JP2006297111A - Ｘ線装置用の絞り装置およびｘ線装置用の絞り装置の作動方法。 - Google Patents

Abstract

【課題】対象をボリューム走査する際のＸ線被曝を低減させる。
【解決手段】対象（２）を走査するために設けられるＸ線装置のために少なくとも２つの絞り（３，４）を有するＸ線装置用の絞り装置において、走査の少なくとも１つの区間（７；９）について、第１の絞り（３）によって調整されたＸ線ビームが第２の絞り（４）により少なくとも部分的に動的に遮蔽可能である。
【選択図】図３

Description

本発明は、対象を走査するために設けられるＸ線装置用の絞り装置およびＸ線装置用の絞り装置の作動方法に関する。

例えばコンピュータ断層撮影装置の形でのＸ線装置により対象を走査する際に対象の不要なＸ線被曝を回避するために、Ｘ線ビームを非常に精確に検出器の測定視野に調整することができる絞り装置は知られている（例えば、特許文献１参照）。絞り装置は、Ｘ線放射器から出射するＸ線ビームを調整するために、放射器側の２つの吸収要素を有する１つの絞りを含む。絞りは、両吸収要素が高い調整精度で検査開始前に位置決め可能である。

撮影システムがコンピュータ断層撮影装置のシステム軸線の周りに回転させられ、同時に対象が撮影システムに対して相対的にシステム軸線の方向に移動される対象のスパイラル走査の場合、有効ボリューム内での画像を再構成するために、システム軸線の方向において有効ボリュームよりも大きな走査ボリュームを照射することが必要である。有効ボリュームに比べて大きな走査ボリュームは、主として画像再構成に使用されたアルゴリズムに依存する。これは、再構成のための走査の前走区間および後走区間の期間中に行なわれなければならない付加的に必要とされた複数回の回転からもしくは付加的に必要とされた１回の回転の一部から生じる。しかしながら、前走区間および後走区間の期間中に走査によって得られた情報の一部しか後で再構成に使用されないので、対象は走査のこの部分の期間中に不要なＸ線被曝にさらされる。

システム軸線の方向に検出器のボリューム捕捉範囲が増大するのにともない、有効ボリュームを走査するための撮影システムの回転回数の低減が可能である。しかしながら、前走区間および後走区間の期間中におけるスパイラル走査の複数の回転は、有効ボリュームの完全な再構成に必要であり、検出器のボリューム捕捉範囲によって影響を及ぼされないままである。従って、その結果、全走査に必要とされる回転に比べて走査の前走区間および後走区間による回転の割合が増大する。それによって、同時に線量効率、つまり実際に再構成に使用されたＸ線の割合が低下する。

走査ボリュームの全走査に比べた前走区間および後走区間による走査の割合は、例えばＺ＝１６の列数およびＢ＝０．７５ｍｍの列幅を有する検出器と、コンピュータ断層撮影装置のシステム軸線の方向に１２ｍｍの幅の測定視野を絞り装置によって調整されたＸ線ビームで照射するＸ線放射器とを含むコンピュータ断層撮影装置において、走査すべき有効ボリュームの長さＬがＬ＝２００ｍｍであり、ピッチＰがＰ＝１に設定され、撮影システムの再構成に必要とされた回転が走査の前走区間および後走区間の期間中にそれぞれ１回転する場合、全体として１２％となる。前走区間および後走区間の期間中に使用されたＸ線のほぼ半分しか画像の再構成に寄与しないので、患者のＸ線被曝は使用された全Ｘ線線量の約６％になる。

Ｚ＝１２８の列数およびＢ＝０．６ｍｍの列幅を有する検出器を使用する場合、全走査における前走区間および後走区間の割合はほぼ７７％にさえも高まるので、患者の付加的なＸ線被曝は使用された全Ｘ線線量の約３９％に上昇する。
独国特許出願公開第１０２４２９２０号明細書

本発明の課題は、対象のボリューム走査を低減されたＸ線被曝で可能にする、対象を走査するために設けられるＸ線装置用の絞り装置もしくはＸ線装置用の絞り装置の作動方法を提供することにある。

この課題は独立請求項１の特徴によるＸ線装置用の絞り装置もしくは独立請求項１１の特徴によるＸ線装置用の絞り装置の作動方法によって解決される。絞り装置もしくは方法の有利な実施態様はそれぞれ従属請求項２乃至１０もしくは１２乃至２０に記載されている。

本発明は、絞り装置により、検出器の測定視野を照射するためのＸ線ビームの精確な調整も、Ｘ線の不要部分の動的な遮蔽（すなわち動的な絞込み）も実施可能であるならば、対象のＸ線被曝を低減させることができるという認識に基づく。

しかし、検出器の測定視野へのＸ線ビームの調整時およびＸ線ビームの不要部分の動的な遮蔽時に、２つの非常に異なる要求が満たされるべきである。一方では、検出器の測定視野へのＸ線ビームの調整は数μｍという絞り位置精度で非常に精確に行なわれなければならない。この高い要求は、高い撮像倍率によって絞りの僅かな位置誤差が既にＸ線ビームの著しいずれを招くことから生じる。他方では、Ｘ線ビームの一部分の動的な遮蔽は高速度で実施可能であることが必要である。

Ｘ線ビームの精確なかつ同時に高速の調整は、絞りに対する非常に異なる要求によって、従来装置では極めて不十分にしか同時に実現できなかった。一方の要求の最適化は他方の要求の犠牲においてのみ可能である。絞り装置は、Ｘ線ビームの高速遮蔽を可能にすれば、検出器の測定視野へのＸ線ビームの精確な調整の際に過大な許容誤差を有し、又はＸ線ビームの精確な調整を可能にすれば、Ｘ線ビームの動的な遮蔽の際に過大な慣性を有する。従って、一般に、絞り装置は、アーチファクトのない画像再構成を保証するために、再構成に必要であるよりも大きな対象範囲を疑念を持ちながら照射するように作動させられている。しかしながら、この場合対象は高められたＸ線被曝にさらされる。

更に、本発明は、特に検出器の測定視野へのＸ線ビームの調整とＸ線ビームの不要部分の動的な遮蔽とが互いに分離して行なわれると、アーチファクトのない画像の再構成に必要な投影の検出が、同時に対象のできるだけ少ないＸ線被曝のもとに可能であるという認識に基づく。

従って、本発明によれば、絞り装置が少なくとも２つの絞りを有し、対象走査の少なくとも１つの区間について、第１の絞りによって調整されたＸ線ビームが第２の絞りにより少なくとも部分的に動的に遮蔽可能である。

従って、Ｘ線ビームの調整とＸ線ビームの動的な遮蔽（すなわち動的な絞込み）とが２つの異なる絞りにより互いに分離して行なわれるので、対象を走査するための異なる要求を僅かなＸ線被曝で同時に満たすことができる。第１の絞りは検出器の測定視野へのＸ線ビームの精確な調整に使用され、第２の絞りはＸ線ビームの動的な遮蔽を可能にする。従って、各絞りは、この分離によって確実かつ同時に簡単にそれぞれに割り当てられた機能に適応することができる。絞りは、第１の絞りによるＸ線ビームの調整が高い調整精度で実行可能であり、第２の絞りによる動的な遮蔽が高い調整速度で実行可能であるように構成されていると好ましい。

Ｘ線ビームの動的な遮蔽の際に、残りのＸ線ビームは、対象の不要なＸ線ビームが回避されるように、画像の再構成に寄与する対象のほぼ１つの範囲のみを照射すると好ましい。

Ｘ線ビームの動的な遮蔽が行なわれる走査の区間は、対象の走査、例えばスパイラル走査の前走区間に相当すると好ましい。同様に、もちろん、走査の区間はとりわけ対象の走査の後走区間に相当することも考えられ得る。例えばスパイラル走査の期間中の前走区間および後走区間におけるＸ線ビームの不要部分の動的な遮蔽によって、既に最初に述べたように、対象のＸ線被曝が著しく低減する。

本発明の有利な実施態様において、Ｘ線ビームの動的な遮蔽はＸ線装置のシステム軸線の方向に走査位置に依存して行なわれる。しかしながら、Ｘ線ビームの動的な遮蔽を撮影システムの回転角に依存してまたは走査時間に依存して制御することも考えられ得る。

有利な実施態様において、第２の絞りは第１の絞りに比べてＸ線ビームの焦点の近くに配置されている。Ｘ線ビームのファンジオメトリに基づいて、第２の絞りをＸ線の焦点に対して近くに位置決めすることは、第２の絞りの位置調整とそれにつながるＸ線ビームの変化との変換比が高められるので有利である。もちろん、絞りの位置は逆の順序でもよい。

本発明の有利な１つの実施態様において、両絞りは互いに平行に位置調整可能に配置されているので、絞り装置をＸ線装置の撮影システムのビームジオメトリへ状況に応じてマッチングさせることができる。ビームジオメトリへのマッチングは例えば熱的負荷により放射器の焦点が移動する場合に必要である。

本発明の実施例ならびに従属請求項による本発明の他の有利な実施態様が以下において概略図に示されている。
図１は２つの絞りを有する本発明による絞り装置を備えたコンピュータ断層撮影装置を部分斜視図で示し、
図２は前走区間、有効ボリューム走査区間および後走区間におけるスパイラル走査をシステム軸線に垂直な２次元投影のダイアグラムの形で示し、
図３は図１に示された絞り装置を側面詳細図で示し、
図４は前走区間、有効ボリューム走査区間および後走区間におけるガントリに対する相対的な両絞りの絞り要素の調整位置をダイアグラムの形で示し、
図５は前走区間、有効ボリューム走査区間および後走区間におけるガントリに対する相対的な両絞りの調整位置をダイアグラムの形で示し（ただし、第２の絞りがスリット絞りである。）、
図６は両絞りの平行調整をダイアグラムの形で示す。

図１において、ここではコンピュータ断層撮影装置であるＸ線装置が一部ではブロック図、一部では斜視図で示されている。この撮影システムは、線源近くの絞り装置１を備えた例えばＸ線管の形での放射器１５と、平面アレイとして形成されている検出器１３とを有する。アレイは多数の行および列に配置された検出素子１４を含み、そのうち１つだけが参照符号を付されている。

放射器１５および検出器１３は、明示的には示されていないガントリと呼ばれる回転枠に次のように、コンピュータ断層撮影装置の作動時に放射器１５の焦点１２から出射して絞り装置１を通して絞られたファン状Ｘ線ビーム１０が検出器１３に入射するように対向配置されている。検出素子１４は、それぞれ、測定領域を通過するＸ線の減弱に依存し以下において測定値と呼ばれる減弱値を発生する。測定値へのＸ線の変換は、例えばシンチレータに光学的に結合されたフォトダイオードまたは直接変換半導体により行なわれる。検出器１３の測定値セットは「投影」と呼ばれる。

回転枠は、制御ユニット１８によって制御される図示されていない駆動装置により、システム軸線１１の周りを図示のφ方向に回転させられる。このようにして、撮影システムの測定領域に配置されている対象２の種々の投影方向からの多数の投影が作成される。システム軸線１１の方向への対象２の連続送りと同時にガントリを回転させることによって、特に、撮影システムによって形成された測定領域よりも大きい対象２の検査ボリュームを走査することができる。投影の測定値は、データ収集ユニット１６によって読み出され、再構成された画像を算出するために計算ユニット１７に導かれる。再構成された画像は表示装置１９で操作者に視覚的に表示することができる。

以下において有効ボリューム８と呼ばれる検査ボリュームの画像を再構成するために、システム軸線１１の方向において有効ボリューム８よりも大きい走査ボリュームを照射することが必要である。有効ボリューム８に比べて大きい走査ボリュームは、主として画像再構成に使用されたアルゴリズムに関係する。これは、図２に示されたスパイラル走査の前走区間７および後走区間９の期間中に再構成のために実施されなければならない付加的に必要な回転の回数からもたらされる。

放射器１５から出射するＸ線ビーム１０の一部分の動的な遮蔽が行われないと、前走区間７および後走区間９の期間中に画像再構成に寄与しない対象２の領域が照射されるので、対象２、例えば患者はスパイラル走査５のこの期間中にＸ線による不要なＸ線被曝にさらされる。

走査過程における対象２のＸ線被曝を低減させるために絞り装置１は２つの異なる絞り３，４を有する。第１の絞り３は、検出器１３の測定視野へのＸ線ビーム１０の精確な調整のために用いられる。第１の絞り３は、Ｘ線ビーム１０の調整が非常に高い調整精度で可能であるように構成されている。これとは反対に、第２の絞り４は、Ｘ線ビーム１０のうち再構成に必要でない部分の動的な遮蔽（すなわち動的な絞込み）に用いられる。Ｘ線ビーム１０の動的な遮蔽は例えば走査の前走区間７および後走区間９の期間中に行なわれる。第２の絞り４は、特に高い調整速度、例えば毎秒数センチメートルの調整速度が達成されるように構成されている。

従って、Ｘ線ビーム１０の調整とＸ線ビーム１０の一部分の遮蔽（すなわち絞込み）とは互いに分離して行なわれるので、調整精度および調整速度に関する要求にそれぞれの絞り３；４をマッチングさせることができる。

第２の絞り４は、第１の絞り３に比べて焦点１２の近くに配置されているので、第２の絞り４の僅かな移動によりファンジオメトリの大きな変化が生じる。しかし、原理的には絞り装置はもちろん絞りの逆の配置でも実現することができる。

両絞り３，４は、図３に絞り装置１の側面詳細図で示されているように、それぞれ、Ｘ線ビーム１０を限定することのできる２つの互いに独立に移動可能な絞り要素３．１，３．２；４．１，４．２を含む。

同様に、絞り要素３．１，３．２；４．１，４．２の移動は、特に固定の開口を有するスリット絞りが使用される場合には同期して行なわれる。更に、両絞り３；４のうち一方の絞りのみをスリット絞りとして構成し、それぞれ他方の絞りを２つの互いに独立に移動可能な絞り要素で構成することもできる。

第１の絞り３の絞り要素３．１，３．２は、ちょうど今説明したように、検出器１３の測定視野へのＸ線ビーム１０の非常に精確な調整を行なうことができるように位置調整可能に構成されている。例えば、各絞り要素３．１；３．２は、それぞれそのために設けられた数μｍの調整精度を有するサーボモータと協働するとよい。しかしながら、高い調整精度は一般に絞り要素の高速の動的な位置調整の犠牲により得られる。この理由から、第１の絞り３は、スパイラル走査５の前走区間７および後走区間９の範囲におけるＸ線ビーム１０の一部の動的な遮蔽に適していない。この範囲では、対象２のＸ線被曝を低減させるために、とりわけコンピュータ断層撮影装置の作動方式に応じて毎秒数ｃｍの高い調整速度が必要とされる。

従って、Ｘ線ビーム１０の相応の部分の高速の動的な遮蔽のために、第１の絞り３とは独立に作動可能な付加的な第２の絞り４が使用される。第２の絞り４の毎秒数ｃｍの高い調整速度は、例えば絞り要素４．１，４．２と協働するサーボモータの使用によって得ることができる。しかしながら、第２の絞り４の高い調整速度は、絞り要素４．１，４．２の調整位置の設定可能な精度の大きな許容誤差をもたらす。この理由から、第２の絞り４は、Ｘ線被曝を低減させるためのＸ線ビーム１０の遮蔽が可能な許容誤差の考慮のもとに次のように行なわれるように作動させられる。すなわち、Ｘ線被曝を低減させるためのＸ線ビーム１０の遮蔽は、再構成に必要な検出器１３の部分領域が前走区間７および後走区間９の期間中に各時点で照射されるように行なわれる。

図４は、対象２のスパイラル走査５の期間中における両絞り３，４の協働が具体的に示され、前走区間７の期間中、有効ボリューム８の走査中および後走区間９の期間中におけるコンピュータ断層撮影装置のシステム軸線１１の方向でのそれぞれの絞り要素の調整位置２２，２３，２４，２５が、ガントリに対して相対的位置として、ダイアグラム形式で示されている。第１の絞り３の第１の絞り要素３．１の調整位置は符号２４を付され、第２の絞り要素３．２の調整位置は符号２５を付されている。第２の絞り４の第１の絞り要素４．１の調整位置は符号２２を付され、第２の絞り要素４．２の調整位置は符号２３を付されている。更に、画像のアーチファクトのない再構成に必要である絞り装置の開口範囲２１はハッチングで示されている。

第１の絞り３は、検査開始前に精確に、検出器１３の測定視野全体が照射され得るように調整される。第１の絞り３の調整は、検査期間中は典型的に、撮影システムのジオメトリ、特に焦点１２と検出器１３との間のジオメトリが変化しないという前提のもとに行なわれない。従って、第１の絞り３の両絞り要素３．１，３．２の調整位置２４，２５は検査経過中、図４に示されているように一定である。

ハッチングを施された開口範囲２１から分かるように、走査の前走区間７の期間中における画像再構成のために、第１の絞り３の絞り開口の全範囲ではなく、寧ろその部分範囲が使用される。走査の開始時にはこの例における部分範囲は第１の絞り３の開口全体のほぼ半分である。再構成に使用された部分範囲は、対象送り２０に歩調を合わせて増大し、有効ボリューム８の走査時に第１の絞り３の絞り開口全体の大きさに達する。この第１の絞り３の絞り開口全体の大きさは、非常に精確に検出器１３の測定視野全体が照射されるように調整されている。逆に、利用された絞り開口は、対象送りにともなってこの例では再び第１の絞り３の絞り開口のほぼ半分まで縮小される。

第２の絞り４は、前走区間７の期間中にＸ線被曝を低減させるために、Ｘ線ビーム１０の不要部分が殆ど遮蔽されるように動的に位置調整される。

この場合に、遮蔽（すなわち絞込み）は第２の絞り４の第１の絞り要素４．１により生じさせられる。ここに示された実施例において、この絞り要素４．１は、検査開始時にシステム軸線１１の方向に、第１の絞り３の絞り開口の約半分まで蔽って、Ｘ線ビーム１０の不要部分を遮蔽するように移動される。第２の絞り４の第１の絞り要素４．１は、走査の前走区間７の期間中に、対象送り２０に歩調を合わせて連続的に元の位置に戻され、それによって前走区間７の期間中、第２の絞り４の第１の絞り要素４．１は対象２に関して位置固定して配置され、測定視野の、再構成に必要な部分範囲だけが照射される。

第２の絞り４の不良な調整精度を考慮するために、この絞り要素４．１の調整位置は、大きな許容誤差が発生するときにどんな場合にも検出器１３の測定視野の、再構成に必要な部分範囲が照射されるように選ばれている。従って、第２の絞り４は、通常は必要でないはずであるが僅かだけもっと先へ戻される。第２の絞り４の第２の絞り要素４．２の調整位置は、前走区間７の期間中に、Ｘ線ビーム１０が第１の絞り３の精確に設定された第２の絞り要素３．２によって限定されるように選ばれている。

前走区間７に続く有効ボリューム８を検出するための走査範囲において、第２の絞り４の両絞り要素４．１，４．２はＸ線ビーム１０が第１の絞り３のみによって精確な形で絞られるように元の位置に戻されている。

走査の後走区間９においてはじめて、第２の絞り４の第２の絞り要素４．２が、対象送り２０に歩調を合わせて、Ｘ線ビーム１０の再構成に不要な部分が動的に遮蔽されるように、第１の絞り３によって形成された絞り開口の中に進入する。従って、後走区間９の期間中、第２の絞り４の第２の絞り要素４．２は対象２に対して位置固定して位置決めされている。第２の絞り４の低い調整精度により、前走区間９におけると同様に、その都度取られた位置における許容誤差が大きいときにどんな場合にも測定領域の再構成に必要な部分範囲が照射されるような調整位置が取られる。

Ｘ線被曝を低減させるために第２の絞り４の絞り要素４．１，４．２が開始時および走査中に前走区間７および後走区間９において取った調整位置は、この実施例では模範的な特徴のみを有するが、主として再構成のためにどのアルゴリズムが使用されるかに関係する。

前述した考察とは違って、同様に、両絞り３；４の少なくとも１つの絞りが１つの固定設定された絞り開口を有するスリット絞り３０として構成されていることも考えられ得る。図５は、模範的に、第２の絞りがスリット絞り３０として構成されている場合について走査中における両絞りの協働を示す。この場合に、Ｘ線ビーム１０の不要部分の動的な遮蔽はスリット絞り３０全体の移動によって行なわれる。スリット絞り３０の絞り開口は、有効ボリューム８の走査の範囲においてＸ線ビーム１０の限定が第１の絞り３によってのみ可能であるように設計されている。本例に示されているようにスリット絞り３０の絞り開口３１が第１の絞り３の絞り開口よりも大きい場合、スリット絞り３０は、有効ボリューム８の走査中に、後走区間９の期間中におけるＸ線ビーム１０の動的な限定がスリット絞り３０における前走区間７に関して反対側の部分で可能であるように位置調整される。

コンピュータ断層撮影装置の作動中に、放射器１５の熱的負荷は焦点１２をその初期位置から移動させる。この理由から、両絞り３，４の位置を補正することが必要である。このために両絞り３，４は、図６に描かれているように、互いに平行に移動されるとよく、この移動は焦点１２の移動に応じて行なわれる。この移動は、例えば両絞り３，４がそれぞれレールシステム上に支持されているならば簡単に可能である。

２つの絞りを有する本発明による絞り装置を備えたコンピュータ断層撮影装置を示す概略図 前走区間中、有効ボリューム走査中および後走区間の期間中におけるスパイラル走査をシステム軸線に垂直な２次元投影で示すダイアグラム 図１に示された絞り装置の側面図 絞り装置の両絞りの調整位置の第１の実施例を示すダイアグラム 絞り装置の両絞りの調整位置の第２の実施例を示すダイアグラム 絞り装置の両絞りの位置調整の第３の実施例を示すダイアグラム

符号の説明

１ 絞り装置
２ 対象
３ 絞り
３．１絞り要素
３．２絞り要素
４ 絞り
４．１ 絞り要素
４．２ 絞り要素
５ スパイラル走査
７ 前走区間
８ 有効ボリューム
９ 後走区間
１０ Ｘ線ビーム
１１ システム軸線
１２ 焦点
１３ 検出器
１４ 検出素子
１５ 放射器
１６ データ収集ユニット
１７ 計算ユニット
１８ 制御ユニット
１９ 表示装置
２０ 対象送り
２１ 開口範囲
２２ 調整位置
２３ 調整位置
２４ 調整位置
２５ 調整位置
３０ スリット絞り
３１ 絞り開口

Claims (20)

1. 対象（２）を走査するために設けられるＸ線装置のために少なくとも２つの絞り（３，４）を有するＸ線装置用の絞り装置において、走査の少なくとも１つの区間（７；９）について、第１の絞り（３）によって調整されたＸ線ビームが第２の絞り（４）により少なくとも部分的に動的に遮蔽可能であることを特徴とするＸ線装置用の絞り装置。
2. 第１の絞り（３）によるＸ線ビームの調整は高い調整精度で実行可能であり、第２の絞り（４）によるＸ線ビームの動的な遮蔽は高い調整速度で実行可能であることを特徴とする請求項１記載の装置。
3. 残りのＸ線ビーム（１０）は画像の再構成に寄与する対象（２）のほぼ１つの範囲のみを照射することを特徴とする請求項１又は２記載の装置。
4. 走査の区間は対象（２）の走査の前走区間（７）に相当することを特徴とする請求項１乃至３の１つに記載の装置。
5. 走査の区間は対象（２）の走査の後走区間（９）に相当することを特徴とする請求項１乃至４の１つに記載の装置。
6. Ｘ線ビームの動的な遮蔽はＸ線装置のシステム軸線（１１）の方向に走査位置（６）に依存して行なわれることを特徴とする請求項１乃至５の１つに記載の装置。
7. 第２の絞り（４）は第１の絞り（３）に比べてＸ線ビーム（１０）の焦点（１２）の近くに配置されていることを特徴とする請求項１乃至６の１つに記載の装置。
8. 両絞り（３，４）は互いに平行に位置調整可能に配置されていることを特徴とする請求項１乃至７の１つに記載の装置。
9. 絞り（３，４）のうちの少なくとも１つの絞りは位置調整可能な絞り要素（３．１，３．２；４．１，４．２）を有することを特徴とする請求項１乃至８の１つに記載の装置。
10. 絞り（３，４）のうちの少なくとも１つの絞りはスリット絞り（３０）であることを特徴とする請求項１乃至９の１つに記載の装置。
11. 対象（２）を走査するために設けられるＸ線装置のために少なくとも２つの絞り（３，４）を有するＸ線装置用の絞り装置の作動方法において、走査の少なくとも１つの区間（７；９）について、第１の絞り（３）によって調整されたＸ線ビーム（１０）が第２の絞り（４）により少なくとも部分的に動的に遮蔽されることを特徴とするＸ線装置用の絞り装置の作動方法。
12. 第１の絞り（３）によるＸ線ビーム（１０）の調整は高い調整精度で実行され、第２の絞り（４）によるＸ線ビーム（１０）の動的な遮蔽は高い調整速度で実行されることを特徴とする請求項１乃至１１の１つに記載の方法。
13. 残りのＸ線ビーム（１０）は画像の再構成に寄与する対象（２）のほぼ１つの範囲のみを照射することを特徴とする請求項１１又は１２記載の方法。
14. 走査の区間は対象（２）の走査の前走区間（７）に相当することを特徴とする請求項１１乃至１３の１つに記載の方法。
15. 走査の区間は対象（２）の走査の後走区間（９）に相当することを特徴とする請求項１１乃至１４の１つに記載の方法。
16. Ｘ線ビーム（１０）の動的な遮蔽はＸ線装置のシステム軸線（１１）の方向に走査位置（６）に依存して行なわれることを特徴とする請求項１１乃至１４の１つに記載の方法。
17. 第２の絞り（４）は第１の絞り（３）に比べてＸ線ビーム（１０）の焦点（１２）の近くに配置されていることを特徴とする請求項１１乃至１６の１つに記載の方法。
18. 両絞り（３，４）は互いに平行に位置調整可能に配置されていることを特徴とする請求項１１乃至１７の１つに記載の方法。
19. 絞り（３，４）のうちの少なくとも１つの絞りは位置調整可能な絞り要素（３．１，３．２；４．１，４．２）を有することを特徴とする請求項１１乃至１８の１つに記載の方法。
20. 絞り（３，４）のうちの少なくとも１つの絞りはスリット絞り（３０）であることを特徴とする請求項１１乃至１９の１つに記載の方法。

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