JP2006239813A - Small multiaxis composite working machine and working method - Google Patents

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陽一 赤上
Masaru Kato
勝 加藤
Takashi Matsumura
隆 松村
Masahiko Yoshino
雅彦 吉野
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AKITA SANGYO SHINKO KIKO
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AKITA SANGYO SHINKO KIKO
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small multiaxis composite working machine capable of manufacturing a microchip having a micro channel, etc. <P>SOLUTION: This small multiaxis composite working machine 10 has multiaxis XYZBC axes furnished with a rotary working table 12 placed on an X-Y axis stage and a tool stage 13 to move in accordance with the Z axis, to revolve around a tool head end and free to make the tool head end contact with a workpiece 29 at an optional angle and can manufacture the microchip having the micro channel, etc. by a unit of itself as it can selectively install a polishing mechanism to polish optional points by giving alternating current high voltage to functional fluid, a cutting work mechanism to carry out end milling and a nano forming mechanism to carry out fine plastic work on the tool stage. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、微細金型加工、特にマイクロ化学チップやバイオチップとして使用される基板上に微細流路等を有するマイクロチップを製造することのできる小型多軸複合加工機に関するものである。   The present invention relates to a small multi-axis multi-tasking machine capable of manufacturing a microchip having a micro flow path on a substrate used as a microchemical chip or a biochip, in particular, for micro mold processing.

今日、ガラスやプラスチックなどの基板に微細流路等を形成したマイクロ化学チップやバイオチップの技術開発が注目されている。このようなマイクロチップは現在のところ研究用として使用され、単品または少量生産されている。しかしながら今後のテーラーメイド医療の実現においては、大量生産で低価格化を図ることが要請されている。
特に、0.1μm〜100μm程度の三次元構造を有する微細金型を用いてマイクロチップが製造できれば、チップの高能率生産と低価格化に大きく寄与できる。
Today, the technical development of micro chemical chips and biochips in which fine channels are formed on a substrate such as glass or plastic is drawing attention. Such microchips are currently used for research purposes and are produced individually or in small quantities. However, in the future realization of tailor-made medicine, it is demanded to reduce the price by mass production.
In particular, if a microchip can be manufactured using a fine mold having a three-dimensional structure of about 0.1 μm to 100 μm, it can greatly contribute to high-efficiency production and cost reduction of the chip.

しかし、従来のマイクロチップは、研究用として使用され、その多くは単品または少量生産されているために、数万円から数十万円のものが多く、臨床用としては実用的なレベルに達していなかった。   However, conventional microchips are used for research purposes, and many of them are produced individually or in small quantities, so many of them are tens of thousands to hundreds of thousands of yen, reaching practical levels for clinical use. It wasn't.

この発明は、上記に鑑み提案されたもので、一台で微細研磨加工と、切削加工と、微細塑性加工であるナノフォーミング加工が可能な小型多軸複合加工機を提供することを目的とするものである。   The present invention has been proposed in view of the above, and an object of the present invention is to provide a small multi-axis multi-tasking machine capable of performing a fine polishing process, a cutting process, and a nanoforming process, which is a microplastic process, in a single machine. Is.

上記目的を達成する為に、本発明の小型多軸複合加工機は、X−Y軸ステージ上に載った回転作業テーブルと、Z軸に従って移動するとともに、工具先端を中心に回動して工具先端を任意の角度でワークピースに当接可能な工具ステージとを備えた多軸XYZBC軸を有する小型多軸複合加工機であって、前記工具ステージに交流高電圧を機能性流体に与えて任意箇所を研磨する研磨機構と、エンドミル加工することのできる切削加工機構と、微細塑性加工を行うナノフォーミング機構とを一台で選択的に装着できることを特徴としている。   In order to achieve the above object, the small multi-axis multi-tasking machine of the present invention moves along the rotary work table mounted on the XY axis stage and the Z axis, and rotates around the tool tip to rotate the tool. A compact multi-axis multi-tasking machine having a multi-axis XYZBC axis having a tool stage capable of abutting the tip at an arbitrary angle with a workpiece, and applying an AC high voltage to the functional fluid to the tool fluid. A polishing mechanism that polishes a portion, a cutting mechanism that can perform end milling, and a nanoforming mechanism that performs microplastic processing can be selectively mounted in one unit.

また、本発明において、前記 前記工具ステージは、円弧状の円弧フレームと、この円弧フレームに沿って移動可能に取り付けられた工具取り付けプレートと、該工具取り付けプレートを円弧フレームに固定する固定手段とから構成されたことを特徴とする。   In the present invention, the tool stage includes an arcuate arc frame, a tool mounting plate that is movably mounted along the arc frame, and a fixing unit that fixes the tool mounting plate to the arc frame. It is structured.

また、本発明において、前記工具ステージは、工具を両持ち支持することを特徴とする。   In the present invention, the tool stage supports both the tools.

また、本発明において、前記ナノフォーミング機構は、押し込み荷重を計るロードセルまたは押し込み深さを測る変位計を有し、押し込み深さを1μm以下の分解能で制御でき、加工面の領域内で連続して場所を変えながら繰り返し押し込み加工が可能であることを特徴とする。   Further, in the present invention, the nanoforming mechanism has a load cell for measuring an indentation load or a displacement meter for measuring an indentation depth, and the indentation depth can be controlled with a resolution of 1 μm or less, and continuously in the region of the processed surface. It is characterized in that it can be repeatedly pressed while changing the place.

また、本発明において、前記ナノフォーミング機構は、押し込み痕間隔、押し込み荷重を場所により自在に変えることにより、種々のパターンの押し込み模様を作り出すことが可能であることを特徴とする。   In the present invention, the nanoforming mechanism is characterized in that various patterns of indentation patterns can be created by freely changing the indentation trace interval and the indentation load depending on the location.

また、本発明において、前記ナノフォーミング機構は、ナイフエッジ、ポイント工具、ストラクチャ工具、その他の工具を装着可能であることを特徴とする。   In the present invention, the nanoforming mechanism can be equipped with a knife edge, a point tool, a structure tool, and other tools.

また、本発明において、前記ナノフォーミング機構は、押し込み痕深さを均一にするために中央部が凸状に形成されたことを特徴とする。   In the present invention, the nanoforming mechanism is characterized in that a central portion is formed in a convex shape in order to make the indentation depth uniform.

また、本発明の微細表面形状の加工方法において、X−Y軸ステージ上に載った回転作業テーブルと、Z軸に従って移動するとともに、工具先端を中心に回動して工具先端を任意の角度でワークピースに当接可能な工具ステージとを備えた多軸XYZBC軸を有する小型多軸複合加工機を使用し、前記工具ステージにナノフォーミング機構を装着し、押し込み荷重をロードセルで計り、あるいは押し込み深さを変位計で測定し、押し込み深さを1μm以下の分解能で制御し、加工面の領域内で連続して場所を変えながら繰り返し押し込み加工を行うことを特徴とする。   Further, in the fine surface shape processing method of the present invention, the rotary work table mounted on the XY axis stage and the Z axis are moved, and the tool tip is rotated around the tool tip at an arbitrary angle. Using a small multi-axis multi-tasking machine with a multi-axis XYZBC axis equipped with a tool stage capable of abutting against the workpiece, mounting a nano-forming mechanism on the tool stage, measuring the indentation load with a load cell, or indentation depth The thickness is measured with a displacement meter, the indentation depth is controlled with a resolution of 1 μm or less, and the indentation is repeatedly performed while changing the location continuously in the region of the machining surface.

また、本発明の加工方法において、前記ナノフォーミング機構の押し込み痕間隔、押し込み荷重を場所によりに変えることを特徴とする。   In the processing method of the present invention, the indentation trace interval and the indentation load of the nanoforming mechanism are changed depending on the location.

また、本発明の加工方法において、前記ナノフォーミング機構は、ナイフエッジ、ポイント工具、ストラクチャ工具、その他の工具であることを特徴とする。   In the processing method of the present invention, the nanoforming mechanism is a knife edge, a point tool, a structure tool, or other tools.

また、本発明の加工方法において、前記ストラクチャ工具の中央部を凸状に形成したことを特徴とする。   In the processing method of the present invention, the central portion of the structure tool is formed in a convex shape.

この発明は上記した構成からなるので、以下に説明するような効果を奏することができる。   Since this invention consists of an above-described structure, there can exist an effect which is demonstrated below.

本発明ではX−Y軸ステージ上に載った回転作業テーブルと、Z軸に従って移動するとともに、工具先端を中心に回動して工具先端を任意の角度でワークピースに当接可能な工具ステージとを備え、前記工具ステージに交流高電圧を機能性流体に与えて任意箇所を研磨する研磨機構と、エンドミル加工することのできる切削加工機構と、微細塑性加工を行うナノフォーミング機構とを選択的に装着できるので、一台で機能性流体による研磨、エンドミル加工による切削、ナノフォーミング加工を行うことができる。   In the present invention, a rotary work table mounted on an XY axis stage, a tool stage that moves according to the Z axis, rotates around the tool tip, and abuts the tool tip at an arbitrary angle; A polishing mechanism that polishes an arbitrary portion by applying an AC high voltage to the tool stage to the functional fluid, a cutting mechanism that can perform end milling, and a nanoforming mechanism that performs microplastic processing. Since it can be mounted, polishing with functional fluid, cutting by end milling, and nanoforming can be performed with a single unit.

また、本発明では前記工具ステージは、円弧状の円弧フレームと、この円弧フレームに沿って移動可能に取り付けられた工具取り付けプレートと、該工具取り付けプレートを円弧フレームに固定する固定手段とから構成されたので、この円弧フレームに沿って工具取り付けプレートおよびこれに取り付けられたエンドミル等を自由に傾けることができる。エンドミルを傾斜させることにより先端の周速零点での加工を回避して加工表面粗さによる劣化を防止することができる。   In the present invention, the tool stage includes an arcuate arc frame, a tool mounting plate that is mounted to be movable along the arc frame, and a fixing unit that fixes the tool mounting plate to the arc frame. Therefore, the tool mounting plate and the end mill attached to the tool mounting plate can be freely tilted along the arc frame. By inclining the end mill, it is possible to avoid machining at the peripheral speed zero point at the tip and prevent deterioration due to machining surface roughness.

また、本発明では前記工具ステージは、工具を両持ち支持するので、剛性が高くなり共振周波数が引き上げられる。したがって、加工精度に影響を与える振動を抑制することができる。   In the present invention, since the tool stage supports both the tools, the rigidity is increased and the resonance frequency is raised. Therefore, it is possible to suppress the vibration that affects the processing accuracy.

また、本発明では、前記ナノフォーミング機構は、ナイフエッジ工具を使用してガラス表面に微細塑性加工を行うものであり、その臨界押し込み深さが620nm以下であるので、クラックを生じることなくナイフエッジ工具によって微細塑性加工を行うことができる。   In the present invention, the nanoforming mechanism performs fine plastic working on the glass surface using a knife edge tool, and the critical indentation depth is 620 nm or less, so that the knife edge can be formed without causing cracks. Fine plastic working can be performed with a tool.

また、本発明では、前記ナノフォーミング機構は、ストラクチャー工具を使用してガラス表面に微細塑性加工を行うものであり、その臨界押し込み深さが173nm以下であるので、クラックを生じることなくストラクチャー工具によって微細塑性加工を行うことができる。   In the present invention, the nanoforming mechanism performs microplastic processing on the glass surface using a structure tool, and its critical indentation depth is 173 nm or less. Fine plastic working can be performed.

X−Y軸ステージ上に載った回転作業テーブルと、Z軸に従って移動するとともに、工具先端を中心に回動して工具先端を任意の角度でワークピースに当接可能な工具ステージとを備え、工具ステージに研磨機構と、切削加工機構と、ナノフォーミング機構とを選択的に装着できるので、一台で研磨、切削、塑性加工を行うことができるという目的が達成できる。   A rotary work table mounted on an XY axis stage, and a tool stage that moves according to the Z axis and rotates around the tool tip so that the tool tip can contact the workpiece at an arbitrary angle; Since a polishing mechanism, a cutting mechanism, and a nanoforming mechanism can be selectively mounted on the tool stage, the object of performing polishing, cutting, and plastic working with a single unit can be achieved.

以下、一実施の形態を示す図面に基づいて本発明を詳細に説明する。図1は、本発明の小型多軸複合加工機の一例を示す全体斜視図、図2は、本発明の小型多軸複合加工機にボールエンドミルを装着した状態を示す正面図、図3は、本発明小型多軸複合加工機に切削加工機構をセットした例を示す側面図である。ここで、小型多軸複合加工機10は、X−Y軸ステージ11上に載った回転作業テーブル12と、Z軸に従って移動するとともに、工具先端を中心に回動して工具先端を任意の角度でワークピースに当接可能な工具ステージ13とを備えている。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings illustrating an embodiment. FIG. 1 is an overall perspective view showing an example of a small multi-axis multi-tasking machine of the present invention, FIG. 2 is a front view showing a state in which a ball end mill is mounted on the small multi-axis multi-tasking machine of the present invention, and FIG. It is a side view which shows the example which set the cutting mechanism to this invention small multi-axis complex machine. Here, the small multi-axis multi-tasking machine 10 moves in accordance with the rotary work table 12 mounted on the XY axis stage 11 and the Z axis, and rotates around the tool tip to make the tool tip an arbitrary angle. And a tool stage 13 capable of coming into contact with the workpiece.

X−Y軸ステージ11は、定盤14上に設置されており、サーボ機構15、16によって駆動制御される。また、回転作業テーブル12は、X−Y軸ステージ11上に回動自在に配置されている。更に、工具ステージ13には、交流高電圧を機能性流体に与えて任意箇所を研磨する研磨機構17と、エンドミル加工することのできる切削加工機構18と、微細塑性加工を行うナノフォーミング機構19とを一台で選択的に装着できる。   The XY axis stage 11 is installed on the surface plate 14 and is driven and controlled by servo mechanisms 15 and 16. The rotary work table 12 is rotatably disposed on the XY axis stage 11. Further, the tool stage 13 is provided with a polishing mechanism 17 that applies an alternating high voltage to the functional fluid to polish an arbitrary portion, a cutting mechanism 18 that can perform end milling, and a nanoforming mechanism 19 that performs microplastic processing. Can be selectively installed with a single unit.

定盤14上には、門型のZ軸架台20が立設されており、Z軸架台20の横梁20aのほぼ中央にZ軸ステージ21がサーボ機構22によって駆動可能に配設されている。また、Z軸ステージ21には、円弧状の円弧フレーム23と、この円弧フレーム23に沿って移動可能に取り付けられた工具取り付けプレート24と、該工具取り付けプレート24を円弧フレーム23に固定する固定手段25とから成る工具ステージ13が取り付けられている。円弧フレーム23には、工具取り付けプレート24を円弧状に移動させるための溝23aが形成されるとともに、目盛り23bが付されている。溝23aは、工具取り付けプレート24に取り付けた工具、例えば、切削加工機構であるボールエンドミルの先端を中心とした円弧と一致するように構成されている。固定手段25は、円弧フレーム23に沿って移動した工具取り付けプレート24を所定の位置に固定する。工具取り付けプレート24には、交流高電圧を機能性流体に与えて任意箇所を研磨する研磨機構25、エンドミル加工することのできる切削加工機構18、微細塑性加工を行うナノフォーミング機構19を一台で選択的に取り付けることができる。なお、サーボ機構15、16、22は、図外の加工動作制御機構によって制御される。   A gate-shaped Z-axis pedestal 20 is erected on the surface plate 14, and a Z-axis stage 21 is arranged at the center of the transverse beam 20 a of the Z-axis pedestal 20 so as to be driven by a servo mechanism 22. Further, the Z-axis stage 21 has an arcuate arc frame 23, a tool attachment plate 24 that is movably attached along the arc frame 23, and fixing means for fixing the tool attachment plate 24 to the arc frame 23. A tool stage 13 consisting of 25 is attached. The arc frame 23 is provided with a groove 23a for moving the tool mounting plate 24 in an arc shape and a scale 23b. The groove 23a is configured to coincide with a tool attached to the tool attachment plate 24, for example, an arc centered on the tip of a ball end mill that is a cutting mechanism. The fixing means 25 fixes the tool mounting plate 24 moved along the arc frame 23 at a predetermined position. The tool mounting plate 24 is provided with a polishing mechanism 25 that applies an alternating high voltage to the functional fluid to polish an arbitrary portion, a cutting mechanism 18 that can perform end milling, and a nanoforming mechanism 19 that performs microplastic processing. Can be selectively attached. The servo mechanisms 15, 16, and 22 are controlled by a machining operation control mechanism (not shown).

<切削加工機構>
以上のように構成した小型多軸複合加工機10において、工具取り付けプレート24に切削加工機構の一つであるボールエンドミル28を取り付けてマイクロ切削加工によってマイクロチップのマスタを加工する場合について説明する。図1、2に示すように工具取り付けプレート24に取り付けたボールエンドミル28を所定角度傾斜させる。図4は、この際のワークピース29と工具刃先30との関係を示すものである。機械加工によりマスタを加工する場合、マイクロオーダでその微細構造を制御しなければならないために、加工面はサブマイクロ以下の表面粗さが必要となる。図4、5は、ボールエンドミルによる加工メカニズムを二次元的に示すものである。ここに示すように、形成する溝31の仕上げ面は、切削厚さの小さい切れ刃の食いつき部分Aと離脱部分Bで創成されており、それ以外は切り屑として以後の切削で除去される。
ボールエンドミルによる加工は、この原理を三次元的に拡張したもので、切れ刃高さが低くなると図4、5に示す円弧の半径が小さくなり、軸方向切込みの大小によらず、仕上げ面は全て微小切込みによって創成することになる。その結果、仕上げ面を創成する領域の切削力は小さく、良好な加工面が得られる。なお、ボールエンドミルの中心部分は切れ刃の回転半径が小さいため、切削速度も小さくなり加工性が低下する。そこで図4、5に示すようにボールエンドミルの工具刃先30を傾けて、底部でもある程度の切削速度を維持しながら加工しなければならない。
<スピンドルの傾斜配置実験結果>
本装置の特徴であるボールエンドミル28の軸(スピンドル)を傾けることにより良好な加工仕上がり面が得られた。加工試料としては、プリハードン鋼、SKD11,SKD61等の金型用鋼材、ガラス材を使用した。この中で、特にプリハードン鋼については、次のような良好な結果を得ることができた。
1)スピンドルの傾きが0度の場合、加工後の表面粗さは、Ra1.22μmであった。
2)スピンドルの傾きが45度の場合、加工後の表面粗さは、Ra0.39μmであった。
<Cutting mechanism>
In the small multi-axis multi-tasking machine 10 configured as described above, a case will be described in which a ball end mill 28, which is one of the cutting mechanisms, is attached to the tool mounting plate 24 and a microchip master is processed by micro cutting. As shown in FIGS. 1 and 2, the ball end mill 28 attached to the tool attachment plate 24 is inclined at a predetermined angle. FIG. 4 shows the relationship between the workpiece 29 and the tool cutting edge 30 at this time. When the master is processed by machining, the microstructure must be controlled by a micro order, so that the processed surface needs a surface roughness of sub-micro or less. 4 and 5 show the processing mechanism by the ball end mill two-dimensionally. As shown here, the finished surface of the groove 31 to be formed is created by the biting part A and the detachment part B of the cutting edge having a small cutting thickness, and the rest is removed as a chip by subsequent cutting.
Machining with a ball end mill is a three-dimensional extension of this principle. When the height of the cutting edge is lowered, the radius of the arc shown in FIGS. 4 and 5 is reduced, and the finished surface is not affected by the size of the axial cut. All will be created by micro-incision. As a result, the cutting force in the region for creating the finished surface is small, and a good machined surface can be obtained. In addition, since the center radius of the ball end mill has a small rotation radius of the cutting edge, the cutting speed is also reduced and workability is lowered. Therefore, as shown in FIGS. 4 and 5, the tool edge 30 of the ball end mill must be tilted to perform machining while maintaining a certain cutting speed even at the bottom.
<Spindle tilt experiment results>
A good finished surface was obtained by inclining the axis (spindle) of the ball end mill 28, which is a feature of this apparatus. As processing samples, pre-hardened steel, steel materials for molds such as SKD11 and SKD61, and glass materials were used. Among these, the following good results were obtained especially for the pre-hardened steel.
1) When the inclination of the spindle was 0 degree, the surface roughness after processing was Ra 1.22 μm.
2) When the inclination of the spindle was 45 degrees, the surface roughness after processing was Ra 0.39 μm.

<ナノフォーミング機構>
図6は、本発明の小型多軸複合加工機10にナノフォーミング機構19をセットした例を示す側面図である。
本実施例において、工具取り付けプレート24には、ナノフォーミング機構19を取り付ける。
ナノフォーミング機構19には、ナイフエッジ工具、ポイント工具、ストラクチャー工具等があり、これらの工具を使い分けることができる。
ナイフエッジ工具は、先端の鋭い楔状の工具で、先端角が180度以下のものである。また、ポイント工具は、先端の鋭い角錐状もしくは円錐状の工具で、先端角がθ度以下のもの(θはビッカース圧子、ベルコビッチ圧子、ロックウェル圧子などに抵触しないように定める)。
また、ストラクチャー工具70は、図7〜図10に示すように略円柱状の外形をしており、工具面71は円形をしている。この工具面71にFIB(収束イオンビーム装置:SMI2200,SII製)を用いて突起72を削り出したものである。突起72の寸法は、縦横約1μm、高さ0.2μmの角柱状または、直径約1μmの円柱状をしている。
<Nanoforming mechanism>
FIG. 6 is a side view showing an example in which the nanoforming mechanism 19 is set in the small multi-axis complex machine 10 of the present invention.
In the present embodiment, the nanoforming mechanism 19 is attached to the tool attachment plate 24.
The nanoforming mechanism 19 includes a knife edge tool, a point tool, a structure tool, and the like, and these tools can be used properly.
The knife edge tool is a wedge-shaped tool with a sharp tip and a tip angle of 180 degrees or less. The point tool is a sharp pyramid or conical tool with a tip having a tip angle of θ degrees or less (θ is determined so as not to conflict with a Vickers indenter, a Belkovic indenter, a Rockwell indenter, etc.).
The structure tool 70 has a substantially cylindrical outer shape as shown in FIGS. 7 to 10, and the tool surface 71 is circular. A projection 72 is cut out on the tool surface 71 using FIB (focused ion beam device: SMI2200, manufactured by SII). The protrusion 72 has a rectangular column shape with a height and width of about 1 μm and a height of 0.2 μm, or a column shape with a diameter of about 1 μm.

なお、本発明のナノフォーミング機構19は、以下の構成を有する。
1)押込み荷重を測るロードセルまたは押込み深さを測る変位計を有する。
2)押込み深さを1μm以下の分解能で制御できる。
3)加工面の領域内で、連続して場所を変えながら繰り返し押込み加工をする機能がある。
4)押込み痕間隔、押込み荷重を場所により自在に変えることにより、種々のパターンの押込み模様を作り出すこと。
5)ナイフエッジ工具、ポイント工具、ストラクチャ工具、その他工具を使い分けること。
6)押込み痕深さを均一にするために中央部が凸状になっているストラクチャ工具であること。
これは、以下の理由による。
通常、素材表面は完全には平坦ではなく、うねりがあるため、場所が変わると材料表面高さが異なる。そのため材料表面からの押込み深さを正確にコントロールするためには押込み加工のストローク中にオンタイムで押込み荷重もしくは押込み深さを計測し、押込み深さをコントロールする必要があるためである。
また、硬脆材料の延性モード加工を行うためには、押込み深さを臨界押込み深さ以下にしなければならない。多くのガラス、水晶、シリコンなどの硬脆材料の臨界押込み深さは、1μm以下である。そこで1μm以下の押込み深さを制御できる機能が必要である。
また、本装置は材料表面のある領域全体を加工し、表面の微細形状をコントロールすることが目的であるので、一点のみに押込み加工しても無意味である。そこで自動的にXYステージを移動させながら繰り返し押込み加工を行い、所定の押込み痕パターンを作成する機能が必要である。この機能が無いとナノインデンテーション試験機と同じになってしまうからである。
また、場所によって押込み痕間隔、押込み深さ、XY面内における材料の向き(加工痕方向)を変えることにより、一つの工具で種種の微細パターンを作ることが出来る。また間隔、押込み深さ、加工痕方向を変えることにより、表面の機能を変えることができる。一つの表面で場所によって微細パターンを変える事により、場所によって表面機能を変えることが出来る。
The nanoforming mechanism 19 of the present invention has the following configuration.
1) It has a load cell that measures the indentation load or a displacement meter that measures the indentation depth.
2) The indentation depth can be controlled with a resolution of 1 μm or less.
3) There is a function of repeatedly performing indentation processing while continuously changing the location within the region of the processing surface.
4) Create various patterns of indentation by changing the interval between indentations and the indentation load according to the location.
5) Use knife edge tools, point tools, structure tools, and other tools properly.
6) A structure tool having a convex center part in order to make the indentation depth uniform.
This is due to the following reason.
Usually, the surface of the material is not completely flat and has waviness, so that the height of the material surface varies depending on the location. Therefore, in order to accurately control the indentation depth from the material surface, it is necessary to control the indentation depth by measuring the indentation load or indentation depth on-time during the indentation stroke.
Also, in order to perform ductile mode processing of hard and brittle materials, the indentation depth must be less than or equal to the critical indentation depth. The critical indentation depth of many brittle materials such as glass, quartz and silicon is 1 μm or less. Therefore, a function capable of controlling the indentation depth of 1 μm or less is necessary.
In addition, since the present apparatus is intended to process the entire region of the material surface and control the fine shape of the surface, it is meaningless to perform indentation processing on only one point. Therefore, it is necessary to have a function of repeatedly performing indentation processing while automatically moving the XY stage to create a predetermined indentation trace pattern. This is because without this function, it becomes the same as a nanoindentation tester.
Various fine patterns can be created with a single tool by changing the indentation interval, indentation depth, and material orientation (processing direction) in the XY plane depending on the location. Further, the function of the surface can be changed by changing the interval, the indentation depth, and the processing mark direction. By changing the fine pattern depending on the location on one surface, the surface function can be changed depending on the location.

なお、加工面高さが一定、すなわち上面が平坦な材料から削りだした、ストラクチャ工具70で硬い材料に押込むと、中央部の押込み深さは浅く、周辺部の押込み深さは深くなる。そこで押込み痕深さを一定にするため工具面中央部を高くし、すなわち凸状にすることにより、押込み深さを均一にする。   When the work tool is pushed into a hard material with the structure tool 70 that has been machined from a material having a constant machining surface height, that is, the top surface is flat, the push depth at the central portion is shallow and the push depth at the peripheral portion is deep. Therefore, in order to make the indentation depth constant, the center of the tool surface is raised, that is, by making it convex, the indentation depth is made uniform.

Figure 2006239813
Figure 2006239813

表1は、ナイフエッジ型工具をソーダガラス面に押し当てて、押し込み痕を形成した場合の押し込み荷重P(N)と押し込み痕深さd(nm)を示すものである。白丸は、延性モード加工の例であり、黒丸は割れ(クラック)が生じた例で
ある。実験の結果、加工痕の深さが600nmを超えるあたりで割れが多くなっており、臨界押し込み深さは約620nmであると考えられる。また、ストラクチャー型工具を使用した場合では、表2に示すように、臨界押し込み深さは、約173nmであると考えられる。
Table 1 shows an indentation load P (N) and an indentation mark depth d (nm) when a knife edge type tool is pressed against the soda glass surface to form an indentation mark. A white circle is an example of ductile mode processing, and a black circle is an example in which a crack has occurred. As a result of the experiment, cracks increase as the depth of the processing mark exceeds 600 nm, and the critical indentation depth is considered to be about 620 nm. When a structure type tool is used, as shown in Table 2, the critical indentation depth is considered to be about 173 nm.

Figure 2006239813
Figure 2006239813

以上の実験例からソーダガラス面にナノフォーミング加工を行うことができた。また、プラスチック基板にも同様にナノフォーミング加工を行うことができた。   From the above experimental example, it was possible to perform nanoforming on the soda glass surface. Similarly, the nanoforming process could be performed on the plastic substrate.

<機能性流体による研磨機構>
図11は、本発明の小型多軸複合加工機10に機能性流体による研磨機構17をセットした例を示す側面図である。ここで、工具取り付けプレート24には、研磨機構17が取り付けられており、電極17aに電圧を印加するとともにワークピース29の表面に機能性流体を供給する。ワークピース29は、X−Y軸ステージ11によって所定周期で往復駆動される。また、電極17aは、回転させて回転電極としてもよい。
<Polishing mechanism with functional fluid>
FIG. 11 is a side view showing an example in which a polishing mechanism 17 using a functional fluid is set in the small multi-axis multi-tasking machine 10 of the present invention. Here, the polishing mechanism 17 is attached to the tool attachment plate 24, and a voltage is applied to the electrode 17 a and a functional fluid is supplied to the surface of the workpiece 29. The workpiece 29 is reciprocated at a predetermined cycle by the XY axis stage 11. The electrode 17a may be rotated to be a rotating electrode.

既存の遊離砥粒研磨技術は、優れた仕上げ面が得られることより、多用されている。しかし、砥粒は研磨定盤の回転によって生じる遠心力によって、研磨領域から容易に散逸し、供給が滞り研磨効率の低下を招いていた。そこで、本発明の機能性流体研磨機構では、砥粒を分散させた機能性流体を用いることで、砥粒が示す運動を積極的に活用し、砥粒の配置制御に応用する。ここで使用する砥粒は、電界を与えることで固有の誘電率が分極作用を生じ、クーロン力の発現に至り、吸引力が生じるという動作原理を有する。   The existing loose abrasive polishing technique is widely used because an excellent finished surface can be obtained. However, the abrasive grains are easily dissipated from the polishing region by the centrifugal force generated by the rotation of the polishing platen, and the supply is delayed, resulting in a decrease in polishing efficiency. Therefore, in the functional fluid polishing mechanism of the present invention, by using a functional fluid in which abrasive grains are dispersed, the movement exhibited by the abrasive grains is actively utilized and applied to the control of the arrangement of the abrasive grains. The abrasive grains used here have an operation principle that an intrinsic electric permittivity causes a polarization action by applying an electric field, leading to the expression of Coulomb force, and attraction force.

図12は、機能性流体研磨機構の多層回転電極を示す説明図、図13はその多層回転電極に於ける砥粒配置の想定図である。ここで、多層回転電極100は、複数の導体層101が絶縁層102を挟んで同心円状に配設されている。また、電界の供給にはカーボンブラシ103を使用する。更に、研磨面その場観察に供する流体は、ジメチルシリコーンオイル(信越化学工業(株)製)に平均粒径5μmのダイヤモンドを電子天秤で秤量し、超音波分散機を用いて均一分散処理を行った。研磨に供する流体は、ジメチルシリコーンオイルに平均粒径3μmの酸化セリウムを電子天秤で秤量し、入念に混合させた後に、均一分散処理を行う。印加する電界は、シンセサイザーを用いて電圧、周波数、波形を発生させる。この基本信号を高電圧アンプに接続し、昇圧して機能性流体を満たした電極間に供給する。電極間距離は1mmに保持されており、電界の信号確認は高電圧プローブを用いて、デジタルオシロスコープ(アジレント製 54645A)に通して観測する。電界の印加条件は、周波数ならびに電界強度はそれぞれ0.5〜10Hz、2.0〜3.0 kV/mmとする。回転電極面下におけるその場観察は、工作物と回転電極研磨面が接する面における砥粒の挙動観察が可能なように、もう一方の電極にITO透明電極を採用する。また工作物にはスライドガラスを用いることで可能とする。図13に示すように均一な砥粒の配置を実現し、良好な研磨特性を得るためである。
電極の回転数は、50回/分の一定とし、本流体を滴下後に回転電極を駆動させ、その後に電界を印加する。砥粒は、電極間で運動する様子をその場観察で確認する。また、研磨評価実験を行う。
FIG. 12 is an explanatory view showing a multilayer rotating electrode of the functional fluid polishing mechanism, and FIG. 13 is an assumption diagram of the arrangement of abrasive grains in the multilayer rotating electrode. Here, in the multilayer rotating electrode 100, a plurality of conductor layers 101 are concentrically arranged with an insulating layer 102 interposed therebetween. A carbon brush 103 is used to supply the electric field. Furthermore, the fluid to be used for in-situ observation of the polished surface is dimethyl silicone oil (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), diamond with an average particle size of 5 μm is weighed with an electronic balance, and is uniformly dispersed using an ultrasonic dispersing machine It was. As a fluid used for polishing, cerium oxide having an average particle diameter of 3 μm is weighed in dimethyl silicone oil with an electronic balance and carefully mixed, and then uniformly dispersed. The applied electric field generates voltage, frequency, and waveform using a synthesizer. This basic signal is connected to a high voltage amplifier and boosted and supplied between electrodes filled with a functional fluid. The distance between the electrodes is kept at 1 mm, and the signal confirmation of the electric field is observed through a digital oscilloscope (Agilent 54645A) using a high voltage probe. The application condition of the electric field is that the frequency and the electric field strength are 0.5 to 10 Hz and 2.0 to 3.0 kV / mm, respectively. For in-situ observation under the rotating electrode surface, an ITO transparent electrode is adopted as the other electrode so that the behavior of the abrasive grains on the surface where the workpiece and the rotating electrode polishing surface are in contact can be observed. In addition, it is possible to use a slide glass for the workpiece. This is because a uniform abrasive grain arrangement is realized as shown in FIG. 13 and good polishing characteristics are obtained.
The number of rotations of the electrode is fixed at 50 times / minute, and after the fluid is dropped, the rotation electrode is driven, and then an electric field is applied. The abrasive grains are confirmed by in-situ observation of the movement between the electrodes. Also, polishing evaluation experiments are performed.

<実験結果>
以上の実験結果から、加工圧力を与える箇所に砥粒を集積することが可能である。また、砥粒の集積分布は電界強度分布と同様である。また、低周波交流電界を与えることで砥粒が微動し、砥粒同士が衝突することで凝集作用が抑制できる。更に、電界を印加することでクーロン力が作用し、遠心力によって研磨領域から飛散する砥粒を防止することができる。従って、研磨効率の向上が期待できる。
<研磨結果>
本発明の多層回転電極を用いた研磨結果では、機能性流体の砥粒は、多層回転電極100の各電極間において保持されながら研磨加工が進行する。そのため、効果的でかつ良好な仕上り結果が得られた。その表面粗さは、研磨時間3minで、研磨前13.5nmRaから研磨後7.5nmRaの面が得られた。この結果、多層回転電極を用いて機能性流体に電界を印加することで、研磨面において分散粒子である砥粒が、電極間で凝集を防止する運動が可能な環境を提供することを確認した。多層回転電極100を導入することで、従来、本研磨方法で困難であった厚みがあり、かつ絶縁材料である工作物に対しても、優れた表面仕上げ特性を得ることが可能となった。また、多層回転電極100を導入することで、砥粒の配置分布の均一化が図られ、3分間で13.5nmから7.5nmに表面粗さを改善することができた。
<Experimental result>
From the above experimental results, it is possible to accumulate abrasive grains at locations where processing pressure is applied. Further, the accumulation distribution of the abrasive grains is the same as the electric field strength distribution. In addition, the abrasive grains finely move by applying a low-frequency AC electric field, and the agglomeration action can be suppressed by the collision of the abrasive grains. Furthermore, by applying an electric field, Coulomb force acts, and abrasive grains scattered from the polishing region by centrifugal force can be prevented. Therefore, improvement in polishing efficiency can be expected.
<Polishing result>
In the polishing result using the multilayer rotating electrode of the present invention, the polishing process proceeds while the abrasive grains of the functional fluid are held between the electrodes of the multilayer rotating electrode 100. Therefore, an effective and good finishing result was obtained. With respect to the surface roughness, a surface of 13.5 nmRa before polishing to 7.5 nmRa after polishing was obtained with a polishing time of 3 minutes. As a result, it was confirmed that by applying an electric field to the functional fluid using a multilayer rotating electrode, the abrasive grains, which are dispersed particles on the polishing surface, provide an environment in which movement is possible to prevent aggregation between the electrodes. . By introducing the multi-layer rotating electrode 100, it has become possible to obtain excellent surface finish characteristics even for a workpiece that has a thickness that has been difficult with the present polishing method and is an insulating material. Further, by introducing the multilayer rotating electrode 100, the distribution of the abrasive grains was made uniform, and the surface roughness was improved from 13.5 nm to 7.5 nm in 3 minutes.

このように、本発明では、機能性流体を使用した研磨機構17によってワークピース29の表面を均一に研磨することができる。本発明の小型多軸複合加工機10によれば、一台の装置でワークピース29の表面を研磨機構17によって鏡面研磨した後、その表面に切削加工機構18によってDNAチップ金型等の微細加工を行い、その金型を使用してプラスチックやソーダガラス表面にナノフォーミング機構19を使用して高感度なDNAチップ等を形成することができる。   Thus, in the present invention, the surface of the workpiece 29 can be uniformly polished by the polishing mechanism 17 using a functional fluid. According to the small multi-axis multi-tasking machine 10 of the present invention, the surface of the workpiece 29 is mirror-polished by the polishing mechanism 17 with a single device, and then the surface is finely processed by a cutting mechanism 18 such as a DNA chip mold. And using the mold, a highly sensitive DNA chip or the like can be formed on the surface of plastic or soda glass using the nanoforming mechanism 19.

なお、本発明は、特許請求の範囲に示した技術的範囲において、他の変形例においても適用することができる。   The present invention can also be applied to other modifications within the technical scope shown in the claims.

図1は、本発明の小型多軸複合加工機の一例を示す全体斜視図である。FIG. 1 is an overall perspective view showing an example of a small multi-axis multi-tasking machine of the present invention. 図2は、同小型多軸複合加工機にボールエンドミルを装着した状態を示す正面図である。FIG. 2 is a front view showing a state in which a ball end mill is mounted on the small multi-axis multi-tasking machine. 図3は、同小型多軸複合加工機に切削加工機構をセットした例を示す側面図である。FIG. 3 is a side view showing an example in which a cutting mechanism is set in the small multi-axis multi-tasking machine. 図4は、ボールエンドミルによる切削状態を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing a cutting state by a ball end mill. 図5は、ボールエンドミルによる切削状態を示す上から見た説明図である。FIG. 5 is an explanatory view seen from above showing a cutting state by a ball end mill. 図6は、同小型多軸複合加工機にナノフォーミング機構をセットした例を示す側面図である。FIG. 6 is a side view showing an example in which a nanoforming mechanism is set in the small multi-axis complex machine. 図7は、ナノフォーミング機構に使用するストラクチャー型工具の例を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing an example of a structure-type tool used for the nanoforming mechanism. 図8は、同ストラクチャー型工具の側面図である。FIG. 8 is a side view of the structure-type tool. 図9は、ナノフォーミング機構に使用するストラクチャー型工具の別の例を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing another example of a structure-type tool used for the nanoforming mechanism. 図10は、同ストラクチャー型工具の側面図である。FIG. 10 is a side view of the structure type tool. 図11は、同小型多軸複合加工機に機能性流体研磨機構をセットした例を示す側面図である。FIG. 11 is a side view showing an example in which a functional fluid polishing mechanism is set in the small multi-axis multi-tasking machine. 図12は、機能性流体研磨機構の多層回転電極を示す説明図である。FIG. 12 is an explanatory view showing a multilayer rotating electrode of the functional fluid polishing mechanism. 図13は、同多層回転電極に於ける砥粒配置の想定図である。FIG. 13 is an assumption diagram of the arrangement of abrasive grains in the multilayer rotating electrode.

符号の説明Explanation of symbols

10 小型多軸複合加工機
11 X−Y軸ステージ
12 回転作業テーブル
13 工具ステージ
14 定盤
15 サーボ機構
16 サーボ機構
17 研磨機構
18 切削加工機構
19 ナノフォーミング機構
20 Z軸架台
21 Z軸ステージ
22 サーボ機構
23 円弧フレーム
24 工具取り付けプレート
25 固定手段
28 ボールエンドミル
29 ワークピース
30 工具刃先
31 溝
70 ストラクチャー工具
71 工具面
72 突起
100 多層回転電極
101 導体層
102 絶縁層
103 カーボンブラシ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Small multi-axis combined processing machine 11 XY-axis stage 12 Rotation work table 13 Tool stage 14 Surface plate 15 Servo mechanism 16 Servo mechanism 17 Polishing mechanism 18 Cutting mechanism 19 Nanoforming mechanism 20 Z-axis mount 21 Z-axis stage 22 Servo Mechanism 23 Arc frame 24 Tool mounting plate 25 Fixing means 28 Ball end mill 29 Work piece 30 Tool blade 31 Groove 70 Structure tool 71 Tool surface 72 Protrusion 100 Multilayer rotating electrode 101 Conductive layer 102 Insulating layer 103 Carbon brush

Claims (11)

X−Y軸ステージ上に載った回転作業テーブルと、
Z軸に従って移動するとともに、工具先端を中心に回動して工具先端を任意の角度でワークピースに当接可能な工具ステージとを備えた多軸XYZBC軸を有する小型多軸複合加工機であって、
前記工具ステージに交流高電圧を機能性流体に与えて任意箇所を研磨する研磨機構と、エンドミル加工することのできる切削加工機構と、微細塑性加工を行うナノフォーミング機構とを一台で選択的に装着できることを特徴とする小型多軸複合加工機。
A rotary work table mounted on an XY axis stage;
This is a small multi-axis multi-tasking machine having a multi-axis XYZBC axis, which has a tool stage that moves along the Z-axis and rotates around the tool tip so that the tool tip can come into contact with the workpiece at an arbitrary angle. And
A polishing mechanism that polishes an arbitrary portion by applying an AC high voltage to the tool stage to the functional fluid, a cutting mechanism that can perform end milling, and a nanoforming mechanism that performs microplastic processing can be selectively performed in one unit. A compact multi-axis multi-tasking machine that can be mounted.
前記工具ステージは、円弧状の円弧フレームと、
この円弧フレームに沿って移動可能に取り付けられた工具取り付けプレートと、
該工具取り付けプレートを円弧フレームに固定する固定手段とから構成されたことを特徴とする請求項1に記載の小型多軸複合加工機。
The tool stage includes an arcuate arc frame,
A tool mounting plate movably mounted along the arc frame;
2. The small multi-axis multi-tasking machine according to claim 1, further comprising fixing means for fixing the tool mounting plate to the arc frame.
前記工具ステージは、工具を両持ち支持することを特徴とする請求項1または2に記載の小型多軸複合加工機。   The small multi-axis multi-tasking machine according to claim 1, wherein the tool stage supports both the tools. 前記ナノフォーミング機構は、
押し込み荷重を計るロードセルまたは押し込み深さを測る変位計を有し、
押し込み深さを1μm以下の分解能で制御でき、
加工面の領域内で連続して場所を変えながら繰り返し押し込み加工が可能であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1に記載の小型多軸複合加工機。
The nanoforming mechanism is
It has a load cell that measures indentation load or a displacement meter that measures indentation depth,
The indentation depth can be controlled with a resolution of 1 μm or less.
The small multi-axis multi-tasking machine according to any one of claims 1 to 3, wherein the multi-axis multi-tasking machine can be repeatedly pressed while changing the location continuously within the region of the processing surface.
前記ナノフォーミング機構は、押し込み痕間隔、押し込み荷重を場所により自在に変えることにより、種々のパターンの押し込み模様を作り出すことが可能であることを特徴とする請求項4に記載の小型多軸複合加工機。   The multi-axis multi-axis composite machining according to claim 4, wherein the nano-forming mechanism is capable of creating various indentation patterns by freely changing the indentation mark interval and the indentation load depending on the location. Machine. 前記ナノフォーミング機構は、ナイフエッジ、ポイント工具、ストラクチャ工具、その他の工具を装着可能であることを特徴とする請求項4または5に記載の小型多軸複合加工機。   6. The small multi-axis multi-tasking machine according to claim 4, wherein the nanoforming mechanism can be mounted with a knife edge, a point tool, a structure tool, and other tools. 前記ナノフォーミング機構は、押し込み痕深さを均一にするために中央部が凸状に形成されたことを特徴とする請求項4または5に記載の小型多軸複合加工機。   6. The small multi-axis multi-tasking machine according to claim 4, wherein the nanoforming mechanism has a central portion formed in a convex shape in order to make the indentation depth uniform. X−Y軸ステージ上に載った回転作業テーブルと、Z軸に従って移動するとともに、工具先端を中心に回動して工具先端を任意の角度でワークピースに当接可能な工具ステージとを備えた多軸XYZBC軸を有する小型多軸複合加工機を使用し、
前記工具ステージにナノフォーミング機構を装着し、
押し込み荷重をロードセルで計り、あるいは押し込み深さを変位計で測定し、
押し込み深さを1μm以下の分解能で制御し、
加工面の領域内で連続して場所を変えながら繰り返し押し込み加工を行うことを特徴とする微細表面形状の加工方法。
A rotary work table mounted on an XY axis stage, and a tool stage that moves along the Z axis and rotates around the tool tip so that the tool tip can come into contact with the workpiece at an arbitrary angle. Using a small multi-axis multi-tasking machine with multi-axis XYZBC axes,
A nanoforming mechanism is mounted on the tool stage,
Measure the indentation load with a load cell or measure the indentation depth with a displacement meter,
Control the indentation depth with a resolution of 1 μm or less,
A method for processing a fine surface shape, characterized by repeatedly performing indentation processing while changing the location continuously within the region of the processing surface.
前記ナノフォーミング機構の押し込み痕間隔、押し込み荷重を場所によりに変えることを特徴とする請求項8に記載の微細表面形状の加工方法。   9. The method for processing a fine surface shape according to claim 8, wherein the indentation trace interval and the indentation load of the nanoforming mechanism are changed depending on a place. 前記ナノフォーミング機構は、ナイフエッジ、ポイント工具、ストラクチャ工具、その他の工具であることを特徴とする請求項8に記載の微細表面形状の加工方法。   9. The fine surface shape processing method according to claim 8, wherein the nanoforming mechanism is a knife edge, a point tool, a structure tool, or other tools. 前記ストラクチャ工具の中央部を凸状に形成したことを特徴とする請求項10に記載の微細表面形状の加工方法。   The method for processing a fine surface shape according to claim 10, wherein a central portion of the structure tool is formed in a convex shape.
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