JP2006297375A - Hc吸着浄化触媒 - Google Patents
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Abstract
【課題】自動車の排気ガス、特にエンジン着火直後などのいわゆるコールドスタートの際の低温排気ガス中に含まれる比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を低減し得るHC吸着浄化触媒を提供すること。
【解決手段】炭化水素を吸着するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備えるHC吸着浄化触媒。HC吸着層は、耐熱性を有し、且つ層間距離が次式(1)
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)の関係を満足する構造を有する層間化合物を含む。炭化水素を吸着・脱離するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備えるHC吸着浄化触媒。HC吸着層は、耐熱性を有し層間距離が0.3〜10nmの層間化合物が含む。
【選択図】なし
【解決手段】炭化水素を吸着するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備えるHC吸着浄化触媒。HC吸着層は、耐熱性を有し、且つ層間距離が次式(1)
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)の関係を満足する構造を有する層間化合物を含む。炭化水素を吸着・脱離するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備えるHC吸着浄化触媒。HC吸着層は、耐熱性を有し層間距離が0.3〜10nmの層間化合物が含む。
【選択図】なし
Description
本発明は、HC吸着浄化触媒に係り、更に詳細には、自動車の排気ガス、特にエンジン着火直後などのいわゆるコールドスタートの際の低温排気ガス中に含まれる比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を低減し得るHC吸着浄化触媒に関する。
近年、種々の形態で大気中に放出される気相の炭化水素成分による大気汚染と、これに伴うスモッグ公害や地球温暖化等の弊害が懸念されている。
大気汚染問題の要因の代表的な一例として、自動車その他の内燃機関の排気ガス中に含まれる炭化水素(HC)がある。このHCには未燃焼のガソリン蒸気も含まれる。
その対策として、内燃機関の排気系に三元触媒等のHC浄化活性を有する排気ガス浄化触媒を設置することが行われている。
その対策として、内燃機関の排気系に三元触媒等のHC浄化活性を有する排気ガス浄化触媒を設置することが行われている。
また、特にエンジン着火直後の低温排気中に含まれ、触媒により浄化され難い、いわゆるコールドHCも問題視されている。
これに対しては、コールドHCを一時的にトラップするゼオライト等の吸着剤を併用し、後方の三元触媒で浄化するというコールドHC浄化システム等の排気ガス浄化装置が提案されている(特許文献1及び2参照。)。
本出願人は、HC吸着材を含んだ層の上に、三元触媒層を配置してコールドスタートにおいて炭化水素を吸着し、温度上昇とともに脱離する炭化水素を浄化する排気ガス浄化装置を提案している(特許文献3参照。)。
これに対しては、コールドHCを一時的にトラップするゼオライト等の吸着剤を併用し、後方の三元触媒で浄化するというコールドHC浄化システム等の排気ガス浄化装置が提案されている(特許文献1及び2参照。)。
本出願人は、HC吸着材を含んだ層の上に、三元触媒層を配置してコールドスタートにおいて炭化水素を吸着し、温度上昇とともに脱離する炭化水素を浄化する排気ガス浄化装置を提案している(特許文献3参照。)。
一方、上述したような排気ガス浄化装置は、吸着剤であるゼオライトによりトラップされる炭化水素は比較的小さな分子のものに限られ、例えばオゾン生成能の高い物質として問題になっているトリメチルベンゼン等の嵩高い芳香族炭化水素については、これを有効にトラップできていないという問題点があった。
これは、ゼオライトにおけるトラップに関与す細孔の径が小さいことに関連すると考えられている。
また、エンジン(車重)によってもコールドスタートの際のエンジンアウトの排出成分は異なり、例えば大排気量車では排出される炭化水素のうち芳香族が50%を占める。
これは、ゼオライトにおけるトラップに関与す細孔の径が小さいことに関連すると考えられている。
また、エンジン(車重)によってもコールドスタートの際のエンジンアウトの排出成分は異なり、例えば大排気量車では排出される炭化水素のうち芳香族が50%を占める。
上記問題を解決するために、芳香族を特に吸着する層状ケイ酸塩を用いた排気ガス浄化装置が提案されている(特許文献4参照。)。
特開平2−75327号公報
特開平4−284827号公報
特開平7−174017号公報
特開平6−15165号公報
しかしながら、上記特許文献に記載された排気ガス浄化装置においても、排気ガス中に含まれる炭化水素、特にコールドスタートの際の低温排気中に含まれる比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素の吸着浄化性能については更なる向上が望まれている。
本発明は、このような従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、自動車の排気ガス、特にエンジン着火直後などのいわゆるコールドスタートの際の低温排気ガス中に含まれる比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を低減し得るHC吸着浄化触媒を提供することにある。
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意研究を重ねた結果、耐熱性を有し層間距離が所定関係を有する層間化合物を含有するHC吸着層上に貴金属触媒層を配置することなどにより、上記目的が達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の第1のHC吸着浄化触媒は、炭化水素を吸着するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備える。
かかるHC吸着層は、耐熱性を有し、且つ層間距離が次式(1)
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)
の関係を満足する構造を有する層間化合物を含むことを特徴とする。
かかるHC吸着層は、耐熱性を有し、且つ層間距離が次式(1)
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)
の関係を満足する構造を有する層間化合物を含むことを特徴とする。
また、本発明の第2のHC吸着浄化触媒は、炭化水素を吸着・脱離するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備える。
かかるHC吸着層は、耐熱性を有し層間距離が0.3〜10nmの層間化合物が含むことを特徴とする。
かかるHC吸着層は、耐熱性を有し層間距離が0.3〜10nmの層間化合物が含むことを特徴とする。
本発明によれば、耐熱性を有し、且つ層間距離が次式(1)
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)
の関係を満足する構造を有する層間化合物又は耐熱性を有し層間距離が0.3〜10nmの層間化合物を含有するHC吸着層上に貴金属触媒層を配置することなどとしたため、自動車の排気ガス、特にエンジン着火直後などのいわゆるコールドスタートの際の低温排気ガス中に含まれる比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を低減し得るHC吸着浄化触媒を提供することができる。
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)
の関係を満足する構造を有する層間化合物又は耐熱性を有し層間距離が0.3〜10nmの層間化合物を含有するHC吸着層上に貴金属触媒層を配置することなどとしたため、自動車の排気ガス、特にエンジン着火直後などのいわゆるコールドスタートの際の低温排気ガス中に含まれる比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を低減し得るHC吸着浄化触媒を提供することができる。
以下、本発明のHC吸着浄化触媒について詳細に説明する。なお、本明細書及び特許請求の範囲において、「%」は特記しない限り質量百分率を表わすものとする。
上述の如く、本発明の第1のHC吸着浄化触媒は、炭化水素を吸着するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備え、該HC吸着層が、耐熱性を有し、且つ層間距離が次式(1)
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)
の関係を満足する構造を有する層間化合物を含むものである。
このような構成とすることにより、コールドスタートの際に発生する比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を効率良く吸着浄化することができる。
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)
の関係を満足する構造を有する層間化合物を含むものである。
このような構成とすることにより、コールドスタートの際に発生する比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を効率良く吸着浄化することができる。
一方、本発明の第2のHC吸着浄化触媒は、炭化水素を吸着するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備え、該HC吸着層が、耐熱性を有し層間距離が0.3〜10nmの層間化合物を含むものである。
このような構成とすることにより、コールドスタートの際に発生する比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を効率良く吸着浄化することができる。
このような構成とすることにより、コールドスタートの際に発生する比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を効率良く吸着浄化することができる。
ここで、「芳香族炭化水素分子直径」とは、吸着しようとする芳香族炭化水素分子の大きさを規定するもので、詳しくは後述するような芳香族炭化水素のベンゼン環を含む平面方向の分子の長さである。例えば、ファンデルワールス原子半径を全て加算したものとしてもよく、このときの芳香族炭化水素分子であるトルエン分子の直径は、0.67nm程度である。
また、層間距離を図面を用いて説明する。図1は、層間化合物の断面形状の一部を示す模式的説明図である。同図に示すように、「層間距離」とは、層間化合物の層を規定する板状部10の間の距離(図中矢印Aで示す。)あり、実際に炭化水素分子が吸着し得る空間の距離である。これは、通常、XRDによって測定される板間距離(図中矢印Bで示す。)と板厚(図中矢印Cで示す。)とから算出できる。
また、層間距離を図面を用いて説明する。図1は、層間化合物の断面形状の一部を示す模式的説明図である。同図に示すように、「層間距離」とは、層間化合物の層を規定する板状部10の間の距離(図中矢印Aで示す。)あり、実際に炭化水素分子が吸着し得る空間の距離である。これは、通常、XRDによって測定される板間距離(図中矢印Bで示す。)と板厚(図中矢印Cで示す。)とから算出できる。
まず、本発明の第1及び第2のHC吸着浄化触媒において、HC吸着層に含有される層間化合物について説明する。
HC吸着層に含有される層間化合物は、耐熱性を有することを要し、500℃以上の耐熱性を有することが好ましい。
HC吸着層に含有される層間化合物は、耐熱性を有することを要し、500℃以上の耐熱性を有することが好ましい。
即ち、かかる耐熱性層間化合物は、少なくともHC吸着層上に配置された貴金属触媒の活性温度(詳しくは後述する。)まで耐熱性を有することを要し、通常は耐久性を考慮すると500℃以上において耐熱性を有することが好ましく、更に高温排気ガスに曝されることをも考慮すると700℃以上の耐熱性を有することがより好ましい。
耐熱性が高い層間化合物を適用することにより、浄化可能な排気ガス温度の範囲を拡張することができる。
但し、本発明においては、HC吸着層上に、詳しくは後述する貴金属触媒層が積層されているため、必ずしも処理する排気ガス温度に制限されない。
なお、層間化合物の耐熱性温度が貴金属触媒の活性温度より若干でも高ければ、処理する排気ガス温度には実質上の影響を受けなくなる。
但し、本発明においては、HC吸着層上に、詳しくは後述する貴金属触媒層が積層されているため、必ずしも処理する排気ガス温度に制限されない。
なお、層間化合物の耐熱性温度が貴金属触媒の活性温度より若干でも高ければ、処理する排気ガス温度には実質上の影響を受けなくなる。
また、第1のHC吸着浄化触媒においては、HC吸着層に含有される層間化合物は、上述したように層間距離が次式(1)
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)
の関係を満足する構造を有することを要する。
このような範囲に層間距離を規定することにより、炭化水素、特に芳香族炭化水素(例えばトルエンなど。)を吸着する性能(HC吸着性能)が向上する。
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)
の関係を満足する構造を有することを要する。
このような範囲に層間距離を規定することにより、炭化水素、特に芳香族炭化水素(例えばトルエンなど。)を吸着する性能(HC吸着性能)が向上する。
そして、HC吸着性能が向上し、HC吸着浄化性能が向上し得るという観点からは、(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)という比の値は1〜3であることが好ましい。
現時点においては、通常、βゼオライトが1つの細孔に1分子を吸着するのとは異なり、層間化合物は、その特徴的な形状から、吸着される分子に対して、又は吸着される分子同士に相互作用が発生して密に吸着することができるためと推定される。
現時点においては、通常、βゼオライトが1つの細孔に1分子を吸着するのとは異なり、層間化合物は、その特徴的な形状から、吸着される分子に対して、又は吸着される分子同士に相互作用が発生して密に吸着することができるためと推定される。
また、第1のHC吸着浄化触媒においては、HC吸着層に含有される層間化合物は、層間距離が0.3〜10nmであることが好ましく、0.3〜5nmであることがより好ましく、0.3〜3nmであることが更に好ましい。
好ましくは層間距離が0.3〜10nm、より好ましくは0.3〜5nmの層間化合物は、比較的小さい分子の炭化水素のみならず芳香族炭化水素を吸着することができるため、コールドスタートの際に発生する比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素をより効率良く吸着浄化することができる。
好ましくは層間距離が0.3〜10nm、より好ましくは0.3〜5nmの層間化合物は、比較的小さい分子の炭化水素のみならず芳香族炭化水素を吸着することができるため、コールドスタートの際に発生する比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素をより効率良く吸着浄化することができる。
一方、第2のHC吸着浄化触媒においては、HC吸着層に含有される層間化合物は、上述したように層間距離が0.3〜10nmであることを要し、特に0.3〜5nmであることが好ましく、0.3〜3nmであることがより好ましい。
上述したように、層間距離が0.3〜10nm、好ましくは0.3〜5nmの層間化合物は、比較的小さい分子の炭化水素のみならず芳香族炭化水素を吸着することができるため、コールドスタートの際に発生する比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を効率良く吸着浄化することができる。
上述したように、層間距離が0.3〜10nm、好ましくは0.3〜5nmの層間化合物は、比較的小さい分子の炭化水素のみならず芳香族炭化水素を吸着することができるため、コールドスタートの際に発生する比較的小さな分子の炭化水素や芳香族炭化水素を効率良く吸着浄化することができる。
ここで、比較的小さい分子の炭化水素としては、例えば2−メチルプロパン、2−メチルプロペン、1,3−ブタジエン、t−2−ブテン、c−2−ブテン、2−メチル−3−ブテン、2−メチル−1−ブテン、2−メチルブタンなどを挙げることができる。
一方、芳香族炭化水素としては、例えばベンゼンやトルエン、m−キシレン、o−キシレン、p−キシレン、トリメチルベンゼン、tert−ブチルベンゼン、エチルベンゼン、1,3−メチルエチルベンゼン、1,4−メチルエチルベンゼンなどを挙げることができる。なお、これらの分子直径は、0.67〜0.74nm程度である。
また、浄化対象がディーゼルエンジンの排気ガスの場合には、そのコールドスタートの際に多環芳香族炭化水素も含まれる。
かかる多環芳香族炭化水素としては、例えばフェナントレンやアントラセン、ジベンゾチオフェン、カルバノール、フルオランテン、ピレン、ベンゾ[a]アントラセン、クリセン、ベンゾ[b+j+k]フルオランテン、ベンゾ[e]ピレン、ベンゾ[a]ピレン、1,3−ジニトロピレン、ペリレン、ベンゾ[ghi]ペリレン、ジベンゾ[a,h]アントラセン,コロネンなどを挙げることができる。なお、これらの分子直径は、1.675〜2.345nm程度である。
かかる多環芳香族炭化水素としては、例えばフェナントレンやアントラセン、ジベンゾチオフェン、カルバノール、フルオランテン、ピレン、ベンゾ[a]アントラセン、クリセン、ベンゾ[b+j+k]フルオランテン、ベンゾ[e]ピレン、ベンゾ[a]ピレン、1,3−ジニトロピレン、ペリレン、ベンゾ[ghi]ペリレン、ジベンゾ[a,h]アントラセン,コロネンなどを挙げることができる。なお、これらの分子直径は、1.675〜2.345nm程度である。
また、上述したように、層間距離が0.3〜3nmであることが好ましく、かかる層間距離にすることにより、コールドスタートの際に発生する上述した炭化水素のうち、その存在比率が高いトルエン、m−キシレン、p−キシレン、ベンゼン、o−キシレンなどを効率良く吸着することができる。特にディーゼルではベンゾ[e]ピレン、ベンゾ[a]ピレンなどを効率良く吸着することができる。
本発明の第1のHC吸着浄化触媒においては、好ましくは層間距離が0.3〜10nm、より好ましくは0.3〜5nm、更に好ましくは0.3〜3nmの層間化合物を用いることによって、本発明の第2のHC吸着浄化触媒においては、好ましくは層間距離が0.3〜5nm、より好ましくは0.3〜3nmの層間化合物を用いることによって、比較的小さい分子の炭化水素や芳香族炭化水素を、その種類に限定されることなく吸着することができるが、上述したように、排気ガス中、特にコールドスタートの際に発生する上述した炭化水素のうち存在比率が高いものを効率良く吸着する層間化合物を適切に選定することによって、より顕著なHC吸着浄化性能が発揮される。
なお、従来のHC吸着触媒と比較すると、本発明で用いる層間化合物は、吸着した種々の炭化水素をゼオライトの炭化水素脱離温度以上の温度で脱離するものであることが望ましく、かかる層間化合物を含有させることによって、更に顕著なHC吸着浄化性能が発揮される。
上述の層間化合物は、以下に説明するような製造方法により得ることができるが、これに限定されるものではない。
例えば、アルキルトリメチルアンモニウムの水溶液中で、層間化合物のホスト化合物の一例である層状ケイ酸ナトリウムを加熱撹拌処理し、ろ過、乾燥の後、空気中で焼成して得られる。
アルキルトリメチルアンモニウムは、層間化合物の層間距離を規定し、焼成によって消失する有機物であり、分子の嵩高さが異なる他種の有機物を用いることにより、層間距離を調整することができる。
例えば、アルキルトリメチルアンモニウムの水溶液中で、層間化合物のホスト化合物の一例である層状ケイ酸ナトリウムを加熱撹拌処理し、ろ過、乾燥の後、空気中で焼成して得られる。
アルキルトリメチルアンモニウムは、層間化合物の層間距離を規定し、焼成によって消失する有機物であり、分子の嵩高さが異なる他種の有機物を用いることにより、層間距離を調整することができる。
また、加熱撹拌処理する際に、ゲスト物質の前駆体を別途加えてイオン交換を行ってもよく、これにより層間化合物を適宜調製することができる。
ゲスト物質としてアルミニウムを用いる場合には、その前駆体として例えば([Al13O4(OH)24]7+)などのポリカチオンを用いることができる。このようなポリカチオンを用いることによって、層間距離を大きくすることができる。
ゲスト物質としてアルミニウムを用いる場合には、その前駆体として例えば([Al13O4(OH)24]7+)などのポリカチオンを用いることができる。このようなポリカチオンを用いることによって、層間距離を大きくすることができる。
上述の層間化合物のホスト化合物(層状化合物)としては、層状ケイ素酸化物又は層状ケイ酸塩化合物の一方又は双方を用いることができる。
更にまた、上述の耐熱性層間化合物のゲスト物質として、アルミニウム(Al)、ケイ素(Si)、ジルコニウム(Zr)、マグネシウム(Mg)、鉄(Fe)、セリウム(Ce)、ガリウム(Ga)、リチウム(Li)又はチタン(Ti)及びこれらの任意の組み合わせに係る元素を用いることができる。
上記層状ケイ酸塩化合物としては、例えばケイ素四面体SiO4の層状結晶の層間にナトリウムを含んだ結晶性層状ケイ酸ナトリウムを挙げることができる。
より具体的には、カネマイト(Na2Si4O9・5H2O)やアイラアイト(Na2Si8O17・xH2O)、マガディアイト(Na2Si14O29・xH2O)、ケニヤアイト(Na2Si20O41・xH2O)などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。
より具体的には、カネマイト(Na2Si4O9・5H2O)やアイラアイト(Na2Si8O17・xH2O)、マガディアイト(Na2Si14O29・xH2O)、ケニヤアイト(Na2Si20O41・xH2O)などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。
上述の結晶性層状ケイ酸ナトリウムやモンモリロナイトは、粘度鉱物と異なり構造水を含まず、ケイ酸の水酸基も脱水縮合によりSiO2の層間架橋の形成に消費されている。従って、耐熱性が良く、高温下においてもその層間距離が変化し難い。
このような結晶性層状ケイ酸ナトリウムのうち、特にカネマイトのように、層状結晶が単一のケイ素四面体層から成るものは、単位重量当たりの表面積が特に大きく、且つ高温下でもその単一層構造が変化し難いので、これを用いて製造した層間化合物も表面積が大きくなり、吸着性能が優れたものになる。
また、層間化合物は、吸着しようとする炭化水素と親和性を有することが望ましく、この場合、揮発性有機化合物に対しても有効となり、一般的なオイルフィルターに用いることができる。
次に、貴金属触媒層に含まれる貴金属について説明する。
かかる貴金属は、少なくとも炭化水素ガスに対して浄化活性を有するものであれば特に限定されるものではなく、白金(Pt)、パラジウム(Pd)又はロジウム(Rh)を単独で、又はこれらの任意の組合わせ係る貴金属を用いることができる。
具体的な組み合わせとしては、Pt−PdやPt−Rh、Pd−Rhなどを挙げることができ、従来公知の酸化触媒や三元触媒を適用することが可能である。
かかる貴金属は、少なくとも炭化水素ガスに対して浄化活性を有するものであれば特に限定されるものではなく、白金(Pt)、パラジウム(Pd)又はロジウム(Rh)を単独で、又はこれらの任意の組合わせ係る貴金属を用いることができる。
具体的な組み合わせとしては、Pt−PdやPt−Rh、Pd−Rhなどを挙げることができ、従来公知の酸化触媒や三元触媒を適用することが可能である。
また、貴金属自体や貴金属触媒層の性能を向上させるために、チタンやセリウム等の助触媒が含まれていてもよい。
更に、貴金属触媒層は、HC吸着層の機能を妨げない程度に拡散性を備えていることが好ましい。
更に、貴金属触媒層は、HC吸着層の機能を妨げない程度に拡散性を備えていることが好ましい。
また、本発明のHC吸着浄化触媒において、HC吸着層は、二層以上の積層構造を有していてもよく、この場合、各HC吸着層に含まれる耐熱性層間化合物の層間距離を異ならせることができる。
更に、複数のHC吸着層を設けた場合、各HC吸着層に含まれる耐熱性層間化合物については、その層間距離を貴金属触媒層に近接するものほど大きくすることが望ましい。
このような構成とすることにより、上層側のHC吸着層には比較的大きな分子の芳香族炭化水素が層間距離が大きい層間化合物で吸着され、比較的小さい分子の炭化水素が、層構造の下層側まで拡散して層間距離が小さい層間化合物で吸着されるため、吸着効率が向上するとともに層間距離が小さい部分を芳香族炭化水素などの比較的大きな分子が閉塞するおそれがなくなり、効果的に吸着浄化性能が発揮される。
このような構成とすることにより、上層側のHC吸着層には比較的大きな分子の芳香族炭化水素が層間距離が大きい層間化合物で吸着され、比較的小さい分子の炭化水素が、層構造の下層側まで拡散して層間距離が小さい層間化合物で吸着されるため、吸着効率が向上するとともに層間距離が小さい部分を芳香族炭化水素などの比較的大きな分子が閉塞するおそれがなくなり、効果的に吸着浄化性能が発揮される。
更に、本発明のHC吸着浄化触媒においては、ゼオライトを含有するゼオライト層を更に付加してもよく、このゼオライト層上に上述のHC吸着層を積層することが望ましい。
ここで、ゼオライトとしては、ZMS5、β型ゼオライト、MFI型ゼオライト、A型ゼオライト、Y型ゼオライト、LTA型ゼオライト又はMOR型ゼオライト、及びこれらを任意に組合わせて用いることができる。
ここで、ゼオライトとしては、ZMS5、β型ゼオライト、MFI型ゼオライト、A型ゼオライト、Y型ゼオライト、LTA型ゼオライト又はMOR型ゼオライト、及びこれらを任意に組合わせて用いることができる。
上記HC吸着層がゼオライト層上に配置されることにより、芳香族炭化水素がゼオライト層まで殆ど到達しなくなり、ゼオライトの細孔が芳香族炭化水素の吸着によって閉塞されるおそれがなくなり、酸点を有し、比較的小さい分子の炭化水素を効率良く吸着するゼオライトの性能を十分に発揮させることができる。この結果、HC吸着浄化性能をより向上させることが可能となる。
また、通常、貴金属触媒の活性温度(T50=排気成分の50%低減温度)は250℃程度である一方、ゼオライトは比較的小さい分子の炭化水素を150℃程度で脱離するため、貴金属触媒が活性温度にまで達しない間は、脱離した比較的小さい分子の炭化水素は浄化されずに排出される場合があったが、上述したようにゼオライト層上にHC吸着層を積層することにより、貴金属触媒層とゼオライト層の間には、比較的小さい分子の炭化水素が吸着しない層が存在することになるため、ゼオライト層へは熱の伝導が遅くなる。
これにより、比較的小さい分子の炭化水素がゼオライト層から脱離する温度に当該ゼオライト層が達する時間と貴金属触媒層がその活性温度に達する時間とのタイムラグが短縮されることになり、未浄化で排出される比較的小さい分子の炭化水素量をより低減することができる。
これにより、比較的小さい分子の炭化水素がゼオライト層から脱離する温度に当該ゼオライト層が達する時間と貴金属触媒層がその活性温度に達する時間とのタイムラグが短縮されることになり、未浄化で排出される比較的小さい分子の炭化水素量をより低減することができる。
上述の構成の一例として、例えばゼオライト層、HC吸着層及び貴金属触媒層を各1層ずつこの順に積層して成るHC吸着浄化触媒を挙げることができる。
また、上述の構成の他の例として、例えばゼオライト層に上述した耐熱性層間化合物が含まれ、かかるゼオライト層の層間化合物含有量が、この上に積層したHC吸着層の層間化合物含有量よりも少ないHC吸着浄化触媒を挙げることができる。
本発明のHC吸着浄化触媒においては、ゼオライトと耐熱性層間化合物とが同一層に存在していてもよいが、同一層に存在させる場合であっても、全ての層において均一に存在させるのではなく、各ゼオライト層に含まれる耐熱性層間化合物は、その含有量が貴金属触媒層に近接するほど多いことが望ましい。
なお、かかる観点からHC吸着層中にゼオライトが含まれるものも本発明のHC吸着浄化触媒の範囲に含まれる。
なお、かかる観点からHC吸着層中にゼオライトが含まれるものも本発明のHC吸着浄化触媒の範囲に含まれる。
また、本発明のHC吸着浄化触媒を自動車に適用する場合には、一体構造型担体に担持させることが望ましく、かかる一体構造型担体としては、コーディエライトなどのセラミックスやフェライト系ステンレスなどの金属等の耐熱性材料から成るモノリス担体やハニカム担体を例示できる。
以下、本発明を実施例及び比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
(層間化合物含有層の作成)
ホスト化合物としてモンモリロナイト(Nax[Al2−xMgx](Si4)O10(OH)2)、ゲスト物質として多核水酸化アルミニウムイオン([Al13O4(OH)24]7+)を用い、イオン交換して、予め層間距離を1.5nm±0.5nmに調整した層間化合物1061g、シリカゾル(固形分20%)980g、純水1500gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体(200セル/10ミル、直径99.2mm×長さ129.4mm、触媒容量1.0L)に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃で1時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に100g/Lになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒層Aを得た。
(層間化合物含有層の作成)
ホスト化合物としてモンモリロナイト(Nax[Al2−xMgx](Si4)O10(OH)2)、ゲスト物質として多核水酸化アルミニウムイオン([Al13O4(OH)24]7+)を用い、イオン交換して、予め層間距離を1.5nm±0.5nmに調整した層間化合物1061g、シリカゾル(固形分20%)980g、純水1500gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体(200セル/10ミル、直径99.2mm×長さ129.4mm、触媒容量1.0L)に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃で1時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に100g/Lになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒層Aを得た。
(三元触媒層の作成)
Ce3mol%を含むアルミナ粉末(Al97mol%)に、硝酸パラジウム水溶液を含浸又は高速撹拌中で噴霧し、150℃で24時間乾燥した後、400℃で1時間、次いで、600℃で1時間焼成し、Pd担持アルミナ粉末(粉末a)を得た。この粉末aのPd濃度は4.0%であった。
La1mol%とZr32mol含有セリウム酸化物粉末(Ce67mol%)に、硝酸パラジウム水溶液を含浸又は高速撹拌中で噴霧し、150℃で24時間乾燥した後、400℃で1時間、次いで、600℃で1時間焼成し、Pd担持セリウム酸化物粉末(粉末b)を得た。この粉末bのPd濃度は2.0%であった。
Ce3mol%を含むアルミナ粉末(Al97mol%)に、硝酸パラジウム水溶液を含浸又は高速撹拌中で噴霧し、150℃で24時間乾燥した後、400℃で1時間、次いで、600℃で1時間焼成し、Pd担持アルミナ粉末(粉末a)を得た。この粉末aのPd濃度は4.0%であった。
La1mol%とZr32mol含有セリウム酸化物粉末(Ce67mol%)に、硝酸パラジウム水溶液を含浸又は高速撹拌中で噴霧し、150℃で24時間乾燥した後、400℃で1時間、次いで、600℃で1時間焼成し、Pd担持セリウム酸化物粉末(粉末b)を得た。この粉末bのPd濃度は2.0%であった。
上記Pd担持アルミナ粉末(粉末a)314g、Pd担持セリウム酸化物粉末(粉末b)314g、硝酸酸性アルミナゾル320g(ベーマイトアルミナ10%に10%の硝酸を添加することによって得られたゾルでAl2O3換算で32g)、炭酸バリウム51.5g(BaOとして40g)及び純水2000gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記触媒層Aに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃で1時間焼成し、コート層重量70g/Lを塗布し、触媒層B1を得た。
Zr3mol%を含むアルミナ粉末(Al97mol%)に、硝酸ロジウム水溶液を含浸又は高速撹拌中で噴霧し、150℃で24時間乾燥した後、400℃で1時間、次いで、600℃で1時間焼成し、Rh担持アルミナ粉末(粉末c)を得た。この粉末cのRh濃度は2.0%であった。
Ce3mol%を含むアルミナ粉末(Al97mol%)に、ジニトロジアミン白金水溶液を含浸又は高速撹拌中で噴霧し、150℃で24時間乾燥した後、400℃で1時間、次いで、600℃で1時間焼成し、Pt担持アルミナ粉末(粉末d)を得た。この粉末dのPt濃度は4.0%であった。
Ce3mol%を含むアルミナ粉末(Al97mol%)に、ジニトロジアミン白金水溶液を含浸又は高速撹拌中で噴霧し、150℃で24時間乾燥した後、400℃で1時間、次いで、600℃で1時間焼成し、Pt担持アルミナ粉末(粉末d)を得た。この粉末dのPt濃度は4.0%であった。
上記Rh担持アルミナ粉末(粉末c)118g、Pt担持アルミナ粉末(粉末d)177g、La1mol%とCe20mol%を含有するジルコニウム酸化物粉末175g、硝酸酸性アルミナゾル300gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒層B1に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃で1時間焼成し、コート層重量50g/Lを塗布し、触媒層B2を得て、本例のHC吸着浄化触媒を得た(以下、触媒層B1と触媒層B2を合わせて触媒層Bという。)。
こうして得たHC吸着浄化触媒の貴金属担持量は、Pt0.71g/L、Pd1.88g/L、Rh0.24g/Lであった。
こうして得たHC吸着浄化触媒の貴金属担持量は、Pt0.71g/L、Pd1.88g/L、Rh0.24g/Lであった。
(実施例2)
(ゼオライト層の作成)
β−ゼオライト粉末(H型、Si/2Al=25)2125g、シリカゾル(固形分20%)1875g、純水3000gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体(200セル/10ミル、直径99.2mm×長さ129.4mm、触媒容量1.0L)に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃で1時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に200g/Lになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒層Cを得た。
(ゼオライト層の作成)
β−ゼオライト粉末(H型、Si/2Al=25)2125g、シリカゾル(固形分20%)1875g、純水3000gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体(200セル/10ミル、直径99.2mm×長さ129.4mm、触媒容量1.0L)に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃で1時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に200g/Lになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒層Cを得た。
(層間化合物含有層及び三元触媒層の作成)
上記触媒層C上に、上記触媒層A及び触媒層Bを形成した以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例のHC吸着浄化触媒を得た。
上記触媒層C上に、上記触媒層A及び触媒層Bを形成した以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例のHC吸着浄化触媒を得た。
(比較例1)
(ゼオライト層及び三元触媒層の作成)
β−ゼオライト粉末(H型、Si/2Al=25)2125g、シリカゾル(固形分20%)1875g、純水3000gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体(200セル/10ミル、直径99.2mm×長さ129.4mm、触媒容量1.0L)に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃で1時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に300g/Lになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒層Cを得た。
上記触媒層C上に、上記触媒層Bを形成した以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例のHC吸着浄化触媒を得た。上記各例の仕様を表1に示す。
(ゼオライト層及び三元触媒層の作成)
β−ゼオライト粉末(H型、Si/2Al=25)2125g、シリカゾル(固形分20%)1875g、純水3000gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体(200セル/10ミル、直径99.2mm×長さ129.4mm、触媒容量1.0L)に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃で1時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に300g/Lになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒層Cを得た。
上記触媒層C上に、上記触媒層Bを形成した以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例のHC吸着浄化触媒を得た。上記各例の仕様を表1に示す。
[性能評価]
下記条件にて、各例のHC吸着浄化触媒を耐久(急速劣化)させ、更に下記条件でHC吸着・浄化特性評価を行った。
下記条件にて、各例のHC吸着浄化触媒を耐久(急速劣化)させ、更に下記条件でHC吸着・浄化特性評価を行った。
(耐久条件)
エンジン排気量 3000cc
燃料 ガソリン(日石ダッシュ)
触媒入口ガス温度 750℃
耐久時間 100時間
エンジン排気量 3000cc
燃料 ガソリン(日石ダッシュ)
触媒入口ガス温度 750℃
耐久時間 100時間
(評価条件)
日産自動車(株)製車両(排気量3.3L)を用い、(1)エンジン始動時に排出されるHCの吸着能を評価するためECモード0〜40秒間のエミッション低減率を測定し、(2)エンジン始動時及び暖機時のHCの吸着浄化能を評価するためECモード40〜200秒間のエミッション低減率を測定した。得られた結果を表2及び表3に示す。表中、「ppmC1」はC1換算を意味し、例えばベンゼン1ppm=6ppmC1となる。
なお、エンジン始動時(0〜40秒)及びエンジン暖機時(40〜200秒)の排ガス中のHC全量基準におけるガス組成を下記に示す。
日産自動車(株)製車両(排気量3.3L)を用い、(1)エンジン始動時に排出されるHCの吸着能を評価するためECモード0〜40秒間のエミッション低減率を測定し、(2)エンジン始動時及び暖機時のHCの吸着浄化能を評価するためECモード40〜200秒間のエミッション低減率を測定した。得られた結果を表2及び表3に示す。表中、「ppmC1」はC1換算を意味し、例えばベンゼン1ppm=6ppmC1となる。
なお、エンジン始動時(0〜40秒)及びエンジン暖機時(40〜200秒)の排ガス中のHC全量基準におけるガス組成を下記に示す。
(ガス組成)
・エンジン始動時(0〜40秒) 芳香族 ;51.3vol%
パラフィン;28.0vol%
オレフィン;20.7vol%
・エンジン暖機時(40〜200秒) 芳香族 ;55.6vol%
パラフィン;20.9vol%
オレフィン;23.5vol%
・エンジン始動時(0〜40秒) 芳香族 ;51.3vol%
パラフィン;28.0vol%
オレフィン;20.7vol%
・エンジン暖機時(40〜200秒) 芳香族 ;55.6vol%
パラフィン;20.9vol%
オレフィン;23.5vol%
表2中の吸着量は、0〜40秒における入口に対する低減量を示し、次式(2)
(吸着量)=(0〜40秒での触媒入口量)−(0〜40秒での触媒出口量)…(2)のように定義する。
(吸着量)=(0〜40秒での触媒入口量)−(0〜40秒での触媒出口量)…(2)のように定義する。
表3中の脱離浄化率は、40〜200秒における脱離浄化率を示し、次式(3)
(脱離浄化率)=[1−(未浄化量)]/(浄化すべきHC量)×100…(3)から算出される。
ここで、上記(浄化すべきHC量)は、0〜40秒での触媒が吸着したHC量(表2の吸着量)と40〜200秒に排ガスに含まれるHC量の和であり、この和が分母となる。一方で、分子のうち、上記(未浄化量)は、表3の(排出HC量)である。
(脱離浄化率)=[1−(未浄化量)]/(浄化すべきHC量)×100…(3)から算出される。
ここで、上記(浄化すべきHC量)は、0〜40秒での触媒が吸着したHC量(表2の吸着量)と40〜200秒に排ガスに含まれるHC量の和であり、この和が分母となる。一方で、分子のうち、上記(未浄化量)は、表3の(排出HC量)である。
即ち、脱離浄化率は、次式(4)
(脱離浄化率)=[(0〜40秒での吸着量)+(40〜200での触媒入口量)−(40〜200秒での触媒出口量)]/[(0〜40秒での吸着量)+(40〜200秒での触媒入口量)]×100…(4)から算出される。
(脱離浄化率)=[(0〜40秒での吸着量)+(40〜200での触媒入口量)−(40〜200秒での触媒出口量)]/[(0〜40秒での吸着量)+(40〜200秒での触媒入口量)]×100…(4)から算出される。
表3より、本発明の範囲に属する実施例1及び2は、本発明外の比較例1と比較して脱離浄化率が優れていることが分かる。また、芳香族炭化水素の脱離浄化率が著しく向上していることも分かる。
(実施例4)
(層間化合物含有層の作成)
ホスト化合物としてモンモリロナイト(Nax[Al2−xMgx](Si4)O10(OH)2)、ゲスト物質として多核水酸化アルミニウムイオン([Al13O4(OH)24]7+)を用い、イオン交換して、予め層間距離を0.2nmに調整した層間化合物を用いた以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例のHC吸着浄化触媒を得た。
(層間化合物含有層の作成)
ホスト化合物としてモンモリロナイト(Nax[Al2−xMgx](Si4)O10(OH)2)、ゲスト物質として多核水酸化アルミニウムイオン([Al13O4(OH)24]7+)を用い、イオン交換して、予め層間距離を0.2nmに調整した層間化合物を用いた以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例のHC吸着浄化触媒を得た。
(実施例5)
層間化合物含有層の作成において、ホスト化合物としてモンモリロナイト(Nax[Al2−xMgx](Si4)O10(OH)2)、ゲスト物質として多核水酸化アルミニウムイオン([Al13O4(OH)24]7+)を用い、イオン交換して、予め層間距離を1.27nmに調整した層間化合物を用いた以外は、実施例4と同様の操作を繰り返し、本例のHC吸着浄化触媒を得た。
層間化合物含有層の作成において、ホスト化合物としてモンモリロナイト(Nax[Al2−xMgx](Si4)O10(OH)2)、ゲスト物質として多核水酸化アルミニウムイオン([Al13O4(OH)24]7+)を用い、イオン交換して、予め層間距離を1.27nmに調整した層間化合物を用いた以外は、実施例4と同様の操作を繰り返し、本例のHC吸着浄化触媒を得た。
(実施例6)
層間化合物含有層の作成において、ホスト化合物としてモンモリロナイト(Nax[Al2−xMgx](Si4)O10(OH)2)、ゲスト物質として多核水酸化アルミニウムイオン([Al13O4(OH)24]7+)を用い、イオン交換して、予め層間距離を3.26nmに調整した層間化合物を用いた以外は、実施例4と同様の操作を繰り返し、本例のHC吸着浄化触媒を得た。各例の仕様を表4に示す。
層間化合物含有層の作成において、ホスト化合物としてモンモリロナイト(Nax[Al2−xMgx](Si4)O10(OH)2)、ゲスト物質として多核水酸化アルミニウムイオン([Al13O4(OH)24]7+)を用い、イオン交換して、予め層間距離を3.26nmに調整した層間化合物を用いた以外は、実施例4と同様の操作を繰り返し、本例のHC吸着浄化触媒を得た。各例の仕様を表4に示す。
[性能評価]
下記条件にて、各例のHC吸着浄化触媒を耐久(急速劣化)させ、更に下記条件でHC吸着性能評価を行った。得られた結果を表4に併記する。
また、図2に得られた結果を示す。同図において、層間距離がトルエン分子直径(=0.67nm)の1倍、2倍、3倍、4倍となる値をそれぞれ破線k、l、m、nで示し、比較のために、細孔直径0.4〜0.8nmのβゼオライトを用いた比較例1の結果を同図において、実線pで示す。
下記条件にて、各例のHC吸着浄化触媒を耐久(急速劣化)させ、更に下記条件でHC吸着性能評価を行った。得られた結果を表4に併記する。
また、図2に得られた結果を示す。同図において、層間距離がトルエン分子直径(=0.67nm)の1倍、2倍、3倍、4倍となる値をそれぞれ破線k、l、m、nで示し、比較のために、細孔直径0.4〜0.8nmのβゼオライトを用いた比較例1の結果を同図において、実線pで示す。
(耐久条件)
エンジン排気量 3000cc
燃料 ガソリン(日石ダッシュ)
触媒入口ガス温度 750℃
耐久時間 100時間
エンジン排気量 3000cc
燃料 ガソリン(日石ダッシュ)
触媒入口ガス温度 750℃
耐久時間 100時間
(評価条件)
HC種 トルエン
触媒入口ガス温度 室温(25℃)
HC種 トルエン
触媒入口ガス温度 室温(25℃)
表4又は図2から分かるように、(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)の値が1〜4の場合、特に(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)の値が1〜3の場合には、優れたトルエン吸着性能を示す。
図3に、トルエンが層間化合物に吸着される様子を模式的に示す。同図に示すように、層間化合物は、ホスト化合物に由来する板状部10とゲスト化合物等に由来する柱状部20とから形成される。そして、同図(a)〜(c)は、それぞれ実施例4〜6の場合に相当するものである。
同図(a)に示すように、実施例4における層間距離はトルエン分子(カルボキシル基は省略する。)の直径よりも小さいため、吸着され難い。
また、同図(b)に示すように、実施例5における層間距離はトルエン分子の直径の2倍程度であるが、層間化合物層は、その特徴的な形状から、吸着される分子に対して、又は吸着される分子同士に相互作用が発生して密に吸着することができ、特に上記(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)の値を1〜3の範囲に規定した場合に、その吸着性能が向上するためと推定される。
一方、同図(c)に示すように、実施例6における層間距離はトルエン分子の直径の4倍よりも大きいため、トルエン分子に対しては、相互作用が発生し難いため顕著なHC吸着性能が発生し難い。なお、この評価試験において、その吸着性能がβゼオライトと同程度であるが、この場合には例えばナフタレンやアントラセンなどに対しては優れたHC吸着性能を示すものと考えられる。
このように、低温においても、炭化水素、特に芳香族炭化水素の吸着する性能(HC吸着性能)に優れることが分かり、HC吸着浄化性能が向上されることが分かる。
同図(a)に示すように、実施例4における層間距離はトルエン分子(カルボキシル基は省略する。)の直径よりも小さいため、吸着され難い。
また、同図(b)に示すように、実施例5における層間距離はトルエン分子の直径の2倍程度であるが、層間化合物層は、その特徴的な形状から、吸着される分子に対して、又は吸着される分子同士に相互作用が発生して密に吸着することができ、特に上記(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)の値を1〜3の範囲に規定した場合に、その吸着性能が向上するためと推定される。
一方、同図(c)に示すように、実施例6における層間距離はトルエン分子の直径の4倍よりも大きいため、トルエン分子に対しては、相互作用が発生し難いため顕著なHC吸着性能が発生し難い。なお、この評価試験において、その吸着性能がβゼオライトと同程度であるが、この場合には例えばナフタレンやアントラセンなどに対しては優れたHC吸着性能を示すものと考えられる。
このように、低温においても、炭化水素、特に芳香族炭化水素の吸着する性能(HC吸着性能)に優れることが分かり、HC吸着浄化性能が向上されることが分かる。
本発明のHC吸着浄化触媒は、ガソリンエンジンの自動車のコールドスタートの際に特に優れたHC吸着浄化性能を発揮するだけでなく、例えばディーゼルエンジンの自動車に対しても適用することができる。
更には、排気ガス中に炭化水素が含まれる可能性があるような全ての内燃機関に適用することができる。
更には、排気ガス中に炭化水素が含まれる可能性があるような全ての内燃機関に適用することができる。
10 板状部
20 柱状部
20 柱状部
Claims (13)
- 炭化水素を吸着・脱離するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備えるHC吸着浄化触媒において、
上記HC吸着層に、耐熱性を有し、且つ層間距離が次式(1)
1≦(層間距離)/(芳香族炭化水素分子直径)≦4…(1)
の関係を満足する構造を有する層間化合物が含まれていることを特徴とするHC吸着浄化触媒。 - 上記層間化合物の層間距離が0.3〜10nmであることを特徴とする請求項1に記載のHC吸着浄化触媒。
- 炭化水素を吸着・脱離するHC吸着層と、このHC吸着層上に積層された貴金属触媒層を備えるHC吸着浄化触媒において、
上記HC吸着層に、耐熱性を有し層間距離が0.3〜10nmである層間化合物が含まれていることを特徴とするHC吸着浄化触媒。 - 上記層間化合物の層間距離が0.3〜5nmであることを特徴とする請求項3に記載のHC吸着浄化触媒。
- 二層以上のHC吸着層を有し、各HC吸着層に含まれる上記耐熱性層間化合物の層間距離がそれぞれ異なることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つの項に記載のHC吸着浄化触媒。
- 上記各HC吸着層に含まれる耐熱性層間化合物は、その層間距離が上記貴金属触媒層に近接するものほど大きいことを特徴とする請求項5に記載のHC吸着浄化触媒。
- ゼオライトを含有するゼオライト層を更に付加して成り、このゼオライト層上に上記HC吸着層が積層されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つの項に記載のHC吸着浄化触媒。
- 上記ゼオライト層、HC吸着層及び貴金属触媒層を各1層ずつこの順に積層して成ることを特徴とする請求項7に記載のHC吸着浄化触媒。
- 上記ゼオライト層に上記耐熱性層間化合物が含まれ、このゼオライト層の層間化合物含有量が、上記HC吸着層の層間化合物含有量より小さいことを特徴とする請求項8に記載のHC吸着浄化触媒。
- 上記耐熱性層間化合物は500℃以上の耐熱性を有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1つの項に記載のHC吸着浄化触媒。
- 上記耐熱性層間化合物のホスト化合物が、層状ケイ素酸化物及び/又は層状ケイ酸塩化合物であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つの項に記載のHC吸着浄化触媒。
- 上記耐熱性層間化合物のゲスト物質が、アルミニウム、ケイ素、ジルコニウム、マグネシウム、鉄、セリウム、ガリウム、リチウム及びチタンから成る群より選ばれた少なくとも1種の元素を含有することを特徴とする請求項1〜11のいずれか1つの項に記載のHC吸着浄化触媒。
- 上記ゼオライト層に含まれるゼオライトが、β型ゼオライト、MFI型ゼオライト、A型ゼオライト、Y型ゼオライト、LTA型ゼオライト及びMOR型ゼオライトから成る群より選ばれた少なくとも1種のものであることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1つの項に記載のHC吸着浄化触媒。
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JP (1) | JP2006297375A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009141872A1 (ja) * | 2008-05-20 | 2009-11-26 | イビデン株式会社 | ハニカム構造体 |
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2006
- 2006-02-15 JP JP2006038399A patent/JP2006297375A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2009141872A1 (ja) * | 2008-05-20 | 2009-11-26 | イビデン株式会社 | ハニカム構造体 |
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