JP2006231381A - 金属溶湯供給装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明はインゴット追装部と、該インゴット追装部の下部に連結された溶解室を具備し、前記インゴット追装部は、インゴットが挿入され保持する挿入チャンバーと、該挿入チャンバーの下側に位置し、前記溶解室に連結される置換チャンバーとを有し、前記挿入チャンバーと前記置換チャンバーの間に設けた入側遮蔽部材と、前記置換チャンバーと前記溶解室との間に設けた出側遮蔽部材と、前記インゴットを上方から下方の溶解室へ制御された送り速度で誘導する送り装置とによって、前記インゴットを雰囲気置換してから溶解室に導入する金属溶湯供給装置である。
【選択図】 図1
Description
さらに均一液滴噴霧法のような微小金属の製造装置においては、生産性の観点から金属溶湯供給装置は、極力省スペースであることが望ましい。
(2)挿入チャンバー内のハンド2で、遮蔽が解かれたゲート4を通して置換チャンバー5にインゴット3を搬送し、置換チャンバー内のハンド6でインゴットを持ち替える。その後、挿入チャンバー内のハンド2は、置換チャンバー5から挿入チャンバー1へ戻す。この作業中、置換チャンバーと溶解室間のゲート8は遮蔽部材18により閉じられている。
(3)置換チャンバーの両端のゲート4、8の遮蔽部材18を閉じた状態で、チャンバー内のガスをガス導入口7を通じて溶解室10と同じ圧力、雰囲気に調整する。ここで、溶解室のガス圧力とガス雰囲気は、導通管11、出湯るつぼ12を通してガス導入口14で制御されている。
(4)置換チャンバーと溶解室のゲートを開き、ハンド駆動装置17によって制御された送り速度と溶解室の温度条件下で、置換チャンバー内のハンド6でインゴット3を金属溶湯に浸漬し、溶解する。置換チャンバー内ハンド6は、その役目を終了後、溶解室10から置換チャンバー5内に戻し、置換チャンバーと溶解室のゲート8を遮蔽部材18により閉じる。
(5)目的とする供給速度に合わせて、上記(1)〜(4)を繰り返す。
この金属溶湯供給装置は、均一液滴噴霧法の場合、図1のように導通管を通して液滴の出湯るつぼに繋げることが好ましいが、直接出湯るつぼに設置しても良い。また、導通管はサイフォンの原理を用いることも可能であるが、図1のように供給装置と出湯るつぼのガス圧を同値にするガス通気管と兼務させたほうがよい。
また、金属溶湯がはんだ合金の場合、溶解室は窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気または水素等の還元性ガス雰囲気にするほうがよい。
なお、溶解室10、導通管11および出湯るつぼ12の溶融金属は、独立したヒーター13a〜gでそれぞれ最適な温度条件に制御できるものとしている。
本例では、ハンドを用いた例を示したが、挿入チャンバー、置換チャンバーと溶解室の各部屋に、搬送する方向に回転する一対のロールを設け、そのロールでインゴットを挟み、ロールを回転させることによりインゴットを挿入チャンバー、置換チャンバー、溶解室へと搬送する機構としてもよい。
Claims (5)
- インゴット追装部と、該インゴット追装部の下部に連結された溶解室を具備し、前記インゴット追装部は、インゴットを保持する挿入チャンバーと、該挿入チャンバーの下側に位置し、前記溶解室に連結される置換チャンバーとを有し、前記挿入チャンバーと前記置換チャンバーの間に設けた入側遮蔽部材と、前記置換チャンバーと前記溶解室との間に設けた出側遮蔽部材と、前記インゴットを上方から下方の溶解室へ制御された送り速度で誘導する送り装置とによって、前記インゴットを雰囲気置換してから溶解室に導入する金属溶湯供給装置。
- インゴットが棒状であり、該棒状インゴットが、長手方向に沿って挿入チャンバー、置換チャンバー、溶解室へと搬送されることを特徴とする請求項1に記載の金属溶湯供給装置。
- 溶解室が不活性ガス雰囲気または還元性ガス雰囲気であることを特徴とする請求項1または2に記載の金属溶湯供給装置。
- インゴットは、融点450℃以下の低融点インゴットであることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の金属溶湯供給装置。
- 前記インゴットの少なくとも溶解初期における前記溶解室の溶湯の液面は、前記インゴットの送り量によって制御されることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の金属溶湯供給装置。
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