JP2006278760A - ガラスセラミック集合基板の製造方法及び装置 - Google Patents

ガラスセラミック集合基板の製造方法及び装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006278760A
JP2006278760A JP2005096126A JP2005096126A JP2006278760A JP 2006278760 A JP2006278760 A JP 2006278760A JP 2005096126 A JP2005096126 A JP 2005096126A JP 2005096126 A JP2005096126 A JP 2005096126A JP 2006278760 A JP2006278760 A JP 2006278760A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
snap
line
green laminate
green
forming means
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005096126A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Aida
浩幸 相田
Koki Fukumoto
弘毅 福元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP2005096126A priority Critical patent/JP2006278760A/ja
Publication of JP2006278760A publication Critical patent/JP2006278760A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)

Abstract

【課題】 ガラスセラミック集合基板10をスナップライン6,8に沿ってブレークした場合に、ブレークラインが斜めになる等の粗悪なブレークラインが形成されることを抑制できるガラスセラミック集合基板10を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 表面に複数個の基板領域4を配列形成するように導体パターンが形成されたガラスセラミックグリーンシートを準備する工程と、前記ガラスセラミックグリーンシートを複数枚積層してグリーン積層体2を準備する工程と、前記複数個の基板領域4を各別に分割するためのスナップライン6,8を、前記グリーン積層体2の表裏両面に、前記グリーン積層体2の厚み方向に対して対向するように形成する工程とを、有するガラスセラミック集合基板10の製造方法。
【選択図】 図1

Description

本発明は、表面に複数個の基板領域を配列形成するように導体パターンが形成されたガラスセラミックグリーンシートを複数枚積層したグリーン積層体に、前記複数個の基板領域を各別に分割するためのスナップライン(分割溝)を形成したガラスセラミック集合基板の製造方法と、該ガラスセラミック集合基板の製造方法を実現するのに適した装置及び該装置を用いたスナップライン形成方法とに関する。
近年では、ガラス粉末とセラミック粉末の混合物を低温焼成して得られるガラスセラミック基板を絶縁基板として用いることが注目されている。ガラスセラミックは、誘電率が低く、高周波用絶縁基板として好適であり、またガラスセラミックは800〜1000℃程度の低温で焼成することができることから、銅、銀、金等の低抵抗金属を配線層として使用できるメリットがある。
ところで、各種回路機能(導体パターン)が形成された各別のセラミック基板は寸法が小さく、生産効率や設備などの点で各別に製造することが困難である。そこで、従来から、複数個の同一回路パターンを一枚の基板上に同時に印刷した集合基板を形成した後、各回路パターンごとに分割(ブレーク)するためのスナップライン(分割溝)を形成し、このスナップラインに沿って各回路パターンごと集合基板を分割した後、焼成することにより(あるいは焼成後にスナップラインに沿って集合基板を分割することにより)、最終製品としての複数個の各別の基板を得るようにした方法が多く採用されている。
集合基板に形成されるスナップラインは、通常の取扱い時には一体となって各別に割れないが、ブレーク時には簡単かつ正確に各別に割れる必要がある。
従来、このスナップラインを得るための加工法としては、焼成前の基板の片面にカッター刃によりスナップラインを形成する方法や、焼成後の基板にレーザにより小孔を連続して形成してスナップラインを得る方法が知られている。
後者が、焼成後の硬いセラミックスにスナップラインを形成する関係で形成効率が悪いのに比較して、前者は、焼成前の軟らかいグリーン体(焼成前基板)に対してスナップラインを形成するので形成効率が良い。また、後者の方法では、溶融・飛散した不純物がスナップライン近傍のパターンに付着し、特性劣化の要因となることもあった。以上の理由から、前者がスナップライン形成方法として広く用いられている。
前者の方法においては、まず、複数の吸引孔を有する台の上に樹脂または紙などの多孔質のシートを敷き、その上にスナップライン形成対象の焼成前基板を置き、下から真空吸引することにより固定する。固定の方法としては、常温にて接着性を有するが所定の熱を加えることにより剥離する性質をもつ熱剥離シート等が用いられることもある。次に、このように固定した状態で台をX軸方向、Y軸方向に所定のライン幅からなるピッチで動かすとともに、カッター刃を焼成前基板の厚み方向に対して上下動させることにより、必要な寸法でスナップラインを形成する。
なお、前者による従来技術として、特許文献1の技術が知られている。特許文献1では、焼成前基板の片面にのみスナップラインを形成していたことから、集合基板をスナップラインに沿ってブレーク(分割)した場合に、ブレークラインが斜めになる等の粗悪なブレークラインが形成されることがあった。ブレークラインが粗悪になると、ブレーク後に、バリ、形状不良、接続パターンの欠陥などの不都合を生じる。
特開2003−45738号公報
本発明の目的は、ガラスセラミック集合基板をスナップラインに沿ってブレーク(分割)した場合に、ブレークラインが斜めになる等の粗悪なブレークラインが形成されることを抑制でき、その結果、品質改善、歩留まり向上などのメリットが得られるようなガラスセラミック集合基板を製造する方法と、該ガラスセラミック集合基板の製造に好適な装置とを、提供することである。
上記目的を達成するために、本発明によれば、
表面に複数個の基板領域を配列形成するように導体パターンが形成されたガラスセラミックグリーンシートを準備する工程と、
前記ガラスセラミックグリーンシートを複数枚積層してグリーン積層体を準備する工程と、
前記複数個の基板領域を各別に分割するためのスナップラインを、前記グリーン積層体の表裏両面に、前記グリーン積層体の厚み方向に対して対向するように形成する工程とを、有するガラスセラミック集合基板の製造方法が提供される。
好ましくは、前記グリーン積層体の表裏両面に形成するスナップラインは、表裏同時加工により形成する。
好ましくは、前記グリーン積層体の表裏両面に形成するスナップラインは、片面ずつ複数回で形成する。
好ましくは、前記グリーン積層体の表裏両面に形成するスナップラインの深さは、両側からの合計で、前記グリーン積層体の厚みTの1/3以下である。
好ましくは、前記グリーン積層体の表裏両面に形成するスナップラインの深さは、両側からの合計で、前記グリーン積層体の厚みTの1/6以上である。
本発明の第1の観点によれば、
表面に複数個の基板領域を配列形成するように導体パターンが形成されたガラスセラミックグリーンシートを複数枚積層して準備したグリーン積層体の表裏両面に、前記複数個の基板領域を各別に分割するためのスナップラインを、前記グリーン積層体の厚み方向に対して対向するように形成する装置であって、
前記グリーン積層体の両端を保持する保持手段と、
該保持手段により保持された前記グリーン積層体の表裏面と所定の距離だけ離間して配置されるとともに、グリーン積層体の表裏面に当接する位置まで上下動自在であり、該上下動方向を軸芯として周方向に少なくとも90°旋回可能であって、グリーン積層体に当接した場合にはグリーン積層体にスナップラインを形成可能な、一対の第1溝形成手段及び第2溝形成手段とを、有し、
前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段は、前記グリーン積層体の表裏面に当接する際には同期して上下動し、前記上下動方向を軸芯とした周方向に旋回する際にも同期して旋回する、ことを特徴とするスナップライン形成装置が提供される。
本発明の第2の観点によれば、
表面に複数個の基板領域を配列形成するように導体パターンが形成されたガラスセラミックグリーンシートを複数枚積層して準備したグリーン積層体の表裏両面に、前記複数個の基板領域を各別に分割するためのスナップラインを、前記グリーン積層体の厚み方向に対して対向するように形成する装置であって、
前記グリーン積層体の両端を保持し、かつ保持している前記グリーン積層体の両端を結ぶ方向を軸芯として周方向に少なくとも180°旋回可能な保持手段と、
該保持手段により保持された前記グリーン積層体の一方の面と所定の距離だけ離間して配置されるとともに、グリーン積層体の前記一方の面に当接する位置まで上下動自在であり、該上下動方向を軸芯として周方向に少なくとも90°旋回可能であって、グリーン積層体に当接した場合にはグリーン積層体の一方の面にスナップラインを形成可能な、溝形成手段とを、有することを特徴とするスナップライン形成装置が提供される。
本発明によれば、
上記第1の観点の装置を用い、
前記第1溝形成手段を、前記グリーン積層体の表面における第1のスナップライン形成予定線の上方に配置するとともに、前記第2溝形成手段を、前記第1のスナップライン形成予定線と対向する位置の前記グリーン積層体の裏面の下方に配置する第1工程と、
前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段を、同期させつつ、前記グリーン積層体の表裏面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第1のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の表裏面の前記第1スナップライン形成予定線に第1スナップラインを形成する第2工程と、
前記第1スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第1スナップラインを形成する第3工程と、
前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段を、前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段の上下動方向を軸芯とする周方向に90°旋回させる第4工程と、
前記第1溝形成手段を、前記グリーン積層体の表面における第1のスナップライン形成予定線と直交する第2のスナップライン形成予定線の上方に配置するとともに、前記第2溝形成手段を、前記グリーン積層体の裏面における第1のスナップライン形成予定線と直交する第2のスナップライン形成予定線と対向する位置の下方に配置する第5工程と、
前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段を、同期させつつ、前記グリーン積層体の表裏面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第2のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の表裏面の前記第2のスナップライン形成予定線に第2スナップラインを形成する第6工程と、
前記第2スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第2スナップラインを形成する第7工程とを、有することを特徴とするスナップライン形成方法が提供される。
本発明によれば、
上記第2の観点の装置を用い、
前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の一方の面における第1のスナップライン形成予定線の上方に配置する第1工程と、
前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の一方の面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第1のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の一方の面の前記第1スナップライン形成予定線に第1スナップラインを形成する第2工程と、
前記第1スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第1スナップラインを形成する第3工程と、
前記溝形成手段を、前記溝形成手段の上下動方向を軸芯とする周方向に90°旋回させる第4工程と、
前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の一方の面における第1のスナップライン形成予定線と直交する第2のスナップライン形成予定線の上方に配置する第5工程と、
前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の一方の面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第2のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の一方の面の前記第2のスナップライン形成予定線に第2スナップラインを形成する第6工程と、
前記第2スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第2スナップラインを形成する第7工程と、
前記グリーン積層体の両端を保持している保持手段を、前記グリーン積層体の両端を結ぶ方向を軸芯とする周方向に180°旋回させ、前記グリーン積層体の他方の面を前記溝形成手段に対向させる第8工程と、
前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の他方の面における第1のスナップライン形成予定線の上方に配置する第9工程と、
前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の他方の面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第1のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の他方の面の前記第1スナップライン形成予定線に第1スナップラインを形成する第10工程と、
前記第1スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第1スナップラインを形成する第11工程と、
前記溝形成手段を、前記溝形成手段の上下動方向を軸芯とする周方向に90°旋回させる第12工程と、
前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の他方の面における第1のスナップライン形成予定線と直交する第2のスナップライン形成予定線の上方に配置する第13工程と、
前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の他方の面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第2のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の他方の面の前記第2のスナップライン形成予定線に第2スナップラインを形成する第14工程と、
前記第2スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第2スナップラインを形成する第15工程とを、有することを特徴とするスナップライン形成方法が提供される。
本発明に係るガラスセラミック集合基板の製造装置を用いた方法によると、複数個の基板領域を各別に分割するためのスナップラインを、グリーン積層体の表裏両面に、前記グリーン積層体の厚み方向に対して対向するように形成するので、製造されたガラスセラミック集合基板をスナップラインに沿ってブレークした場合に、ブレークラインが斜めになる等の粗悪なブレークラインが形成されることを抑制でき、その結果、品質改善、歩留まり向上などメリットが得られる。
本発明技術は、例えば、携帯電話や高周波通信等に最適なバンドパスフィルタやアンテナスイッチモジュール、フロントエンドモジュールなどを製造する場合に好適に用いることができる。バンドパスフィルタ(Band-Pass Filter)とは、ある周波数範囲の周波数の信号だけを通過させ、それ以外の周波数の信号を減衰させるフィルタのことである。
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。図1は本発明の一実施形態に係るガラスセラミック集合基板の断面斜視図、図2は図1のガラスセラミック集合基板の平面図、図3は第1の観点に係るスナップライン形成装置の概要を説明する図、図4〜9は図3のスナップライン形成装置を用いた工程の一部を説明する図、図10は第2の観点に係るスナップライン形成装置の概要を説明する図、図11は図5のスナップライン形成装置を用いた工程の一部を説明する図である。
図1及び図2に示すように、本発明のガラスセラミック集合基板10は、表面に複数個の基板領域4を配列形成するように導体パターン(図示省略)が形成されたガラスセラミックグリーンシートを複数枚積層して得られたグリーン積層体2と、前記グリーン積層体2の表面に形成された複数個の各基板領域4の境界に、これら複数個の基板領域4を各別に分割するためのスナップライン(分割溝)6,8が、前記グリーン積層体2の表裏両面に、前記グリーン積層体2の厚み方向に対して対向するように形成されている。
本発明のガラスセラミック集合基板10は、以下のようにして製造される。
(1)まず、表面に複数個の基板領域4を配列形成するように導体パターン(図示省略)が形成されたガラスセラミックグリーンシートを準備する。
本発明では、ガラスセラミックグリーンシートとして、ガラス粉末、セラミック粉末、さらに有機バインダ、可塑剤、有機溶剤等を混合したものを用いることができる。
ガラス粉末としては、特に限定されないが、例えば、SiO−B系、SiO−B−Al系、SiO−B−Al−MO系、SiO−Al−M1O−M2O系、SiO−B−Al−M1O−M2O系、SiO−B−M3O系、SiO−B−Al−M3O系、Pb系ガラス、Bi系ガラス等が挙げられる。但し、記号MはCa、Sr、Mg、BaまたはZnを示し、記号M1及び記号M2はCa、Sr、Mg、BaまたはZnを示し、記号M3はLi、NaまたはKを示す。
セラミック粉末としては、特に限定されないが、例えば、Al、SiO、ZrOとアルカリ土類金属酸化物との複合酸化物、TiOとアルカリ土類金属酸化物との複合酸化物、Al及びSiOから選ばれる少なくとも1種を含む複合酸化物(例えばスピネル、ムライト、コージェライト)等が挙げられる。
ガラス粉末とセラミック粉末の混合割合は、特に限定されず、重量比で、例えば40:60〜99:1とすることができる。
有機バインダとしては、特に限定されず、例えばアクリル系(アクリル酸、メタクリル酸またはそれらのエステルの単独重合体または共重合体、具体的にはアクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸エステル共重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体等)、ポリビニルブチラ−ル系、ポリビニルアルコール系、アクリル−スチレン系、ポリプロピレンカーボネート系、セルロース系等の単独重合体または共重合体が挙げられる。
本発明で用いるガラスセラミックグリーンシートは、ガラス粉末、セラミック粉末、有機バインダに対して、必要に応じて、所定量の可塑剤、溶剤(有機溶剤、水等)を加えてスラリーを得、これをドクターブレード、圧延、カレンダーロール、金型プレス等により、例えば10〜250μm程度の所定厚みに成形することにより得ることができる。
ガラスセラミックグリーンシート表面に導体パターンを形成するには、ガラスセラミックグリーンシート表面に、例えば導体材料粉末をペースト化した導体ペーストをスクリーン印刷法やグラビア印刷法等により印刷するか、あるいは所定パターン形状の金属箔を転写する等の方法が挙げられる。導体材料としては、例えばAu、Ag、Cu、Pd、Pt等の1種または2種以上が挙げられ、2種以上の場合は混合、合金、コーティング等のいずれの形態であってもよい。
なお、表面の導体パターンには、上下の層間の導体パターン同士を接続するためのビア導体やスルーホール導体等の貫通導体が表面に露出した部分も含まれる。これら貫通導体は、パンチング加工等によりガラスセラミックグリーンシートに形成した貫通孔に、導体材料粉末をペースト化した導体ペーストを印刷により埋め込む等の手段によって形成される。
(2)次に、準備した前記ガラスセラミックグリーンシートを複数枚を積層してグリーン積層体2を準備する。
ガラスセラミックグリーンシートの積層には、積み重ねたグリーンシートに熱と圧力を加えて熱圧着する方法、有機バインダ、可塑剤、溶剤等からなる接着剤をシート間に塗布して熱圧着する方法等が採用可能である。
ガラスセラミックグリーンシートの積層数は、特に限定されず、例えば7〜25層程度とされる。
熱圧着後のグリーン積層体2の厚みTは、特に限定されないが、例えば400〜1200μm程度とされる。
(3)次に、グリーン積層体2の表面に形成された複数個の各基板領域4の境界に、これら複数個の基板領域4を各別に分割するためのスナップライン(分割溝)6,8を、前記グリーン積層体の表裏両面に、格子状に、前記グリーン積層体の厚み方向に対して対向するように形成してガラスセラミック集合基板10を得る。すなわち、グリーン積層体2の表裏両面に格子状に形成するスナップライン6,8の位置を合わせるように形成する。
スナップライン6,8は、カッター刃等の溝形成手段と各基板領域4との位置合わせを行なってから形成される。この位置合わせは、導体パターン形成時に同時に形成されるアライメントマーク(分割位置を示す印)に合わせることにより行われる。
スナップライン6,8の形成は、本発明では、グリーン積層体2の表裏両面に、カッター刃等の溝形成手段を用いて、格子状その他の所望パターンで形成する方法が採用される。
図1に示すように、スナップライン6,8の深さは、表裏両面からの合計(D1+D2)で、前記グリーン積層体の厚みTの1/3以下であることが好ましく、より好ましくは1/4以下となるように形成する。スナップライン6,8の深さが深すぎると、焼成時に割れてしまう不都合を生じる。その一方で、スナップライン6,8の深さが浅すぎると、焼成後に各別に分割することが困難になるので、その下限は、両側からの合計(D1+D2)で、グリーン積層体の厚みTの好ましくは1/6以上、より好ましくは1/5以上となるように形成することが望ましい。
なお、スナップライン6,8の深さは、好ましくは、D1=D2である。
図2に示すように、スナップライン6,8の幅Wは、特に限定されないが、焼成後に確実に分割可能となり、分割後にバリやクラックが発生せず寸法精度に影響を与えないような範囲の大きさに設定される。
以下に示す説明では、グリーン積層体2の表面に形成された複数個の基板領域4の境界に、焼成後に、該基板領域4を各別に分割するための、X方向(図3,4,10,11の紙面方向)のスナップライン6及びX方向に直交するY方向のスナップライン8を、グリーン積層体2の表裏両面に格子状に形成することができるスナップライン形成装置を例示する。
図3に示すように、第1の観点に係るスナップライン形成装置100は、両面同時加工により表裏面にスナップラインを形成可能な装置の一例を示している。
この装置100は、グリーン積層体2の両端を保持する保持装置102と、該保持装置102に保持されたグリーン積層体2を載置する載置部材104を有する。
載置部材104は、本実施形態では、第1ロール106a,106bに巻かれた長尺のプラスチック製シート(例えばPETフィルムやPTFEシートなど)104a,104bで構成してある。
シート104aは、第1ロール106aにロール状に巻かれており、その先端部は、第1ロール106aの回転と同期してY方向(=シート104aの流れ方向)に移動可能な第2ロール108a、及びその下流側に位置する第3ロール110aを経由して延びている。
シート104bは、第1ロール106bにロール状に巻かれており、その先端部は、第1ロール106bの回転と同期してY方向に移動可能な第2ロール108b、及びその下流側に位置する第3ロール110bを経由して延びている。
シート104aが第1ロール106aに巻き取られる場合(図3での波線矢印)では、シート104bが第1ロール106bから送り出され、第2ロール108a,108bは、いずれも図3に向かって左方向(波線矢印方向)に移動する。これに対し、シート104aが第1ロール106aから送り出される場合(図3での実線矢印)では、シート104bが第1ロール106bに巻き取られ、第2ロール108a,108bは、いずれも図3に向かって右方向(実線矢印方向)に移動する。シート104a,104b及び第2ロール108a,108bの動きについては、図5及び図6も併せて参照されたい。
シート104a,104bは、該保持装置102に保持されたグリーン積層体2のそれぞれ一部を載置するように配置される。
グリーン積層体2にスナップライン6,8(図1〜2参照)を形成する第1及び第2溝形成手段としてのカッター刃(例えば、超鋼製ブレード、厚み0.2〜0.3mm)112a,112bは、その先端がZ方向に向いており、その基端は保持装置102に保持されたグリーン積層体2の上方、及びシート104aとシート104bの下方において、カッターヘッド114a,114bに支持されている。カッターヘッド114a,114bは取り付けボルト116a,116bを介して支持部材118a,118bに固定されている。
カッターヘッド114a,114bを支持する支持部材118a,118bは、図4に示すように、Z方向を軸芯とする周方向に90°旋回可能とされている。
図3に示すように、支持部材118a,118bはこれを平面上のX方向に移動させるX方向駆動装置(図示省略)、該X方向に直交するY方向に移動させるY方向駆動装置(図示省略)、及び鉛直のZ方向に移動させるZ方向駆動装置(図示省略)に支持されている。
なお、保持装置102に保持されたグリーン積層体2を挟んでその上下面には、図示省略してあるスナップライン認識撮像装置(CCDカメラ)が配置されており、スナップラインの形成位置を監視可能となっている。該撮像装置は制御部(図示省略)に接続されており、撮像装置からの映像は制御部に入力される。
まず、図3に示すように、保持装置102にグリーン積層体2を保持させた後、積層体2がシート104a,104b上に載置されるように、保持装置102を移動する。
次に、積層体2の表面における第1のスナップライン形成予定線がX方向(図3の紙面方向)に対して平行に配置されると共に、この形成予定線の上方にカッター112aが配置されるように、カッター刃112aを移動させる。これとともに、積層体2の裏面における第1のスナップライン形成予定線がX方向に対して平行に配置されると共に、この形成予定線の下方にカッター刃112bが配置されるように、カッター刃112bを移動させる(第1工程)。
次に、図3及び図7〜9に示すように、カッター刃112a,112bが積層体2の表裏面に当接する位置までカッターヘッド114a,114bを降下、上昇させると共に、カッターヘッド114a,114bを支持する支持部材118a,118bをX方向に水平移動させることにより、積層体2の表裏面におけるスナップライン形成予定線にスナップライン6を形成する(第2工程)。このようなスナップライン6の形成を所定ピッチで複数回行い、X方向に平行な複数のスナップライン6を形成する(第3工程)。
次に、図4に示すように、カッターヘッド114a,114bを支持する支持部材118a,118bを、Z方向を軸芯とする周方向に90°旋回させる(第4工程)。
次に、積層体2の表面における第2のスナップライン形成予定線がX方向に対して直交するY方向に対して平行に配置されると共に、この形成予定線の上方にカッター刃112aが配置されるように、カッター刃112aを移動させる。これとともに、積層体2の裏面における第2のスナップライン形成予定線がY方向に対して平行に配置されると共に、この形成予定線8aの下方にカッター刃112bが配置されるように、カッター刃112bを移動させる(第5工程)。
次に、カッター刃112a,112bが積層体2の表裏面に当接する位置までカッターヘッド114a,114bを降下、上昇させると共に、カッターヘッド114a,114bを支持する支持部材118a,118bをY方向に水平移動させることにより、積層体2の表裏面における第2のスナップライン形成予定線にスナップライン8を形成する(第6工程)。このようなスナップライン8の形成を所定ピッチで複数回行い、Y方向に平行な複数のスナップライン8を形成する(第7工程)。
図10に示すように、第2の観点に係るスナップライン形成装置100’は、片面加工を2回行うことにより表裏面にスナップラインを形成可能な装置の一例を示している。
この装置100’は、グリーン積層体2の両端を保持する保持装置102aと、該保持装置102aに保持されたグリーン積層体2を載置する載置部材104cを有する。本実施形態で用いる保持装置102aは、図11に示すように、Y方向を軸芯とする周方向に180°旋回可能とされている。
図10に示すように、載置部材104cは、本実施形態では、多孔質金属やセラミックなどの吸着ステージで構成される。吸着ステージは、熱剥離シートで構成しても良いし、あるいは複数の吸引孔を有する台の上に樹脂または紙などの多孔質のシートを敷き、その上にグリーン積層体2を載置し、下方から真空吸引することにより固定することとしてもよい。
グリーン積層体2にスナップライン6,8(図1〜2参照)を形成する溝形成手段としてのカッター刃112a(例えば、超鋼製ブレード、厚み0.2〜0.3mm)は、その先端がZ方向に向いており、その基端は載置部材104cの上方においてカッターヘッド114aに支持されている。カッターヘッド114aは取り付けボルト116aを介して支持部材118aに固定されている。
カッターヘッド114aを支持する支持部材118aは、図11に示すように、Z方向を軸芯とする周方向に90°旋回可能とされている。
図10に示すように、支持部材118aはこれを平面上のX方向に移動させるX方向駆動装置(図示省略)、該X方向に直交するY方向に移動させるY方向駆動装置(図示省略)、及び鉛直のZ方向に移動させるZ方向駆動装置(図示省略)に支持されている。
なお、保持装置102aに保持されたグリーン積層体2を挟んでその上下面には、スナップライン認識撮像装置(CCDカメラ)120a,120bが配置されており、スナップラインの形成位置を監視可能となっている。該撮像装置120a,120bは制御部(図示省略)に接続されており、撮像装置120a,120bからの映像は制御部に入力される。
まず、図10に示すように、保持装置102aにグリーン積層体2を保持させた後、積層体2が載置部材104c上に載置されるように、保持装置102aを移動する。
次に、積層体2の表面における第1のスナップライン形成予定線がX方向(図10の紙面方向)に対して平行に配置されると共に、この形成予定線の上方にカッター112aが配置されるように、カッター刃112aを移動させる(第1工程)。
次に、カッター刃112aが積層体2の表面に当接する位置までカッターヘッド114aを降下させると共に、カッターヘッド114aを支持する支持部材118aをX方向に水平移動させることにより、積層体2の表面におけるスナップライン形成予定線にスナップライン6を形成する(第2工程)。このようなスナップライン6の形成を所定ピッチで複数回行い、X方向に平行な複数のスナップライン6を形成する(第3工程)。
次に、図11に示すように、カッターヘッド114aを支持する支持部材118aを、Z方向を軸芯とする周方向に90°旋回させる(第4工程)。
次に、積層体2の表面における第2のスナップライン形成予定線がX方向に対して直交するY方向に対して平行に配置されると共に、この形成予定線の上方にカッター刃112aが配置されるように、カッター刃112aを移動させる(第5工程)。
次に、カッター刃112aが積層体2の表面に当接する位置までカッターヘッド114aを降下させると共に、カッターヘッド114aを支持する支持部材118aをY方向に水平移動させることにより、積層体2の表面におけるスナップライン形成予定線にスナップライン8を形成する(第6工程)。このようなスナップライン8の形成を所定ピッチで複数回行い、Y方向に平行な複数のスナップライン8を形成する(第7工程)。
次に、図11に示すように、カッター刃112aを積層体2に対して相対的に離間させた後、保持装置102aをY方向を中心として180°旋回させ、積層体2の裏面をカッター刃112aと対向する位置に向ける(第8工程)。
そして、上記と同様の操作により、積層体2の裏面に、スナップライン6,8を形成する(第9〜15工程)。
以上のようにして、スナップライン6,8を持つガラスセラミック集合基板10が製造される。
本実施形態では、複数個の基板領域4を各別に分割するためのスナップライン6,8を、グリーン積層体2の表裏両面に、前記グリーン積層体2の厚み方向に対して対向するように形成するので、製造されたガラスセラミック集合基板10をスナップライン6,8に沿ってブレークした場合に、ブレークラインが斜めになる等の粗悪なブレークラインが形成されることを抑制できる。その結果、品質改善、歩留まり向上などのメリットが得られる。
本実施形態では、次に、製造されたガラスセラミック集合基板10のスナップライン6,8に沿って分割処理を行なう。
例えば、まず、Y方向のスナップライン8に沿って、手またはブレイクローラ等の機械等で集合基板10を1次分割する。これにより、集合基板10は複数の短冊状態の基板となる。この各短冊状態の基板には、X方向のスナップライン6が残存することになる。次に、X方向のスナップライン6に沿って、短冊状態の基板を個々の回路基板に二次分割処理する。このようにして、2段階の分割処理により、集合基板10より、各基板領域毎に分割された各別のガラスセラミック基板20が得られる。
本実施形態では、次に、この分割された各別のガラスセラミック基板20は、焼成炉に導入され、例えば空気中で800〜850℃、90〜120分の保持条件で焼成される。なお、導体ペーストがNi、Cuの場合は還元または中性雰囲気で焼成する。これにより、未焼成状態の基板は、各回路基板領域に区画された焼成されたセラミック基板となる。そして、各回路基板領域には、必要に応じて半導体素子、厚膜抵抗素子、各種電子部品等を半田などで接合・実装を行う。
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々に改変することができる。
例えば、上述した実施形態では、焼成前に、ガラスセラミック集合基板10のスナップライン6,8に沿って分割処理を行っているが、これに限定されるものではなく、焼成後に、集合基板10を分割することとしても良い。
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
実施例1
ガラス粉末とセラミック粉末の混合物(アルミナ・ガラス系酸化物)と、有機バインダとからなるガラスセラミックグリーンシート(厚さ50μm)を形成し、これの表面に複数個の基板領域4を配列形成するように導体パターンを、銀等の貴金属からなる電極ペーストにて形成した。
次に、導体パターンを持つガラスセラミックグリーンシートを、20層積層、圧着して、厚さ1.0mmのグリーン積層体を作製した。
次に、図3及び図4の装置を用いて、得られたグリーン積層体の表面に形成された導体パターンの境界に、スナップラインを、前記グリーン積層体の表裏両面に、格子状に、前記グリーン積層体の厚み方向に対して対向するように形成した(集合基板の作製)。
グリーン積層体の表面に形成されたスナップライン6の深さD1は125μm、グリーン積層体の裏面に形成されたスナップライン8の深さD2は125μmであった。すなわち、スナップライン6,8の深さは、グリーン積層体の表裏両面からの合計(D1+D2)で、前記グリーン積層体の厚みTの1/6以上1/3以下であることが確認できた。
次に、製造されたガラスセラミック集合基板10のスナップライン6,8に沿って分割処理を行なった。その結果、ブレークラインが斜めになる等の粗悪なブレークラインは認められなかった。
比較例1
実施例1と同様にして作製したグリーン積層体の表面にのみ、実施例1の(D1+D2)に相当する深さのスナップラインを形成した(集合基板の作製)。
次に、製造された集合基板の表面にのみ形成されたスナップラインに沿って分割処理を行なったところ、ブレークラインが斜めになり、粗悪なブレークラインとなることが確認された。
図1は本発明の一実施形態に係るガラスセラミック集合基板の断面斜視図である。 図2は図1のガラスセラミック集合基板の平面図である。 図3は第1の観点に係るスナップライン形成装置の概要を説明する図である。 図4は図3のスナップライン形成装置を用いた工程の一部を説明する図である。 図5は図3のスナップライン形成装置を用いた工程の一部を説明する図である。 図6は図3のスナップライン形成装置を用いた工程の一部を説明する図である。 図7は図3のスナップライン形成装置を用いた工程の一部を説明する図である。 図8は図3のスナップライン形成装置を用いた工程の一部を説明する図である。 図9は図3のスナップライン形成装置を用いた工程の一部を説明する図である。 図10は第2の観点に係るスナップライン形成装置の概要を説明する図である。 図11は図5のスナップライン形成装置を用いた工程の一部を説明する図である。
符号の説明
2…グリーンシート積層体
4…基板領域
6,8…スナップライン(分割溝)
10…ガラスセラミック集合基板
20…ガラスセラミック基板
100,100’…スナップライン形成装置
102,102a…保持装置
104,104c…載置部材
104a,104b…プラスチック製シート
106a,106b…第1ロール
108a,108b…第2ロール
110a,110b…第3ロール
112a,112b…カッター刃
114a,114b…カッターヘッド
116a,116b…取り付けボルト
118a,118b…支持部材
120a,120b…スナップライン認識撮像装置

Claims (9)

  1. 表面に複数個の基板領域を配列形成するように導体パターンが形成されたガラスセラミックグリーンシートを準備する工程と、
    前記ガラスセラミックグリーンシートを複数枚積層してグリーン積層体を準備する工程と、
    前記複数個の基板領域を各別に分割するためのスナップラインを、前記グリーン積層体の表裏両面に、前記グリーン積層体の厚み方向に対して対向するように形成する工程とを、有するガラスセラミック集合基板の製造方法。
  2. 前記グリーン積層体の表裏両面に形成するスナップラインは、表裏同時加工により形成する、請求項1に記載のガラスセラミック集合基板の製造方法。
  3. 前記グリーン積層体の表裏両面に形成するスナップラインは、片面ずつ複数回で形成する、請求項1に記載のガラスセラミック集合基板の製造方法。
  4. 前記グリーン積層体の表裏両面に形成するスナップラインの深さは、両側からの合計で、前記グリーン積層体の厚みTの1/3以下である、請求項1に記載のガラスセラミック集合基板の製造方法。
  5. 前記グリーン積層体の表裏両面に形成するスナップラインの深さは、両側からの合計で、前記グリーン積層体の厚みTの1/6以上である、請求項4に記載のガラスセラミック集合基板の製造方法。
  6. 表面に複数個の基板領域を配列形成するように導体パターンが形成されたガラスセラミックグリーンシートを複数枚積層して準備したグリーン積層体の表裏両面に、前記複数個の基板領域を各別に分割するためのスナップラインを、前記グリーン積層体の厚み方向に対して対向するように形成する装置であって、
    前記グリーン積層体の両端を保持する保持手段と、
    該保持手段により保持された前記グリーン積層体の表裏面と所定の距離だけ離間して配置されるとともに、グリーン積層体の表裏面に当接する位置まで上下動自在であり、該上下動方向を軸芯として周方向に少なくとも90°旋回可能であって、グリーン積層体に当接した場合にはグリーン積層体にスナップラインを形成可能な、一対の第1溝形成手段及び第2溝形成手段とを、有し、
    前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段は、前記グリーン積層体の表裏面に当接する際には同期して上下動し、前記上下動方向を軸芯とした周方向に旋回する際にも同期して旋回する、ことを特徴とするスナップライン形成装置。
  7. 表面に複数個の基板領域を配列形成するように導体パターンが形成されたガラスセラミックグリーンシートを複数枚積層して準備したグリーン積層体の表裏両面に、前記複数個の基板領域を各別に分割するためのスナップラインを、前記グリーン積層体の厚み方向に対して対向するように形成する装置であって、
    前記グリーン積層体の両端を保持し、かつ保持している前記グリーン積層体の両端を結ぶ方向を軸芯として周方向に少なくとも180°旋回可能な保持手段と、
    該保持手段により保持された前記グリーン積層体の一方の面と所定の距離だけ離間して配置されるとともに、グリーン積層体の前記一方の面に当接する位置まで上下動自在であり、該上下動方向を軸芯として周方向に少なくとも90°旋回可能であって、グリーン積層体に当接した場合にはグリーン積層体の一方の面にスナップラインを形成可能な、溝形成手段とを、有することを特徴とするスナップライン形成装置。
  8. 請求項6の装置を用い、
    前記第1溝形成手段を、前記グリーン積層体の表面における第1のスナップライン形成予定線の上方に配置するとともに、前記第2溝形成手段を、前記第1のスナップライン形成予定線と対向する位置の前記グリーン積層体の裏面の下方に配置する第1工程と、
    前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段を、同期させつつ、前記グリーン積層体の表裏面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第1のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の表裏面の前記第1スナップライン形成予定線に第1スナップラインを形成する第2工程と、
    前記第1スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第1スナップラインを形成する第3工程と、
    前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段を、前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段の上下動方向を軸芯とする周方向に90°旋回させる第4工程と、
    前記第1溝形成手段を、前記グリーン積層体の表面における第1のスナップライン形成予定線と直交する第2のスナップライン形成予定線の上方に配置するとともに、前記第2溝形成手段を、前記グリーン積層体の裏面における第1のスナップライン形成予定線と直交する第2のスナップライン形成予定線と対向する位置の下方に配置する第5工程と、
    前記第1溝形成手段及び前記第2溝形成手段を、同期させつつ、前記グリーン積層体の表裏面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第2のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の表裏面の前記第2のスナップライン形成予定線に第2スナップラインを形成する第6工程と、
    前記第2スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第2スナップラインを形成する第7工程とを、有することを特徴とするスナップライン形成方法。
  9. 請求項7の装置を用い、
    前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の一方の面における第1のスナップライン形成予定線の上方に配置する第1工程と、
    前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の一方の面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第1のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の一方の面の前記第1スナップライン形成予定線に第1スナップラインを形成する第2工程と、
    前記第1スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第1スナップラインを形成する第3工程と、
    前記溝形成手段を、前記溝形成手段の上下動方向を軸芯とする周方向に90°旋回させる第4工程と、
    前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の一方の面における第1のスナップライン形成予定線と直交する第2のスナップライン形成予定線の上方に配置する第5工程と、
    前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の一方の面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第2のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の一方の面の前記第2のスナップライン形成予定線に第2スナップラインを形成する第6工程と、
    前記第2スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第2スナップラインを形成する第7工程と、
    前記グリーン積層体の両端を保持している保持手段を、前記グリーン積層体の両端を結ぶ方向を軸芯とする周方向に180°旋回させ、前記グリーン積層体の他方の面を前記溝形成手段に対向させる第8工程と、
    前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の他方の面における第1のスナップライン形成予定線の上方に配置する第9工程と、
    前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の他方の面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第1のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の他方の面の前記第1スナップライン形成予定線に第1スナップラインを形成する第10工程と、
    前記第1スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第1スナップラインを形成する第11工程と、
    前記溝形成手段を、前記溝形成手段の上下動方向を軸芯とする周方向に90°旋回させる第12工程と、
    前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の他方の面における第1のスナップライン形成予定線と直交する第2のスナップライン形成予定線の上方に配置する第13工程と、
    前記溝形成手段を、前記グリーン積層体の他方の面に当接する位置まで上下動させるとともに、前記第2のスナップライン形成予定線に沿って水平移動させて、グリーン積層体の他方の面の前記第2のスナップライン形成予定線に第2スナップラインを形成する第14工程と、
    前記第2スナップラインの形成を所定ピッチで複数回行い、複数の第2スナップラインを形成する第15工程とを、有することを特徴とするスナップライン形成方法。
JP2005096126A 2005-03-29 2005-03-29 ガラスセラミック集合基板の製造方法及び装置 Pending JP2006278760A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005096126A JP2006278760A (ja) 2005-03-29 2005-03-29 ガラスセラミック集合基板の製造方法及び装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005096126A JP2006278760A (ja) 2005-03-29 2005-03-29 ガラスセラミック集合基板の製造方法及び装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006278760A true JP2006278760A (ja) 2006-10-12

Family

ID=37213197

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005096126A Pending JP2006278760A (ja) 2005-03-29 2005-03-29 ガラスセラミック集合基板の製造方法及び装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006278760A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010087348A (ja) * 2008-10-01 2010-04-15 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0818235A (ja) * 1994-06-29 1996-01-19 Kyocera Corp 積層セラミック回路基板の製造方法
JPH10107437A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Kyocera Corp 回路基板の製造方法
JP2000277916A (ja) * 1999-03-29 2000-10-06 Kyocera Corp 基板および分割基板
JP2001158013A (ja) * 1999-12-02 2001-06-12 Sumitomo Metal Electronics Devices Inc セラミック基板の製造方法および製造装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0818235A (ja) * 1994-06-29 1996-01-19 Kyocera Corp 積層セラミック回路基板の製造方法
JPH10107437A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Kyocera Corp 回路基板の製造方法
JP2000277916A (ja) * 1999-03-29 2000-10-06 Kyocera Corp 基板および分割基板
JP2001158013A (ja) * 1999-12-02 2001-06-12 Sumitomo Metal Electronics Devices Inc セラミック基板の製造方法および製造装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010087348A (ja) * 2008-10-01 2010-04-15 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7833370B2 (en) Method for manufacturing a ceramic multi-layered substrate
TW562737B (en) Method of manufacturing ceramic multi-layer substrate, and unbaked composite laminated body
JPWO2006040941A1 (ja) 積層セラミック部品とその製造方法
JP2006278761A (ja) グリーン基板の製造方法、セラミック基板の切断方法およびチップ状電子部品の製造方法
WO2009119198A1 (ja) セラミック基板の製造方法
JP2006278760A (ja) ガラスセラミック集合基板の製造方法及び装置
JP4110536B2 (ja) 多層セラミック集合基板および多層セラミック集合基板の製造方法
JP2007258264A (ja) 集合基板および個別基板の製造方法
JP4789443B2 (ja) 複合シートの製造方法、積層体の製造方法および積層部品の製造方法
JP4595199B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP4317856B2 (ja) 個別基板の製造方法
JP4645962B2 (ja) 多層セラミック基板
JP2005259964A (ja) セラミック積層体の製造方法
JP2009114009A (ja) 積層セラミックス基板の製造方法
JP2004146701A (ja) ガラスセラミック基板の製造方法
JP4550243B2 (ja) ガラスセラミック基板の製造方法
JP2004186344A (ja) セラミック積層体及びその製法
JP2001308527A (ja) ガラスセラミック基板の製造方法
JPH0964230A (ja) セラミック基板の製造方法
JP2008258465A (ja) セラミック多層基板の製造方法およびセラミックグリーン積層体
JP4108692B2 (ja) 複合電子部品およびその製造方法
JP2002160978A (ja) ガラスセラミック基板の製造方法
JP4132026B2 (ja) 大型セラミック基板
JP2001284479A (ja) ガラスセラミック基板の製造方法
JP2003133665A (ja) ガラスセラミック基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071212

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100713

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101109