JP2006308630A - 電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の検査方法 - Google Patents

電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の検査方法 Download PDF

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Abstract

【課題】外部からのプローブを接触させる等の必要がなく、十分な測定精度が得られる検査を実現する。
【解決手段】互いに交差する複数の画像信号線及び複数のデータ線と、複数の画像信号線及び複数のデータ線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素2aと、データ線に電気的に接続され、画素に供給された第1の電位信号が入力される第1の端子と、参照電位としての第2の電位信号が入力される第2の端子とを具備し、第1の電位信号と第2の電位信号との電位を比較して、第1の電位信号が低い場合には第1の端子の電位をより低くし、第1の電位信号が高い場合には第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器4aと、サンプリングスイッチ9aを介して複数の画素に画素信号を供給する画像信号線7とを備え、画像信号線7から第1及び第2の端子にプリチャージ電位が供給されることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の検査方法に関し、特に、複数の画素にそれぞれ設けられた複数のスイッチング素子を有する電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の検査方法に関する。
従来より、液晶装置等の表示装置は、携帯電話、プロジェクタ等の機器に広く使用されている。TFT(Thin Film Transistor)等を用いた液晶表示装置は、TFT基板と対向基板とを貼り合わせて、両基板間に液晶を封入して構成されている。一般に、製造された液晶装置が正常に作動するか否かの検査は、完成品に対して行われる。例えば、所定の画像信号を液晶装置に表示データとして入力し、投影、表示等させることによって、正しくデータが表示されるか、欠陥画素の有無のチェックが行われていた。
しかし、完成品について検査を行う方法を採用した場合には、基板の製造工程後に不良品が発見されることとなる。このため、不良品の発見が遅れてしまい、製造工程の管理面からみると好ましくないという欠点がある。
例えば、工程管理に不良発見の情報がフィードバックされるまでの時間が長くなる。その結果、歩留まりが低下している期間が長期化し、製造コストが上昇する。また、試作品の場合も、試作品の評価から設計にフィードバックされるまでの期間が長期化するため、開発期間の長期化、開発コストの上昇に繋がる。さらに、製品完成後は、いわゆるリペア、すなわち不良箇所の修理が困難である。
そこで、基板の製造工程内において、不良の発見、特に、表示装置の欠陥画素の発見を行うことが望まれている。
そのような検査方法の一つとして、液晶表示装置の電極パッドに検査用プローブを接触させて、所定の電流を供給することによって、液晶表示装置の検査を行う技術が提案されている(例えば特許文献1参照)。同様に、画素のコンデンサ容量特性から、TFT基板の各画素に所定の電圧を印加して、放電電流及び放電電圧の波形に基づいてTFTの機能を検査する技術が提案されている(例えば特許文献2参照)。
また、TFT基板の画素に対応する検査用の対向電極を用いて、画素の電位の変化量を検出することによって、各画素の動作検査を行う技術も提案されている(例えば特許文献3参照)。
特開平5-341302号公報 特開平7-333278号公報 特開平10-104563号公報
しかし、上述した特許文献1及び特許文献3に記載の技術による場合、検査装置において、基板の外部から電極パッド等に所定のプローブ等を接触あるいは近接させるための機械的な位置精度が要求される。その結果、機械的なアライメント精度を確保するために検査時間が長くなるという問題がある。さらに、高精細な液晶表示装置の場合は、多くの電極パッドに対して細いプローブ等を機械的な制御を行って接触させなければならなくなり、これらの方法が適用できない場合もある。
また、一般的には、電極の付加容量を含む画素自体の容量に比べて、液晶表示装置と測定装置間の各種容量成分、例えばソース線、画像信号線、電極パッド端子等における容量の方が極めて大きい。画素に蓄積された電荷と,ソース線にチャージされた電荷との再配分で決まるソース電位の変化△Vは、ソース線等の容量と画素自体の容量との比に応じて決まり、微少な電圧レベルである。このため、画素に保持されている電圧を電極パッド等から取り出そうとすると、微少なレベルの電位変化△Vに対して大レベルのノイズが重畳されることになり、画素保持電圧の測定精度は極めて低下し、十分な測定精度は得られない。
本発明は、以上の点に鑑みてなされたもので、外部からのプローブを接触される等の必要がなく、十分な測定精度が得られる検査を実現することができる電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の検査方法を提供することを目的とする。
本発明に係る電気光学装置用基板は、互いに交差する複数の画像信号線及び複数のデータ線と、前記複数の画像信号線及び前記複数のデータ線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素と、前記データ線に電気的に接続され、前記画素に供給された第1の電位信号が入力される第1の端子と、参照電位としての第2の電位信号が入力される第2の端子とを具備し、前記第1の電位信号と前記第2の電位信号との電位を比較して、前記第1の電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、サンプリングスイッチを介して前記データ線に前記電位信号を供給する画像信号線とを備え、前記第1及び第2の端子の電位をプリチャージ電位にするプリチャージ電位信号は前記画像信号線から供給されることを特徴とする。
このような構成によれば、差動増幅器の第1及び第2の端子の少なくとも一方には、データ線が接続される。差動増幅器は第1の信号と第2の信号とを比較することよって、画素の検査時において、第1及び第2の端子のうちの少なくとも一方に接続された信号線の電位を2値化する。信号線によって画素の電位を取り出すことができ、差動増幅器の出力によって画素の良不良を判定することができる。また、既存の画像信号線から差動増幅器の第1及び第2の端子にプリチャージ電位を供給するため、検査回路の占有面積を縮小することができる。
また、前記増幅器は、前記第2の端子も前記データ線に電気的に接続されていることを特徴とする。
このような構成によれば、増幅器を用いて、データ線の電位の検査が可能である。
また、前記第1の端子には奇数列の前記データ線が、前記第2の端子には偶数列の前記データ線が電気的に接続されることを特徴とする。
このような構成によれば、偶数列の画素と奇数列の画素とに夫々異なる電位を書き込むことによって、差動増幅器の出力から偶数列の画素と奇数列の画素の良不良を判定することができる。
また、前記第2の端子には、前記第2の電位信号を供給するための前記データ線が電気的に接続されていることを特徴とする。
このような構成によれば、データ線によって第2の端子に第2の電位信号を供給することができる。
前記第2の端子には、前記参照電位を供給する前記データ線が電気的に接続されていることを特徴とする。
このような構成によれば、参照電位を供給するデータ線によって第2の端子に参照電位を供給することができる。
また、本発明の他の形態によれば、奇数列の信号線と偶数列の信号線とに夫々電気的に接続される接続手段とを更に具備し、前記接続手段は、前記第1及び第2の端子のいずれか一方と前記奇数列又は偶数列のデータ線とを電気的に接続することを特徴とする。
このような構成によれば、第1又は第2の端子の一方に、複数の信号線のうちの所定の信号線を接続し、他方には所定の参照電圧を供給することができる。
また、本発明に係る電子機器は、上記電気光学装置を用いたことを特徴とする。
このような構成によれば、外部からのプローブを接触される等の必要がなく、十分な測定精度の得られる検査のできる電気光学装置を用いた電子機器が実現できる。
また、本発明に係る電気光学装置の検査方法は、互いに交差する複数の画像信号線及び複数のデータ線と、サンプリングスイッチを介して前記データ線に電位信号を供給する画像信号線とを有する電気光学装置の検査方法であって、前記複数の画像信号線及び前記複数のデータ線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素電極と、前記データ線に電気的に接続され、前記画素電極に供給された第1の電位信号が入力される第1の端子と、第2の電位信号が入力される第2の端子とを具備した増幅器において、前記画像信号線を介して前記第1及び第2の端子にプリチャージ電位信号を供給し、前記第1及び第2の端子の電位をプリチャージ電位にするステップと、前記第1の端子に前記第1の電位信号を入力し、前記第2の端子に前記第2の電位信号を入力するステップと、、前記第1の電位信号と前記第2の電位信号との電位を比較して、前記第1の電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力するステップと、を具備したことを特徴とする。
このような構成によれば、既存の画像信号線を用いて第1及び第2の端子にプリチャージ電位を供給するため、検査回路の占有面積を縮小することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。
ここでは、本発明の電気光学装置の一例として、液晶表示装置に用いるアティブマトリックス型表示装置を例にとって説明する。
本発明は電気光学装置に差動増幅器を含む検査回路を搭載するものであり、検査対象の画素から読み出した信号電位と基準電位(リファレンス)とを差動増幅器を用いて比較することで、画素の良不良の判定を行うようになっている。この場合において、リファレンスの供給の仕方及び検査対象画素の選択の仕方に応じて、<a.画素リファレンス型>、<b.外部リファレンス型>及び<c.検査列切換外部リファレンス型>の3つに分類することができる。
画素リファレンス型は、一対の画素の一方の画素に基準電位を書き込み、両画素から読み出した電位を差動増幅器で比較することで、他方の画素の良不良を判定するものである。
外部リファレンス型は、基準電位(リファレンス)を外部から与え、差動増幅器において外部からのリファレンスと、検査対象の画素から読み出した電位とを比較することで、画素の良不良を判定するものである。
また、検査列切換外部リファレンス型は、差動増幅器の2つの入力端子の一方に外部からのリファレンスを供給し、他方の入力端子に画素から読み出した電位を供給するもので、リファレンスを供給する入力端子と画素から読み出した電位を供給する入力端子とを相互に切換えるようにしたものである。
更に、これらの<a.画素リファレンス型>、<b.外部リファレンス型>及び<c.検査列切換外部リファレンス型>は、検査対象からの画素から読み出した電位が与えられる差動増幅器の端子(検査端子)に、複数のソース線の1つを選択して接続する構成を付加したシェアード型で構成することができる。
(第1の実施の形態)<a.画素リファレンス型>
図1は本発明の第1の実施の形態に係り、画素リファレンス型の電気光学装置を示す回路図である。
図1に示すように、電気光学装置である液晶表示装置が搭載された素子基板1Aとして、アクティブマトリックス型表示装置用基板であるTFT基板を例に説明する。素子基板1Aは、表示素子アレイ部2と、表示データ読み出し回路部4とを含む。表示部となる表示素子アレイ部2は、マトリックス状に2次元に配置されたm行×n列の複数の画素2aを有している。ここで、m,nはそれぞれ整数である。
表示素子アレイ部2は、図1の右から第1列、第2列、・・第n列で、上から第1行、第2行、・・第m行のマトリックスであるが、図1では、説明を簡単にするために、4(行)×12(列)のマトリックスの画素からなる回路の例を示している。
図2は図1中の画素2aの等価回路図である。表示素子アレイ部2は、例えば、両基板間に液晶を封入して構成される。表示素子アレイ部2は、ソース線S(S1,S2,…)と画像信号線G(G1,G2,…)との交点に対応して単位表示素子である画素2aが構成される。各画素2aは、夫々スイッチング素子である薄膜トランジスタ(以下、TFTという)11を有する。ソース線からTFTを介して画素電極に画素信号が供給され、この画素信号によって画素電極と共通電極との間の液晶の状態が変化する。こうして、表示素子アレイ部2の光の輝度を画素信号によって変化させることができ、画像表示が可能となる。
画素において画素信号を長時間保持させるために、各画素2aの画素電極、共通電極及び液晶による容量(以下、液晶容量という)Clcには、付加容量Csが並列に接続されている。TFT11のドレインは、液晶容量Clcと付加容量Csのそれぞれの一端に接続され、付加容量Csの他端は、共通固定電位CsCOMが印加される。TFT11のゲート端子gは画像信号線Gに接続されている。TFT11のゲート端子gに所定の電圧信号が入力されてTFT11がオンすると、ソース線Sに接続されたTFT11のソース端子sに印加されている電圧が液晶容量Clcと付加容量Csに印加され、供給された所定の電位が維持される。
素子基板1Aは、表示素子アレイ部2のX方向(横方向)及びY方向(縦方向)に並んだ複数の画素2aを駆動するために、Xドライバ部5aと、Yドライバ部5bと、トランスミッションゲート部6と、画像信号線7とを含む。Xドライバ部5a、Yドライバ部5b、トランスミッションゲート部6及び画像信号線7によって、データ書込み及びデータ読出しが行われる。
トランスミッションゲート部6は、Xドライバ部5aからの出力タイミング信号に応じて、画像信号線7から入力される画素信号をソース線S1,S2,…に供給する。画像信号線7は、マトリックス状の表示素子アレイ部2の奇数列に信号を供給する信号線と、偶数列に信号を供給する信号線とを有し、それぞれの端子inoとineとに接続されている。ソース線S1,S2,…は夫々各列のn個の画素に接続されており、ソース線S1,S2,…からの画素信号は、ライン毎に画素に書き込まれるようになっている。
なお、各種特性検査のために各画素に印加するプリチャージ電圧も、端子inoとineから画像信号線7を介してソース線S1,S2,…に供給される。プリチャージ時には、Xドライバ部5aからの制御信号に従って、トランスミッションゲート部6の各トランジスタTG1,TG2,…が全てオンとなり、端子inoとineに供給されたプリチャージ電圧が各ソース線S1,S2,…を介して各画素にプリチャージされるようになっている。つまり、既存の信号線や端子を利用して各画素へプリチャージ電圧を供給することで、プリチャージ専用の回路を設ける必要がないため、検査回路の占有面積を縮小することができ、液晶表示装置の小型化を図ることができる。
また、画像信号線7には、カレントミラーアンプを含む差動増幅器10が設けられている。差動増幅器10は、画像信号線7自体の持つ容量成分等によってハイレベル信号(以下、HIGH信号という)及びローレベル信号(以下、LOW信号という)の差が小さくなることを防止するために設けられており、HIGH,LOW信号を明確にして出力信号outo,outeを高速に精度良く出力する。
本実施の形態においては、画素の検査のために表示データ読み出し回路部4が、アクティブマトリックス駆動型の液晶表示パネルの素子基板1Aに形成されている。表示素子アレイ部2と表示データ読み出し回路部4との間には、トランスミッションゲート部9が設けられている。トランスミッションゲート部9は、ソース線S1,S2,…に夫々接続されたサンプリングスイッチとしてのトランジスタ9ao,9Taeによって構成されており、各トランジスタ9ao,9aeのゲートは、ゲート信号線を介して接続制御端子9bに接続されている。接続制御端子9bは、トランジスタ9dによって構成されるプルダウン回路が接続されており、通常時はLOWに維持される。これにより、通常時は、トランジスタ9ao,9aeはオフであり、表示データ読み出し回路部4は各ソース線から切り離された状態になっている。テスト時には、接続制御端子9bにHIGHの接続制御信号を供給することで、トランジスタ9ao,9aeをオンにして、ソース線に表示データ読み出し回路部4を接続するようになっている。
表示データ読み出し回路部4は、複数の差動増幅器4aを有しており、差動増幅器4aの2つの入力端子se,soに、検査対象の画素から読み出した電位と検査の基準となる基準電位(リファレンス)とが与えられるようになっている。
図1の例では、2次元マトリックスの奇数列のソース線S(odd)と偶数列のソース線S(even)の1組のソース線に対して接続された差動増幅器4aが、複数設けられている。即ち、図1の例では、差動増幅器4aは、2次元マトリックスの一方向、ここでは、X方向におけるn個の画素(nは整数で、偶数)に対して、(n/2)個設けられている。従って、n列の画素に対して、(n/2)個の差動増幅器4aが対応する複数のソース線に接続されている。
図3は図1中の表示データ読み出し回路部4の差動増幅器4aの具体的な構成を示す回路図である。
各差動増幅器4aは、2つのPチャネル型のトランジスタTr1,Tr2と、2つのNチャネル型のトランジスタTr3,Tr4とを含む。トランジスタTr1,Tr3のゲートは端子soに接続され、トランジスタTr2,Tr4のゲートは端子seに接続される。トランジスタTr1,Tr2のソース・ドレイン路同士は直列接続され、トランジスタTr3,Tr4のソース・ドレイン路同士も直列接続される。端子so,se相互間に、トランジスタTr1,Tr2同士のソース・ドレイン路と、トランジスタTr3,Tr4同士のソース・ドレイン路とが並列接続されている。
端子se,soは夫々これらの端子に電位を供給するse配線4f又はso配線4gに接続される。se配線4f,so配線4gの一方には、検査対象の画素から読み出した信号電位が供給され、他方には、リファレンスが供給される。トランジスタTr1,Tr2のソースとドレインとの接続点は電源端子spに接続され、トランジスタTr3,Tr4のソースとドレインとの接続点は電源端子snに接続される。図1に示すように、電源端子spには、第1の供給手段としての電源トランジスタ4dを介して電源電位Vddが供給され、電源端子snには、第2の供給手段としての電源トランジスタ4eを介して基準電位点から接地電位が供給される。電源トランジスタ4d,4eは、夫々端子4b,4cを介して供給される駆動配線SAp−ch,SAn−chからのパルス信号によってオン,オフ制御されるようになっている。
このように構成された差動増幅器4aにおいては、端子se,soに供給された電位を、一方は電源電位まで引き上げ、他方は基準電位点の電位(接地電位)まで引き下げる。例えば、端子seに端子soに比べて僅かでも高い電位が供給されたものとする。そうすると、トランジスタTr1〜Tr4のうち、トランジスタTr4が最初にオンする。トランジスタTr4がオンになるので、端子soの電位は端子snの低い接地電位まで低下する。そして、端子soが端子snの低い接地電位まで低下するので、ゲート端が端子soに接続されたトランジスタTr1がオンする。その結果、端子seは電源端子spの高い電源電位Vddまで上昇する。
このように、差動増幅器4aは、端子se,soに印加される電位のうち高い方の電位をより高くし、低い方の電位をより低くするように機能する。
図1において、端子seはse配線4fに接続され、se配線4fの他端はトランスミッションゲート部9のトランジスタ9aeのソースに接続される。また、端子soはso配線4gに接続され、so配線4gの他端はトランスミッションゲート部9のトランジスタ9aoのソースに接続される。これらの各トランジスタ9ao,9aeのドレインは夫々対応するソース線に接続される。図1の例では、se配線4fは、トランジスタ9aeを介して偶数列のソース線S2,S4,…に接続され、so配線4gは、ゲートトランジスタ9aoを介して奇数列のソース線S1,S3,…に接続される。
表示データ読み出し回路部4とトランスミッションゲート部9との間には、イコライズ回路部8も設けられている。イコライズ回路部8は、ソース・ドレインが奇数列のソース線と偶数列のソース線に接続されたn/2個のイコライズトランジスタ8aを有している。トランジスタ8aは、ゲートが制御端子8bに接続され、制御端子8bからのHIGHのプリチャージ制御信号によってオンとなって、奇数列と偶数列のソース線同士を同電位にするようになっている。なお、端子inoとineから画像信号線7を介してソース線Sにプリチャージ電圧が供給される際、端子ino,ineから遠くに配置されている表示データ読み出し回路部4の差動増幅器4aでは、端子se,so間に微小な電位差が発生する可能性がある。この微小な電位差を取り除き、端子se,soを同電位にする必要があるため、イコライズ回路部8は表示データ読み出し回路部4の差動増幅器4aの近傍に配置することが望ましい。
以上のような構成のアクティブマトリックス型表示装置である液晶表示装置が製造工程において製造されると、対向基板と貼り合わせて液晶を封入する前の素子基板の段階で電気特性を評価あるいは検査することができる。電気的特性の検査対象とする不良としては、各画素のデータ保持用キャパシタ(付加容量Cs)のリークによって画素がLOWに固定されてしまう不良(以下、LOW固定不良という)、スイッチング素子であるTFTのソース・ドレイン間リークによって画素がHIGHに固定されてしまう不良(以下、HIGH固定不良という)がある。
次に、このように構成された電気光学装置の検査及び動作について説明する。製造工程における素子基板1Aの検査の手法について説明する前に、図1に示すTFT基板が対向基板と貼り合わされて液晶が封入されて完成された液晶表示装置が、通常の画像表示を行うときの動作について説明する。
まず、2本の画像信号線7には、それぞれ奇数列と偶数列の画素信号である画素信号が、画像信号線7の入力端子ineとinoに入力される。それぞれの画素信号は、Xドライバ5aからの列選択信号に応じて、トランスミッションゲート部6のそれぞれのトランジスタTG1,TG2,…を介して、各ソース線Sへ供給される。
各ソース線Sに供給された画素信号は、Yドライバ5bからの画像信号線GがHIGHになって選択された行の各画素2aに書き込まれる。即ち、選択された画像信号線Gにおいて、ソース線Sに供給される画素信号が対応する画素2aに表示用の画素信号として供給されて保持される。この動作を、行順次で行うことにより、液晶表示装置の表示素子アレイ部2には、所望の画像が表示される。
また、各ソース線Sには、画像信号線GがHIGHになる前に、入力端子ineとinoから画像信号線7を介してプリチャージ電圧Vpreが印加される。プリチャージ電圧Vpreを供給するタイミングは、Xドライバ5aからトランスミッションゲート部6のそれぞれのトランジスタTG1,TG2,…に与えられる制御信号によって決定される。
なお、製品あるいは試作品としての液晶表示装置として画像表示が行われるときは、トランスミッションゲート部9の各トランジスタ9ao,9aeはオフであり、素子基板1Aの表示データ読み出し回路部4は、動作せず使用されない。
次に、素子基板1Aにおいて、図1に示す回路部分が半導体プロセスの工程によって製造された後に、素子基板1Aの状態において行われる検査の手順について図4乃至図7を参照して説明する。この素子基板1Aの検査において、表示データ読み出し回路部4が動作して使用される。
まず検査方法を実現するための検査システムについて説明する。図4は検査システムの構成図である。素子基板1Aと、画素データの書き込みと読み込みができるテスト装置15とを、接続ケーブル16を介して接続する。接続ケーブル16は、素子基板1Aの画像信号線7の端子ino,ine、表示データ読み出し回路部4の信号線の端子4b、4c等を、テスト装置15に電気的に接続する。
テスト装置15から、後述する所定の順番で、所定の電圧を各端子に供給することによって、素子基板1Aの電気的特性の検査を行うことができる。以下に、その検査内容として、上述した不良のうちLOW固定不良の有無についての検査を行う手順を説明する。
図5は検査の全体の流れの例を示すフローチャートである。また、図6は図5のステップST2の読み出し動作を説明するためのタイミングチャートである。
図5のステップST1において、画像信号線7の入力端子ino,ineからセルである各画素に所定の画素信号を入力する。画素の検査は、基準となる列の画素に対して、検査対象の列の画素が正常であるか否かを判定することによって行われる。まず、基準とする列を偶数列とし、検査対象とする列を奇数列とする。図6に示す各タイミング信号は、テスト装置15によって生成されて各端子に供給される。
例えば、リファレンスとして中間電位を採用するものとする。この場合には、奇数側のソース線S(odd)にHIGHを供給し、偶数側のソース線S(even)にリファレンスとして中間電位を供給する。これにより、選択された行の奇数番目の画素にはHIGHが書き込まれ、偶数番目の画素には中間電位が書き込まれる。この書込工程が、行毎に行われ、全行の画素への書き込みが行われる。図7は各画素の書き込みの状態を示しており、4(行)×12(列)の各画素に書き込まれる画素データが中間電位(M)であるか、HIGH(H)であるかを示している。図7に示すように、表示素子アレイ部2の各画素データは、HIGH(H)の列と中間電位(M)の列が交互に表れるマトリックスとなる。
なお、この時点では、駆動配線SAp−chは電源電位Vdd,SAn−chは接地電位であり、表示データ読み出し回路部4の各差動増幅器4aは非動作状態である。
次に、ステップST2において、画素データの読出しを行う。接続制御端子9bにHIGHを供給することで、トランスミッションゲート部9の各トランジスタ9ao,9aeをオンにして、書き込まれた画素データを行毎に読み出して、表示データ読み出し回路部4に供給する。
ステップST2の読み出しの直前に、プリチャージ及びイコライズ処理が行われる。即ち、全画素への上述した所定の画素データの書き込み後に、先ず、Xドライバ5aからの制御信号従い、トランスミッションゲート部6の全てのトランジスタTG1,TG2,…がオンになる。これにより、各ソース線Sには、画像信号線7の端子ino,ineからプリチャージ電圧が供給されて、プリチャージが行われる。
プリチャージ状態で所定時間経た後に、読み出し動作が開始される。なお、各ソース線Sのプリチャージ電位VpreはHIGHとLOWの中間電位にし、図2に示すCsCOM電位をLOW電位とする。CsCOM電位をLOW電位とするのは、データ保持用キャパシタCsがリーク不良である場合、リーク先のCsCOM電位がLOW電位となるため、読み出し電位は基準側の中間電位より低くなるようにするためである。そして、最初のプリチャージ期間は、やや長い時間を設定しておき、リーク不良による電圧変化が現れるようにする。
なお、プリチャージ期間には、イコライズトランジスタ8aもオンになっており、奇数列のソース線S1,S3,…と偶数列のソース線S2,S4,…とは同電位となる。
第1行目の読み出し動作の前に、トランスミッションゲート部6の全てのトランジスタTG1,TG2,…がオフとなりプリチャージが停止する。次に画像信号線G1の電位をHIGHにして第1行目の画素トランジスタである各TFT11をオンにする。画像信号線G1に接続された全ての画素のTFT11が一斉にオンする。その結果、コンデンサCs等に書き込まれた電荷がソース線Sに移動する。HIGHが書き込まれた奇数列の画素に接続されたソース線(S(odd))は、図6に示すように、プリチャージによる中間電位から若干上昇する。一方、リファレンスが書き込まれた偶数列の画素に接続されたソース線(S(even))の電位は、略中間電位のままとなる(図6参照)。
この状態で、駆動配線SAn−chを接地電位からHIGHにし、更に、駆動配線SAp−chを電源電位VddからLOWにする。駆動配線SAn−chがHIGHになることで、電源トランジスタ4eがオンして接地電位が差動増幅器4aの電源端子snに印加され、端子se,soのうちより低い電位となっている端子seが接地電位まで低下する(図6のS(even)参照)。また、駆動配線SAp−chがLOWになることで、電源トランジスタ4dがオンして電源電位Vddが差動増幅器4aの電源端子spに印加され、端子se,soのうちより高い電位となっている端子soが電源電位まで上昇する(図6のS(odd)参照)。こうして、端子se,soの電位が確定する。この動作は画像信号線G1に接続された画素すべてにおいて一斉に行われる。
このように、表示データ読み出し回路部4の各差動増幅器4aは、2つのソース線Sに現れる高低2つの電位レベルを電源端子sp又はsnの電圧まで変化させて明確にする。
ステップST3では、確定した端子se,soの電位の比較が行われる。即ち、トランスミッションゲート部6の各トランジスタのゲートTG1からTGnを順に開き(HIGHにし)、画像信号線7から順番に第1行目の各画素の画素データを読み出す。
こうして読み出された画素データは、テスト装置15に供給される。最後のトランスミッションゲートTGnまで開いた後、図6に示すように、再びプリチャージ動作に移る。そのプリチャージ動作、すなわち2回目以降のプリチャージ時間は初回ほど長い必要はない。そのプリチャージ動作を停止した後は、第2の画像信号線G2の電位をHIGHにすることによって、第2行目の各画素のTFT11をオンする。以降同様の動作を、最後の画像信号線Gmに接続された画素、すなわち、第m行目の各画素の画素データまで読み出す。
テスト装置15は、読出工程において読み出した画素データと、書込工程において書き込んだ画素データとを比較する。この比較工程においては、検査対象の各画素から読み出した画素データがHIGHであるか否かが判断される。テスト装置15は、検査対象の画素から読み出したデータがHIGHでないセル(画素)を特定し、異常セルとして、例えばセル番号等のデータを、図示しないモニタの画面上に表示するように出力する(ステップST4)。
ここで検査対象の奇数側の画素に、例えばデータ保持用キャパシタCsのリークが生じてLOW固定不良が発生していたものとする。この場合に、図6のS(odd)の破線L1に示すように、奇数側ソース線(S(odd))の電位が偶数側ソース線(S(even))の電位より若干低下するものとする。そうすると、駆動配線SAn−chがHIGHとなって、電源端子snが接地電位になると、差動増幅器4aの端子soが接地電位まで低下する(破線L1参照)。そして、駆動配線SAp−chがLOWになり、電源端子spが電源電位Vddになると、差動増幅器4aの端子seは電源電位Vddまで上昇する(破線L2参照)。
こうして、確定した端子se,soの電位が、トランスミッションゲート部6を介してテスト装置15に出力される。この場合には、検査対象の画素から読み出したデータは、LOWとなっており、テスト装置15は検査対象の画素にLOW固定不良が生じていることを検出することができる。
こうして、読み出した各画素データと書き込んだ各画素データとを比較して、被検査対象の奇数列の各画素にLOW固定不良があるか否かのチェックを行うことができる。
一方、HIGH固定不良を検査を行う場合には、リファレンス画素に中間電位を書き込み、検査対象画素にLOWを書き込めばよい。この場合には、テスト装置15は検査対象の画素から読み出したデータがHIGHである場合に、その画素にHIGH固定不良が生じていることを検出することができる。
上述した説明は、偶数列の画素にリファレンスである中間電位を書き込み、奇数列の画素を検査対象とした例を説明したが、本実施の形態では、奇数列の画素にリファレンスである中間電位を書き込み、偶数列の画素にHIGH,LOWを書き込むことによって、テスト装置15において、偶数列の画素から読み出したデータに基づいて偶数列の画素の良不良を判定することもできる。
このように、本実施の形態においては、基板工程終了後の液晶表示装置に対して、画素にリファレンス又はLOW,HIGHを書き込むことによって、奇数と偶数の列のいずれか一方を基準として他方の画素にLOW又はHIGH固定不良が生じているか否かの検査を行うことができる。この検査を奇数と偶数の両列について行うことによって、全画素についてLOW又はHIGH固定不良の検査を基板状態で実施することができる。この場合には、表示データ読み出し回路部によって、アナログ情報であるキャパシタの充電電荷をデジタル情報(電圧論理)に変換しており、検査における検出精度を著しく向上させることができる。
このように製品あるいは試作品における素子基板工程の完了後に、液晶表示装置の不良を検出することができるので、歩留まり低下期間の短縮が可能となり、不良品を組み立てることが少なくなくなって、コスト低減を図ることができる。特に、試作品の場合には、開発期間の短縮と開発コストの削減を期待することができる。更に、素子基板の段階で不良が検出できるので、いわゆるリペアも容易となる。
なお、本実施の形態の電気光学装置の変形例として、図8に示すように、トランスミッションゲート部9を設けずに、差動増幅器4aの端子seに接続されたse配線4fと、端子soに接続されたso配線4gとが、対応するソース線に直接接続されるように構成してもよい。この場合、素子基板1Aの表示データ読み出し回路部4を動作させるか否かは、差動増幅器4aの電源トランジスタ4d,4eのオン,オフによって操作される。すなわち、製品あるいは試作品としての液晶表示装置として画像表示が行われるときは、電源トランジスタ4d,4eをオフにすることで、素子基板1Aの表示データ読み出し回路部4を非動作状態とする。また、素子基板1Aの電気的特性の検査が行われるときは、上述した検査のフローに従い、適切なタイミングで電源トランジスタ4d,4eをオンにすることで、素子基板1Aの表示データ読み出し回路部4を動作状態とする。トランスミッションゲート部9を設けないことで、検査回路の占有面積を小さくすることができ、液晶表示装置を更に小型化することができる。
(第2の実施の形態)<b.外部リファレンス型>
図9は本発明の第2の実施の形態に係り、外部リファレンス型の電気光学装置用を示す回路図である。図9において図1と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。第1の実施の形態においては、リファレンスを画素から読み出していたが、本実施の形態はリファレンスを外部から供給するものである。
図9においては、基板1Bは、3×6画素で表示素子アレイ部2を示しているが、表示素子アレイ部2、Xドライバ部5a、Yドライバ部5b、トランスミッションゲート部6、画像信号線7、及び表示データ読み出し回路部4の構成は第1の実施の形態と同様である。
表示データ読み出し回路部4と表示素子アレイ部2との間には、イコライズ回路部8とトランスミッションゲート部9’が設けられている。イコライズ回路部8と表示データ読み出し回路部4によってテスト回路が構成される。
本実施の形態においては、トランスミッションゲート部9’は各ソース線S1,S2,…に対応して設けられたトランジスタ9aによって構成されている。差動増幅器4aの端子soに接続されたso配線4gは、トランジスタ9aのソースに接続され、トランジスタ9aのドレインは各ソース線S1,S2,…に接続される。トランジスタ9aは制御端子9bを介して入力されるHIGHの接続制御信号によってオンとなり、ソース線S1,S2,…に、テスト回路を接続するようになっている。
本実施の形態においては、差動増幅器4aの端子seに接続されたse配線は、イコライズ回路部8のトランジスタ8aを介してソース線S1,S2,…に接続されるようになっている。第1の実施の形態と同様に、ソース線S1,S2,…には、画像信号線7を介して入力端子ino,ineからプリチャージ電圧が供給されるようになっている。すなわち、プリチャージ時には、Xドライバ部5aからの制御信号に従って、トランスミッションゲート部6の各トランジスタTG1,TG2,…が全てオンとなることで、端子inoとineに供給されたプリチャージ電圧がソース線Sを介して夫々se配線4f又はso配線4gに供給されるようになっている。
これにより、本実施の形態では、se配線は、画像信号線7を介して入力端子ino,ineから入力された、外部からのプリチャージ電位を維持し、リファレンス電位として端子seに供給するためのリファレンス配線として用いられ、so配線は検査対象の画素からのデータを端子soに供給するための検査配線として用いられる。即ち、本実施の形態では、1つの差動増幅器4aによって1本のソース線に接続された画素の検査が可能であり、差増増幅器4aは表示素子アレイ部2の列数nと同数設けられる。
即ち、図9の例では、プリチャージ期間において、so配線4gとse配線4fにプリチャージ電圧を供給し、se配線4fでは,このプリチャージ電圧を維持させてリファレンス電圧として機能させており、プリチャージ電圧を例えば中間電位に設定している。
次に、図10のタイミングチャートを参照して検査方法について説明する。本実施の形態においても検査の全体の流れは図5のフローと同様である。図10は本実施の形態における読み出し動作を示している。
本実施の形態においても、画素の検査は、各列が正常であるか否かを判定することによって行われ、図10の各種信号は、図4に示すテスト装置15によって生成されて各端子に供給される。
本実施の形態においては、リファレンス電位はプリチャージ電位を利用しており、すなわち外部から供給しており、画素に書き込む必要はない。各画素には検査のための書き込みを行う。例えば、LOW固定不良の検査を行うものとすると、素子アレイ部2の全ての画像信号線Gをオンして、全ての画素にHIGHを書き込む。
なお、各画素にLOWを書き込んだ場合には、第1の実施の形態と同様にHIGH固定不良の検査が可能である。なお、以下、全画素にHIGHを書き込んで基板1Bの検査を行う例を説明するが、一部の画素についてのみ検査を行うようにしてもよい。書き込み後、画像信号線Gのゲートはオフにされる。
図10に示すように、全画素に上述した所定の画素データ(ここではHIGH)の書き込みを行った後、テスト回路と表示素子アレイ部2とを接続するために、テスト回路接続用の制御端子9bの接続制御信号TEもHIGHとなる。これにより、トランジスタ9aがオンとなって、ソース線S1,S2,…と各so配線4gとが接続される。
データ保持時間t1を確保するために、Xドライバ部5aからの制御信号に従って、トランスミッションゲート部6の各トランジスタTG1,TG2,…が全てオンとなる。これにより、入力端子ino,ineに供給される電圧が画像信号線7を介して夫々so配線4g及び各ソース線とse配線4fとに印加される。即ち、入力端子ino,ineに供給された電圧は、so配線4g・se配線4f及びソース線にはプリチャージ電圧として供給される。例えば、プリチャージ電圧Vpreとしては、中間電位が選択される。データ保持時間t1経過後、トランスミッションゲート部6の各トランジスタTG1,TG2,…はオフとなり、so配線4g・se配線4f及びソース線へのプリチャージ電圧の供給が停止される。
また、図10には図示しないが、プリチャージ電圧印加時には、制御端子8bにもHIGH信号を供給しており、イコライズ回路部8のトランジスタ8aもオンとなって、so配線4gとse配線4fとは同電位となる。これにより、この時点では、各ソース線S及び差動増幅器4aの端子so,seは、中間電位の状態となっている。
次に、データ保持時間t1の経過後であり、トランスミッションゲート部6の各トランジスタTG1,TG2,…はオフとした後に、画像信号線G1をHIGHにして、画素データの読み出しを開始する。なお、この時点では、駆動配線SAp−chは電源電位Vdd,SAn−chの電位は接地電位であり、各差動増幅器4aはまだ動作していない状態である。
画像信号線G1をHIGHにすると、画像信号線G1に接続された各画素から一斉にデータが出力される。つまり、コンデンサCsに書き込まれて保持された電荷が、対応するソース線Sに一斉に移動する。各画素にはHIGHが書き込まれており、画素が正常であれば、図10の実線に示すように、各ソース線S及びso配線4gの電位がわずかに上昇する。もしも、コンデンサCsのリークがあって、各画素のデータがLOWに変化していると、各ソース線Sの電位は、点線で示したようにわずかに下降する。
ゲート線G1を開いた後、所定時間経過してから、各差動増幅器4aを動作させるために、まず、駆動配線SAn−chの電位をLOW(接地電位)からHIGHに変化させる。駆動配線SAn−chの電位のHIGHへの変化の瞬間と同時あるいはその瞬間の前後に接続制御信号TEをLOWにし、トランスミッションゲート部9’のトランジスタ9aを所定期間t2だけオフにする。即ち、トランジスタ9a,8aがオフとなり、so配線4g及びse配線4fはフローティング状態となる。これにより、se配線4fの中間電位及び僅かに上昇したso配線4gの電位は、夫々配線so,se内で維持され、ソース線S等の他の配線からの影響を受けない。
この状態で、駆動配線SAn−chをHIGHにする。そうすると、中間電位より僅かに低い端子se側の電位がLOWに変化する(図10の端子so参照)。
次に、駆動配線SAp−chをLOWにして、差動増幅器4aのPチャネル型トランジスタTr1,Tr2を動作させる。これにより、中間電位より僅かに高い端子so側の電位がHIGHに変化する(図10の端子se参照)。
こうして、差動増幅器4aの端子so,seの電位をLOW又はHIGHに確定させる。
ここで検査対象の奇数側の画素に、例えばデータ保持用キャパシタCsのリークが生じてLOW固定不良が発生していたものとする。この場合に、図10のSの破線に示すように、ソース線Sの電位がリファレンス(中間電位)より若干低下するものとする。そうすると、駆動配線SAn−chがHIGHとなって、電源端子snが接地電位になると、差動増幅器4aの端子soが接地電位まで低下する(図10の端子soの破線参照)。そして、駆動配線SAp−chがLOWになり、電源端子spが電源電位Vddになると、差動増幅器4aの端子seは電源電位Vddまで上昇する(図10の端子seの破線参照)。つまり、この場合には、端子so,seの電位は、画素が正常な場合と逆の論理値となる。
端子so,seの電位がLOW又はHIGHに確定すると、端子soの電位を出力させるために、接続制御信号TEをHIGHにしてトランスミッションゲート部9’のトランジスタをオンにさせる。
差動増幅器4aの端子soの確定した論理データは、so配線4gから対応するソース線Sに供給される。トランスミッションゲート部6の各トランジスタのゲートTG1からTGnを順に開き(HIGHにし)、画像信号線7から順番に第1行目の各画素の画素データを読み出し、出力端子outoとouteに出力させる。
ゲート線G1に接続されたすべての画素のデータが読み出されたら、ゲート線G1をLOWにし、駆動配線SAn−chを接地電位,駆動配線SAp−chを電源電位Vddにして差動増幅器4aを動作停止させる。次に、トランスミッションゲート部6の各トランジスタTG1,TG2,…をオンにして、入力端子ino,ineから供給される電圧によって全ソース線Sをプリチャージする。
以降、上述した動作を、ゲート線G2からGmの各ラインについて繰り返すことによって順番に基板上の画素の検査が行われる。
こうして、確定した端子se,soの電位が、トランスミッションゲート部6を介してテスト装置15に出力される。画素が正常な場合には、図10のouto,outeの実線に示すように、HIGHの出力が得られる。画素にLOW固定不良が生じている場合には、図10のouto,outeの破線に示すように、LOWの出力が得られる。こうして、テスト装置15は検査対象の画素にLOW固定不良が生じているか否かを検出することができる。
このように、各差動増幅器4aは、外部から印加された中間電位であるリファレンスと、各ソース線Sの電位とを比較することで、比較結果によって画素の不良を判定する。
なお、リファレンスを中間電位に設定し、検査対象画素にLOWを書き込むことによって、HIGH固定不良の検査を行うことができることは明らかである。
なお、本実施の形態は、全画素について、2回の検査を行うだけで画素の良不良を確実に判定することができ、第1の実施の形態に比べて、検査時間を短縮することができる。他の効果は第1の実施の形態と同様である。
なお、本実施の形態の電気光学装置の変形例として、図11に示すように、トランスミッションゲート部9’を設けずに、差動増幅器4aの端子soに接続されたso配線4gが対応するソース線に直接接続されるように構成してもよい。この場合、素子基板1Bの表示データ読み出し回路部4を動作させるか否かは、第1の実施の形態における変形例と同様に、差動増幅器4aの電源トランジスタ4d,4eのオン,オフによって操作される。この場合も、トランスミッションゲート部9’のトランジスタ9aの分だけ検査回路の占有面積を縮小することができ、電気光学装置の更なる小型化を図ることができる。
(第3の実施の形態)<c.検査列切換外部リファレンス型>
図12は本発明の第3の実施の形態に係り、検査列切換外部リファレンス型の電気光学装置を示す回路図である。図12において図9と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。本実施の形態は、1つの差動増幅器4aで2本のソース線に接続された画素の検査を可能にするものである。
図12においては、基板1Cは、4行×12列画素で表示素子アレイ部2を示しているが、表示素子アレイ部2、Xドライバ部5a、Yドライバ部5b、トランスミッションゲート部6、画像信号線7及び表示データ読み出し回路部4の構成は第2の実施の形態と同様である。表示データ読み出し回路部4と表示素子アレイ部2との間には、イコライズ回路部8とトランスミッションゲート部19とが設けられている。イコライズ回路部8と表示データ読み出し回路部4とによってテスト回路が構成される。
第2の実施の形態においては、so配線4gを検査配線として差動増幅器4aの端子soに画素から読み出した画素信号を与え、se配線4fをリファレンス配線として差動増幅器4aの端子seに外部からのリファレンスを与えた。
これに対し、本実施の形態は、検査配線とリファレンス配線とを相互に切換え可能にして、1つの差動増幅器4aで奇数列と偶数列の2列に接続された画素の検査を可能にするものである。この切換えをトランスミッションゲート部19によって行うようになっている。
トランスミッションゲート部19は、奇数列のソース線S1,S3,…に対応して設けられたn/2個のトランジスタ9ao及び偶数列のソース線S2,S4,…に対応して設けられたn/2個のトランジスタ9aeを有している。差動増幅器4aの端子soに接続されたso配線4gは、トランジスタ9aoのソース・ドレイン路を介して奇数列のソース線S1,S3,…に接続される。また、差動増幅器4aの端子seに接続されたse配線4fは、トランジスタ9aeのソース・ドレイン路を介して偶数列のソース線S2,S4,…に接続される。
トランジスタ9ao,9aeのゲートは、夫々入力端子teo,teeに接続されている。入力端子teo,teeには、図示しないTEゲートデコード回路から、検査配線を決定するための選択信号TEo,TEeが夫々入力される。検査時においては、選択信号TEo・TEeの一方は必ずHIGH,他方は必ずLOWである。すなわち、奇数列の画素の検査を行う場合には、選択信号TEeはLOWであり、選択信号TEoはHIGHに切換えられる。また、偶数列の画素の検査を行う場合には、選択信号TEeはHIGHであり、選択信号TEoはLOWに切換えられる。
ただし、第1の実施の形態と同様に、ソース線S1,S2,…には、画像信号線7を介して入力端子ino,ineからプリチャージ電圧が供給されるようになっているため、プリチャージ時においては選択信号TEo・TEeは共にHIGHになされる。すなわち、プリチャージ時には、Xドライバ部5aからの制御信号に従って、トランスミッションゲート部6の各トランジスタTG1,TG2,…が全てオンとなり、また、選択信号TEo・TEeに従って、トランスミッションゲート部19のトランジスタ9ao,9aeが全てオンとなることで、端子inoとineに供給されたプリチャージ電圧がソース線Sを介して夫々se配線4f又はso配線4gに供給されるようになっている。
次に、図13のタイミングチャートを参照して検査方法について説明する。本実施の形態においても検査の全体の流れは図5のフローと同様である。図13は本実施の形態における読み出し動作を示している。
本実施の形態においては、検査配線とリファレンス配線とを相互に切換え可能である点が第2の実施の形態と異なるのみである。図13の例は図示しないTEゲートデコード回路がTEoを選択し、検査フローに応じてTEoをLOW,HIGHを切換えた状態を示している。即ち、この場合には、トランジスタ9aoがオン、トランジスタ9aeがオフとなり、奇数列のソース線S1,S3,…がso配線4gに接続されると共に、奇数列のソース線S2,S4,…とse配線4fとの接続は切断される。
即ち、図13の例は、第2の実施の形態と同様の状態となり、図10と同様の検査が行われる。なお、図13に示すように、端子soからso配線4g及び奇数列のソース線S1,S3,…を介して読み出したデータは、奇数列のoutoのみから出力されることになる。
偶数列の画素の検査を行う場合には、図示しないTEゲートデコード回路は、選択信号TEeを選択し、検査フローに応じてTEeをLOW又はHIGHに切換える。これにより、トランジスタ9aeがオン、トランジスタ9aoがオフとなり、偶数列のソース線S2,S4,…がse配線4fに接続されると共に、奇数列のソース線S1,S3,…とso配線4gとの接続は切断される。
なお、入力端子ino,ineから画像信号線7を介してso配線4gに供給された中間電位のプリチャージ電位がリファレンス電位として端子soに供給される。
他の作用は第2の実施の形態と同様である。
以上のように、上記3つの実施の形態では、本発明の電気光学装置について、アクティブマトリックス型表示装置を例にとって説明したが、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等が可能である。
例えば、表示部に光学センサーを設けることで、入力機能を備えた表示装置にも適用することが可能である。
なお、本発明が適用可能な電気光学装置の例としては、LCOS(Liquid Crystal on Silicon)を含む液晶装置の他に、有機EL装置などがある。また、画素内にSRAMなどのメモリ素子を設けた液晶装置、プラズマディスプレイ、電界放出型ディスプレイ(FED、SED)、DMD(デジタルマイクロミラーデバイス)などの画素メモリの検査にも本発明は適用可能である。
また、上述の電気光学装置を用いた電子機器も本発明に含まれる。図14、図15及び図16は、電子機器の例を示す図である。図14は、1つの例に係るパーソナルコンピュータの外観図である。図15は、1つの例に係る携帯電話の外観図である。図16は、1つの例に係る投射型カラー表示装置の説明図である。
図14に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピュータ100の表示部101に、上述した電気光学装置、例えば液晶表示装置が用いられる。図15に示すように、電子機器として携帯電話200の表示部201に、上述した電気光学装置、例えば液晶表示装置が用いられる。また、図16に示すように、電子機器としての液晶プロジェクタ1100は、駆動回路がTFTアレイ基板上に搭載された液晶装置を含む液晶モジュールを3個用意し、それぞれRGB用のライトバルブ100R、100G及び100Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ1100では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット1102から投射光が発せられると、3枚のミラー1106及び2枚のダイクロックミラー1108によって、RGBの三原色に対応する光成分R、G及びBに分けられ、各色に対応するライトバルブ100R、100G及び100Bにそれぞれ導かれる。この際特に、B光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123及び出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。そして、ライトバルブ100R、100G及び100Bによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分は、ダイクロックプリズム1112により再度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリーン1120にカラー画像として投射される。
他にも、電子機器としては、例えば、光源と該光源から出射された光を変調するライトバルブと、該ライトバルブにより変調された光を投射するための光学系を備えた、投射型表示装置である。さらに、電子機器としては、他にも、テレビジョンや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラ、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種の電子機器に対して、本発明に係る表示パネルが適用可能なのは言うまでもない。
本発明は、以上説明したTFTを含む液晶表示装置に限られことはなく、アクティブマトリックス駆動の表示装置に適用できるものである。
第1形態に係る電気光学装置用基板を示す回路図 画素2aの等価回路図 差動増幅器4aの具体的な構成を示す回路図 検査システムの構成図 検査の全体の流れの例を示すフローチャート 読み出し動作を説明するタイミングチャート 各画素の書き込みの状態を説明する概略図 第1形態の変形例に係る電気光学装置用基板を示す回路図 第2形態に係る電気光学装置用基板を示す回路図 同、読み出し動作を説明するタイミングチャート 第2形態の変形例に係る電気光学装置用基板を示す回路図 第3形態に係る電気光学装置用基板を示す回路図 同、読み出し動作を説明するタイミングチャート 本発明が適応される電子機器の例としてのパーソナルコンピュータの外観図 本発明が適応される電子機器の例としての携帯電話の外観図 本発明が適応される電子機器の例としての投射型カラー表示装置の説明図
符号の説明
1A…素子基板、2…表示素子アレイ部、2a…画素、4…表示データ読み出し回路部、4a,10…差動増幅器、4d,4e…電源トランジスタ、5a…Xドライバ部、5b…Yドライバ部、6…トランスミッションゲート部、7…画像信号線、8…イコライズ回路部、9…トランスミッションゲート部、S1〜S12…ソース線、G1〜G4…画像信号線

Claims (9)

  1. 互いに交差する複数の画像信号線及び複数のデータ線と、
    前記複数の画像信号線及び前記複数のデータ線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素と、
    前記データ線に電気的に接続され、前記画素に供給された第1の電位信号が入力される第1の端子と、参照電位としての第2の電位信号が入力される第2の端子とを具備し、前記第1の電位信号と前記第2の電位信号との電位を比較して、前記第1の電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する複数の増幅器と、
    サンプリングスイッチを介して前記データ線に前記電位信号を供給する画像信号線とを備え、
    前記第1及び第2の端子の電位をプリチャージ電位にするプリチャージ電位信号は前記画像信号線から供給されることを特徴とする電気光学装置。
  2. 前記増幅器は、前記第2の端子も前記データ線に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
  3. 前記第1の端子には奇数列の前記データ線が、前記第2の端子には偶数列の前記データ線が電気的に接続されることを特徴とする、請求項2に記載の電気光学装置。
  4. 前記第2の端子には、前記第2の電位信号を供給するための前記データ線が電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
  5. 前記第2の端子には、前記参照電位を供給する前記データ線が電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置用基板。
  6. 奇数列の信号線と偶数列の信号線とに夫々電気的に接続される接続手段とを更に具備し、
    前記接続手段は、前記第1及び第2の端子のいずれか一方と前記奇数列叉は偶数列のデータ線とを電気的に接続することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
  7. 前記第1及び第2の端子を短絡するイコライズ手段を更に具備したことを特徴とする請求項1からから請求項6のいずれか一項に記載の電気光学装置
  8. 請求項1から請求項7に記載の電気光学装置を用いたことを特徴とする電子機器。
  9. 互いに交差する複数の画像信号線及び複数のデータ線と、前記複数の画像信号線及び前記複数のデータ線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素電極と、サンプリングスイッチを介して前記データ線に電位信号を供給する画像信号線とを有する電気光学装置の検査方法であって、
    前記データ線に電気的に接続され、前記画素電極に供給された第1の電位信号が入力される第1の端子と、第2の電位信号が入力される第2の端子とを具備した増幅器において、
    前記画像信号線を介して前記第1及び第2の端子にプリチャージ電位信号を供給し、前記第1及び第2の端子の電位をプリチャージ電位にするステップと、
    前記第1の端子に前記第1の電位信号を入力し、前記第2の端子に前記第2の電位信号を入力するステップと、
    前記第1の電位信号と前記第2の電位信号との電位を比較して、前記第1の電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力するステップと、
    を具備したことを特徴とする電気光学装置の検査方法。
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