ胎児血清(LabTech)、1% グルタミン(Invitrogen)、1% ペニシリン&ストレプトマイシン(Invitrogen)、0.5mg/ml G418(Invitrogen)&0.5mg/ml ヒグロマイシン(Boehringer)を含むDMEM(Invitrogen,Paisley,Renfrewshire,UK)中で慣例に従って培養した。アッセイ培地は1% グルタミン、1% ペニシリン&ストレプトマイシンを含むフェノールレッドフリー−DMEMであった。
試験されることになる化合物(1mM)はジメチルスルホキシド(DMSO)に溶解し、10% DMSOを含むアッセイ培地で連続希釈した。次に希釈された化合物は透明な平底384ウェルプレートに移した(Matrix,Hudson NH、USA)。
アッセイはコルチゾン(Sigma,Poole,Dorset,UK,1μM)、HeLa GRE4−bGal/11bHSD1細胞(10,000細胞)プラス試験化合物(3000〜0.01nM)からなる総容積500μlのアッセイ培地中、384ウェルマイクロタイタープレート(Matrix)中で行った。プレートは5% O2、95% CO2、37℃で一晩インキュベーションした。
次の日、β‐ガラクトシダーゼ産生を測定することによりプレートをアッセイした。10X Z−バッファー(600mM Na2HPO4、400mM NaH2PO4.2H2O、100mM KCl、10mM MgSO4.7H2O、500mM b−メルカプトエタノール、pH7.0)、SDS(0.2%)、クロロフェノールレッド−b−D−ガラクトピラノシド(5mM、Roche Diagnostics)からなる混合物(25μl)をウェル毎に添加し、プレートを37℃で3〜4時間インキュベーションした。β‐ガラクトシダーゼ活性は、Tecan Spectrafluor Ultraを使用して黄色から赤への色変化(570nmでの吸光度)により示した。
阻害剤の50%阻害濃度(IC50)値の計算は、Origin 6.0(Microcal Software,Northampton MA USA)を使用して行った。それぞれの阻害剤に対する用量反応曲線は、最大シグナル(コルチゾン、化合物無し)およびIC50値に関して、それぞれの阻害剤濃度において、OD単位としてプロットした。本発明の化合物は一般にIC50<10μMを示す。たとえば、以下の結果が得られた:
本発明の別の側面に従って、先に記載の式(Ia)もしくは薬剤的に受容できるその塩、または実施例から選択される化合物、もしくはその塩、および薬剤的に受容できる希釈剤またはキャリアを含む、医薬組成物が提供される。
該組成物は、経口投与、たとえば錠剤もしくはカプセル剤、滅菌溶液、懸濁液もしくはエマルジョンとして非経口注射(静脈内、皮下、筋肉内、血管内または注入を含む)、軟膏剤もしくはクリーム剤として局所投与または坐剤として直腸内投与のための適切な形状であってよい。
一般に、上記の組成物は慣用の添加剤を使用して慣用の方法で製造することができる。
式(I)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩は一般に、通常治療的有効量を提供する0.1〜50mg/kgの範囲内の単位投与量で温血動物に投与されることになる。錠剤またはカプセル剤のような単位投与量の形状は、通常たとえば1〜1000mgの活性成分を含むことになる。しかし、一日投与量は処置される受容者、具体的な投与経路、および疾患の重症度に依存して必然的に変化することになる。したがって、最適投与量はいずれか具体的な患者を処置している開業医が決定してよい。
式(I)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩は一般に、通常治療的有効量を提供する0.1〜50mg/kgの範囲内の単位投与量で温血動物に投与されることになる。錠剤またはカプセル剤のような単位投与量の形状は、通常たとえば1〜1000mgの活性成分を含むことになる。しかし、一日投与量は処置される受容者、具体的な投与経路、および疾患の重症度に依存して必然的に変化することになる。したがって、最適投与量はいずれか具体的な患者を処置している開業医が決定してよい。
本発明者らは本発明で説明される化合物、または薬剤的に受容できるその塩が有効な11βHSD1阻害剤であり、したがってメタボリックシンドロームに関連する疾患状態の処置に有用性があることを見出している。
“メタボリックシンドローム”という用語を本明細書で使用する場合、これは1)および/または2)で説明されるようなメタボリックシンドローム、またはこの症候群のいずれか別に認められた定義に関連すると理解すべきである。当該技術分野で使用される“メタボリックシンドローム”に関する同義語には、Reaven症候群、インスリン抵抗性症候群およびシンドロームXが挙げられる。本明細書で“メタボリックシンドローム”という用語が使用される場合、それはReaven症候群、インスリン抵抗性症候群およびシンドロームXも表すと理解すべきである。
本発明の別の側面に従って、温血動物、たとえばヒトの予防的または治療的処置の方法に使用するために先に説明した、式(Ia)もしくは薬剤的に受容できるその塩、または実施例から選択される化合物もしくは薬剤的に受容できるその塩が提供される。
したがって、本発明のこの側面に従って、医薬品としての使用のために先に説明した、式(Ia)もしくは薬剤的に受容できるその塩、または実施例から選択される化合物もしくは薬剤的に受容できるその塩が提供される。
本発明の別の態様に従って、温血動物、たとえばヒトにおける11βHSD1阻害作用の提示に使用する医薬品の製造において、先に説明した、式(Ia)もしくは薬剤的に受容できるその塩、または実施例から選択される化合物もしくは薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される。
本発明の別の態様に従って、温血動物、たとえばヒトにおける11βHSD1阻害作用の提示に使用する医薬品の製造において、先に説明した参照実施例から選択される化合物もしくは薬剤的に受容できるその塩の使用が提供される。
11βHSD1阻害作用の提示またはそれを提示することを適切に表す場合、これはメタボリックシンドロームの処置を表す。あるいは、11βHSD1阻害作用の提示について表す場合、これは糖尿病、肥満症、脂肪血症、高血糖症、高インシュリン血症または高血圧、とりわけ糖尿病および肥満症の処置を表す。あるいは、11βHSD1阻害作用の提示について表す場合、これは緑内障、骨粗鬆症、結核、痴呆、認知障害または鬱病の処置を表す。
本発明のこの側面の別の態様にしたがって、11βHSD1阻害作用の提示が必要な温血動物、たとえばヒトにおいて、そのような作用を提示するための方法が提供され、該方法には式(I)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩の有効量を上記動物に投与することが挙げられる。
本発明のこの側面の別の態様にしたがって、11βHSD1阻害作用の提示が必要な温血動物、たとえばヒトにおいて、そのような作用を提示するための方法が提供され、該方法には参照実施例から選択される化合物、または薬剤的に受容できるその塩の有効量を上記動物に投与することが挙げられる。
治療薬におけるそれらの使用に加え、式(I)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩は、新規治療薬探索の一部としての、実験動物、たとえばネコ、イヌ、ウサギ、サル、ラットおよびマウスにおける11βHSD1阻害剤の作用の評価のためのin vitroおよびin vivo試験系の開発および標準化における薬理学的手段としても有用である。
本明細書に記載の11βHSD1の阻害は単独治療として適用してもよく、または本発明の主題に加え、1以上の他の物質および/または処置を含んでいてもよい。そのような共同処置は処置の個々の成分の同時、連続または別々の投与によって行うことができる。同時処置は単一錠剤または別々の錠剤の状態であってもよい。たとえば、11βHSD1阻害剤、とりわけ本発明のそれらと共投与することができる物質は以下の主要な処置のカテゴリーを包含していてよい。
1)インスリンおよびインスリン類似体;
2)スルホニルウレア(たとえばグリベンクラミド、グリピジド)および食餌グルコース調節物質(たとえばレパグリニド、ナテグリニド)を含むインスリン分泌促進物質;
3)PPARγ作動薬(たとえばピオグリタゾンおよびロシグリタゾン)を含むインスリン感作剤;
4)肝グルコース産出を抑制する物質(たとえばメトホルミン);
5)腸からのグルコース吸収を低下させるように設計された物質(たとえばアカルボース);
6)持続的な高血糖症の合併症を処置するために設計された物質;例えばアルドース還元酵素阻害剤
7)ホソチロシンホスファターゼ阻害剤、グルコース6−ホスファターゼ阻害剤、グルカゴン受容体拮抗剤、グルコキナーゼ活性化剤、グリコーゲンホスホリラーゼ阻害剤、フルクトース1,6ビスホスファターゼ阻害剤、グルタミン:フルクトース−6−ホスフェートアミドトランスフェラーゼ阻害剤を含む、他の抗‐糖尿病剤;
8)抗‐肥満剤(たとえばシブトラミンおよびオルリスタット);
9)抗高脂血症剤、たとえばHMG−CoAレダクターゼ阻害剤(スタチン、たとえばプラバスタチン);PPARα作動薬(フィブレート、たとえばゲムフィブロジル);胆汁酸隔離剤(コレスチラミン);コレステロール吸収阻害剤(植物スタロール、合成阻害剤);回腸胆汁酸吸収阻害剤(IBATi)、コレステロールエステル移動蛋白質阻害剤ならびにニコチン酸および類似物質(ナイアシンおよび徐放製剤);
10)抗高血圧剤、たとえばβ阻害剤(たとえばアテノロール、インデラル);ACE阻害剤(たとえばリシノプリル);カルシウム拮抗剤(たとえばニフェジピン);アンギオテンシン受容体拮抗剤(たとえばカンデサルタン)、α拮抗剤および利尿剤(たとえばフロセミド、ベンズチアジド);
11)血流遮断調節物質、たとえば抗血栓剤、線維素溶解活性剤および抗血小板剤;トロンビン拮抗剤;第Xa因子阻害剤;第VIIa因子阻害剤);抗血小板剤(たとえばアスピリン、クロピドグレル);抗凝固薬(ヘパリンおよび低分子量類似体、ヒルジン)およびワルファリン;ならびに
12)抗炎症剤、たとえば非ステロイド抗炎症剤(たとえばアスピリン)およびステロイド抗炎症剤(たとえばコルチゾン)。
1)インスリンおよびインスリン類似体;
2)スルホニルウレア(たとえばグリベンクラミド、グリピジド)および食餌グルコース調節物質(たとえばレパグリニド、ナテグリニド)を含むインスリン分泌促進物質;
3)PPARγ作動薬(たとえばピオグリタゾンおよびロシグリタゾン)を含むインスリン感作剤;
4)肝グルコース産出を抑制する物質(たとえばメトホルミン);
5)腸からのグルコース吸収を低下させるように設計された物質(たとえばアカルボース);
6)持続的な高血糖症の合併症を処置するために設計された物質;例えばアルドース還元酵素阻害剤
7)ホソチロシンホスファターゼ阻害剤、グルコース6−ホスファターゼ阻害剤、グルカゴン受容体拮抗剤、グルコキナーゼ活性化剤、グリコーゲンホスホリラーゼ阻害剤、フルクトース1,6ビスホスファターゼ阻害剤、グルタミン:フルクトース−6−ホスフェートアミドトランスフェラーゼ阻害剤を含む、他の抗‐糖尿病剤;
8)抗‐肥満剤(たとえばシブトラミンおよびオルリスタット);
9)抗高脂血症剤、たとえばHMG−CoAレダクターゼ阻害剤(スタチン、たとえばプラバスタチン);PPARα作動薬(フィブレート、たとえばゲムフィブロジル);胆汁酸隔離剤(コレスチラミン);コレステロール吸収阻害剤(植物スタロール、合成阻害剤);回腸胆汁酸吸収阻害剤(IBATi)、コレステロールエステル移動蛋白質阻害剤ならびにニコチン酸および類似物質(ナイアシンおよび徐放製剤);
10)抗高血圧剤、たとえばβ阻害剤(たとえばアテノロール、インデラル);ACE阻害剤(たとえばリシノプリル);カルシウム拮抗剤(たとえばニフェジピン);アンギオテンシン受容体拮抗剤(たとえばカンデサルタン)、α拮抗剤および利尿剤(たとえばフロセミド、ベンズチアジド);
11)血流遮断調節物質、たとえば抗血栓剤、線維素溶解活性剤および抗血小板剤;トロンビン拮抗剤;第Xa因子阻害剤;第VIIa因子阻害剤);抗血小板剤(たとえばアスピリン、クロピドグレル);抗凝固薬(ヘパリンおよび低分子量類似体、ヒルジン)およびワルファリン;ならびに
12)抗炎症剤、たとえば非ステロイド抗炎症剤(たとえばアスピリン)およびステロイド抗炎症剤(たとえばコルチゾン)。
上記の他の医薬組成物、工程、方法、使用および医薬品製造の態様において、本発明の化合物の代わりとなる、および好ましい態様が適用される。
実施例
本発明はここで、限定的でない実施例において説明し、かかる実施例では当業者に公知の標準技術およびこれらの実施例に記載の技術に類似したものを適宜使用してよく、そしてそこでは特記しない限り:
(i)留去は減圧下、回転式留去により行い、後処理は濾過により乾燥剤などの残留固体の除去後に行い;
(ii)特記しない限り、すべての反応は無水条件下、HPLC等級の溶媒により、周囲温度、一般に18〜25℃の範囲で、不活性雰囲気下で行い;
(iii)カラムクロマトグラフィー(フラッシュ手順による)はシリカゲル40〜63μm(Merck)で行い;
(iv)収率は説明のためだけに記載し、必ずしも最大到達値ではなく;
(v)式(I)の最終産物の構造は核(一般にプロトン)磁気共鳴(NMR)および質量分析技術により行い;磁気共鳴化学シフト値は重水素化CDCl3中(特記しない限り)デルタスケール(テトラメチルシランから低磁場(ppm))で測定し;特記しない限り、プロトンデータを引用し;スペクトルはVarian Mercury−300 MHz、Varian Unity plus−400 MHz、Varian Unity plus−600 MHzまたはVarian Inova−500 MHzスペクトロメーターで記録し、データは400MHzで記録し;そしてピーク多重度は以下のように示し:s、シングレット;d、ダブレット;dd、ダブルダブレット;t、トリプレット;tt、トリプルトリプレット;q、カルテット;tq、トリプルカルテット;m、マルチプレット;br、ブロード;ABq、ABカルテット;ABd、ABダブレット;ABdd、ダブレットのABダブレット;dABq、ABカルテットのダブレット;LCMSは、HP 1100 MS−検出器ダイオードアレイを備えたWaters ZMD、LCカラムxTerra MS C8(Waters)で記録し;質量スペクトル(MS)(loop)はHP−1100 MS−検出器ダイオードアレイを備えたVG Platform II(Fisons Instruments)で記録し;特記しない限り、引用した質量イオンは(MH+)であり;本文中にさらに詳細に記載しない限り、分析用高性能液体クロマトグラフィー(HPLC)は、移動相として適切な組成のMeCNおよび脱イオン水10 mM 酢酸アンモニウムを使用して、Prep LC 2000(Waters)、Cromasil C8、7mm(Akzo Nobel);で行い;
(vii)中間体は一般に十分に性状解析せず、純度は薄層クロマトグラフィー(TLC)、HPLC、赤外線(IR)、MSまたはNMR分析により評価し;
(viii)溶液を乾燥する場合、乾燥剤は硫酸マグネシウムを使用し;
(ix)“ISOLUTE”カラムを指す場合、これはシリカ2gを含有するカラムを意味し、シリカは6mlの使い捨てシリンジ中に含有され、54Åポアサイズの多孔質円盤によって支持され、International Sorbent Technologyから“ISOLUTE”という名称で得られ、“ISOLUTE”は登録商標であり;
(x)以下の略語を先に、または以下に使用してよい:−
DCM ジクロロメタン
EtOAc 酢酸エチル;
MeCN アセトニトリル;および
THF テトラヒドロフラン
本発明はここで、限定的でない実施例において説明し、かかる実施例では当業者に公知の標準技術およびこれらの実施例に記載の技術に類似したものを適宜使用してよく、そしてそこでは特記しない限り:
(i)留去は減圧下、回転式留去により行い、後処理は濾過により乾燥剤などの残留固体の除去後に行い;
(ii)特記しない限り、すべての反応は無水条件下、HPLC等級の溶媒により、周囲温度、一般に18〜25℃の範囲で、不活性雰囲気下で行い;
(iii)カラムクロマトグラフィー(フラッシュ手順による)はシリカゲル40〜63μm(Merck)で行い;
(iv)収率は説明のためだけに記載し、必ずしも最大到達値ではなく;
(v)式(I)の最終産物の構造は核(一般にプロトン)磁気共鳴(NMR)および質量分析技術により行い;磁気共鳴化学シフト値は重水素化CDCl3中(特記しない限り)デルタスケール(テトラメチルシランから低磁場(ppm))で測定し;特記しない限り、プロトンデータを引用し;スペクトルはVarian Mercury−300 MHz、Varian Unity plus−400 MHz、Varian Unity plus−600 MHzまたはVarian Inova−500 MHzスペクトロメーターで記録し、データは400MHzで記録し;そしてピーク多重度は以下のように示し:s、シングレット;d、ダブレット;dd、ダブルダブレット;t、トリプレット;tt、トリプルトリプレット;q、カルテット;tq、トリプルカルテット;m、マルチプレット;br、ブロード;ABq、ABカルテット;ABd、ABダブレット;ABdd、ダブレットのABダブレット;dABq、ABカルテットのダブレット;LCMSは、HP 1100 MS−検出器ダイオードアレイを備えたWaters ZMD、LCカラムxTerra MS C8(Waters)で記録し;質量スペクトル(MS)(loop)はHP−1100 MS−検出器ダイオードアレイを備えたVG Platform II(Fisons Instruments)で記録し;特記しない限り、引用した質量イオンは(MH+)であり;本文中にさらに詳細に記載しない限り、分析用高性能液体クロマトグラフィー(HPLC)は、移動相として適切な組成のMeCNおよび脱イオン水10 mM 酢酸アンモニウムを使用して、Prep LC 2000(Waters)、Cromasil C8、7mm(Akzo Nobel);で行い;
(vii)中間体は一般に十分に性状解析せず、純度は薄層クロマトグラフィー(TLC)、HPLC、赤外線(IR)、MSまたはNMR分析により評価し;
(viii)溶液を乾燥する場合、乾燥剤は硫酸マグネシウムを使用し;
(ix)“ISOLUTE”カラムを指す場合、これはシリカ2gを含有するカラムを意味し、シリカは6mlの使い捨てシリンジ中に含有され、54Åポアサイズの多孔質円盤によって支持され、International Sorbent Technologyから“ISOLUTE”という名称で得られ、“ISOLUTE”は登録商標であり;
(x)以下の略語を先に、または以下に使用してよい:−
DCM ジクロロメタン
EtOAc 酢酸エチル;
MeCN アセトニトリル;および
THF テトラヒドロフラン
参照実施例1
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン
標題化合物はJ.Med.Chem.;EN;30;12;1987;2232−2239の手順により製造された。参照実施例1はこの参考文献中に例示される。
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン
標題化合物はJ.Med.Chem.;EN;30;12;1987;2232−2239の手順により製造された。参照実施例1はこの参考文献中に例示される。
参照実施例2
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン
標題化合物は参照実施例1の手順により製造された。NMR:2.9(s,6H),4.5(s,2H),7.2(m,2H),8.0(m,2H);m/z244.
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン
標題化合物は参照実施例1の手順により製造された。NMR:2.9(s,6H),4.5(s,2H),7.2(m,2H),8.0(m,2H);m/z244.
参照実施例3
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(チエン−2−イル)ケトン
エチレングリコールジメチルエーテル(15ml)中のメチルチオフェン−2−カルボキシレート(520mg、3.65mmol)およびN,N−ジメチルメタンスルホンアミド(375mg、3.04mmol)の撹拌溶液に、水素化ナトリウム(油中、60%懸濁液、328mg、8.21mmol)を添加した。反応物は85℃に温め、この温度で一晩撹拌し、その後室温に戻し、水で反応を停止した。得られた褐色溶液は濃塩酸で約pH2に酸性化し、その後DCM(2x40ml)で抽出した。有機層を合わせ、水(30ml)およびブライン(20ml)で洗浄し、乾燥、濾過し、留去して粗生成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー(20gシリカ、DCMで溶出)により精製し、オイルを得て、そのまま結晶化させた。この物質は依然として不純であった。粗生成物はDCMと1M水酸化ナトリウムに分配し、層を分け、水酸化ナトリウム層をDCMで再抽出した。次に水相を濃HClで約pH3に酸性化し、その後DCMで2回抽出した。これら2つのDCM層を合わせ、ブラインで洗浄し、乾燥、濾過し、留去して生成物を固体(56mg、7%)として得た。NMR:2.90(s,6H),4.45(s,2H),7.20(m,1H),7.75(m,1H),7.90(m,1H);m/z:234.
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(チエン−2−イル)ケトン
エチレングリコールジメチルエーテル(15ml)中のメチルチオフェン−2−カルボキシレート(520mg、3.65mmol)およびN,N−ジメチルメタンスルホンアミド(375mg、3.04mmol)の撹拌溶液に、水素化ナトリウム(油中、60%懸濁液、328mg、8.21mmol)を添加した。反応物は85℃に温め、この温度で一晩撹拌し、その後室温に戻し、水で反応を停止した。得られた褐色溶液は濃塩酸で約pH2に酸性化し、その後DCM(2x40ml)で抽出した。有機層を合わせ、水(30ml)およびブライン(20ml)で洗浄し、乾燥、濾過し、留去して粗生成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー(20gシリカ、DCMで溶出)により精製し、オイルを得て、そのまま結晶化させた。この物質は依然として不純であった。粗生成物はDCMと1M水酸化ナトリウムに分配し、層を分け、水酸化ナトリウム層をDCMで再抽出した。次に水相を濃HClで約pH3に酸性化し、その後DCMで2回抽出した。これら2つのDCM層を合わせ、ブラインで洗浄し、乾燥、濾過し、留去して生成物を固体(56mg、7%)として得た。NMR:2.90(s,6H),4.45(s,2H),7.20(m,1H),7.75(m,1H),7.90(m,1H);m/z:234.
参照実施例4
[1−(N,N−ジメチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン
DMF(7ml)中の(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン(参照実施例1;88mg、0.39mmol)の撹拌溶液に、炭酸カリウム(107mg、0.78mmol)続いてメチルヨージド(113mg、0.8mmol)を添加した。得られた懸濁液を室温で2時間撹拌した。反応物は水(約50ml)で反応を停止し、DCM(2x50ml)で抽出した。有機層を合わせ、乾燥、濾過し、留去して黄色オイル(依然としてDMF極微量を含む)として生成物を得た。NMR:1.70(d,3H),2.90(s,6H),5.15(m,1H),7.50(t,2H),7.60(m,2H),8.00(br m,1H);m/z:242.
[1−(N,N−ジメチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン
DMF(7ml)中の(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン(参照実施例1;88mg、0.39mmol)の撹拌溶液に、炭酸カリウム(107mg、0.78mmol)続いてメチルヨージド(113mg、0.8mmol)を添加した。得られた懸濁液を室温で2時間撹拌した。反応物は水(約50ml)で反応を停止し、DCM(2x50ml)で抽出した。有機層を合わせ、乾燥、濾過し、留去して黄色オイル(依然としてDMF極微量を含む)として生成物を得た。NMR:1.70(d,3H),2.90(s,6H),5.15(m,1H),7.50(t,2H),7.60(m,2H),8.00(br m,1H);m/z:242.
実施例1
[1−(N,N−ジメチルスルファモイル)−1−メチルエチル](フェニル)ケトン
DMF中の[1−(N,N−ジメチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン(参照実施例4;4.33mg、0.14mmol)の撹拌溶液に、炭酸カリウム(39mg、0.28mmol)およびメチルヨージド(60mg、0.42mmol)を添加した。反応物を40℃に温め、この温度で18時間撹拌した。さらにメチルヨージド(60mg、0.42mmol)を添加し、反応物を40℃でさらに24時間撹拌した。揮発性物質は減圧下で除去し、得られた粗生成物をエーテルと1M 水酸化ナトリウム溶液に分配し、エーテル層を分離し、水酸化ナトリウム溶液で再抽出し、その後ブラインで洗浄、乾燥、濾過し、留去して透明オイル(16mg、43%)として生成物を得た。M/z):256.
[1−(N,N−ジメチルスルファモイル)−1−メチルエチル](フェニル)ケトン
DMF中の[1−(N,N−ジメチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン(参照実施例4;4.33mg、0.14mmol)の撹拌溶液に、炭酸カリウム(39mg、0.28mmol)およびメチルヨージド(60mg、0.42mmol)を添加した。反応物を40℃に温め、この温度で18時間撹拌した。さらにメチルヨージド(60mg、0.42mmol)を添加し、反応物を40℃でさらに24時間撹拌した。揮発性物質は減圧下で除去し、得られた粗生成物をエーテルと1M 水酸化ナトリウム溶液に分配し、エーテル層を分離し、水酸化ナトリウム溶液で再抽出し、その後ブラインで洗浄、乾燥、濾過し、留去して透明オイル(16mg、43%)として生成物を得た。M/z):256.
実施例2
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(ピリド−2−イル)ケトン
0℃の不活性雰囲気下、THF(30ml)中のN,N−ジメチルメチルスルホンアミド(1.23g、10mmol)の溶液に、ヘキサン1.6M(12.5ml、20mmol)中のブチルリチウム溶液を滴下して加えた。0℃で30分間放置後、反応物(白色ペースト)を−78℃に冷やし、THF5ml中のエチルピコリネート(1.51g、10mmol)を添加した。1時間後、冷却浴を除去し、温度を0℃に戻した。混合物は冷水で希釈し、エーテルで2回抽出した。水相はpH5に酸性化し、EtOAcで3回抽出した。EtOAc抽出物を合わせ、ブラインで洗浄し、乾燥、濾過し、濃縮した。得られた茶藤色のオイルは結晶化するまでエーテルで粉砕し、固体を濾過した(1.4g、66%)。NMR:2.92(s,6H),4.98(s,2H),7.55(m,1H),7.89(m,1H),8.11(d,1H),8.74(m,1H);m/z:229.
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(ピリド−2−イル)ケトン
0℃の不活性雰囲気下、THF(30ml)中のN,N−ジメチルメチルスルホンアミド(1.23g、10mmol)の溶液に、ヘキサン1.6M(12.5ml、20mmol)中のブチルリチウム溶液を滴下して加えた。0℃で30分間放置後、反応物(白色ペースト)を−78℃に冷やし、THF5ml中のエチルピコリネート(1.51g、10mmol)を添加した。1時間後、冷却浴を除去し、温度を0℃に戻した。混合物は冷水で希釈し、エーテルで2回抽出した。水相はpH5に酸性化し、EtOAcで3回抽出した。EtOAc抽出物を合わせ、ブラインで洗浄し、乾燥、濾過し、濃縮した。得られた茶藤色のオイルは結晶化するまでエーテルで粉砕し、固体を濾過した(1.4g、66%)。NMR:2.92(s,6H),4.98(s,2H),7.55(m,1H),7.89(m,1H),8.11(d,1H),8.74(m,1H);m/z:229.
実施例3
(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン
−20℃の無水THF(3ml)中のN,N−ジイソプロピルメタンスルホンアミド(120mg、0.67mmol)の撹拌溶液に、THF(1.34ml、1.34mmol)中の1Mのリチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液を添加した。反応物は−20℃で30分間撹拌し、その後無水THF(1ml)中のメチル−4−フルオロベンゾエート(134mg、0.87mmol)を添加した。反応物を1時間室温に戻し、その後飽和塩化アンモニウム溶液(5ml)で反応を停止した。層を分け、水相はEtOAcで抽出した。THFとEtOAc抽出物を合わせ、ブラインで洗浄し、乾燥、濾過し、留去して不純オイルを得た。粗生成物はカラムクロマトグラフィー(DCM〜5%MeOH/DCMで溶出)で精製し、放置して結晶化させた(70mg、35%)。NMR:1.25(d,12H),3.65(m,2H),4.40(s,2H),7.10(t,2H),8.02(m,2H);m/z:300(M−H)−.
(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン
−20℃の無水THF(3ml)中のN,N−ジイソプロピルメタンスルホンアミド(120mg、0.67mmol)の撹拌溶液に、THF(1.34ml、1.34mmol)中の1Mのリチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液を添加した。反応物は−20℃で30分間撹拌し、その後無水THF(1ml)中のメチル−4−フルオロベンゾエート(134mg、0.87mmol)を添加した。反応物を1時間室温に戻し、その後飽和塩化アンモニウム溶液(5ml)で反応を停止した。層を分け、水相はEtOAcで抽出した。THFとEtOAc抽出物を合わせ、ブラインで洗浄し、乾燥、濾過し、留去して不純オイルを得た。粗生成物はカラムクロマトグラフィー(DCM〜5%MeOH/DCMで溶出)で精製し、放置して結晶化させた(70mg、35%)。NMR:1.25(d,12H),3.65(m,2H),4.40(s,2H),7.10(t,2H),8.02(m,2H);m/z:300(M−H)−.
実施例4〜76および参照実施例5および6
N,N−ジイソプロピルメタンスルホンアミドおよび/またはメチル−4−フルオロベンゾエートのかわりに適切な試薬(複数の試薬)を使用して実施例3に記載の手順を繰り返し、以下の実施例を得た。メタンスルホンアミドが公知の化合物でないか、または市販されていなかった場合、出発物質(SM)の製造法を示す。
N,N−ジイソプロピルメタンスルホンアミドおよび/またはメチル−4−フルオロベンゾエートのかわりに適切な試薬(複数の試薬)を使用して実施例3に記載の手順を繰り返し、以下の実施例を得た。メタンスルホンアミドが公知の化合物でないか、または市販されていなかった場合、出発物質(SM)の製造法を示す。
1出発エステルはTetrahedron Lett.;EN;25;51;1984;5939−5942に従って製造した。
2スルホンアミド製造法:J.Amer.Chem.Soc.;76;1954;303
3スルホンアミド製造法:Tetrahedron;EN;25;1969;181−189
4.反応は室温で一晩行った。
5.生成物はクロマトグラフィーのかわりにEtOAc/ヘキサンから結晶化した。
6.クロマトグラフィーによる精製(25% EtOAc/イソヘキサン〜50% EtOAc/イソヘキサンで溶出)
7.生成物はジエチルエーテルで粉砕した。
8.クロマトグラフィーによる精製(10% EtOAc/イソヘキサン〜20% EtOAc/イソヘキサンで溶出)
9.出発エステルはAzerbaidzhanskii Khimicheskii Zhurnal;1997;1−4;62−66に従って製造した。
10.出発エステルはPCT Int.Appl.;1997;99pp.;WO9721682に従って製造した。
11.出発エステルはJ.Org.Chem.;1991;56(16);4884−7に従って製造した。
2スルホンアミド製造法:J.Amer.Chem.Soc.;76;1954;303
3スルホンアミド製造法:Tetrahedron;EN;25;1969;181−189
4.反応は室温で一晩行った。
5.生成物はクロマトグラフィーのかわりにEtOAc/ヘキサンから結晶化した。
6.クロマトグラフィーによる精製(25% EtOAc/イソヘキサン〜50% EtOAc/イソヘキサンで溶出)
7.生成物はジエチルエーテルで粉砕した。
8.クロマトグラフィーによる精製(10% EtOAc/イソヘキサン〜20% EtOAc/イソヘキサンで溶出)
9.出発エステルはAzerbaidzhanskii Khimicheskii Zhurnal;1997;1−4;62−66に従って製造した。
10.出発エステルはPCT Int.Appl.;1997;99pp.;WO9721682に従って製造した。
11.出発エステルはJ.Org.Chem.;1991;56(16);4884−7に従って製造した。
実施例77〜79
N,N−ジイソプロピルメタンスルホンアミドのかわりに適切な試薬(複数の試薬)を使用して実施例3に記載の手順を繰り返し、以下の実施例を得た。
N,N−ジイソプロピルメタンスルホンアミドのかわりに適切な試薬(複数の試薬)を使用して実施例3に記載の手順を繰り返し、以下の実施例を得た。
実施例80
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−クロロフェニル)ケトン
エチレングリコールジメチルエーテル(15ml)中のメチル−4−クロロベンゾエート(500mg、2.94mmol)およびN,N−ジメチルメタンスルホンアミド(302mg、2.45mmol)の撹拌溶液に、NaH(鉱物油中60%懸濁液、265mg、6.62mmol)を添加した。反応物は85℃に温め、この温度で3時間撹拌した。その後反応物を室温に戻し、水(約40ml)で反応を停止した。水はエーテルで抽出し、次にエーテルは1MのNaOHで抽出した。水性画分を合わせ、濃HClの添加により約pH3に酸性化した。得られた懸濁液はDCM(2x40ml)で抽出し、DCM層を合わせ、水およびブラインで洗浄し、乾燥、濾過し、留去してオイルを得た。このオイルをカラムクロマトグラフィー(20g Si、DCM〜1% MeOH/DCM)により精製し、固体(325mg、42%)を得た。NMR(DMSO−d6):2.95(s,6H),4.55(s,2H),7.50(d,2H),8.00(d,2H);m/z 262[M+H]+.
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−クロロフェニル)ケトン
エチレングリコールジメチルエーテル(15ml)中のメチル−4−クロロベンゾエート(500mg、2.94mmol)およびN,N−ジメチルメタンスルホンアミド(302mg、2.45mmol)の撹拌溶液に、NaH(鉱物油中60%懸濁液、265mg、6.62mmol)を添加した。反応物は85℃に温め、この温度で3時間撹拌した。その後反応物を室温に戻し、水(約40ml)で反応を停止した。水はエーテルで抽出し、次にエーテルは1MのNaOHで抽出した。水性画分を合わせ、濃HClの添加により約pH3に酸性化した。得られた懸濁液はDCM(2x40ml)で抽出し、DCM層を合わせ、水およびブラインで洗浄し、乾燥、濾過し、留去してオイルを得た。このオイルをカラムクロマトグラフィー(20g Si、DCM〜1% MeOH/DCM)により精製し、固体(325mg、42%)を得た。NMR(DMSO−d6):2.95(s,6H),4.55(s,2H),7.50(d,2H),8.00(d,2H);m/z 262[M+H]+.
実施例81
[2−(N,N−ジイソプロピルスルファモイル)−2−(メチル)エチル](4−フルオロフェニル)ケトン
DMF(5ml)中の(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン(実施例3;100mg、0.33mmol)および炭酸カリウム(114mg、0.825mmol)の撹拌溶液に、メチルヨージド(51μl、0.825mmol)を室温、不活性雰囲気下で添加した。反応混合物を一晩撹拌し、水(約50ml)で反応を停止し、EtOAc(2x50ml)で抽出した。有機層はブライン(50ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒は減圧下で除去し、得られた褐色ゴムはクロマトグラフィー(10% EtOAc/イソヘキサンで溶出)により精製し、無色オイルを得て、スクラッチングにより固化した(57mgs、53%)。NMR(DMSO−d6):1.22(d,12H),1.62(s,6H),3.61(m,2H),7.28(m,2H),8.02(m,2H).
[2−(N,N−ジイソプロピルスルファモイル)−2−(メチル)エチル](4−フルオロフェニル)ケトン
DMF(5ml)中の(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン(実施例3;100mg、0.33mmol)および炭酸カリウム(114mg、0.825mmol)の撹拌溶液に、メチルヨージド(51μl、0.825mmol)を室温、不活性雰囲気下で添加した。反応混合物を一晩撹拌し、水(約50ml)で反応を停止し、EtOAc(2x50ml)で抽出した。有機層はブライン(50ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒は減圧下で除去し、得られた褐色ゴムはクロマトグラフィー(10% EtOAc/イソヘキサンで溶出)により精製し、無色オイルを得て、スクラッチングにより固化した(57mgs、53%)。NMR(DMSO−d6):1.22(d,12H),1.62(s,6H),3.61(m,2H),7.28(m,2H),8.02(m,2H).
実施例82〜90
(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン(実施例3)のかわりに適切な出発物質(複数の物質)を使用して、実施例81に記載の手順を繰り返し、以下の実施例を得た。
(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン(実施例3)のかわりに適切な出発物質(複数の物質)を使用して、実施例81に記載の手順を繰り返し、以下の実施例を得た。
実施例91〜93
(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン(実施例3)のかわりに適切な出発物質(複数の物質)を使用して、実施例81に記載の手順を繰り返し、以下の実施例を得た。
(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン(実施例3)のかわりに適切な出発物質(複数の物質)を使用して、実施例81に記載の手順を繰り返し、以下の実施例を得た。
実施例94
[2−(N,N−ジイソプロピルスルファモイル)エチル][4−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フェニル]ケトン
アセトン(60ml)中の(N,N−ジイソプロピルスルファモイル)メチル][4−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フェニル]ケトン(実施例62;7.5mmol)および炭酸カリウム(5.18g、37.5mmol)の撹拌溶液に、メチルヨージド(2.33ml、37.5mmol)を室温、不活性雰囲気下で添加した。反応混合物は室温で一晩撹拌し、さらにメチルヨージド(2.33ml、37.5mmol)を添加して、1時間加熱還流した。反応混合物は水(200ml)で反応を停止し、EtOAc(2x150ml)で抽出した。有機層は硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で除去した。得られた橙色オイルはクロマトグラフィー(10% EtOAc/イソヘキサンで溶出)により精製し、無色オイル(1.542g、48%)を得た。NMR:0.15(s,6H),0.89(s,12H),1.18(m,12H),1.55(d,3H),3.58(m2H),4.84(q,1H),6.79(d,2H),7.87(d,2H).
[2−(N,N−ジイソプロピルスルファモイル)エチル][4−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フェニル]ケトン
アセトン(60ml)中の(N,N−ジイソプロピルスルファモイル)メチル][4−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フェニル]ケトン(実施例62;7.5mmol)および炭酸カリウム(5.18g、37.5mmol)の撹拌溶液に、メチルヨージド(2.33ml、37.5mmol)を室温、不活性雰囲気下で添加した。反応混合物は室温で一晩撹拌し、さらにメチルヨージド(2.33ml、37.5mmol)を添加して、1時間加熱還流した。反応混合物は水(200ml)で反応を停止し、EtOAc(2x150ml)で抽出した。有機層は硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で除去した。得られた橙色オイルはクロマトグラフィー(10% EtOAc/イソヘキサンで溶出)により精製し、無色オイル(1.542g、48%)を得た。NMR:0.15(s,6H),0.89(s,12H),1.18(m,12H),1.55(d,3H),3.58(m2H),4.84(q,1H),6.79(d,2H),7.87(d,2H).
実施例95
(N,N−ジメチルルスルファモイルメチル)(3−メチルフェニル)ケトン
N,N−ジメチルアミノエタンスルホンアミド(37mg、0.3mmol)および無水THF(3ml)を試験管に入れた。この溶液にTHF(0.6ml、0.6mmol)中のリチウムビス(トリメチルシリル)アミドの1M 溶液を添加した。反応物は室温で30分間撹拌した。この時点で無水THF(1ml)中のエチル3−メチルベンゾエート(60mg、0.36mmol)を添加した。反応物は室温で2時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム溶液水(2ml)で反応を停止した。試験管に蓋をし、ふり混ぜて沈殿させた。有機層を集め、減圧下で留去し、得られた粗生成物はprepLCMS(9.5分間にわたり1〜40% アセトニトリル/水、および連続した5ml/分 4% ギ酸/アセトニトリル)により精製し、固体(29mg、40%)を得た。M/z:242.
(N,N−ジメチルルスルファモイルメチル)(3−メチルフェニル)ケトン
N,N−ジメチルアミノエタンスルホンアミド(37mg、0.3mmol)および無水THF(3ml)を試験管に入れた。この溶液にTHF(0.6ml、0.6mmol)中のリチウムビス(トリメチルシリル)アミドの1M 溶液を添加した。反応物は室温で30分間撹拌した。この時点で無水THF(1ml)中のエチル3−メチルベンゾエート(60mg、0.36mmol)を添加した。反応物は室温で2時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム溶液水(2ml)で反応を停止した。試験管に蓋をし、ふり混ぜて沈殿させた。有機層を集め、減圧下で留去し、得られた粗生成物はprepLCMS(9.5分間にわたり1〜40% アセトニトリル/水、および連続した5ml/分 4% ギ酸/アセトニトリル)により精製し、固体(29mg、40%)を得た。M/z:242.
実施例96〜106
エチル3−メチルベンゾエートのかわりに適切なエステルを使用して、実施例95に記載の手順を繰り返した。
エチル3−メチルベンゾエートのかわりに適切なエステルを使用して、実施例95に記載の手順を繰り返した。
実施例107
(4−フルオロフェニル)−[1−(N,N−ジイソプロピルスルファモイル)シクロペンチル]ケトン
ジメチルホルムアミド(5ml)中の(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン(実施例3;400mgs、1.33mmol)および炭酸カリウム(460mgs、3.3mmol)の撹拌溶液に、1,4−ジブロモブタン(373mg、1.7mmol)を滴下して加えた。一晩撹拌後、反応混合物は水で反応を停止し、EtOAcで抽出した。EtOAc層は水、ブラインで洗浄し、乾燥(MgSO4)させた。EtOAcを除去し、褐色オイルを得て、それをクロマトグラフィー(9g シリカカートリッジ、溶離液 ヘキサン中10% EtOAc)によって分離し、必要とする生成物(80mgs)を得た。NMR(DMSO−d6)1.15−1.37(d,12H),1.37−1.59(m,2H),1.65−1.92(m,2H),2.49−2.74(m,4H),3.50−3.65(m,2H),7.02−7.19(m,2H),8.17−8.32(m,2H).m/z:340.14(M−CH3).
(4−フルオロフェニル)−[1−(N,N−ジイソプロピルスルファモイル)シクロペンチル]ケトン
ジメチルホルムアミド(5ml)中の(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)(4−フルオロフェニル)ケトン(実施例3;400mgs、1.33mmol)および炭酸カリウム(460mgs、3.3mmol)の撹拌溶液に、1,4−ジブロモブタン(373mg、1.7mmol)を滴下して加えた。一晩撹拌後、反応混合物は水で反応を停止し、EtOAcで抽出した。EtOAc層は水、ブラインで洗浄し、乾燥(MgSO4)させた。EtOAcを除去し、褐色オイルを得て、それをクロマトグラフィー(9g シリカカートリッジ、溶離液 ヘキサン中10% EtOAc)によって分離し、必要とする生成物(80mgs)を得た。NMR(DMSO−d6)1.15−1.37(d,12H),1.37−1.59(m,2H),1.65−1.92(m,2H),2.49−2.74(m,4H),3.50−3.65(m,2H),7.02−7.19(m,2H),8.17−8.32(m,2H).m/z:340.14(M−CH3).
出発物質の製造
先の実施例の出発物質は市販されるか、または公知の物質から標準技術により容易に製造される。たとえば、以下の反応は、上記の反応で使用される出発物質のいくつかの製造の説明であって、限定するものではない。
先の実施例の出発物質は市販されるか、または公知の物質から標準技術により容易に製造される。たとえば、以下の反応は、上記の反応で使用される出発物質のいくつかの製造の説明であって、限定するものではない。
方法1
1−メトキシ−2−[N−(メチル)メシルアミノ]エチル
無水DCM(60ml)中のN−(2−メトキシエチル)メチルアミン(750mg、8.43mmol)およびトリエチルアミン(938mg、9.27mmol)の0℃での撹拌溶液に、メシルクロリド(966mg、8.43mmol)を添加した。反応物は0℃で10分間撹拌し、室温に戻し、さらに30分間撹拌した。次に反応物を分液漏斗に移し、2M HCl(20ml)、水(20ml)およびブライン(20ml)で洗浄し、その後乾燥、濾過し、留去して淡黄色オイルとして生成物(935mg、67%)を得た。NMR:2.85(s,3H),2.95(s,3H),3.40(m,5H),3.55(t,2H).
1−メトキシ−2−[N−(メチル)メシルアミノ]エチル
無水DCM(60ml)中のN−(2−メトキシエチル)メチルアミン(750mg、8.43mmol)およびトリエチルアミン(938mg、9.27mmol)の0℃での撹拌溶液に、メシルクロリド(966mg、8.43mmol)を添加した。反応物は0℃で10分間撹拌し、室温に戻し、さらに30分間撹拌した。次に反応物を分液漏斗に移し、2M HCl(20ml)、水(20ml)およびブライン(20ml)で洗浄し、その後乾燥、濾過し、留去して淡黄色オイルとして生成物(935mg、67%)を得た。NMR:2.85(s,3H),2.95(s,3H),3.40(m,5H),3.55(t,2H).
方法2〜3
N−(2−メトキシエチル)メチルアミンのかわりに適切なアミンを使用して、方法1に記載の手順を繰り返した。
N−(2−メトキシエチル)メチルアミンのかわりに適切なアミンを使用して、方法1に記載の手順を繰り返した。
方法6
1−(N,N−ジメチルアミノ)−2−[N−(メチル)メシルアミノ]エチル
無水DCM(70ml)中のN,N,N−トリメチルエチレンジアミン(1.02g、10mmol)およびトリエチルアミン(1.11g、11mmol)の0℃での撹拌溶液に、メシルクロリド(1.15g、10mmol)を添加した。反応物は0℃で10分間撹拌し、室温に戻し、さらに30分間撹拌した。揮発物質を減圧下で除去し、得られたオイルをDCM(60ml)に溶かし、その後2M NaOH(30ml)およびブライン(30ml)で洗浄した。溶媒は減圧下で除去し、生成物をオイル(962mg、53%)として得た。NMR:2.30(s,6H),2.50(t,2H),2.85(s,3H),2.90(s,3H),3.30(t,2H).
1−(N,N−ジメチルアミノ)−2−[N−(メチル)メシルアミノ]エチル
無水DCM(70ml)中のN,N,N−トリメチルエチレンジアミン(1.02g、10mmol)およびトリエチルアミン(1.11g、11mmol)の0℃での撹拌溶液に、メシルクロリド(1.15g、10mmol)を添加した。反応物は0℃で10分間撹拌し、室温に戻し、さらに30分間撹拌した。揮発物質を減圧下で除去し、得られたオイルをDCM(60ml)に溶かし、その後2M NaOH(30ml)およびブライン(30ml)で洗浄した。溶媒は減圧下で除去し、生成物をオイル(962mg、53%)として得た。NMR:2.30(s,6H),2.50(t,2H),2.85(s,3H),2.90(s,3H),3.30(t,2H).
方法7
プロパン−2−スルホン酸ジメチルアミド
無水THF(5.35ml、10.7mmol)中の2M ジメチルアミンおよび無水THF(10ml)中のピリジン(865μl、10.7mmol)の撹拌溶液に、イソプロピルスルホニルクロリド(1ml、8.9mmol)を添加した。反応物は室温で一晩撹拌した。揮発物質を減圧下で除去し、得られたオイルをEtOAc(60ml)に溶かし、その後0.5M HCl(30ml)および水(30ml)で洗浄した。溶媒は硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で除去し、生成物を橙色オイル(688mg、51%)として得た。NMR:1.36(d,6H),2.93(s,6H),3.25(m,1H).
プロパン−2−スルホン酸ジメチルアミド
無水THF(5.35ml、10.7mmol)中の2M ジメチルアミンおよび無水THF(10ml)中のピリジン(865μl、10.7mmol)の撹拌溶液に、イソプロピルスルホニルクロリド(1ml、8.9mmol)を添加した。反応物は室温で一晩撹拌した。揮発物質を減圧下で除去し、得られたオイルをEtOAc(60ml)に溶かし、その後0.5M HCl(30ml)および水(30ml)で洗浄した。溶媒は硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で除去し、生成物を橙色オイル(688mg、51%)として得た。NMR:1.36(d,6H),2.93(s,6H),3.25(m,1H).
方法8〜9
ジメチルアミンのかわりに適切なアミンを使用して、方法7に記載の手順を繰り返した。
ジメチルアミンのかわりに適切なアミンを使用して、方法7に記載の手順を繰り返した。
方法10
N−イソプロピル−N−(2−メトキシ−エチル)−メタンスルホンアミド
不活性環境下、DMF(20ml)中のN−(2−メトキシ−エチル)−メタンスルホンアミド(方法4)(1.2g、7.7mmol)の撹拌溶液に、水素化ナトリウム(400mg、10mmol)を添加した。2−ブロモプロパン(1.73ml、18.48mmol)を添加し、反応物を70℃で7時間加熱した。反応混合物は水(100ml)で反応を停止し、EtOAc(100ml)で抽出した。有機層をさらにブライン(100ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。次に溶媒を減圧下で除去し、生成物を黄色オイル(600mg、40%)として得た。NMR:1.26(d,6H),2.88(s,3H),3.31(m,2H),3.38(s,3H),3.55(m,2H),4.09(m,1H).
N−イソプロピル−N−(2−メトキシ−エチル)−メタンスルホンアミド
不活性環境下、DMF(20ml)中のN−(2−メトキシ−エチル)−メタンスルホンアミド(方法4)(1.2g、7.7mmol)の撹拌溶液に、水素化ナトリウム(400mg、10mmol)を添加した。2−ブロモプロパン(1.73ml、18.48mmol)を添加し、反応物を70℃で7時間加熱した。反応混合物は水(100ml)で反応を停止し、EtOAc(100ml)で抽出した。有機層をさらにブライン(100ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。次に溶媒を減圧下で除去し、生成物を黄色オイル(600mg、40%)として得た。NMR:1.26(d,6H),2.88(s,3H),3.31(m,2H),3.38(s,3H),3.55(m,2H),4.09(m,1H).
方法11
N−イソプロピル−N−(2−イソプロポキシ−エチル)−メタンスルホンアミド
N−(2−メトキシ−エチル)−メタンスルホンアミドのかわりにN−(2−イソプロポキシエチル)メタンスルホンアミド(方法5)を使用して、方法10に記載の手順を繰り返した。NMR:1.16(d,6H),1.27(d,6H),2.90(s,3H),3.29(m,2H),3.56(m,3H),4.09(m,1H).
N−イソプロピル−N−(2−イソプロポキシ−エチル)−メタンスルホンアミド
N−(2−メトキシ−エチル)−メタンスルホンアミドのかわりにN−(2−イソプロポキシエチル)メタンスルホンアミド(方法5)を使用して、方法10に記載の手順を繰り返した。NMR:1.16(d,6H),1.27(d,6H),2.90(s,3H),3.29(m,2H),3.56(m,3H),4.09(m,1H).
Claims (17)
- 11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における、式(I)の化合物または薬剤的に受容できるその塩の使用:
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC0〜4アルキレン−Y−およびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして前記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてもよく;
nは0〜5であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択されるか;またはR2およびR3は一緒にC2〜6アルキレンを形成し;式中、R2およびR3は場合により独立してR8から選択される1以上の基により炭素上で置換され;そして前記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてもよく;
R4およびR5の一方はC1〜4アルキルから選択され、そして他方は水素またはC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてもよく;
Yは−S(O)a−、−O−、−NR12−、−C(O)NR13−、−NR14C(O)−、またはSO2NR15−、であり;式中aは0〜2であり;
R12、R13、R14およびR15は、独立して水素、フェニルおよびC1〜4アルキルから選択され;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルから独立して選択され;ここで、R6およびR8は独立して場合により1以上のR11により炭素上で置換されてもよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてもよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される]。 - 環Aがピリジル、フェニル、チエニル、フリル、ピラジニル、1,2,3−チアジアゾリル、チアゾリル、シクロヘキシル、ナフチル、シクロヘキセニル、ピラゾリル、ベンゾチエニル、インドリル、1,1,3−トリオキソ−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンズイソチアゾリル、1,3−ベンゾジオキソリル、シクロペンチル、テトラヒドロピラニル、1−オキソオクタヒドロピリド[1,2−a]ピラジニル、1,2,3,4−テトラヒドロナフチル、ピペリジニルおよびベンズチアゾリルである、請求項1に記載の使用。
- R1がハロ、ニトロ、シアノ、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;ここで、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;ここで
Yは−NR12−であり
R12は水素であり;そして
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択される、請求項1または2のいずれかに記載の使用。 - nが1〜2であり、R1の意味が同じでも異なってもよい、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
- R2およびR3が独立して水素またはC1〜4アルキルから選択されるか、またはR2およびR3が一緒にC2〜4アルキレンを形成する、請求項1〜5のいずれか1つに記載の使用。
- R4およびR5の一方が水素およびC1〜4アルキルから選択され、そして他方がC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてもよく;そして
R10がC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される、請求項1〜6のいずれか1つに記載の使用。 - 11βHSD1の阻害に使用する医薬品の製造における式(I)の化合物(請求項1に記載)または薬剤的に受容できるその塩の使用:
[式中、
環Aはカルボシクリルまたはヘテロシクリルであり;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、トリ−(C1〜4アルキル)シリルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルC0〜4アルキレン−Y−から選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
ここで:
Yは−NR12−であり
R12は水素であり;そして
R6はハロ、C2〜4アルケニル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルアミノおよびカルボシクリルから選択され;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は独立して水素またはC1〜4アルキルから選択されるか;またはR2およびR3は一緒にC2〜6アルキレンを形成し;
R4およびR5の一方は水素およびC1〜4アルキルから選択され、そして他方はC1〜4アルキルから選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして
R10はC1〜4アルコキシおよびN,N−(C1〜4アルキル)2アミノから選択される]。 - (4−フルオロフェニル)[N−(2−メトキシエチル)−N−(メチル)スルファモイルメチル]ケトン;
(2,4−ジフルオロフェニル)[1−(N,N−ジイソプロピルスルファモイル)−1メチルエチル]ケトン;
(2,4−ジフルオロフェニル)(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)ケトン;
(チアゾール−2−イル)(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)ケトン;
(4−フルオロフェニル)[N−(2−イソプロポキシエチル)−N−(イソプロピル)スルファモイルメチル]ケトン;
(ピラジン−2−イル)(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)ケトン;
(4−イソプロポキシフェニル)(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)ケトン;
(3−シアノフェニル)(N,N−ジイソプロピルスルファモイルメチル)ケトン;
(ピリド−2−イル)(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)ケトン;
から選択される、請求項1に記載の式(I)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩。 - 式(Ia)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩:
環Aはフェニル、ピリジル、チアゾリル、チエニルおよびフリルから選択され;
R1はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;式中、R1は場合によりR6から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして前記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR7から選択される基により置換されてよく;
nは0〜3であり;ここでR1の意味は同じでも異なってもよく;
R2およびR3は水素、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルC1〜4アルキル、ヘテロシクリルC1〜4アルキルから独立して選択され;式中、R2およびR3は場合により独立してR8から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;そして前記ヘテロシクリルが−NH−部分を含む場合、その窒素は場合によりR9から選択される基により置換されてよく;
R4およびR5はC1〜4アルキルから独立して選択され;ここで、R4およびR5は場合によりR10から選択される1以上の基により炭素上で置換されてよく;
R6およびR8はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから独立して選択され;ここで、R6およびR8は独立して場合により1以上のR11により炭素上で置換されてもよく;
R10はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C1〜4アルキル、C2〜4アルケニル、C2〜4アルキニル、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルカノイルオキシ、N−(C1〜4アルキル)アミノ、N,N−(C1〜4アルキル)2アミノ、C1〜4アルカノイルアミノ、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、C1〜4アルキルS(O)a(式中、aは0〜2である)、C1〜4アルコキシカルボニル、N−(C1〜4アルキル)スルファモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2スルファモイル、C1〜4アルキルスルホニルアミノから選択され;ここで、R10は独立して場合により1以上のR16により炭素上で置換されてよく;
R7およびR9はC1〜4アルキル、C1〜4アルカノイル、C1〜4アルキルスルホニル、C1〜4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1〜4アルキル)カルバモイル、N,N−(C1〜4アルキル)2カルバモイル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、ベンゾイルおよびフェニルスルホニルから独立して選択され;
R11およびR16はハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル、アミノ、カルボキシ、カルバモイル、メルカプト、スルファモイル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、アセチル、アセトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メシル、エチルスルホニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイルまたはN−メチル−N−エチルスルファモイルから独立して選択される];
ただし、前記化合物は
(N−メチル−N−ブチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン;[1−(N,N−ジメチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン;
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−ニトロフェニル)ケトン;
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(4−フルオロ−2−メチルアミノフェニル)ケトン;
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(3−メトキシ−4−メチル−6−アミノフェニル)ケトン;
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(3−メトキシ−6−アミノフェニル)ケトン;
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(フェニル)ケトン;
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)ケトン;
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(2−アミノ−4−メトキシフェニル)ケトン;
[1−(N−メチル−N−ブチルスルファモイル)エチル](フェニル)ケトン;または
(N,N−ジメチルスルファモイルメチル)(チエン−2−イル)ケトン
ではない。 - 請求項8または9のいずれかで主張された式(I)もしくは(Ia)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩、および薬剤的に受容できる希釈剤またはキャリアを含む医薬組成物。
- ヒトのような、温血動物の予防的または治療的処置の方法に使用する、請求項8または9のいずれかで主張された式(I)もしくは(Ia)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩。
- 医薬品として使用する、請求項8または9のいずれかで主張された式(I)もしくは(Ia)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩。
- ヒトのような温血動物における11βHSD1阻害作用の提示に使用する医薬品の製造における、請求項8または9のいずれかで主張された式(I)もしくは(Ia)の化合物、または薬剤的に受容できるその塩の使用。
- 11βHSD1阻害作用の提示またはそれを提示することがメタボリックシンドロームの処置を表す、請求項1〜7または13のいずれか1つに主張された化合物の使用。
- 11βHSD1阻害作用の提示またはそれを提示することが糖尿病、肥満症、脂肪血症、高血糖症、高インスリン血症または高血圧、とりわけ糖尿病および肥満症の処置を表す、請求項1〜7または13のいずれか1つに主張された化合物の使用。
- 11βHSD1阻害作用の提示またはそれを提示することが緑内障、骨粗鬆症、結核、痴呆、認知障害、または鬱病の処置を表す、請求項1〜7または13のいずれか1つに主張された化合物の使用。
- 11βHSD1阻害作用による処置が必要なヒトのような温血動物において、そのような作用を提示するための方法であって、請求項1〜8のいずれか1つで主張された式(I)の化合物、もしくは請求項9で主張された式(Ia)の化合物または薬剤的に受容できるその塩の有効量を前記動物に投与することを含む、前記方法。
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