JP2006236637A - 光電変換装置およびそれを用いた光発電装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光電変換装置1は、一方の電極として機能する導電性基板である透光性基板10および第1の導電層11と、その主面に形成され、光電変換を行なう光励起体である色素13が表面に多数付着した多孔質半導体層としての電子輸送体層12と、電解質14と、他方の電極である第2の導電層17とを具備し、多孔質半導体層は、略全面にわたって層の表面から少なくとも層の途中まで多数の溝19が形成されており、多孔質半導体層に形成された多数の溝により多孔質半導体層と導電性基板との間に生じる応力の緩和がなされるとともに多孔質半導体層の剥離を抑制することができる。
【選択図】 図4
Description
透光性基板10としては、ポリエチレンテレフタレート(PET),ポリエチレンナフタレート(PEN),ポリイミド,ポリカーボネート等から成る樹脂基板、白板ガラス,ソーダガラス,硼珪酸ガラス,セラミックス等から成る無機質基板、有機無機ハイブリッドシート等がよい。
第1の導電層11および第2の導電層(他方の電極)17としては、低温成長のスパッタリング法や低温スプレー熱分解法で作製したスズドープ酸化インジウム膜(ITO膜)や不純物ドープの酸化インジウム膜(In2O3膜)等がよい。他に、溶液成長法で作製した不純物ドープの酸化亜鉛(ZnO)膜等がよく、これらを積層して用いてもよい。また、熱CVD法で形成したフッ素ドープの酸化スズ(SnO2:F)膜等を用いてもよい。他に、不純物ドープの酸化インジウム(In2O3)膜等が使える。他の成膜法としては、真空蒸着法,イオンプレーティング法,ディップコート法,ゾルゲル法等がある。これらの成膜法によって表面に入射光の波長オーダーの凹凸を形成すると、光閉じ込め効果を持たせることができ、より好ましいものとなる。また、第1の透明導電層15としては、真空蒸着法やスパッタリング法等で形成したAu,Pd,Al等の薄い金属膜、あるいはTi/ITO/Ti等の多層積層体、あるいは金属メッシュ電極/ITO等の複合体でもよい。
多孔質半導体層としての一方導電型輸送体である電子輸送体層12は、多孔質の酸化チタン等の電子輸送体層(n型金属酸化物半導体)であることが好ましい。また、電子輸送体層12は、粒状体、または針状体,チューブ状体,柱状体等の線状体、またはこれら種々の線状体が集合してなるものが好適である。
多孔質の電子輸送体層12を埋めるように形成された他方導電型輸送体である電解質14の材料としては、透明導電性酸化物,電解質溶液,ゲル電解質や固体電解質等の電解質,有機正孔輸送剤,極薄膜金属等が挙げられる。特には、正孔輸送体(p型半導体)である、ゲル電解質,液体電解質,固体電解質,電解塩等がよい。これらのうち電解液が最もよいキャリア移動性を示すが、液体の場合には液漏れ等の問題があるのでゲル化や固体化したものを用いることが好ましい。
電子輸送体層12に担持される色素13としては、太陽光の300〜2000nmの波長間の光を吸収し、電子輸送体層12に吸着する色素13であれば良い。色素13の材料として、シリコン、砒化ガリウム、インジウムリン、カドミウムセレン、硫化カドミウム、CuInSe等の無機系半導体や酸化クロム、酸化鉄、酸化ニッケル等の無機顔料やRu錯体系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、メロシアニン系、クマリン系、インドリン系等の有機色素が良い。
支持体(支持基板)18としては、フッ素樹脂,シリコンポリエステル樹脂,高耐候性ポリエステル樹脂,ポリ塩化ビニル樹脂,PET,PEN,ポリイミド,ポリカーボネート等からなる樹脂基板、白板ガラス,ソーダガラス,硼珪酸ガラス,セラミックス等から成る無機質基板、有機無機ハイブリッドシート、アルミニウム,チタン,ステンレス等の金属から成る金属板がよい。
下地層は図示していないが、図1の構成では、第1の導電層11と多孔質体で一方導電型の電子輸送体層12との間に、多孔質の一方導電型の輸送体の薄い緻密層を挿入すると、逆電流が流れなくなるのでよい。
触媒層は図示していないが、図1の構成では、第2の導電層17と逆多孔質体で他方導電型の輸送体である電解質14との間に、白金あるいはカーボン等の極薄膜を挿入すると、正孔の移動がよくなるのでよい。
10:透光性基板
11:第1の導電層
12:電子輸送体層
13:色素
14:電解質
17:第2の導電層
18:支持体
19:溝
21:凸部
Claims (3)
- 一方の電極として機能する導電性基板と、該導電性基板の主面に形成され、光電変換を行なう光励起体が表面に多数付着した多孔質半導体層と、電解質と、他方の電極とを具備しており、前記多孔質半導体層は、略全面にわたって層の表面から少なくとも層の途中まで多数の溝が形成されていることを特徴とする光電変換装置。
- 前記溝は、前記多孔質半導体層の略全面にわたって連続的に形成されていることを特徴とする請求項1記載の光電変換装置。
- 請求項1または請求項2記載の光電変換装置を発電手段として用い、該発電手段の発電電力を負荷へ供給するように成したことを特徴とする光発電装置。
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