JP2006299402A - R−t−b系焼結磁石用原料合金、r−t−b系焼結磁石及びその製造方法 - Google Patents

R−t−b系焼結磁石用原料合金、r−t−b系焼結磁石及びその製造方法 Download PDF

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【課題】ストリップキャスト法で作製された原料合金の結晶組織をより均一なものとすることにより、この原料合金から得られる粉砕粉末を微細かつ粒度分布を狭くすることにより、保磁力の高いR−T−B系焼結磁石を得ることを目的とする。
【解決手段】R14B化合物からなる結晶粒を有し、P及び/又はSの含有量が100〜950ppmであるR−T−B系焼結磁石用原料合金。この原料合金は、R:25〜35wt%、B:0.5〜4wt%、Al及びCuの1種又は2種を0.02〜0.6wt%、Co:0.5〜4wt%以下、残部Fe及び不可避的不純物からなる組成を有することが好ましい。なお、Rは希土類元素から選択される1種又は2種以上の元素、TはFe又はFe及びCoを含む遷移金属元素から選択される1種又は2種以上の元素である。
【選択図】図1

Description

本発明は、R−T−B系焼結磁石の製造に用いられる原料合金、R−T−B系焼結磁石及びその製造方法に関するものである。ここで、Rは希土類元素から選択される1種又は2種以上の元素、TはFe又はFe及びCoを含む遷移金属元素から選択される1種又は2種以上の元素である。
R−T−B系焼結磁石の基本的な製造工程は、原料合金の作製、得られた原料合金の粉砕、粉砕された合金粉末の磁場中成形、焼結及び時効処理を含んでいる。R−T−B系焼結磁石の磁気特性を向上させるため、各製造工程において種々の試みがなされている。例えば、焼結体中の酸素量を低下するために、製造工程における雰囲気の酸素量を低減する、複数(典型的には2種類)の原料合金を用いる等、である。その中で、以下説明するように、原料母合金の組織を改善することによる磁気特性の向上が検討されている。
従来、原料合金は、金型鋳造によるインゴット法や、冷却ロールを用いて合金溶湯を急冷するストリップキャスト法を用いて作製されていた。
インゴット法により作製された合金では、α−Feの生成が避けられず、その結果合金の粉砕効率が著しく低下し、最終的に得られる磁石特性も低いものであった。この問題を解決するため、インゴット法で得られた合金を溶体化処理することでα−Feを消失させることが知られているが、溶体化処理を行うことにより、生産性の低下と製造コストの上昇を招いていた。
これに対し、急冷凝固法の一種であるストリップキャスト法(例えば、特開平5−222488号公報(特許文献1)、特開平5−295490号公報(特許文献2))により作製された合金では、α−Feがほとんど生成されない。また、短軸方向の結晶粒径が20〜30μmで、長軸方向は最大で300μm程度と比較的微細な結晶組織が得られる。
特開平5−222488号公報 特開平5−295490号公報
ストリップキャスト法で作製された原料合金は、以上のように微細な組織を有するものの、この原料合金を一定の条件下で粉砕しても、粉砕された粉末の粒度分布にばらつきが生ずる。粒度分布にばらつきのある粉砕粉末を磁場中成形、焼結して得られたR−T−B系焼結磁石の結晶組織も不均一となり、磁気特性、特に保磁力が低くなり、さらに保磁力のばらつきが大きくなるという問題が生じていた。
本発明は、このような技術的課題に基づいてなされたもので、ストリップキャスト法で作製された原料合金の結晶組織をより均一なものとすることにより、この原料合金から得られる粉砕粉末を微細かつ粒度分布を狭くすることにより、保磁力の高いR−T−B系焼結磁石を得ることを目的とする。
ストリップキャスト法による原料合金の組織を均一にするためには、ストリップキャスト法で作製される薄帯がより均一に冷却される必要がある。つまり、ロールに供給される溶湯の厚さが厚ければ、その厚さ方向における冷却能が相違して、均一な冷却、換言すれば均一な組織を得ることが容易でなくなる。溶湯をより薄くしてロールに供給するために、溶湯状態の合金の粘度が重要と考えた。つまり、溶湯の粘度が低ければロールに供給される合金を薄くすることが可能となり、その結果として組織の均一なストリップキャストによる原料合金を提供することができる。そして、溶湯の粘度低下のためには、P(燐)及びS(硫黄)が有効である。そしてさらに、P(燐)及びS(硫黄)は、原料合金の時点で相当量含有していても、焼結の過程で磁気特性に悪影響を与えない程度に減少できることが判明した。このように、P及び/又はSは、本発明の目的達成にとって有効な元素である。
すなわち本発明のR−T−B系焼結磁石用原料合金(以下、単に原料合金)は、R14B化合物からなる結晶粒を有し、P及び/又はSの含有量が100〜950ppmであることを特徴としている。ここで、Rは希土類元素から選択される1種又は2種以上の元素、TはFe又はFe及びCoを含む遷移金属元素から選択される1種又は2種以上の元素である。なお、R及びTの内訳は以下も同様とする。
本発明の原料合金において、P及び/又はSの含有量は200〜750ppmであること、さらに300〜700ppmであることが好ましい。
本発明の原料合金において、R:25〜35wt%、B:0.5〜4wt%、Al及びCuの1種又は2種を0.02〜0.6wt%、Co:5wt%以下、残部Fe及び不可避的不純物からなる組成とすることが好ましい。また、この組成にさらにZr、Nb及びHfの1種又は2種以上:2wt%以下を含有させることも好ましい。
本発明によるR−T−B系焼結磁石は、R14B化合物からなる結晶粒を主相とする焼結体からなり、この焼結体中にP及び/又はSが10〜220ppm含有することを特徴とする。焼結体中に含有されるP及び/又はSは、50〜200ppmであることが好ましく、50〜180ppmであることがさらに好ましい。
本発明によるR−T−B系焼結磁石の組成は、基本的には、原料合金と同様となるが、焼結体中に含有されるO(酸素)は、3000ppm以下であることが高い磁気特性を得る上で好ましい。Oを3000ppm以下とする場合には、Zr、Nb及びHfの1種又は2種以上:2wt%以下を含有させることが好ましい。
以上の本発明の原料合金を用いることにより、R14B化合物からなる結晶粒を主相とする焼結体からなるR−T−B系焼結磁石の製造方法であって、P及び/又はSの含有量が100〜950ppmであって、かつストリップキャスト法により作製された原料合金を所定粒度の粉末まで粉砕する工程と、得られた粉末を磁場中で成形して成形体を作製する工程と、この成形体を焼結することによりP及び/又はSの含有量が10〜220ppmの焼結体を得る工程と、を備えるR−T−B系焼結磁石の製造方法が提供される。
このR−T−B系焼結磁石において、原料合金における好ましいP及び/又はSの含有量、焼結体における好ましいP及び/又はSの含有量は、上述の通りである。また、焼結体中に含有されるO(酸素)は、3000ppm以下であることが高い磁気特性を得る上で好ましいことも同様である。
本発明によれば、ストリップキャストによる原料合金に含有されるP及び/又はSの量を100〜950ppmとすることにより、当該原料合金の組織が均一かつ微細になり、ひいては磁場中成形の対象となる微粉砕粉を微細かつシャープな粒度分布とすることができる。その結果として、得られるR−T−B系焼結磁石の磁気特性、特に保磁力を向上することができる。また、P及びSは、焼結によりその含有量が減少して10〜220ppmとなり、高い残留磁束密度を得ることもできる。
本発明による原料合金は、R14B化合物からなる結晶粒を有し、P及び/又はSの含有量が100〜950ppmである。本発明においてP及び/又はSは、溶湯の粘度を低下させることにより得られる原料合金の組織を均一かつ微細にする効果を奏する。そのため、その後の微粉砕で得られる微粉砕粉の粒径が小さく、かつ粒度分布がシャープとなる。この結果、この微粉砕粉を用いて得られたR−T−B系焼結磁石の磁気特性、特に保磁力を増大させ、またR−T−B系焼結磁石の保磁力のばらつきを抑えることができる。
ここで、溶湯の粘度が下がれば薄帯状の合金の厚さを薄くすることができる。ストリップキャスト法において、溶湯は回転するロールに触れると、ロールとの接触面から温度が低下し、柱状に結晶が成長する。ロールに接触する合金が厚いと冷却に時間がかかり、ロールとの非接触面側は結晶が水平方向に成長してしまう。このため、ロールから離れるほど幅が増す形状、すなわちラッパ状に柱状の結晶が形成される。このような形状の結晶が形成されると粉砕粉の粒径が均一にならない、また、粒径が大きくなる、という問題が生じるものと解される。
本発明において、原料合金のP及び/又はSの含有量が100ppm未満では溶湯の粘度低下の効果が十分に発揮されないために保磁力向上の効果を得ることができない。一方、P及び/又はSの含有量が多くなりすぎると原料合金の組織が微細になりすぎて、微粉砕後の粒径がそれに応じたものとなる。その結果、磁場中成形時の配向が不十分となり、残留磁束密度劣化が懸念される。したがって、本発明の原料合金はP及び/又はSの含有量を100〜950ppmとする。原料合金に含まれるP及び/又はSの好ましい含有量は200〜750ppm、さらに好ましい含有量は300〜700ppmである。
本発明における原料合金は、R:25〜35wt%、B:0.5〜4wt%、Al及びCuの1種又は2種:0.02〜0.6wt%、Zr、Nb及びHfの1種又は2種以上:2wt%以下、Co:5wt%以下、残部Fe及び不可避的不純物からなる組成を有することが好ましい。以下、各元素について言及する。
本発明による原料合金は、Rを25〜35wt%含有する。
ここで、Rは前述したように、Yを含む概念を有しており、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Yb、Lu及びYから選択される1種又は2種以上の元素である。Rの中では、Ndが資源的に豊富で比較的安価であることから、Rとしての主成分をNdとすることが好ましい。また、重希土類元素の含有は異方性磁界を増加させるために、保磁力を向上させる上で有効である。よって、本発明の原料合金において、重希土類元素を含有させることもできる。重希土類元素としては、Dy、Tb、Gd、Ho、Er、Tm及びYの1種又は2種以上を用いることができるが、Dy及び/又はTbを用いるのが好ましい。
Rの量が25wt%未満であると、R−T−B系焼結磁石の主相となるR14B結晶粒の生成が十分ではない。このため、軟磁性を持つα−Feなどが析出し、保磁力が著しく低下する。一方、Rの量が35wt%を超えると主相を構成するR14B結晶粒の体積比率が低下し、残留磁束密度が低下する。またRの量が35wt%を超えるとRが酸素と反応し、含有する酸素量が増え、これに伴い保磁力発生に有効なR−リッチ相が減少し、保磁力の低下を招く。したがって、Rの量は25〜35wt%とする。好ましいRの量は26〜33wt%、さらに好ましいRの量は27〜32wt%である。
重希土類元素を含む場合は、重希土類元素を含んでRを25〜35wt%とする。そして、この範囲において、重希土類元素の量は0.1〜8wt%が好ましい。重希土類元素は、残留磁束密度及び保磁力のいずれを重視するかによって上記範囲内においてその量を定めることが好ましい。つまり、高い残留磁束密度を得たい場合には重希土類元素量を0.1〜3.5wt%とし、高い保磁力を得たい場合には重希土類元素量を3.5〜8wt%とすることが好ましい。
本発明による原料合金は、ホウ素(B)を0.5〜4%含有する。Bが0.5wt%未満の場合には高い保磁力のR−T−B系焼結磁石を得ることができない。但し、Bが4wt%を超えるとR−T−B系焼結磁石の残留磁束密度が低下する傾向がある。したがって、上限を4wt%とする。好ましいBの量は0.5〜1.5wt%、さらに好ましいBの量は0.8〜1.2wt%である。
本発明による原料合金は、Al及びCuの1種又は2種を0.02〜0.6wt%の範囲で含有することができる。この範囲でAl及びCuの1種又は2種を含有させることにより、得られるR−T−B系焼結磁石の高保磁力化、高耐食性化、温度特性の改善が可能となる。Alを添加する場合において、好ましいAlの量は0.03〜0.3wt%、さらに好ましいAlの量は0.05〜0.25wt%である。また、Cuを添加する場合において、Cuの量は0.01〜0.3wt%、好ましくは0.02〜0.2wt%、さらに好ましいCuの量は0.03〜0.15wt%である。
本発明の原料合金は、Coを5wt%以下含有することができる。CoはR−T−B系焼結磁石のキュリー温度の向上及び耐食性の向上に効果がある。また、Cuと複合添加することにより、高い保磁力が得られる時効処理温度範囲が拡大するという効果をも有する。しかし、過剰の添加はR−T−B系焼結磁石における保磁力の低下を招くとともに、コストを上昇させるため5wt%以下とする。好ましいCoの含有量は0.2〜4wt%、さらに好ましいCoの含有量は0.2〜1.5wt%である。
本発明による原料合金は、Zr、Nb及びHfの1種又は2種以上を2wt%以下含有することができる。R−T−B系焼結磁石の磁気特性向上を図るために酸素含有量を低減する際に、Zr、Nb、Hfは焼結過程での結晶粒の異常成長を抑制する効果を発揮し、焼結体の組織を均一かつ微細にする。したがって、Zr、Nb及びHfの1種又は2種以上は酸素量が低い場合にその効果が顕著になる。Zr、Nb及びHfの1種又は2種以上の好ましい量は0.05〜1.5wt%、さらに好ましい量は0.1〜0.5wt%である。
本発明の原料合金を用いて作製されるR−T−B系焼結磁石は、R14B化合物からなる結晶粒を主相とし、その他に粒界相を備えている。この粒界相は、主相よりもNd量がリッチであるためにNdリッチ相と呼ばれる相、BがリッチであるためにBリッチ相と呼ばれる相、Rと酸素との化合物からなる酸化物相等のいくつかの相を含んでいる。そして、本発明の原料合金を用いて作製されるR−T−B系焼結磁石は、P及び/又はSを10〜220ppm含有することが好ましい。前述したように、原料合金に含まれるP及び/又はSは焼結により減少するものの、原料合金において100ppm以上含有していると焼結体のP及び/又はSを10ppm未満に減少することは困難である。一方、R−T−B系焼結磁石において220ppmを超えるP及び/又はSを含有していると残留磁束密度の低下が著しい。好ましいR−T−B系焼結磁石におけるP及び/又はSの含有量は50〜200ppm、より好ましいR−T−B系焼結磁石におけるP及び/又はSの含有量は50〜180ppmである。
また、本発明の原料合金を用いて作製されるR−T−B系焼結磁石は、その酸素量を3000ppm以下とすることが好ましい。酸素量が多いと非磁性成分である酸化物相が増大して、磁気特性を低下させる。そこで、焼結体中に含まれる酸素量を3000ppm以下、好ましくは2000ppm以下、さらに好ましくは1000ppm以下とする。但し、単純に酸素量を低下させたのでは、粒成長抑制効果を有していた酸化物相が不足し、焼結時に十分な密度上昇を得る過程で異常な粒成長が容易に起こる。そこで、そのように低酸素含有量とする場合には、焼結過程での主相結晶粒の異常成長を抑制する効果を発揮するZr、Nb及びHfの1種又は2種以上を、原料合金中に所定量含有させることが好ましい。
次に、本発明による原料合金を用いたR−T−B系焼結磁石の製造方法の好ましい形態について説明する。
原料金属を真空又は不活性ガス、好ましくはAr雰囲気中でストリップキャスティングすることにより、原料合金を得ることができる。原料合金を得るための原料金属としては、希土類金属あるいは希土類合金、純鉄、フェロボロン、さらにはこれらの合金等を使用することができる。この際、得られる原料合金のP及び/又はSの含有量が100〜950ppmとなるように原料金属を選定する必要がある。P及び/又はSは、原料金属、例えば純鉄中に不純物として含有される元素であるため、原料金属の不純物レベルを選定することにより本発明の原料合金を得ることができる。原料金属の不純物レベルを選定することなく、適宜、P及び/又はSを添加することにより本発明のP及び/又はSの含有量を得ることもできる。要するに、溶湯として必要な量のP及び/又はSを含有していればよい。
原料合金が作製された後、これらの原料合金は粉砕される。粉砕工程には、粗粉砕工程と微粉砕工程とがある。まず、各母合金をそれぞれ粒径数百μm程度になるまで粗粉砕する。粗粉砕は、スタンプミル、ジョークラッシャー、ブラウンミル等を用い、不活性ガス雰囲気中にて行なうことが好ましい。粗粉砕性を向上させるために、水素を吸蔵させた後、粗粉砕を行なうことが効果的である。また、水素吸蔵を行った後に、水素を放出させることにより、機械的な手段を用いることなく、粗粉砕を行うこともできる。高磁気特性を得るために、粉砕処理(粉砕処理後の回収)から焼結(焼結炉に投入する)までの各工程の雰囲気を、100ppm未満の酸素濃度に抑えることが好ましい。そうすることにより、焼結体に含まれる酸素量を3000ppm以下に制御することができる。
水素吸蔵は、原料合金を常温下で水素含有雰囲気に曝すことにより行うことができる。水素吸蔵反応は発熱反応であるため、温度上昇に伴って吸蔵水素量が低下することを防止するために、反応容器を冷却する等の手段を適用してもよい。水素吸蔵された原料合金は、例えば粒界に沿って亀裂が生じる。
水素吸蔵が終了した後に、水素吸蔵が行われた原料合金を加熱保持する脱水素処理が施される。この処理は、磁石として不純物となる水素を減少させることを目的として行われる。加熱保持の温度は、200℃以上、好ましくは350℃以上とする。保持時間は、保持温度との関係、原料合金の厚さ等によって変わるが、少なくとも30分以上、好ましくは1時間以上とする。脱水素処理は、真空中又はArガスフローにて行う。なお、脱水素処理は必須の処理ではない。
粗粉砕工程後、微粉砕工程に移る。微粉砕は、主にジェットミルが用いられ、粒径数百μm程度の粗粉砕粉を平均粒径3〜5μmになるまで粉砕される。本発明の原料合金を用いることにより、微細かつ粒度分布幅の狭い微粉砕粉を得ることができる。ジェットミルは、高圧の不活性ガス(例えば窒素ガス)を狭いノズルより開放して高速のガス流を発生させ、この高速のガス流により粗粉砕粉を加速し、粗粉砕粉同士の衝突やターゲットあるいは容器壁との衝突を発生させて粉砕する方法である。微粉砕時に、ステアリン酸亜鉛等の添加剤を0.01〜0.3wt%程度添加することにより、成形時に配向性の高い微粉を得ることができる。
次いで、微粉砕された合金粉末を、磁場印加によってその結晶軸を配向させた状態で磁場中成形する。磁場中成形における成形圧力は0.3〜3ton/cmの範囲とすればよい。成形圧力は成形開始から終了まで一定であってもよく、漸増または漸減してもよく、あるいは不規則変化してもよい。成形圧力が低いほど配向性は良好となるが、成形圧力が低すぎると成形体の強度が不足してハンドリングに問題が生じるので、この点を考慮して上記範囲から成形圧力を選択する。磁場中成形で得られる成形体の最終的な相対密度は、通常、50〜60%である。また、印加する磁場は、12〜20kOe程度とすればよい。また、印加する磁場は静磁場に限定されず、パルス状の磁場とすることもできる。また、静磁場とパルス状磁場を併用することもできる。
磁場中成形後、その成形体を真空又は不活性ガス雰囲気中で焼結する。焼結温度は、組成、粉砕方法、粒度と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要があるが、1000〜1200℃で1〜10時間程度焼結すればよい。この焼結工程で原料合金に含まれていたP及び/又はSは低減する。この低減する量の制御は明らかでないところがあるが、焼結温度が高いほど、また焼結時間が長いほど、P及び/又はSの低減量が増える傾向にあることを確認している。
焼結後、得られた焼結体に時効処理を施すことができる。時効処理は、保磁力を制御する上で重要である。時効処理を2段に分けて行なう場合には、800〜900℃近傍、600〜700℃近傍での所定時間の保持が有効である。
高純度のFe原料を用意した。ストリップキャスト法により、26.5wt%Nd−5.9wt%Dy−0.25wt%Al−0.5wt%Co−0.07wt%Cu−1wt%B−bal.Feの組成を有する原料合金を作製した。このとき、P(リン)およびS(硫黄)を適宜添加し、異なるP、S量の原料合金を作製した。
次いで、室温にて原料合金に水素を吸蔵させた後、Ar雰囲気中で600℃×1時間の脱水素を行う水素粉砕処理を行った。水素粉砕処理が施された合金に、粉砕性の向上並びに成形時の配向性の向上に寄与する潤滑剤を0.05〜0.1wt%混合した。潤滑剤の混合は、例えばナウターミキサ等により5〜30分間ほど行う程度でよい。その後、一定の条件で微粉砕を行い、平均粒径4〜5μmの微粉砕粉を得た。なお、微粉砕はジェットミルで行った。すべての組成試料に対し、同条件で微粉砕を行った。レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した微粉砕粉の粒度を図1に、また、図2に原料合金におけるP及びSの含有量とD50の関係を示す。なお、D10とは測定した微粉砕粉の粒度分布の累積体積が10%となる粒径、D50とは累積体積が50%となる粒径、D90とは累積 体積が10%となる粒径をいう。
得られた微粉砕粉を磁場中成形した。磁場中成形は、15kOeの磁場中で1.4ton/cmの圧力で行った。得られた成形体を真空中で1080℃まで昇温し4時間保持して焼結を行った。次いで得られた焼結体に800℃×1時間と560℃×1時間(ともにAr雰囲気中)の2段時効処理を施した。
得られた焼結体の組成を、P及びSの含有量を含め蛍光X線分析により測定した。その結果、P及びSの含有量は図1に示す通りである。また、焼結体の合金元素の組成は、26.2wt%Nd−5.8wt%Dy−0.25wt%Al−0.5wt%Co−0.07wt%Cu−1wt%B−bal.Feであった。また、焼結体を所定の形状に研磨加工後、磁気特性を測定した。その結果を図1に示す。また、図3に焼結体におけるP及びSの含有量と保磁力(iHc)の関係を、さらに図4に焼結体におけるP及びSの含有量と残留磁束密度(Br)の関係を示す。
図1に示すように、原料合金に含まれていたP及びSは、焼結を経ることにより相当減少することがわかる。
また、図1及び図2より、原料合金中のP及びSの含有量が増加すると、微粉砕粉の粒径が小さくなる。また、P及びSの含有量が増加すると、D90−D10の差が小さくなり、微粉砕粉の粒度分布が狭くシャープになることがわかる。
次に、図1及び図3より、焼結体におけるP及びSの含有量、換言すれば原料合金におけるP及びSの含有量が増加すると保磁力(iHc)が増加する。一方、図1及び図4より、焼結体におけるP及びSの含有量が増加すると残留磁束密度(Br)は一定もしくは微増し、220ppmを超えると急激に低下した。
以上説明したように、P及びSは、原料合金においてその含有量が多いほど、微細かつ粒度分布の狭い微粉砕粉を得ることができる。また、焼結体に含まれるP及びSが所定量以上になると、磁気特性、特に残留磁束密度(Br)が低下する。しかるに、原料合金中に含まれるP及びSは、焼結を経ることにより減少するため、本発明では、微細かつ粒度分布の狭い微粉砕粉を得つつ、高い磁気特性のR−T−B系焼結磁石を得ることができる。
合金の組成を28.6wt%Nd−0.2wt%Dy−0.05wt%Al−0.2wt%Co−0.03wt%Cu−1wt%B−0.08wt%Zr−bal.Feとし、さらに粉砕処理(粉砕処理後の回収)から焼結(焼結炉に投入する)までの各工程の雰囲気を100ppm未満の酸素濃度に抑え、かつ焼結温度を1070℃とした以外は実施例1と同様にして焼結体を作製した。その過程で、実施例1と同様に微粉砕粉の粒度を測定した。また、得られた焼結体について実施例1と同様に測定を行った。その結果を図5に示す。また、図6に原料合金におけるP及びSの含有量とD50の関係を、図7に焼結体におけるP及びSの含有量と保磁力(iHc)の関係を、さらに図8に焼結体におけるP及びSの含有量と残留磁束密度(Br)の関係を示す。なお、得られた焼結体の合金元素の組成は、28.3wt%Nd−0.2wt%Dy−0.05wt%Al−0.2wt%Co−0.03wt%Cu−1wt%B−0.08wt%Zr−bal.Feであり、O含有量は770ppmであった。
この実施例2においても、原料合金に含まれていたP及びSは、焼結を経ることにより相当減少することがわかる。また、原料合金中のP及びSの含有量が増加すると、微粉砕粉の粒径が小さくなるとともに、D90−D10の差が小さくなり、微粉砕粉の粒度分布が狭くシャープになることがわかる。
さらに、焼結体におけるP及びSの含有量、換言すれば原料合金におけるP及びSの含有量が増加すると保磁力(iHc)は増加するが、残留磁束密度(Br)は一定もしくは微増し、220ppmを超えると急激に低下した。
合金の組成を27.2wt%Nd−4.9wt%Pr−0.2wt%Dy−0.25wt%Al−4.0wt%Co−0.3wt%Cu−1.3wt%B−0.25wt%Zr−bal.Feとし、さらに粉砕処理(粉砕処理後の回収)から焼結(焼結炉に投入する)までの各工程の雰囲気を、100ppm未満の酸素濃度に抑え、焼結温度を1020℃とした以外は実施例1と同様にして焼結体を作製した。得られた焼結体について実施例1と同様に測定を行った。その結果を図9に示す。また、図10に原料合金におけるP及びSの含有量とD50の関係を、図11に焼結体におけるP及びSの含有量と保磁力(iHc)の関係を、さらに図12に焼結体におけるP及びSの含有量と残留磁束密度(Br)の関係を示す。なお、得られた焼結体の合金元素の組成は、26.9wt%Nd−4.8wt%Pr−0.2wt%Dy−0.25wt%Al−4.0wt%Co−0.3wt%Cu−1.3wt%B−0.25wt%Zr−bal.Feであり、O含有量は970ppmであった。
図9〜図12より、この実施例3においても、実施例1及び実施例2と同様の傾向を示すことが確認できた。
実施例1における原料合金の仕様、磁気特性の結果を示す図表である。 実施例1の原料合金におけるP及びSの含有量とD50の関係を示すグラフである。 実施例1の焼結体におけるP及びSの含有量と保磁力(iHc)の関係を示すグラフである。 実施例1の焼結体におけるP及びSの含有量と残留磁束密度(Br)の関係を示すグラフである。 実施例2における原料合金の仕様、磁気特性の結果を示す図表である。 実施例2の原料合金におけるP及びSの含有量とD50の関係を示すグラフである。 実施例2の焼結体におけるP及びSの含有量と保磁力(iHc)の関係を示すグラフである。 実施例2の焼結体におけるP及びSの含有量と残留磁束密度(Br)の関係を示すグラフである。 実施例3における原料合金の仕様、磁気特性の結果を示す図表である。 実施例3の原料合金におけるP及びSの含有量とD50の関係を示すグラフである。 実施例3の焼結体におけるP及びSの含有量と保磁力(iHc)の関係を示すグラフである。 実施例3の焼結体におけるP及びSの含有量と残留磁束密度(Br)の関係を示すグラフである。

Claims (10)

  1. 14B化合物からなる結晶粒を有し、
    P及び/又はSの含有量が100〜950ppmであることを特徴とするR−T−B系焼結磁石用原料合金。
    ただし、Rは希土類元素から選択される1種又は2種以上の元素、TはFe又はFe及びCoを含む遷移金属元素から選択される1種又は2種以上の元素である。
  2. P及び/又はSの含有量が200〜750ppmであることを特徴とする請求項1に記載のR−T−B系焼結磁石用原料合金。
  3. P及び/又はSの含有量が300〜700ppmであることを特徴とする請求項1に記載のR−T−B系焼結磁石用原料合金。
  4. 前記原料合金は、R:25〜35wt%、B:0.5〜4wt%、Al及びCuの1種又は2種を0.02〜0.6wt%、Co:5wt%以下、残部Fe及び不可避的不純物からなる組成を有することを特徴とする請求項1に記載のR−T−B系焼結磁石用原料合金。
  5. 14B化合物からなる結晶粒を主相とする焼結体からなり、
    前記焼結体中にP及び/又はSが10〜220ppm含有することを特徴とするR−T−B系焼結磁石。
    ただし、Rは希土類元素から選択される1種又は2種以上の元素、TはFe又はFe及びCoを含む遷移金属元素から選択される1種又は2種以上の元素である。
  6. 前記焼結体中に含有されるP及び/又はSが50〜200ppmであることを特徴とする請求項5に記載のR−T−B系焼結磁石。
  7. 前記焼結体中に含有されるP及び/又はSが50〜180ppmであることを特徴とする請求項5に記載のR−T−B系焼結磁石。
  8. 前記焼結体は、R:25〜35wt%、B:0.5〜4wt%、Al及びCuの1種又は2種を0.02〜0.6wt%、Co:5wt%以下、残部Fe及び不可避的不純物からなる組成を有することを特徴とする請求項5に記載のR−T−B系焼結磁石。
  9. 前記焼結体中に含有されるOが3000ppm以下であることを特徴とする請求項5に記載のR−T−B系焼結磁石。
  10. 14B化合物からなる結晶粒を主相とする焼結体からなるR−T−B系焼結磁石の製造方法であって、
    P及び/又はSの含有量が100〜950ppmであって、かつストリップキャスト法により作製された原料合金を所定粒度の粉末まで粉砕する工程と、
    前記粉末を磁場中で成形して成形体を作製する工程と、
    前記成形体を焼結することによりP及び/又はSの含有量が10〜220ppmの前記焼結体を得る工程と、
    を備えることを特徴とするR−T−B系焼結磁石の製造方法。
    ただし、Rは希土類元素から選択される1種又は2種以上の元素、TはFe又はFe及びCoを含む遷移金属元素から選択される1種又は2種以上の元素である。
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