JP2006278937A - 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法 - Google Patents

外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006278937A
JP2006278937A JP2005098996A JP2005098996A JP2006278937A JP 2006278937 A JP2006278937 A JP 2006278937A JP 2005098996 A JP2005098996 A JP 2005098996A JP 2005098996 A JP2005098996 A JP 2005098996A JP 2006278937 A JP2006278937 A JP 2006278937A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor light
light emitting
emitting device
laser
emitting element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005098996A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4574413B2 (ja
Inventor
Takashi Nakayama
貴司 中山
Kazuaki Mise
一明 三瀬
Hiroshi Mori
浩 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anritsu Corp
Original Assignee
Anritsu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anritsu Corp filed Critical Anritsu Corp
Priority to JP2005098996A priority Critical patent/JP4574413B2/ja
Publication of JP2006278937A publication Critical patent/JP2006278937A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4574413B2 publication Critical patent/JP4574413B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

【課題】 半導体発光素子を組み込んで外部共振器型半導体レーザを構成することなく、従来の信頼性試験方法よりも高い精度で外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性を評価することができる外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法を提供すること。
【解決手段】 外部共振器型レーザに用いられる半導体発光素子100の信頼性試験方法であって、半導体発光素子100の単体での発振しきい値を、半導体発光素子100を用いて構成した外部共振器型レーザで想定されるしきい値と同等にするように、出射端面112側の窓領域114の一部をへきかいしてへきかい面117を形成する等の加工を、半導体発光素子100に施すしきい値調整工程と、しきい値調整工程で加工された半導体発光素子200に試験電流を流し、レーザ発振させて半導体発光素子の信頼性を評価する発振評価工程とを備える構成を有している。
【選択図】 図1

Description

本発明は、外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法に関し、特に窓領域を有する半導体発光素子(以下、窓構造型半導体発光素子という。)と、光導波路の少なくとも1つの端面が素子端面に対して斜めに交差する構造を有する斜め交差構造半導体発光素子等を外部共振器型レーザ用の半導体発光素子として用いる外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法に関する。
従来、外部共振器型レーザ用の半導体発光素子として、出力特性の波長依存性の平坦性の観点から窓構造型半導体発光素子が開発されてきた(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1に開示された窓構造型半導体発光素子は、図5に示すように、メサストライプ部13の長手方向の先端界面15a、15bが長手方向および基板面に直交せず、これらに直交する方向に平行とならないようになっている。
メサストライプ部13の先端界面15a、15bをこのようにすることによって、メサストライプ部13の先端界面15a、15bから出射した光が、窓構造型半導体発光素子の素子端面14a、14bで反射しても実質的にメサストライプ部13の先端界面15a、15bを介してメサストライプ部13に戻らないようになっている。これによって、窓構造型半導体発光素子の素子端面14a、14bとメサストライプ部13の先端界面15a、15bとで反射した光が共鳴することを防止することができ、広帯域にわたって波長依存性の少ない出力特性を実現できる。
かかる外部共振器型レーザ用の窓構造型半導体発光素子の信頼性試験方法としては、半導体発光素子を組み込んで外部共振器型半導体レーザを構成して行う方法(以下、第1の信頼性試験方法という。)と、外部共振器型半導体レーザを構成せずに窓構造型半導体発光素子に対して行う方法(以下、第2の信頼性試験方法という。)とが知られている。第1の信頼性試験方法は、窓構造型半導体発光素子の実際の利用態様で試験できるため、正確に信頼性を評価することができるという長所がある。
しかし、第1の信頼性試験方法で信頼性を評価する場合、システムが複雑でかつ手続きが煩雑であるため、簡易に窓構造型半導体発光素子の信頼性を評価することができないという問題がある。そのため、通常は、第2の信頼性試験方法で窓構造型半導体発光素子の信頼性が評価される。ここで、第2の信頼性試験方法で信頼性を評価する場合、窓構造型半導体発光素子に所定の駆動電流を流してレーザ発振させず発光させ、窓構造型半導体発光素子の反射率の低い出射端面から出射する光をモニタすることによって動作状態を検出する。
ここで、窓構造型半導体発光素子は、外部共振器型半導体レーザ内でレーザ発振する通常の動作では、レーザ発振中の誘導放出で、活性層に注入されたキャリヤが再結合する。したがって、外部共振器型半導体レーザ内でレーザ発振した状態では、窓構造型半導体発光素子の活性層中のキャリヤのライフタイムは短く、通常、活性層中にキャリヤが過剰に蓄積されることがない。
特開2003−17809号公報
しかし、このような従来の窓構造型半導体発光素子の第1の信頼性試験方法では、簡易に窓構造型半導体発光素子の信頼性評価を行うことができず、また、第2の信頼性試験方法では、精度良く窓構造型半導体発光素子の信頼性を評価できないという問題があった。第2の信頼性試験方法では、レーザ発振させないため誘導放出に寄与せずにライフタイムの長いキャリヤが活性層に過剰に蓄積され、活性層に蓄積されたキャリヤが素子の寿命等を1〜2桁程度低下させてしまうからである。
本発明はこのような問題を解決するためになされたもので、半導体発光素子を組み込んで外部共振器型半導体レーザを構成することなく、従来の信頼性試験方法よりも高い精度で外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性を評価することができる外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法を提供するものである。
以上の点を考慮して、請求項1に係る発明は、外部共振器型レーザに用いられる半導体発光素子の信頼性試験方法であって、前記半導体発光素子の単体での発振しきい値を、前記半導体発光素子を用いて構成した前記外部共振器型レーザで想定されるしきい値と同等にするように、前記半導体発光素子を加工するしきい値調整工程と、前記しきい値調整工程で加工された前記半導体発光素子に試験電流を流し、レーザ発振させて前記半導体発光素子の信頼性を評価する発振評価工程とを備えた構成を有している。
この構成により、しきい値調整工程で単体の半導体発光素子の発振しきい値を外部共振器型レーザで想定されるしきい値と同等にするように、半導体発光素子が加工されるため、半導体発光素子を組み込んで外部共振器型半導体レーザを構成することなく、従来の信頼性試験方法よりも高い精度で外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性を評価することが可能な外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法を実現できる。
また、請求項2に係る発明は、請求項1において、前記半導体発光素子は、少なくとも1つの素子端面に窓領域を有する窓構造型半導体発光素子であって、前記しきい値調整工程は、前記窓構造型半導体発光素子の窓領域を前記外部共振器型レーザ内で使用されるときよりも短くなる位置でへきかいする窓へきかい工程と、前記窓構造型半導体発光素子の素子端面のうちの少なくとも一方に高反射膜を形成する高反射膜形成工程とのうち、少なくともいずれか1つの工程を備えた構成を有している。
この構成により、請求項1の効果に加えて、しきい値調整工程で窓構造型半導体発光素子の窓領域の一部をへきかいまたは素子端面に高反射膜を形成することによって発振しきい値の調整を行うため、簡易に外部共振器型レーザ用の窓構造型半導体発光素子の信頼性を評価することが可能な外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法を実現できる。
また、請求項3に係る発明は、請求項1において、前記半導体発光素子は、その内部に形成された光導波路の少なくとも1つの端面が素子端面に対して斜めに交差する構造を有する斜め交差構造半導体発光素子であって、前記しきい値調整工程は、前記斜め交差構造半導体発光素子の素子端面のうちの少なくとも一方に高反射膜を形成する高反射膜形成工程からなる構成を有している。
この構成により、請求項1の効果に加えて、しきい値調整工程で斜め交差構造半導体発光素子の素子端面のうちの少なくとも一方に高反射膜を形成することによって発振しきい値の調整を行うため、簡易に外部共振器型レーザ用の斜め交差構造半導体発光素子の信頼性を確実に評価することが可能な外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法を実現できる。
本発明は、しきい値調整工程で単体の半導体発光素子の発振しきい値を外部共振器型レーザで想定されるしきい値と同等にするように、半導体発光素子が加工されるため、半導体発光素子を組み込んで外部共振器型半導体レーザを構成することなく、従来の信頼性試験方法よりも高い精度で外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性を評価することが可能な外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法を提供できる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。
(実施の形態)
図1〜図4は、本発明の実施の形態に係る外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法について説明するための図である。図1(a)には、外部共振器型レーザ用半導体発光素子としての窓構造型半導体発光素子の概略の構成を示す。図1(a)において、活性層を有するメサストライプ部111の出射端と窓構造型半導体発光素子100の出射端面112との間には窓領域114が設けられ、窓構造型半導体発光素子100の出射端面112からの反射光が反対側の反射端面113との間でレーザ共振しないようになっている。
以下、メサストライプ部111の先端界面と窓構造型半導体発光素子100の出射端面112との間の距離を、窓領域長という。窓領域長は、レーザ共振を防止する観点からその値が設定される。窓構造型半導体発光素子100の構造にもよるが、窓領域長は、通常10μm以上の長さとされ、好適には20〜40μm程度に設定される。窓領域長をこのように設定することによって、出射端面112からの反射光がメサストライプ部111に実質的に入射しないようになっている。
出射端面112上には、通常、窓構造型半導体発光素子100から出射する光が反射されないように所定の反射率以下の無反射膜115が形成されている。ただし、信頼性試験対象の窓構造型半導体発光素子は、図1(b)に示すように、窓構造型半導体発光素子100から無反射膜115を除いた構成の窓構造型半導体発光素子110でもよい。以下、特に断る場合を除き、窓構造型半導体発光素子100と記載した場合は、窓構造型半導体発光素子110を含むものとする。
本発明の実施の形態に係る外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法は、半導体発光素子の単体での発振しきい値を、半導体発光素子を用いて構成した外部共振器型レーザで想定されるしきい値と同等にするように、半導体発光素子を加工するしきい値調整工程と、しきい値調整工程で加工された半導体発光素子に試験電流を流し、レーザ発振させて半導体発光素子の信頼性を評価する発振評価工程とを有する。
窓構造型半導体発光素子100を外部共振器型レーザ用半導体発光素子とする場合、上記のしきい値調整工程は、窓構造型半導体発光素子100の窓領域116を外部共振器型レーザ内で使用されるときよりも短くなる位置でへきかいする窓へきかい工程(図1(c)参照。)と、窓構造型半導体発光素子100の素子端面のうちの少なくとも一方に高反射膜を形成する高反射膜形成工程とのうち、少なくともいずれか1つの工程を備えるように構成される。
メサストライプ部111は、通常、例えば<011>軸等の所定の結晶軸方向に長手方向が向き、窓構造型半導体発光素子100の出射端面をへきかいで形成しやすいようになっている。以下、メサストライプ部111の長手方向は<011>軸方向を向き、窓領域長は30μmに設定されているものとする。また、<011>軸に直交するへきかい面に対して窓領域長が30μm以下であればレーザ発振するようになっているものとする。
この場合、窓へきかい工程で行われるへきかいは、<011>軸に直交する(011)面が得られ、窓領域長が15μm程度に短縮されるように行われる。以下、窓へきかい工程で得られたへきかい面をへきかい端面という。上記のようにへきかい端面117を形成することによって、窓構造型半導体発光素子100内でレーザ発振させることができるようになる。
なお、上記では、へきかいして得られた窓領域の窓領域長(以下、短縮窓領域長という。)を15μm程度としたが、へきかいで得られるへきかい端面117の位置の誤差(以下、へきかい誤差という。)に応じて短縮窓領域長を決定するのでもよい。具体的には、へきかい誤差が例えば5μmのときは、短縮窓領域長を10μm〜25μmとし、窓領域を残すと共にレーザ発振を担保するようにするのでもよい。
また、図2(d)に示すように、へきかい端面117上に反射率を高める薄膜(以下、高反射膜という。)121を形成し、レーザ発振に必要な反射率以上の反射率を有する出射端面をより確実に形成するのでもよい。さらに、窓構造型半導体発光素子100が、所定の反射率の高反射膜を無反射膜115上に設けたときにレーザ発振するように構成されている場合は、図2(e)に示すように、レーザ発振を可能にする反射率の高反射膜122を無反射膜115上に形成するのでもよい。
同様に、窓構造型半導体発光素子110が、所定の反射率の高反射膜を出射端面112上に設けたときにレーザ発振するように構成されている場合は、図2(f)に示すように、レーザ発振を可能にする反射率の高反射膜123を出射端面112上に形成するのでもよい。以下、高反射膜121〜123のいずれかを形成する工程を、高反射膜形成工程という。
次に、発振評価工程について説明する。まず、上記の窓へきかい工程および高反射膜形成工程のうちのいずれかの工程がしきい値調整工程として行われ、発振可能となった窓構造型半導体発光素子(以下、被検査窓構造型半導体発光素子という。)に配線等を接続し、通電可能状態とする。次に、被検査窓構造型半導体発光素子に、試験電流を通電してレーザ発振させる。ここで、レーザ発振は、被検査窓構造型半導体発光素子からの出力光をモニタして検出する。
なお、被検査窓構造型半導体発光素子に通電する試験電流の強さは、評価する信頼性の内容に応じて変えるようにするのでもよい。具体的には、長時間にわたり通電する長期寿命試験、寿命試験の時間を短縮するために温度を上げて行う加速試験、一定電流を通電して光出力の変動を測定する定電流試験、一定の出力を維持して素子の劣化に応じて電流を増加させていく低出力試験等に応じて変えるのでもよい。
上記で説明したように、発振評価工程では、試験電流を通電して被検査窓構造型半導体発光素子をレーザ発振させて信頼性を評価するため、活性層に注入された電子およびホールはレーザ発振中の誘導放出で再結合し、レーザ発振させない場合のように活性層中に過剰に蓄積されることはない。その結果、背景技術で説明したような、窓構造型半導体発光素子の寿命を1〜2桁も縮めてしまう問題を除去できる。
上記では、外部共振器型レーザ用半導体発光素子として窓構造型半導体発光素子を例にとり説明したが、例えば図3に示すような、光導波路の少なくとも1つの端面が素子端面に対して斜めに交差する構造を有する斜め交差構造半導体発光素子についても同様に適用できる。図3(a1)および(b1)は、斜め交差構造半導体発光素子の概略の構成の一例を示す説明図である。図3(a1)に示す斜め交差構造半導体発光素子300は、素子端面312近傍で導波路311が角度θ傾斜し、導波路の端面が素子端面に対して斜めに交差する構造を有する。また、図3(b1)に示す斜め交差構造半導体発光素子500は、導波路511が素子端面512、513間を結ぶ直線から角度φ傾斜し、導波路の端面が素子端面に対して斜めに交差する構造を有する。
外部共振器型レーザ用半導体発光素子が斜め交差構造半導体発光素子の場合、上記のしきい値調整工程では、斜め交差構造半導体発光素子300の素子端面312、313のうちの少なくとも一方(図3(a2)では312)に高反射膜415を形成する。図3(b1)に示す斜め交差構造半導体発光素子500の場合も同様に、斜め交差構造半導体発光素子500の素子端面512、513のうちの少なくとも一方(図3(b2)では512)に高反射膜615を形成する。以下、この工程を高反射膜形成工程という。高反射膜形成工程で高反射膜を形成することによって発振可能となった斜め交差構造半導体発光素子(以下、被検査斜め交差構造半導体発光素子という。)400、600は、発振評価工程で上記の方法と同様に信頼性が評価される。
なお、上記では、光導波路の少なくとも1つの端面が素子端面に対して斜めに交差する構造を有する斜め交差構造半導体発光素子を例にとり説明したが、請求項2の本発明の適用は図4に示すように、導波路の端面と素子端面間に窓領域が設けられた構成の斜め交差構造半導体発光素子についても同様に適用される。図4に示す半導体発光素子は、窓領域を有するため、窓領域をへきかいして短縮することによって反射率を高くすることができる。さらに、光導波路の端面が素子端面に対して斜めになっていることによって反射率が低下しているため、素子端面にさらに高反射膜を形成してもよい。
以上説明したように、本発明の実施の形態に係る外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法は、しきい値調整工程で単体の半導体発光素子の発振しきい値を外部共振器型レーザで想定されるしきい値と同等にするように、半導体発光素子が加工されるため、半導体発光素子を組み込んで外部共振器型半導体レーザを構成することなく、従来の信頼性試験方法よりも高い精度で外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性を評価することができる。
また、しきい値調整工程で窓構造型半導体発光素子の窓領域の一部をへきかいまたは素子端面に高反射膜を形成することによって発振しきい値の調整を行うため、簡易に外部共振器型レーザ用の窓構造型半導体発光素子の信頼性を評価することができる。
さらに、しきい値調整工程で斜め交差構造半導体発光素子の素子端面のうちの少なくとも一方に高反射膜を形成することによって発振しきい値の調整を行うため、簡易に外部共振器型レーザ用の斜め交差構造半導体発光素子の信頼性を確実に評価することができる。
本発明に係る外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法は、半導体発光素子を組み込んで外部共振器型半導体レーザを構成することなく、従来の信頼性試験方法よりも高い精度で外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性を評価することができるという効果が有用な外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法等の用途にも適用できる。
本発明の信頼性試験方法の試験対象とする外部共振器型レーザ用半導体発光素子(窓構造型半導体発光素子)の断面図 図1に示す構成以外に試験対象とする窓構造型半導体発光素子の概略の構成例を示す断面図 外部共振器型レーザ用半導体発光素子としての斜め交差構造半導体発光素子の上面図 窓領域を有する斜め交差構造半導体発光素子の上面図 窓構造型半導体発光素子の概略の素子構成の一例を示す図
符号の説明
11、100、110 窓構造型半導体発光素子
12 半導体基板
13 メサストライプ部
14a、14b、312、313、512、513 素子端面
15a、15b メサストライプ部の先端界面
28 出射光
32a、32b、114、116 窓領域
33a、33b、115 無反射膜
200、210、220、230 被検査窓構造型半導体発光素子
111 メサストライプ部
112 出射端面
113 反射端面
117 へきかい面(へきかい端面)
121、122、123、415、615 高反射膜
300、500 斜め交差構造半導体発光素子
311、511 導波路
400、600 被検査斜め交差構造半導体発光素子

Claims (3)

  1. 外部共振器型レーザに用いられる半導体発光素子の信頼性試験方法であって、
    前記半導体発光素子(100)の単体での発振しきい値を、前記半導体発光素子を用いて構成した前記外部共振器型レーザで想定されるしきい値と同等にするように、前記半導体発光素子を加工するしきい値調整工程と、
    前記しきい値調整工程で加工された前記半導体発光素子(200)に試験電流を流し、レーザ発振させて前記半導体発光素子の信頼性を評価する発振評価工程とを備えたことを特徴とする外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法。
  2. 前記半導体発光素子は、少なくとも1つの素子端面に窓領域を有する窓構造型半導体発光素子であって、
    前記しきい値調整工程は、前記窓構造型半導体発光素子の窓領域を前記外部共振器型レーザ内で使用されるときよりも短くなる位置でへきかいする窓へきかい工程と、前記窓構造型半導体発光素子の素子端面のうちの少なくとも一方に高反射膜を形成する高反射膜形成工程とのうち、少なくともいずれか1つの工程を備えたことを特徴とする請求項1に記載の外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法。
  3. 前記半導体発光素子は、その内部に形成された光導波路の少なくとも1つの端面が素子端面に対して斜めに交差する構造を有する斜め交差構造半導体発光素子であって、
    前記しきい値調整工程は、前記斜め交差構造半導体発光素子の素子端面のうちの少なくとも一方に高反射膜を形成する高反射膜形成工程からなることを特徴とする請求項1に記載の外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法。
JP2005098996A 2005-03-30 2005-03-30 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法 Active JP4574413B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005098996A JP4574413B2 (ja) 2005-03-30 2005-03-30 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005098996A JP4574413B2 (ja) 2005-03-30 2005-03-30 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006278937A true JP2006278937A (ja) 2006-10-12
JP4574413B2 JP4574413B2 (ja) 2010-11-04

Family

ID=37213330

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005098996A Active JP4574413B2 (ja) 2005-03-30 2005-03-30 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4574413B2 (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07170016A (ja) * 1993-10-08 1995-07-04 Hewlett Packard Co <Hp> 同調可能な外部空洞型レーザの出力特性を最適化するための方法と装置
JP2000101146A (ja) * 1998-09-22 2000-04-07 Sumitomo Electric Ind Ltd 発光素子モジュール
JP2001223432A (ja) * 2000-02-10 2001-08-17 Fuji Photo Film Co Ltd 波長安定化レーザ
JP2003017809A (ja) * 2001-07-02 2003-01-17 Anritsu Corp 半導体発光素子及びその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07170016A (ja) * 1993-10-08 1995-07-04 Hewlett Packard Co <Hp> 同調可能な外部空洞型レーザの出力特性を最適化するための方法と装置
JP2000101146A (ja) * 1998-09-22 2000-04-07 Sumitomo Electric Ind Ltd 発光素子モジュール
JP2001223432A (ja) * 2000-02-10 2001-08-17 Fuji Photo Film Co Ltd 波長安定化レーザ
JP2003017809A (ja) * 2001-07-02 2003-01-17 Anritsu Corp 半導体発光素子及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4574413B2 (ja) 2010-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10490967B2 (en) Bidirectional long cavity semiconductor laser for improved power and efficiency
US20110013655A1 (en) Semiconductor laser device
JP2001189519A (ja) 半導体レーザ装置
JP4085970B2 (ja) 外部共振器型半導体レーザ
KR100651705B1 (ko) 반도체 레이저 장치 및 이것을 이용한 광 픽업 장치
US5438208A (en) Mirror coupled monolithic laser diode and photodetector
US20240055830A1 (en) Semiconductor laser element, testing method, and testing device
JP4574413B2 (ja) 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法
US20030147435A1 (en) Laser diode module
KR100754956B1 (ko) 반도체 레이저장치 및 레이저시스템
JP2006086184A (ja) レーザダイオード
JP2002323629A (ja) 光導波路素子および半導体レーザ装置
JP2601218B2 (ja) 面発光レーザ
JP2001274505A (ja) 半導体レーザ装置
JP5447465B2 (ja) 半導体レーザ素子の端面角度測定方法
JP2009135305A (ja) 発光素子ウェハ、発光素子チップ、バーンイン方法および発光素子チップの製造方法
US8284806B2 (en) Apparatus and method for manufacturing light source
KR100266839B1 (ko) 반도체레이저와 그 제법
JP5063300B2 (ja) レーザモジュール
JP2009021432A (ja) 半導体レーザ装置
KR100386593B1 (ko) 반도체 레이저 다이오드
JPH10209570A (ja) 光モジュール
KR100308022B1 (ko) 반도체레이저다이오드
US7585689B2 (en) Method for manufacturing semiconductor laser device and method for inspecting semiconductor laser bar
JP2006086218A (ja) リッジ型半導体レーザ素子及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090929

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100112

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100817

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100818

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4574413

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250