JP2006278937A - 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法 - Google Patents
外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法 Download PDFInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 160
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 34
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 3
- 238000012854 evaluation process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007017 scission Effects 0.000 abstract description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 28
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 5
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 5
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 5
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】 外部共振器型レーザに用いられる半導体発光素子100の信頼性試験方法であって、半導体発光素子100の単体での発振しきい値を、半導体発光素子100を用いて構成した外部共振器型レーザで想定されるしきい値と同等にするように、出射端面112側の窓領域114の一部をへきかいしてへきかい面117を形成する等の加工を、半導体発光素子100に施すしきい値調整工程と、しきい値調整工程で加工された半導体発光素子200に試験電流を流し、レーザ発振させて半導体発光素子の信頼性を評価する発振評価工程とを備える構成を有している。
【選択図】 図1
Description
(実施の形態)
図1〜図4は、本発明の実施の形態に係る外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法について説明するための図である。図1(a)には、外部共振器型レーザ用半導体発光素子としての窓構造型半導体発光素子の概略の構成を示す。図1(a)において、活性層を有するメサストライプ部111の出射端と窓構造型半導体発光素子100の出射端面112との間には窓領域114が設けられ、窓構造型半導体発光素子100の出射端面112からの反射光が反対側の反射端面113との間でレーザ共振しないようになっている。
12 半導体基板
13 メサストライプ部
14a、14b、312、313、512、513 素子端面
15a、15b メサストライプ部の先端界面
28 出射光
32a、32b、114、116 窓領域
33a、33b、115 無反射膜
200、210、220、230 被検査窓構造型半導体発光素子
111 メサストライプ部
112 出射端面
113 反射端面
117 へきかい面(へきかい端面)
121、122、123、415、615 高反射膜
300、500 斜め交差構造半導体発光素子
311、511 導波路
400、600 被検査斜め交差構造半導体発光素子
Claims (3)
- 外部共振器型レーザに用いられる半導体発光素子の信頼性試験方法であって、
前記半導体発光素子(100)の単体での発振しきい値を、前記半導体発光素子を用いて構成した前記外部共振器型レーザで想定されるしきい値と同等にするように、前記半導体発光素子を加工するしきい値調整工程と、
前記しきい値調整工程で加工された前記半導体発光素子(200)に試験電流を流し、レーザ発振させて前記半導体発光素子の信頼性を評価する発振評価工程とを備えたことを特徴とする外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法。 - 前記半導体発光素子は、少なくとも1つの素子端面に窓領域を有する窓構造型半導体発光素子であって、
前記しきい値調整工程は、前記窓構造型半導体発光素子の窓領域を前記外部共振器型レーザ内で使用されるときよりも短くなる位置でへきかいする窓へきかい工程と、前記窓構造型半導体発光素子の素子端面のうちの少なくとも一方に高反射膜を形成する高反射膜形成工程とのうち、少なくともいずれか1つの工程を備えたことを特徴とする請求項1に記載の外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法。 - 前記半導体発光素子は、その内部に形成された光導波路の少なくとも1つの端面が素子端面に対して斜めに交差する構造を有する斜め交差構造半導体発光素子であって、
前記しきい値調整工程は、前記斜め交差構造半導体発光素子の素子端面のうちの少なくとも一方に高反射膜を形成する高反射膜形成工程からなることを特徴とする請求項1に記載の外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005098996A JP4574413B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005098996A JP4574413B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006278937A true JP2006278937A (ja) | 2006-10-12 |
JP4574413B2 JP4574413B2 (ja) | 2010-11-04 |
Family
ID=37213330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005098996A Active JP4574413B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 外部共振器型レーザ用半導体発光素子の信頼性試験方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4574413B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07170016A (ja) * | 1993-10-08 | 1995-07-04 | Hewlett Packard Co <Hp> | 同調可能な外部空洞型レーザの出力特性を最適化するための方法と装置 |
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-
2005
- 2005-03-30 JP JP2005098996A patent/JP4574413B2/ja active Active
Patent Citations (4)
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JPH07170016A (ja) * | 1993-10-08 | 1995-07-04 | Hewlett Packard Co <Hp> | 同調可能な外部空洞型レーザの出力特性を最適化するための方法と装置 |
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