JP2006232477A - シート体位置決め治具及びそれを用いた描画装置 - Google Patents

シート体位置決め治具及びそれを用いた描画装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006232477A
JP2006232477A JP2005049644A JP2005049644A JP2006232477A JP 2006232477 A JP2006232477 A JP 2006232477A JP 2005049644 A JP2005049644 A JP 2005049644A JP 2005049644 A JP2005049644 A JP 2005049644A JP 2006232477 A JP2006232477 A JP 2006232477A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
positioning
stage
sheet body
substrate
exposure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005049644A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiro Terada
和広 寺田
Akihiro Hashiguchi
昭浩 橋口
Tsunehisa Takada
倫久 高田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2005049644A priority Critical patent/JP2006232477A/ja
Publication of JP2006232477A publication Critical patent/JP2006232477A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】位置決め部材の切り替え作業や管理を容易とし、サイズによらず、シート体を所望の位置に位置決めする。
【解決手段】基板Fのサイズに応じた露光ステージ18上の2つの位置決め孔64a〜64hを選択し、選択された位置決め孔64a〜64hに位置決め部材60の位置決めピン66a、66bを係合する。次いで、位置決め部材60の基板Fのサイズに応じた2つの段部68a〜68fを選択し、選択された段部68a〜68fに基板Fの隅角部及びその隅角部から延在する面を当接させることで、露光ステージ18の中央を基準として基板Fの位置決めを行う。
【選択図】図3

Description

本発明は、ステージの所定位置に矩形状のシート体を位置決めするシート体位置決め治具及びそれを用いた描画装置に関する。
例えば、所望の画像パターンに従ってレーザビームを制御し、感光材料からなるシート体を露光走査することにより、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフィルタや多層プリント配線基板を製造する露光装置が開発されている(特許文献1参照)。
このような露光装置では、シート体の所定位置に画像を記録するため、シート体を露光ステージに高精度に位置決め固定する必要がある。特に、カラー液晶ディスプレイのカラーフィルタや多層プリント配線基板のように、同一のシート体の着脱を繰り返しながら所定のパターンを所定位置に重ねて露光記録しなければならないものにおいては、パターン間の位置ずれを回避するため、シート体の位置決め精度を確保することが極めて重要である。
特開2004−62155号公報
ところで、このような露光装置では、1台の露光装置でサイズの異なる複数種類のシート体を位置決めできることが要求される。この場合、例えば、露光ステージの端面を基準としてシート体を位置決めするのであれば、1つの位置決め部材で各サイズのシート体に容易に対応することができる。
しかしながら、例えば、露光ステージの中央を基準として位置決めしなければならないような場合には、シート体のサイズ毎に位置決め部材を切り替える必要がある。この場合、サイズの異なる多数の種類のシート体があると、位置決め部材の切り替え作業や位置決め部材自体の管理が非常に煩雑になってしまう。
本発明は、前記の不具合を解消するためになされたもので、位置決め部材の切り替え作業や管理を容易とし、サイズによらず、シート体を所望の位置に位置決めすることのできるシート体位置決め治具及びそれを用いた描画装置を提供することを目的とする。
前記の課題を解決するため、本発明は、ステージの所定位置に矩形状のシート体を位置決めするシート体位置決め治具において、
前記シート体の異なる複数のサイズに応じて規定される前記ステージの一方向及びそれと直交する他方向の所定位置に形成され、前記シート体の少なくとも1つの隅角部が係合する複数の段部を有する位置決め部材を備えることを特徴とする。
また、本発明は、ステージの所定位置に位置決めされた矩形状のシート体に対して描画を行う描画装置において、
前記ステージは、前記シート体の異なる複数のサイズに応じて規定される前記ステージの一方向及びそれと直交する他方向の所定位置に形成され、前記シート体の少なくとも1つの隅角部が係合する複数の段部を有する位置決め部材を備えることを特徴とする。
本発明は、位置決め部材の切り替え作業や管理を容易とし、サイズによらず、シート体を所望の位置に位置決めすることができる。これにより、位置決めされたシート体に対して効率的な処理を遂行することができる。
図1は、本発明の実施形態に係る描画装置であるプリント配線基板等の露光処理を行う露光装置10を示す。露光装置10は、複数の脚部12によって支持された変形の極めて小さい定盤14を備え、この定盤14上には、2本のガイドレール16を介して露光ステージ18(ステージ)が矢印方向に往復移動可能に設置される。露光ステージ18には、感光材料が塗布された矩形状の基板Fが吸着保持される。
定盤14の中央部には、ガイドレール16を跨ぐようにして門型のコラム20が設置される。このコラム20の一方の側部には、基板Fに記録されたアラインメントマークを検出するカメラ22a、22bが固定され、他方の側部には、基板Fに対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド24a〜24jが位置決め保持されたスキャナ26が固定される。なお、露光ヘッド24a〜24jは、基板Fの走査方向(露光ステージ18の移動方向)と直交する方向に2列で千鳥状に配列される。
図2は、各露光ヘッド24a〜24jの構成を示す。露光ヘッド24a〜24jには、例えば、光源ユニット28を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームLが合波され光ファイバ30を介して導入される。レーザビームLが導入された光ファイバ30の出射端には、ロッドレンズ32、反射ミラー34、及びデジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)36が順に配列される。
ここで、DMD36は、SRAMセル(メモリセル)の上に格子状に配列された多数のマイクロミラーを揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラーの表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。SRAMセルに制御ユニット42から描画データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラーが所定方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビームLのオンオフ状態が実現される。
オンオフ状態が制御されたDMD36によって反射されたレーザビームLの射出方向には、拡大光学系である第1結像光学レンズ44、46、DMD36の各マイクロミラーに対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー48、ズーム光学系である第2結像光学レンズ50、52が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー48の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビームLを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー54、56が配設される。
図3は、露光ステージ18と、露光ステージ18に着脱自在に構成される基板Fの位置決め部材60とを示す。
露光ステージ18の上面部には、基板Fを吸着保持するための多数の吸引孔62が形成される。また、露光ステージ18の上面部のうち、矢印で示す露光ステージ18の移動方向と直交する両側部の所定部位には、基板Fのサイズに対応した所定の間隔で複数の位置決め孔64a〜64h(第2係合部)が形成される。
一方、基板Fのサイズに対応して選択した2つの位置決め孔64a〜64hには、露光ステージ18の移動方向と直交する方向に延在する位置決め部材60が位置決めピン66a、66b(第1係合部)を介して装着される。
位置決め部材60には、露光ステージ18の移動方向に対する基板Fの長さYと、移動方向と直交する方向に対する基板Fの幅Xとに応じた位置に、複数の段部68a〜68fが形成される。
図4に示すように、長さY1〜Y4、幅X1、X2〜X4のサイズの異なる4種類の基板F1〜F4を例として説明すると、段部68a、68bは、位置決め部材60を位置決め孔64a、64bに係合させた状態で、基板F1を露光ステージ18の移動方向と直交する方向の中央に位置決めし、また、位置決め部材60を位置決め孔64c、64dに係合させた状態で、基板F2を露光ステージ18の移動方向と直交する方向の中央に位置決めする位置に形成される。段部68c、68dは、位置決め部材60を位置決め孔64e、64fに係合させた状態で、基板F3を露光ステージ18の移動方向と直交する方向の中央に位置決めする位置に形成される。さらに、段部68e、68fは、位置決め部材60を位置決め孔64g、64hに係合させた状態で、基板F4を露光ステージ18の移動方向と直交する方向の中央に位置決めする位置に形成される。
本実施形態の露光装置10は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その動作について説明する。
露光ステージ18に基板Fを位置決めする際、先ず、基板Fのサイズに応じて位置決め部材60の係合位置を調整する。例えば、図4に示す長さY1、幅X1からなる基板F1を露光ステージ18に位置決めする場合、露光ステージ18の位置決め孔64a、64bに位置決め部材60の位置決めピン66a、66bを係合させる。次いで、露光ステージ18に装着された位置決め部材60に対して、基板F1の隅角部を位置決め部材60の段部68aの隅角部に係合させるとともに、基板F1の前記隅角部に沿った面を位置決め部材60の段部68bに当接させる。この結果、基板F1が露光ステージ18の移動方向の所定位置に位置決めされるとともに、移動方向と直交する方向の中央に位置決めされる。
また、基板F1と異なるサイズからなる基板F2〜4を露光ステージ18に位置決めする場合には、基板F2〜4に応じた位置決め孔64c〜64hを選択して位置決め部材60を装着した後、該当する段部68a〜68fに基板F2〜4の隅角部及びこの隅角部に沿った面を当接させる。この場合、図4に示すように、基板F2〜F4は、基板F1と同様に、露光ステージ18の移動方向の所定位置に位置決めされるとともに、移動方向と直交する方向の中央に位置決めされる。
このように、1つの位置決め部材60を用いて、サイズの異なる複数種類の基板Fを露光ステージ18の中央に位置決めすることができる。
なお、露光ステージ18に形成される位置決め孔64a〜64hの内部の明度と、露光ステージ18の上面部の明度とが大きく異なっていれば、作業者が所望の位置決め孔64a〜64hの位置を確認することが容易となる。例えば、位置決め孔64a〜64hの色を露光ステージ18と異なる色に設定しておけば、位置決め部材60を所望の位置決め孔64a〜64hに装着する際、位置決め孔64a〜64hの位置を容易に確認して作業を行うことができる。
また、位置決め部材60の位置決めピン66a、66bを、位置決め孔64a〜64hが形成されている露光ステージ18よりも硬度が低い材料で形成すれば、位置決め部材60を露光ステージ18に対して繰り返し着脱する場合であっても、高価で交換が困難な露光ステージ18を損耗することがなく好適である。
さらに、図5に示すように、露光ステージ18側に位置決めピン70a〜70hを植設しておき、位置決め部材60の両端部に形成した位置決め孔72a、72bを選択した2つの位置決めピン70a〜70hに係合するようにしてもよい。なお、位置決めピン70a〜70hを露光ステージ18よりも硬度が低い材料で形成し、露光ステージ18に着脱自在とすることにより、高価な露光ステージ18を損耗することなく、位置決めピン70a〜70hを交換するだけで位置決め精度を維持することができる。
ここで、基板Fを露光ステージ18の中央に位置決めすることにより、例えば、図1に示すように、図示しない搬送ロボット等を用いて矢印A方向から露光ステージ18の中央に基板Fを搬入して位置決めし、露光装置10による露光処理が終了した後、再び前記搬送ロボット等を用いて基板Fを矢印B方向に搬出する処理を行う際、露光ステージ18に対する前記搬送ロボット等による基板Fの搬入、搬出処理を、基板Fのサイズに依存することなく、同一の動作で行うことができる。
位置決め部材60を用いて露光ステージ18に基板Fを位置決めし、吸引孔62を介して基板Fを露光ステージ18に吸着保持させた後、露光処理が開始される。
露光ステージ18は、定盤14のガイドレール16に沿って一方の方向に移動する。露光ステージ18がコラム20間を通過する際、カメラ22a、22bが基板Fの所定位置に記録されているアライメントマークを読み取る。読み取られたアライメントマークの位置データは、基板Fの位置補正データとして利用される。
位置補正データが算出された後、露光ステージ18は、他方の方向に移動し、スキャナ26により基板Fに対する画像の露光処理が開始される。
すなわち、光源ユニット28から出力されたレーザビームLは、光ファイバ30を介して各露光ヘッド24a〜24jに導入される。導入されたレーザビームLは、ロッドレンズ32から反射ミラー34を介してDMD36に入射する。
一方、描画データは、前記位置補正データにより補正されてDMD36に供給され、DMD36を構成する各マイクロミラーがオンオフ制御される。DMD36を構成する各マイクロミラー40により所望の方向に選択的に反射されたレーザビームLは、第1結像光学レンズ44、46によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー54、マイクロレンズアレー48及びマイクロアパーチャアレー56を介して所定の径に調整され、次いで、光学倍率変更部78を構成する第2結像光学レンズ50、52により所定の倍率に調整されて基板Fに導かれる。この場合、露光ステージ18は、定盤14に沿って移動し、基板Fには、露光ステージ18の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド24a〜24jにより所望の二次元画像が露光記録される。
ここで、例えば、露光装置10を用いて積層プリント配線基板を製造するような場合、同じ基板Fを繰り返し露光ステージ18に位置決めして露光処理を行うことになるが、基板Fは、露光後の積層処理の過程で周辺部を切り落とす処理を行っているため、前回の露光処理時と次回の露光処理時とで基板Fのサイズが変わってしまう。この場合、位置決め部材60は、段部68a〜68fの位置が固定されているため、位置決めした際に、積層して記録されるプリント配線間にずれが生じてしまう。
図6〜図8は、前記のずれに対応して段部の位置を調整可能とした位置調整機構を備えた位置決め部材80を示す。
位置決め部材80は、露光ステージ18に当接して基板Fを位置決めする位置決め板82と、位置決め板82上に配設され、位置決め板82を露光ステージ18の移動方向である矢印y方向に変位させる第1調整板84と、第1調整板84上に配設され、第1調整板84を介して位置決め板82を露光ステージ18の移動方向と直交する矢印x方向に変位させる第2調整板86とを備える。
位置決め板82は、基板Fを位置決めする段部88a、88bを有する。なお、この実施形態では、位置決め板82に1組の段部88a、88bのみが形成されているが、位置決め部材60と同様に、各基板F1〜F4のサイズに応じて複数の段部を形成されていてもよいことは勿論である。位置決め板82の長手方向両端部近傍には、円形孔部90a、90bが形成される。また、一方の円形孔部90aの矢印y方向両側部には、矢印y方向に延在する長孔92a、92bが形成される。なお、長孔92a、92bは、他方の円形孔部90b側にも形成することができる。さらに、位置決め板82には、矢印x方向及び矢印y方向に所定間隔で複数の細線からなる罫書き線93が形成される。
第1調整板84の長手方向両端部近傍には、位置決め板82の円形孔部90a、90bの位置に対応して、矢印x方向に延在する長孔94a、94bが形成される。第1調整板84の下面部には、位置決め板82の長孔92a、92bに係合する係合ピン96a、96bが形成される。なお、係合ピン96a、96bは、長孔94b側にも形成することができる。第1調整板84の上面部の長孔94aの近傍には、矢印y方向に延在する長孔98が形成されるとともにナット部材100が固定される。ナット部材100には、ボルト部材102が螺合し、ボルト部材102には、スライド部材104が螺合する。スライド部材104は、一部が長孔98を介して位置決め板82の孔部106に固定される。なお、長孔98、ナット部材100、ボルト部材102及びスライド部材104は、長孔94b側にも配設することができる。
第2調整板86の下面部には、第1調整板84の長孔94a、94b及び位置決め板82の円形孔部90a、90bを介して露光ステージ18の位置決め孔64a〜64hに係合する位置決めピン108a、108bが形成される。位置決めピン108a側における第2調整板86の上面部には、矢印x方向に延在する長孔110が形成されるとともにナット部材112が固定される。ナット部材112には、ボルト部材114が螺合し、ボルト部材114には、スライド部材116が螺合する。スライド部材116は、一部が長孔110を介して第1調整板84の孔部118に固定される。なお、長孔110、ナット部材112、ボルト部材114及びスライド部材116は、位置決めピン108b側にも配設することができる。さらに、第2調整板86には、第1調整板84に形成した罫書き線93の矢印x方向及び矢印y方向の位置を示すマーク118x、118yが形成される。
以上のように構成される位置決め部材80は、位置決め板82、第1調整板84及び第2調整板86の順に重ねられ、第2調整板86の位置決めピン108a、108bを、基板Fのサイズに応じて選択した2つの位置決め孔64a〜64hに係合することで露光ステージ18に装着される。そして、基板Fのサイズに応じて位置決め板82の位置の微調整が行われる。
すなわち、第1調整板84に配設されたボルト部材102を所定量回すことにより、ボルト部材102に螺合するスライド部材104が長孔98に沿って矢印y方向に移動し、スライド部材104が連結された位置決め板82が矢印y方向に移動する。また、第2調整板86に配設されたボルト部材114を所定量回すことにより、ボルト部材114に螺合するスライド部材116が長孔110に沿って矢印x方向に移動し、スライド部材116が連結された第1調整板84を介して位置決め板82が矢印x方向に移動する。この結果、基板Fのサイズに応じて位置決め板82の矢印y方向及び矢印x方向に対する位置の微調整が行われる。なお、位置決め板82の調整量は、位置決め板82に形成された罫書き線93と、第2調整板86に形成されたマーク118x、118yとの位置関係によって確認することができる。
上述した露光装置10は、例えば、プリント配線基板(PWB:Printed Wiring Board)の製造工程におけるドライ・フィルム・レジスト(DFR:Dry Film Resist)の露光、液晶表示装置(LCD)の製造工程におけるカラーフィルタの形成、TFTの製造工程におけるDFRの露光、プラズマ・ディスプレイ・パネル(PDP)の製造工程におけるDFRの露光等の用途に好適に用いることができる。また、本発明では、露光装置に限らず、たとえばインクジェット記録ヘッドを備えた描画装置にも同様して適用することが可能である。
本実施形態の露光装置の外観斜視図である。 本実施形態の露光装置における露光ヘッドの概略構成図である。 本実施形態の露光装置における露光ステージ及び位置決め部材の分解説明図である。 本実施形態の露光装置における露光ステージに対して、サイズの異なる複数種類のシート体を位置決めした状態の説明図である。 本実施形態の露光装置における露光ステージ及び位置決め部材の他の構成の分解説明図である。 本実施形態の露光装置における露光ステージ及び位置決め部材の他の実施形態の説明図である。 図6に示す位置決め部材の要部拡大図である。 図6に示す位置決め部材の分解説明図である。
符号の説明
10…露光装置 18…露光ステージ
60、80…位置決め部材 64a〜64h、72a、72b…位置決め孔
66a、66b、70a〜70h、108a、108b…位置決めピン
68a〜68f、88a、88b…段部
82…位置決め板 84…第1調整板
86…第2調整板 102、114…ボルト部材
104、116…スライド部材 F、F1〜F4…基板
L…レーザビーム

Claims (14)

  1. ステージの所定位置に矩形状のシート体を位置決めするシート体位置決め治具において、
    前記シート体の異なる複数のサイズに応じて規定される前記ステージの一方向及びそれと直交する他方向の所定位置に形成され、前記シート体の少なくとも1つの隅角部が係合する複数の段部を有する位置決め部材を備えることを特徴とするシート体位置決め治具。
  2. 請求項1記載の治具において、
    前記位置決め部材に形成される第1係合部と、
    前記シート体のサイズに応じた前記ステージの所定位置に形成され、前記第1係合部が着脱自在に係合する第2係合部と、
    を備えることを特徴とするシート体位置決め治具。
  3. 請求項2記載の治具において、
    前記第2係合部は、前記シート体のサイズに応じて規定される前記ステージの複数の位置に形成されることを特徴とするシート体位置決め治具。
  4. 請求項2記載の治具において、
    前記第1係合部は、位置決めピンであり、前記第2係合部は、前記位置決めピンが係合する位置決め孔であることを特徴とするシート体位置決め治具。
  5. 請求項4記載の治具において、
    前記位置決めピンは、前記ステージよりも硬度の低い材料からなることを特徴とするシート体位置決め治具。
  6. 請求項2記載の治具において、
    前記第2係合部と前記ステージとが異なる明度に設定されることを特徴とするシート体位置決め治具。
  7. 請求項1記載の治具において、
    前記位置決め部材は、前記段部の位置を前記一方向及び前記他方向に調整する位置調整機構を備えることを特徴とするシート体位置決め治具。
  8. ステージの所定位置に位置決めされた矩形状のシート体に対して描画を行う描画装置において、
    前記ステージは、前記シート体の異なる複数のサイズに応じて規定される前記ステージの一方向及びそれと直交する他方向の所定位置に形成され、前記シート体の少なくとも1つの隅角部が係合する複数の段部を有する位置決め部材を備えることを特徴とする描画装置。
  9. 請求項8記載の装置において、
    前記位置決め部材に形成される第1係合部と、
    前記シート体のサイズに応じた前記ステージの所定位置に形成され、前記第1係合部が着脱自在に係合する第2係合部と、
    を備えることを特徴とする描画装置。
  10. 請求項9記載の装置において、
    前記第2係合部は、前記シート体のサイズに応じて規定される前記ステージの複数の位置に形成されることを特徴とする描画装置。
  11. 請求項9記載の装置において、
    前記第1係合部は、位置決めピンであり、前記第2係合部は、前記位置決めピンが係合する位置決め孔であることを特徴とする描画装置。
  12. 請求項11記載の装置において、
    前記位置決めピンは、前記ステージよりも硬度の低い材料からなることを特徴とする描画装置。
  13. 請求項9記載の装置において、
    前記第2係合部と前記ステージとが異なる明度に設定されることを特徴とする描画装置。
  14. 請求項8記載の装置において、
    前記位置決め部材は、前記段部の位置を前記一方向及び前記他方向に調整する位置調整機構を備えることを特徴とする描画装置。
JP2005049644A 2005-02-24 2005-02-24 シート体位置決め治具及びそれを用いた描画装置 Pending JP2006232477A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005049644A JP2006232477A (ja) 2005-02-24 2005-02-24 シート体位置決め治具及びそれを用いた描画装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005049644A JP2006232477A (ja) 2005-02-24 2005-02-24 シート体位置決め治具及びそれを用いた描画装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006232477A true JP2006232477A (ja) 2006-09-07

Family

ID=37040553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005049644A Pending JP2006232477A (ja) 2005-02-24 2005-02-24 シート体位置決め治具及びそれを用いた描画装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006232477A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006090870A2 (en) * 2005-02-25 2006-08-31 Fujifilm Corporation Image forming device and method
JP2008172170A (ja) * 2007-01-15 2008-07-24 Tokyo Electron Ltd 基板保持機構及びプラズマ処理装置
JP2008275807A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Fujifilm Corp 基板クランプ機構及び描画システム
WO2009104345A1 (ja) * 2008-02-22 2009-08-27 三菱重工業株式会社 積層接合装置用治具
JP2015181192A (ja) * 2008-01-18 2015-10-15 ロックウェル・コリンズ・インコーポレーテッド 基板積層システムおよび方法
CN108062006A (zh) * 2016-11-07 2018-05-22 俞庆平 一种自动上下版的直写式丝网制版系统及制版方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61263136A (ja) * 1985-05-15 1986-11-21 Nitto Electric Ind Co Ltd 薄板物品の支持テ−ブル
JPH0435828U (ja) * 1990-07-20 1992-03-25
JPH08203988A (ja) * 1995-01-30 1996-08-09 Toshiba Mach Co Ltd 被処理材の固定装置
JPH1149267A (ja) * 1997-08-01 1999-02-23 Tenshiyou Denki Kogyo Kk 液晶板搬送容器
JP2000174102A (ja) * 1998-12-08 2000-06-23 Toshiba Corp 試料台およびこれを用いた基板評価装置
JP2002179256A (ja) * 2000-12-14 2002-06-26 Ricoh Co Ltd 画像形成装置
JP2004022903A (ja) * 2002-06-18 2004-01-22 Micronics Japan Co Ltd 表示用基板の処理装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61263136A (ja) * 1985-05-15 1986-11-21 Nitto Electric Ind Co Ltd 薄板物品の支持テ−ブル
JPH0435828U (ja) * 1990-07-20 1992-03-25
JPH08203988A (ja) * 1995-01-30 1996-08-09 Toshiba Mach Co Ltd 被処理材の固定装置
JPH1149267A (ja) * 1997-08-01 1999-02-23 Tenshiyou Denki Kogyo Kk 液晶板搬送容器
JP2000174102A (ja) * 1998-12-08 2000-06-23 Toshiba Corp 試料台およびこれを用いた基板評価装置
JP2002179256A (ja) * 2000-12-14 2002-06-26 Ricoh Co Ltd 画像形成装置
JP2004022903A (ja) * 2002-06-18 2004-01-22 Micronics Japan Co Ltd 表示用基板の処理装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006090870A2 (en) * 2005-02-25 2006-08-31 Fujifilm Corporation Image forming device and method
JP2006235370A (ja) * 2005-02-25 2006-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成装置および画像形成方法
WO2006090870A3 (en) * 2005-02-25 2007-10-25 Fujifilm Corp Image forming device and method
JP4485381B2 (ja) * 2005-02-25 2010-06-23 富士フイルム株式会社 画像形成装置および画像形成方法
JP2008172170A (ja) * 2007-01-15 2008-07-24 Tokyo Electron Ltd 基板保持機構及びプラズマ処理装置
JP2008275807A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Fujifilm Corp 基板クランプ機構及び描画システム
JP2015181192A (ja) * 2008-01-18 2015-10-15 ロックウェル・コリンズ・インコーポレーテッド 基板積層システムおよび方法
WO2009104345A1 (ja) * 2008-02-22 2009-08-27 三菱重工業株式会社 積層接合装置用治具
TWI386276B (zh) * 2008-02-22 2013-02-21 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 層積接合裝置用治具
CN108062006A (zh) * 2016-11-07 2018-05-22 俞庆平 一种自动上下版的直写式丝网制版系统及制版方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102333949B1 (ko) 묘화 장치
JP2006232477A (ja) シート体位置決め治具及びそれを用いた描画装置
JP4676205B2 (ja) 露光装置および露光方法
JP2006245302A (ja) シート体保持機構及びそれを用いた描画装置
KR101764169B1 (ko) 마스크리스 노광 장치와 이를 이용한 빔 위치 계측 방법
US10409172B2 (en) Digital photolithography using compact eye module layout
KR100718194B1 (ko) 투영광학계 및 패턴묘화장치
US10908507B2 (en) Micro LED array illumination source
US10459341B2 (en) Multi-configuration digital lithography system
CN109075185B (zh) 微led阵列作为照射源
JP4738227B2 (ja) 記録素子設定方法、画像記録方法及び装置
JP2007220987A (ja) 平面板の保持体
WO2006104170A1 (ja) 画像記録方法及び装置
JP2008242218A (ja) 描画装置及び描画方法
JP2007148310A (ja) マスク及びその加工方法
JP2006235238A (ja) シート体位置決め保持方法及び機構並びにそれを用いた描画装置
KR20160003489U (ko) 스캔의 방향에 대해 실질적으로 수직인 장축을 갖는 dmd
JP4987330B2 (ja) 画像記録方法及び装置
JP4463537B2 (ja) パターン露光装置
JP2007310263A (ja) 画像記録方法及び装置並びにその調整方法
JP2006235457A (ja) 光学装置取付構造、露光装置及び光学装置の取付方法
JP2008191404A (ja) 基板搬送装置、ステージ装置、及びパターン形成装置
JP2006309194A (ja) 画像記録方法及び装置
JP2006260068A (ja) 処理装置の調整方法及び装置
JP4738226B2 (ja) 画像記録方法及び装置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061213

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070702

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100226

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100518

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110201