JP2006234598A - 表面検査装置 - Google Patents
表面検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006234598A JP2006234598A JP2005050069A JP2005050069A JP2006234598A JP 2006234598 A JP2006234598 A JP 2006234598A JP 2005050069 A JP2005050069 A JP 2005050069A JP 2005050069 A JP2005050069 A JP 2005050069A JP 2006234598 A JP2006234598 A JP 2006234598A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- objective lens
- wafer
- immersion
- inspection apparatus
- focusing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
【解決手段】対物レンズの観察光学系に、試料を対物レンズに合焦させる第1の合焦装置を配置する。さらにこの光学系とは別軸で、対物レンズよりも小さな開口数のレンズを有し、対物レンズと同じ位置に合焦するように調整された第2の合焦装置とが配置されている。
試料に合焦させるためには、まず第2の合焦装置で試料を合焦し、さらに高倍の対物レンズを使用した光学系で合焦する。最初から高倍の対物レンズを使用した光学系で合焦した場合よりも容易に、試料に合焦することができる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、容易に自動で合焦できる表面検査装置を提供することを目的とする。
請求項3に係る発明は、前記対物レンズは液浸対物レンズであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面検査装置を提供する。
請求項5に係る発明は、前記液浸対物レンズと前記試料の間に前記液浸対物レンズ用の液体を満たす液体供給装置を有することを特徴とする請求項3に記載の表面検査装置を提供する。
図1に本実施形態の表面検査装置100の構成を示す。なお以下の説明では、図1に示すように、紙面の上下方向をZ軸、紙面の左右方向をX軸、紙面に垂直な方向をY軸とする。
検査対象であるウエハ107は、不図示のウエハ搬送手段によってZ方向(光軸方向)に移動可能なZステージ109上のウエハホルダ108に載置される。Zステージ109は、XY方向(ウエハ107の平面方向)に移動可能なXYステージ110に載置されている。従ってウエハ107は、XYステージ110、Zステージ109によってXYZ方向に移動することができる。
Zステージ109もXYステージ110と同様に、ジョイスティック111で指示された方向に、制御装置113、Z位置制御装置102を介してZ方向に移動する。またZステージ109は、後述する合焦検出装置117または液浸系合焦検出装置118によって検出された合焦位置とウエハ107の表面が一致するように、自動で制御することも可能である。
次にウエハ107に合焦させる手順について説明する。まず不図示の搬送手段によってウエハ107がウエハホルダ108に載置される。その後操作者は、接眼レンズ101で、ウエハ107の位置を見ながら、ジョイスティック111を操作してウエハ107を指定した速度でXY方向に移動させる。操作者は、ウエハ107を観察しながら、液浸対物レンズ105の視野にウエハ107の観察領域が移動したことを確認したら、スイッチ112を押し、XYステージの位置決めが完了したことを制御装置113に伝える。
ウエハ107の観察領域の座標を予め制御装置113に入力する場合には、ウエハ107上の観察領域への移動精度を向上させるために、アライメント処理を行う。ウエハ107上には複数のアライメントマークがマーキングされている。このアライメントマークの設計上の座標(ウエハ座標系での位置)は予めわかっているので、この位置とXYステージの座標とのずれを計算しXYステージ座標を補正する。
次に液浸対物レンズ105を通る光を使用して、液浸合焦検出装置118で最終的な合焦を行う。まず液浸対物レンズ105とウエハ107の間に液体を満たす。注水装置114は制御装置113からの指令により、液体116を液浸対物レンズ105とウエハ107の間に注入する。
ウエハ107に複数の観察領域がある場合には、全ての観察領域の観察が終了するまで上記の操作を繰り返す。全ての観察領域の観察が終了したら、ウエハ107は不図示のウエハ搬送手段によって搬出される。
第2実施形態の表面検査装置の構成を図2に示す。第1実施形態と同じ部材には同じ番号を付し、説明は省略する。本実施形態の表面検査装置は、液浸対物レンズ105以外に乾燥系対物レンズ122を有し、この乾燥系対物レンズ122に乾燥系接眼レンズ120と、乾燥系合焦検出装置121が備えられている点が、第1実施形態と異なる。
乾燥系合焦検出装置121について説明する。
第1実施形態、第2実施形態共に高倍の対物レンズとして、液浸の対物レンズを使用したが、液浸対物レンズの換わりに高倍の乾燥系の対物レンズを使用しても構わない。
101 接眼レンズ
102 Z位置制御装置
105 液浸対物レンズ
106 XY位置制御装置
107 ウエハ
108 ウエハホルダ
109 Zステージ
110 XYステージ
111 ジョイスティック
112 スイッチ
113 制御装置
114 注入装置
115 排水装置
117 合焦検出装置
118 液浸系合焦検出装置
119、123、131 ハーフミラー
121 乾燥系合焦検出装置
122 乾燥系対物レンズ
130 光源
Claims (7)
- 対物レンズと、
前記対物レンズを使用して、試料を前記対物レンズに合焦させる第1の合焦装置と、
前記試料を前記対物レンズの合焦位置近傍に合焦させる第2の合焦装置とを有すること
を特徴とする表面検査装置。 - 前記第2の合焦装置は、前記対物レンズよりも小さな開口数のレンズを有すること
を特徴とする請求項1に記載の表面検査装置。 - 前記対物レンズは液浸対物レンズであること
を特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面検査装置。 - 前記対物レンズは倍率が80倍以上であること
を特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の表面検査装置。 - 前記液浸対物レンズと前記試料の間に前記液浸対物レンズ用の液体を満たす液体供給装置を有すること
を特徴とする請求項3に記載の表面検査装置。 - 前記液浸対物レンズと前記試料の間に満たされた前記液浸対物レンズ用の液体を排出する液体排出装置を有すること
を特徴とする請求項3または請求項5に記載の表面検査装置。 - 第2の合焦装置の前記対物レンズよりも小さな開口数のレンズは、非液浸対物レンズであること
を特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の表面検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005050069A JP2006234598A (ja) | 2005-02-25 | 2005-02-25 | 表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005050069A JP2006234598A (ja) | 2005-02-25 | 2005-02-25 | 表面検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006234598A true JP2006234598A (ja) | 2006-09-07 |
Family
ID=37042412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005050069A Pending JP2006234598A (ja) | 2005-02-25 | 2005-02-25 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006234598A (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07280537A (ja) * | 1994-04-11 | 1995-10-27 | Sekisui Chem Co Ltd | 撮像式検査方法および装置 |
JPH1163944A (ja) * | 1997-08-15 | 1999-03-05 | Toshiba Corp | 表面パターンの検査方法及び検査装置 |
JP2000081324A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-03-21 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法およびその装置 |
JP2003036118A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Sony Corp | 外観検査装置 |
JP2004070307A (ja) * | 2002-06-11 | 2004-03-04 | Olympus Corp | 液浸媒質供給装置、蛍光分光検査装置及び培養顕微鏡 |
JP2004186283A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Nikon Corp | 位置決め装置 |
JP2004207696A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-22 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
-
2005
- 2005-02-25 JP JP2005050069A patent/JP2006234598A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07280537A (ja) * | 1994-04-11 | 1995-10-27 | Sekisui Chem Co Ltd | 撮像式検査方法および装置 |
JPH1163944A (ja) * | 1997-08-15 | 1999-03-05 | Toshiba Corp | 表面パターンの検査方法及び検査装置 |
JP2000081324A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-03-21 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法およびその装置 |
JP2003036118A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Sony Corp | 外観検査装置 |
JP2004070307A (ja) * | 2002-06-11 | 2004-03-04 | Olympus Corp | 液浸媒質供給装置、蛍光分光検査装置及び培養顕微鏡 |
JP2004186283A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Nikon Corp | 位置決め装置 |
JP2004207696A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-22 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4831972B2 (ja) | マイクロマニピュレーションシステム | |
US20140313312A1 (en) | Digital microscope and method for optimizing the work process in a digital microscope | |
KR20190093618A (ko) | 결함 품질을 판단하기 위한 방법 및 장치 | |
TWI653112B (zh) | Laser processing device | |
JP2008506143A (ja) | 液浸対物レンズを有した微細要素の検査用装置 | |
KR20180123473A (ko) | 레이저광 조사 장치 및 레이저광 조사 방법 | |
US20170236738A1 (en) | Method and device for grooving wafers | |
JP6643328B2 (ja) | リソグラフィ構造を生成するための光学系 | |
JP2010271252A (ja) | 断面形状検出方法、加工装置および断面形状検出用プログラム | |
JP2008509426A6 (ja) | 微細要素の検査用装置 | |
JP2008509426A (ja) | 微細要素の検査用装置 | |
JP2008114059A (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | |
JP2002321080A (ja) | レーザ微細加工用オートフォーカス装置 | |
JP6101569B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
US10054781B2 (en) | Microscope, sheet-illumination microscope, and microscope-image acquiring method | |
JP2009109628A (ja) | 深さ測定装置 | |
JP4892294B2 (ja) | 微小穴の深さ測定方法 | |
JP2009198525A (ja) | 創薬スクリーニング装置 | |
JP2006234598A (ja) | 表面検査装置 | |
CN114778514B (zh) | 基于拉曼分析的无损高深宽比结构的测量装置及方法 | |
KR100913508B1 (ko) | 공초점을 이용한 3차원 스캐닝 장치 및 스캐닝 방법 | |
JP2008242014A (ja) | 蛍光顕微鏡 | |
JPH10216976A (ja) | レーザ加工装置およびアライメント装置 | |
JP2017009581A (ja) | 形状測定装置およびそれを搭載した塗布装置 | |
JP4384446B2 (ja) | オートフォーカス方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080207 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080620 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20081127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100615 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100617 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101019 |