JP2006315004A - 下水処理場水質制御装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下水処理場水質制御装置1は、好気槽12と、好気槽12の前段に設けられ、被処理水3の流量を計測する流量計4と、好気槽12の前段に設けられ、被処理水3中の特定物質の濃度を計測する前段水質計5とを備えている。
流量計4と前段水質計5には、流量計4と前段水質計5とからの情報に基づいて汚濁負荷量を算出する負荷量演算部6が接続されている。汚濁負荷量の基準値を設定する基準設定部7には、負荷量演算部6からの汚濁負荷量の値と基準設定部7からの汚濁負荷量の基準値との偏差に基づいて曝気装置9を制御する制御部8が接続されている。制御部8には、好気槽12内を曝気する曝気装置9が接続されている。
【選択図】図1
Description
負荷量演算部からの汚濁負荷量の値と基準設定部からの汚濁負荷量の基準値との偏差に基づいて曝気装置を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする下水処理場水質制御装置である。
以下、図1および図2を参照して本発明による下水処理場水質制御装置の第1の実施の形態について説明する。
PNH4in=Qin・CNH4in 式(1.1)
PNH4in:汚濁負荷量
Qin:流量計4からの被処理水3の流量
CNH4in:アンモニア濃度計5からの被処理水3のアンモニア濃度
P NH4in=Qavein・CaveNH4in 式(1.2)
P NH4in:汚濁負荷量の基準値
Qavein:被処理水3の平均流量
CaveNH4in:被処理水3のアンモニアの平均濃度
Qair=Q0+Kp(PNH4in−P NH4in) 式(1.3)
Kp:比例定数
Q0:定数(平均汚濁負荷時に必要とされる曝気量)
定数Q0として、平均汚濁負荷時に必要とされる曝気量の値が予め制御部8に設定されているが、空気倍率一定制御または、DO一定制御による演算値が設定されていてもよい。また、比例定数Kpは予め制御部8に設定されているが、制御部8において、自由に設定変更が可能なようになっている。
(1)負荷量演算部6は、流量計4からの被処理水3の流量に基づいて汚濁負荷量を算出しているが、循環装置14または返送装置15の水位計からの水位値に基づいてQ−H曲線を算出し、このQ−H曲線により、被処理水3の流量を算出してもよい。
(2)制御部8は曝気装置9を負荷量演算部6からの汚濁負荷量の値と基準設定部7からの汚濁負荷量の基準値との偏差に基づいて制御しているが、返送装置15、余剰汚泥引抜装置30、循環装置14、凝集剤注入装置16および炭素源投入装置31のうち少なくとも一つを、負荷量演算部6からの汚濁負荷量の値と基準設定部7からの汚濁負荷量の基準値との偏差に基づいて制御してもよい。
(3)制御部8は、負荷量演算部6からの汚濁負荷量と基準設定部7からの汚濁負荷量の基準値の偏差に基づいて、上記の(1.3)の演算を行ない、曝気装置9の曝気量目標値を算出しているが、被処理水3の汚濁負荷量が演算される時点と被処理水3が好気槽12に流入するまでの時間遅れΔtを考慮した下記の(1.4)の演算を行い、曝気装置9の曝気量目標値を算出してもよい。
Qair,t=Q0,t+Kp(PNH4in.t-△t-P NH4in) 式(1.4)
Qair,t:時間tにおける曝気量目標値
PNH4in.t-△t:時間(t−△t)における汚濁負荷量
△t:時間遅れ
時間遅れΔtは、予め制御部8に設定されているが、制御部8において自由に設定変更できるようになっている。
CNorPin=a1C1+a2C2+・・・・+b 式(1.5)
CNorPin:被処理水3の窒素成分濃度またはリン成分濃度
a1,a2・・・:定数
b:定数
C1、C2・・・:窒素成分またはリン成分濃度計以外の水質計からの値
以上のように、リン成分濃度、窒素成分濃度計が設置されていない下水処理場または、リン成分濃度、窒素成分濃度計が設置されているが異常値を示すことが多い下水処理場において、他のオンラインセンサが取り付けられていれば、リン成分濃度および窒素成分濃度計の代わりに、他のオンラインセンサの計測値を利用して、負荷量演算部6は、リン濃度および窒素成分濃度を算出することができる。
1)標準活性汚泥法
2)A2O法(嫌気−無酸素−好気法)
3)AO法(嫌気−好気法)
4)硝化内生脱窒法
5)循環式硝化脱窒法
6)OD法
7)ステップ注入法
8)回分式活性汚泥法
9)間欠曝気法
10)担体投入型活性汚泥法
11)担体投入A2O法
12)担体投入AO法
13)担体投入硝化内生脱窒法
14)担体投入循環式硝化脱窒法
15)担体投入OD法
16)担体投入ステップ注入法
17)担体投入回分式活性汚泥法
18)担体投入間欠曝気法
19)凝集剤注入型活性汚泥法
20)凝集剤注入A2O法
21)凝集剤注入AO法
22)凝集剤注入硝化内生脱窒法
23)凝集剤注入循環式硝化脱窒法
24)凝集剤注入OD法
25)凝集剤注入ステップ注入法
26)凝集剤注入回分式活性汚泥法
27)凝集剤注入間欠曝気法
28)膜分離型活性汚泥法
29)膜分離型A2O法
30)膜分離型AO法
31)膜分離型硝化内生脱窒法
32)膜分離型循環式硝化脱窒法
33)膜分離型OD法
34)膜分離型ステップ注入法
35)膜分離型回分式活性汚泥法
36)膜分離型間欠曝気法
次に図3乃至図6により本発明の第2の実施の形態について説明する。
CT−P=G(t) 式(2.1)
CT−P:リン濃度
t:時間
G(t):水質と時間の関数
PT−Pin=Qin・C'T−Pin 式(2.2)
PT−Pin:汚濁負荷量
Qin:流量計からの流量
C´T−Pin:時間tに対応するリン濃度
P T−Pin=PP04th 式(2.3)
P T−Pin:汚濁負荷量の基準値
PP04th:汚濁負荷量の閾値
被処理水3の汚濁負荷量が汚濁負荷量の基準値以下の場合、凝集剤注入装置16は、好気槽12に凝集剤の注入が行なわず、被処理水3の汚濁負荷量が汚濁負荷量の基準値以上の場合、凝集剤の注入を行なうように制御が行われるため、凝集剤の注入量を最適化できる。また前段水質計5を使用することなく汚濁負荷量を算出できることから、前段水質計5の汚れの付着による前段水質計5の精度の低下および異常信号の問題も解決でき、下水処理場水質制御装置1の信頼性を向上させることができる。さらに、前段水質計5のメンテナンスの手間を省くことができる。
次に図7により本発明の第3の実施の形態について説明する。
次に図8により本発明の第4の実施の形態について説明する。
SVNH4=H(PNH4in) 式(4.1)
H(PNH4in):汚濁負荷量/目標関数
SVNH4:アンモニア濃度目標値
et=PVNH4、t−SVNH4、t 式(4.2)
PVNH4、t:時刻tの被処理水3のアンモニア濃度(アンモニア濃度計22から送信された値)
SVNH4、t:時刻tの被処理水3のアンモニア濃度目標値(制御目標演算部21において算出された値)
Qairt=Qairt−Δt+Kpet 式(4.3)
Qairt:時刻tにおける曝気量目標値
Qairt−Δt:時刻t−Δtにおける曝気量
Kp:比例定数
Δt:時間遅れ
目標関数設定部23において、IAWQ活性汚泥モデルの理論的モデルを用いたシミュレーションによって、被処理水3の汚濁負荷量と達成可能なアンモニア濃度の関数(図9(a))を算出し、算出された関数(図9(a))に基づいて、アンモニア濃度目標値が漸増するような関数(図9(b))を算出し、この関数(図9(b))を用いることにより、被処理水3の汚濁負荷量が大きくなった場合に、被処理水3に対する曝気量目標値がゆるやかに変化することから、必要以上の曝気を抑制でき、コストの低減を図ることができる。
SVt=H(Pt−Δt) 式(4.4)
SVt:アンモニア濃度目標値
Pt−Δt:時間(t一Δt)における汚濁負荷量
Δt:時間遅れ
4 流量計
5 前段水質計
6 負荷量演算部
7 基準設定部
8 制御部
9 曝気装置
12 好気槽
16 凝集剤注入装置
17 水質データベース
18 水質予測部
19 水質算出部
20 判定部
21 制御目標演算部
22 後段水質計
23 目標関数設定部
Claims (2)
- 流入する被処理水を処理する下水処理場に設置された下水処理場水質制御装置において、
好気槽と、
好気槽の前段に設けられ、被処理水の流量を計測する流量計と、
被処理水に対する外部環境の変化により定まるリン成分に関する水質と時間との関係のパターンが予め設定され、この設定されたパターンから現在の外部環境に最も近似したパターンを選択し、選択したパターンに基づいてリン成分に関する水質と時間の関数を算出する水質予測部と、
水質予測部からの関数に基づいて定められた当該時間に対応するリン成分に関する水質の値と流量計からの流量の値に基づいて、汚濁負荷量を算出する負荷量演算部と、
汚濁負荷量の基準値を設定する基準設定部と、
好気槽内に凝集剤を注入する凝集剤注入装置と、
負荷量演算部からの汚濁負荷量の値と基準設定部からの汚濁負荷量の基準値との偏差に基づいて凝集剤注入装置を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする下水処理場水質制御装置。 - 好気槽の前段に設けられ、被処理水中のリン成分の濃度を計測する前段水質計と、水質予測部からの関数に基づいて算出されたリン成分に関する水質の値と前段水質計からのリン成分に関する水質の値の偏差が予め設定された範囲内にあるか判定を行なう判定部を更に備えたことを特徴とする請求項1記載の下水処理場水質制御装置。
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JP2006216932A JP2006315004A (ja) | 2006-08-09 | 2006-08-09 | 下水処理場水質制御装置 |
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2006
- 2006-08-09 JP JP2006216932A patent/JP2006315004A/ja active Pending
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