JP2006245371A - 薄膜トランジスタおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板1上に、少なくともゲート電極3、絶縁層4、半導体7の順に積層され、半導体層7の上または下に水平方向に離間したソース電極5・ドレイン電極6を有する薄膜トランジスタにおいて、トランジスタの実効チャネル幅を大きくし、小さな画素内に形成される薄膜トランジスタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極3および絶縁層4の上面が、ソース電極5とドレイン電極6を結ぶ方向に平行な四角柱状の凸部または凹部を有することを特徴とする薄膜トランジスタ。
【選択図】図1
【解決手段】ゲート電極3および絶縁層4の上面が、ソース電極5とドレイン電極6を結ぶ方向に平行な四角柱状の凸部または凹部を有することを特徴とする薄膜トランジスタ。
【選択図】図1
Description
本発明は、有機半導体または酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタおよびその製造方法に関する。
半導体自体を基板としたトランジスタや集積回路技術を基礎として、ガラス基板上にアモルファスSiやポリSiの薄膜トランジスタ(TFT)が製造され、液晶ディスプレイや電子ペーパーに応用されている。成膜温度を400〜500℃程度に低減できたことにより、石英よりも安価なガラスが使用できる。
近年、有機半導体や酸化物半導体を用いたTFTが登場し、成膜温度を室温〜200℃程度に低減できることから、プラスチック基板を用いることが可能になり、軽量かつフレキシブルなディスプレイが期待されている。また、フォトリソを用いず、印刷やマスク蒸着によって形成することにより、安価に製造することが可能である。
従来の有機TFTの一例を、図7に示す。図7は、従来のTFTの製造方法の例を斜視(図(a)〜(e))および断面(図(a’)〜(e’))で見た模式説明図である。基板1上にマスク蒸着等によってゲート電極3を形成する。次に、液体を塗布・焼成することにより絶縁層4を形成し、ソース電極5およびドレイン電極6を印刷またはマスク蒸着する。最後に有機半導体を塗布・焼成して有機半導体層7を形成する。有機半導体層7のうち、ソース電極5およびドレイン電極6の間で、絶縁膜4を介してゲート電極3に対向している部分が、電流が流れるチャネルであり、ソース・ドレイン間距離がチャネル長L、ソース・ドレインの幅がチャネル幅Wに相当する。
トランジスタの飽和領域のドレイン電流はI=μWC(Vd−Vth)2/2Lで表される。μは移動度、Wはチャネル幅、Cは単位面積当りのキャパシタンス、Vdはドレイン電圧、Vthはしきい値電圧、Lはチャネル長である。アモルファスSiの場合、通常はフォトリソを用いて容易にチャネル長L=5μm程度にできる。移動度μも1cm2/Vs程度と大きいので、チャネル幅Wも5μm程度と小さくて済む。しかし、有機半導体や酸化物半導体では、フォトリソを使わずにマスク蒸着やスクリーン印刷等を用いるのでチャネル長L=50μm程度と大きい。酸化物半導体のチャネル幅Wは50μm程度が必要であり、有機半導体では移動度が小さいので、チャネル幅Wを500μm程度と大きくする必要がある。
さて、ディスプレイ用途の場合、小さな画素内にTFTを組み込むことが必要である。例えば、画素サイズを300μm角とする。酸化物半導体TFTの画素面積に占める割合は、電極の大きさも含めると50%にも及び、有機半導体TFTに至っては画素内に組み込むのが困難であった。
以下に公知の文献を示す。
特開平11−284187号公報
本発明は、係る従来技術の状況に鑑みてなされたもので、実効チャネル幅を大きくし、小さな画素内に形成されうる薄膜トランジスタおよびその製造方法を提供することを課題と
する。
する。
上記の課題を達成するために、まず請求項1の発明は、基板上に、少なくともゲート電極、絶縁層、半導体の順に積層され、半導体層の上または下に水平方向に離間したソース電極・ドレイン電極を有する薄膜トランジスタであって、ゲート電極および絶縁層の上面が、ソース電極とドレイン電極を結ぶ方向に平行な四角柱状の凸部または凹部を有することを特徴とする薄膜トランジスタである。
請求項2の発明は、基板上に、断面がほぼ台形の四角柱状の凸部あるいは凹部の列からなる凹凸構造体を有し、該凹凸構造体の存在によって、上記ゲート電極および絶縁層の上面が、ソース電極とドレイン電極を結ぶ方向に平行な凸部または凹部を有することを特徴とする請求項1記載の薄膜トランジスタである。
請求項3の発明は、上記凹凸構造体が樹脂であることを特徴とする請求項2記載の薄膜トランジスタである。
請求項4の発明は、上記半導体が、有機半導体または酸化物半導体であることを特徴とする請求項1〜3記載の薄膜トランジスタである。
請求項5の発明は、基板上に、四角柱状の凹型または凸型を用いて凹凸構造体を形成する工程と、ゲート電極を形成する工程と、絶縁層を形成する工程と、ソース電極とドレイン電極を形成する工程と、半導体層を形成する工程と、を有することを特徴とする請求項1〜4記載の薄膜トランジスタの製造方法である。
請求項6の発明は、上記凹凸構造体を形成する工程が、凹型または凸型と基板の間に液状の樹脂を挟みこんで硬化させる工程であることを特徴とする請求項5記載の薄膜トランジスタの製造方法である。
請求項7の発明は、上記凹凸構造体を形成する工程が、基板または型の上に液状の樹脂を滴下し、型または基板を重ねて、ロールの間を通した後、樹脂を硬化させる工程であることを特徴とする請求項6記載の薄膜トランジスタの製造方法である。
以上の構成から、本発明には、以下の効果がある。
ゲート電極3と絶縁層4を凹凸形状にすることにより、実効チャネル幅Wが大きく、また、凹凸構造体2を用いることによって、ゲート電極3および絶縁層4を凹凸形状にできる薄膜トランジスタおよびその製造方法である。
本発明の実施の形態について、図を用いて以下詳細に説明する。
本発明のTFTの一例を、図1に示す。図1(a)は、本発明のTFTの一例を斜視で見た説明図で、図(b)は、トランジスタチャンネル部をソース電極5・ドレイン電極6を結ぶ方向に垂直に断面で見た説明図である。本TFTは、基板1上に、ゲート電極3、絶縁層4、半導体7の順に積層され、半導体層の下に水平方向に離間したソース電極5・ドレイン電極6を有する。また、ゲート電極3および絶縁層4の上面が、ソース電極5・ドレイン電極6を結ぶ方向に平行な四角柱状の凸部または凹部を有する。ソース電極5・ドレイン電極6を結ぶ方向に垂直な断面で見れば、凸部または凹部は台形状であって、ゲ
ート電極3および絶縁層4の上面は、基板にほぼ平行かつ低い部分と、表面が基板にほぼ平行かつ高い部分と、表面が基板に対して斜めな部分とからなる。前述のように、半導体層7のうち、ソース電極5およびドレイン電極6の間で、絶縁膜4を介してゲート電極3に対向している部分が電流が流れるチャネルであるから、チャネルも凹凸形状になる。ゲート電極3の側面部の膜厚を確保するためと、絶縁層4の絶縁性を確保するために、凹凸形状としては、側面が斜めで、角が丸い構造が好ましい。しかし実効チャンネルを算出するために矩形に近似して考える。凸部の高さをh、凸部の数をnとすると、実効チャネル幅Wは、上から見た見かけのチャネル幅W’を用いてW=W’+2nhとなる。例えばW’=200μm、n=8、h=20μmとすれば、W=520μmとなる。これにより、実効チャネル幅約500μmの大きなTFTを、見かけのチャネル幅200μmにでき、小さな画素内に収めることができる。ゲート電極3の上面を凹凸形状にするには、全面に金属を薄く成膜した後に一部をレジストで覆い、所定部をめっきで厚くする方法や、蒸着マスクをわざと一定距離だけ離した状態で成膜し、回り込みによって隣接パターン間を薄い膜で接合させる方法でできる。しかし、もっと簡単な方法を見出した。
ート電極3および絶縁層4の上面は、基板にほぼ平行かつ低い部分と、表面が基板にほぼ平行かつ高い部分と、表面が基板に対して斜めな部分とからなる。前述のように、半導体層7のうち、ソース電極5およびドレイン電極6の間で、絶縁膜4を介してゲート電極3に対向している部分が電流が流れるチャネルであるから、チャネルも凹凸形状になる。ゲート電極3の側面部の膜厚を確保するためと、絶縁層4の絶縁性を確保するために、凹凸形状としては、側面が斜めで、角が丸い構造が好ましい。しかし実効チャンネルを算出するために矩形に近似して考える。凸部の高さをh、凸部の数をnとすると、実効チャネル幅Wは、上から見た見かけのチャネル幅W’を用いてW=W’+2nhとなる。例えばW’=200μm、n=8、h=20μmとすれば、W=520μmとなる。これにより、実効チャネル幅約500μmの大きなTFTを、見かけのチャネル幅200μmにでき、小さな画素内に収めることができる。ゲート電極3の上面を凹凸形状にするには、全面に金属を薄く成膜した後に一部をレジストで覆い、所定部をめっきで厚くする方法や、蒸着マスクをわざと一定距離だけ離した状態で成膜し、回り込みによって隣接パターン間を薄い膜で接合させる方法でできる。しかし、もっと簡単な方法を見出した。
本発明TFTの製造方法では四角柱状の凹凸構造体を用いる。図2は本製造方法の1例を斜視(図(a)〜(f))および断面(図(a’)〜(f’))で見た説明図である。
まず基板1を用意する(a、a’)。次に基板1上に、四角柱状の凹型または凸型を用いて凹凸構造体2を形成する(b、b’)。次に、ゲート電極3を形成する(c、c’)。次に絶縁層4を形成する(d、d’)。次に、ソース電極5とドレイン電極6を形成する(e、e’)。次に、半導体7を形成し、TFTを製造する(f、f’)。
このように、凹凸構造体2を用いると、それを元にゲート電極3、絶縁層4の上面を凹凸形状にすることができる。凹凸構造体2とは、断面がほぼ台形の四角柱状の凸部あるいは凹部の列からなる構造物である。例えば図2(b、b’)のような断面が台形の構造体群が該当する。材質としては樹脂が望ましく、さらにはUV硬化型樹脂が望ましい。樹脂を用いることにより、軽量・フレキシビリティを保ち、また、製造工程が容易になる(後述)。UV硬化型樹脂を用いれば、さらにプロセス時間を短縮できる。基板1としては、ガラス等のリジッド基板を用いてもよいが、軽量・フレキシブルなプラスチック基板が好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルフォン(PES)、ポリイミド(PI)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリスチレン(PS)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ナイロン等が使用可能である。ただし、密着性向上のためにUVやプラズマ等による表面処理を行うとよい。
凹凸構造体2の上に、ゲート電極3をマスク蒸着あるいはスクリーン印刷等によって形成する(図2(c、c’))。ゲート電極3としては導電性物質であれば何でもよいが、絶縁膜4としてゲート3の陽極酸化膜を用いる場合、AlまたはTaが望ましい。またスクリーン印刷の場合、Pt、Au、Ag、Cu、Ni等の金属のペーストや、PEDOT、PANI等の有機導電体ペーストを使用できる。
絶縁膜4(図2(d、d’))としては、液体を塗布・焼成する塗布型絶縁膜が使用できるが、前述のようにゲート電極3の陽極酸化膜を用いてもよい。
ソース電極5・ドレイン電極6は、マスク蒸着、スクリーン印刷等によって同時に形成される(図2(e、e’))。ソース電極5・ドレイン電極6から半導体7へのキャリア注入特性が重要である。仕事関数が半導体7のイオン化ポテンシャルに近い物質が望ましく、p型有機半導体に正孔を注入するには例えばPt、Au、Ag、Cu、Ni等が好適である。このような金属をマスク蒸着(真空蒸着だけでなくスパッタを含む)またはスク
リーン印刷することによって、ソース電極5・ドレイン電極6は形成される。
リーン印刷することによって、ソース電極5・ドレイン電極6は形成される。
半導体層7としては、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリアリルアミン誘導体、ポリアセチレン誘導体、アセン誘導体、オリゴチオフェン誘導体等、既知の有機半導体や、InGaZnO系、InGaO系、ZnGaO系、InZnO系、ZnO系、SnO系等、あるいはそれらの混合物の酸化物半導体が使用可能である。有機半導体は、ディスペンサあるいはインクジェットで塗布・焼成によって形成されるか、またはマスク蒸着によって形成される(図2(f、f’))。
なお、ソース電極5・ドレイン電極6と半導体層7の形成順序は、逆でもよい。特に酸化物半導体の場合には、半導体層7を先に形成するのが望ましい。酸化物半導体は、スパッタやレーザアブレーション、有機金属化学気相成長等で形成できる。
他の例を図3に示した。図3は、本発明のTFTの製造方法の他の例を斜視(図(a)〜(f))および断面(図(a’)〜(f’))で見た模式説明図である。この例では、凹凸構造体2の形状は、図2(b、b’)のような断面が台形の凸状の構造体群だけでなく、図3(b、b’)のように凸状部分の底面が同じ組成の平板形状の土台とつながっている構造体となっている。構造体を形成する工程以外は、図2の例と同様である。
またその他の例を図4に示した。図4は、本発明のTFTの製造方法のその他の例を斜視(図(a)〜(f))および断面(図(a’)〜(f’))で見た模式説明図である。この例は、前記のその他の例に対して、台形が凹状に形成され、土台と一体型の構造体である。この構造体を形成する工程以外は、上記例と同様である。
本発明に係る凹凸構造体2を形成する方法を図5に例示した。基板1上に凹凸構造体2を形成するには、型10を用いることができる(図5)。即ち基板1と型10の間に硬化型樹脂材料2’をはさみこみ(図5(a))、硬化させてから型10を剥がすことにより、凹凸構造体2を容易に作製できる(図5(b))。挟み込む方法としては、基板1上に液状の硬化性樹脂材料2’を垂らし、上から型10を重ねて、2本のロールの間を通す方法を用いることができる。あるいは、型10の上に液状の硬化性樹脂材料2’を垂らし、上から基板1を重ねて、2本のロールの間を通してもよい。挟み込む際の位置や圧力によっては図5(c)のようなつながった構造にできる。あるいは凸状の型10を用いることにより(図5(d))、断面が台形の溝を有する構造にできる(図5(e))。
硬化型樹脂材料2’としては、常温硬化型、熱硬化型、UV硬化型のいずれも使用可能であり、エポキシ、アクリル、シリコーン等が使用できる。常温硬化型では硬化に時間がかかるという欠点があり、熱硬化型では寸法精度が悪いという欠点があるが、UV硬化型なら短時間で高精度の凹凸構造体2を作製できる。UV透過性の基板を用いて基板側からUV照射してもよいし、UV透過性の型を用いて型側からUV照射してもよい。
本発明に係る凹凸構造体を形成するための型10を作製する方法を、図6に例示した。ガラス等の基板21を用意し(図(a))、ガラス基板21上にレジスト22’を塗布し(図(b))、フォトリソによって線状のパターンを形成するか(図(c))、あるいは溝パターンを形成する(図(f))。その際、ポジレジストを使用することにより、断面を順テーパの台形にできる。これらを型として使用してもよいが、これらを原型20とし、原型20に液状シリコーン10’を重ねて硬化させて(図(d)、(g))、型10として用いるとよい(図(e)、(h))。透明なシリコーン10’を用いれば、UV透過性の型10となる。
本発明の実施例について、図2を用いて説明する。基板1として、厚さ125μmのポリエチレンナフタレート(PEN)を用意し(図2(a、a’))、シリコーン型を用いて、断面台形の構造体群である凹凸構造体2をUV硬化型エポキシで作製した(図2(b、b’))。高さ20μm、上幅10μm、下幅15μm、ピッチ25μm、長さ500μmとした。次に、ゲート電極3としてAlを約50nmマスク蒸着した(図2(c、c’))。ゲート電極3の幅は250μmとした。さらに、全面にポリビニルフェノール含有液を塗布・焼成することにより絶縁層4として厚さ約1μmのポリビニルフェノールを形成した(図2(d、d’))。そして、ソース電極5・ドレイン電極6としてPtをマスク蒸着(スパッタ)した(図2(e、e’))。ソース・ドレイン間距離は50μm、電極の幅W’は200μmである。最後に、半導体層7としてペンタセンをマスク蒸着した(図2(f、f’))。このようにして、チャネル長L=50μm、見かけのチャネル幅W’=200μm、実効チャネル長W=約500μmのTFTを作製できた。同時に作製した、凹凸構造体2のないTFT(L=50μm、W=200μm)に比べて約2.5倍のドレイン電流が得られた。
本発明の実施例について、図3を用いて説明する。基板1として、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)を用意し(図3(a、a’))、シリコーン型を用いて、断面台形の構造体群である凹凸構造体2をUV硬化型エポキシで作製した(図3(b、b’))。高さ20μm、上幅5μm、下幅10μm、ピッチ25μm、長さ500μmとした。次に、ゲート電極3としてPEDOTをスクリーン印刷、焼成して厚さ約5μmの膜とした(図3(c、c’))。ゲート電極3の幅は250μmとした。さらに、全面にポリビニルフェノール含有液を塗布・焼成することにより絶縁層4として厚さ約1μmのポリビニルフェノールを形成した(図3(d、d’))。そして、ソース電極5・ドレイン電極6としてAgをスクリーン印刷した(図3(e、e’))。ソース・ドレイン間距離は50μm、電極の幅W’は200μmである。最後に、半導体層7としてポリチオフェンをディスペンサ塗布・焼成した(図3(f、f’))。このようにして、チャネル長L=50μm、見かけのチャネル幅W’=200μm、実効チャネル長W=約500μmのTFTを作製できた。同時に作製した、凹凸構造体2のないTFT(L=50μm、W=200μm)に比べて約2倍のドレイン電流が得られた。
本発明の実施例について、図4を用いて説明する。基板1として、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)を用意し(図4(a、a’))、シリコーン型を用いて、断面台形の溝を有する凹凸構造体2をUV硬化型エポキシで作製した(図4(b、b’))。深さ20μm、溝上幅15μm、溝下幅10μm、ピッチ25μm、長さ500μmとした。次に、ゲート電極3としてAlを約50nmマスク蒸着した(図4(c、c’))。ゲート電極3の幅は250μmとした。さらに、全面にスパッタにより絶縁層4として厚さ約1μmのSiO2を形成した(図4(d、d’))。そして、半導体層7としてInGaZnO4をスパッタした(図4(e、e’))。最後に、ソース電極5・ドレイン電極6としてAuをマスク蒸着した(図4(f、f’))。ソース・ドレイン間距離は50μm、電極の幅W’は200μmである。このようにして、チャネル長L=50μm、見かけのチャネル幅W’=200μm、実効チャネル長W=約500μmのTFTを作製できた。同時に作製した、凹凸構造体2のないTFT(L=50μm、W=200μm)に比べて約2.5倍のドレイン電流が得られた。
1 ・・・ 基板
2 ・・・ 凹凸構造体
2’ ・・・ 凹凸構造体の原料(液体)
3 ・・・ ゲート電極
4 ・・・ 絶縁層
5 ・・・ ソース電極
6 ・・・ ドレイン電極
7 ・・・ 半導体層
10 ・・・ 型
10’・・・ 型の原料(液体)
20 ・・・ 原型
21 ・・・ 原型の基板
22 ・・・ レジストパターン
22’・・・ レジスト層
L ・・・ チャネル長
W ・・・ (実効)チャネル幅
W’ ・・・ 見かけのチャネル幅
2 ・・・ 凹凸構造体
2’ ・・・ 凹凸構造体の原料(液体)
3 ・・・ ゲート電極
4 ・・・ 絶縁層
5 ・・・ ソース電極
6 ・・・ ドレイン電極
7 ・・・ 半導体層
10 ・・・ 型
10’・・・ 型の原料(液体)
20 ・・・ 原型
21 ・・・ 原型の基板
22 ・・・ レジストパターン
22’・・・ レジスト層
L ・・・ チャネル長
W ・・・ (実効)チャネル幅
W’ ・・・ 見かけのチャネル幅
Claims (7)
- 基板上に、少なくともゲート電極、絶縁層、半導体の順に積層され、半導体層の上または下に水平方向に離間したソース電極・ドレイン電極を有する薄膜トランジスタであって、ゲート電極および絶縁層の上面が、ソース電極とドレイン電極を結ぶ方向に平行な四角柱状の凸部または凹部を有することを特徴とする薄膜トランジスタ。
- 基板上に、断面がほぼ台形の四角柱状の凸部あるいは凹部の列からなる凹凸構造体を有し、該凹凸構造体の存在によって、上記ゲート電極および絶縁層の上面が、ソース電極とドレイン電極を結ぶ方向に平行な凸部または凹部を有することを特徴とする請求項1記載の薄膜トランジスタ。
- 上記凹凸構造体が樹脂であることを特徴とする請求項2記載の薄膜トランジスタ。
- 上記半導体が、有機半導体または酸化物半導体であることを特徴とする請求項1〜3記載の薄膜トランジスタ。
- 基板上に、四角柱状の凹型または凸型を用いて凹凸構造体を形成する工程と、ゲート電極を形成する工程と、絶縁層を形成する工程と、ソース電極とドレイン電極を形成する工程と、半導体層を形成する工程と、を有することを特徴とする請求項1〜4記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 上記凹凸構造体を形成する工程が、凹型または凸型と基板の間に液状の樹脂を挟みこんで硬化させる工程であることを特徴とする請求項5記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 上記凹凸構造体を形成する工程が、基板または型の上に液状の樹脂を滴下し、型または基板を重ねて、ロールの間を通した後、樹脂を硬化させる工程であることを特徴とする請求項6記載の薄膜トランジスタの製造方法。
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