JP2006228656A - 高分子エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
上面発光型素子(トップエミッション素子)の作製において、有機発光媒体層がダメージを受けない素子構成を提供し、高発光効率の高分子エレクトロルミネセンス素子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】
基材上に、下部電極層、高分子発光媒体層、上部電極層、接着層、封止基材を順次形成する高分子エレクトロルミネッセンス素子の製造において、該上部電極層と該接着層があらかじめ該封止基材側に形成され、熱圧着法を用いて該高分子発光媒体層上に積層することにより、有機発光媒体層にダメージを与えることなく上面発光素子を製造することが可能となった。
【選択図】 図1
Description
一般的に、下部電極層には透明電極が用いられ、有機発光媒体層で生じた光は、透明下部電極層側から取り出される。
ここで、熱圧着の温度が該高分子発光媒体層のガラス転移温度以上であり、かつ、熱圧着は超音波を併用して行われる。
そして、該高分子発光媒体層上に積層する工程は、大気に晒すことなく、真空中または不活性ガス中で熱圧着を行う。
以上のようにすることで、高分子発光媒体層にダメージを与えることなく上面発光素子を製造することができる。
下部電極層2上に、有機発光媒体層3を形成後、上部電極層4としてCa膜を蒸着法により10nm形成した後に、ITO膜をDCマグネトロンスパッタ法により100nm形成した以外は、実施例と同様の構成で有機EL素子を作製した。該有機EL素子に7Vの電圧を印加した結果、下部電極層2および上部電極層4の両方から、輝度1000cd/m2の発光が確認できた。このことから、スパッタ法を用いてITO膜を形成したことにより、有機発光媒体層3がダメージを受け、発光効率が1/10に低下することがわかった。
2・・・下部電極層
3・・・有機発光媒体層
4・・・上部電極層
41・・透明電極層
42・・電子注入層
5・・・接着層
6・・・封止基材
Claims (9)
- 基材、下部電極層、高分子発光媒体層、上部電極層、接着層、封止基材からなる高分子エレクトロルミネッセンス素子の製造において、基材1/下部電極層2/有機発光媒体層3を有する第一基材と上部電極層4/封止基材6を有する第二基材とを、該有機発光媒体層3と該上部電極層4を向かい合わせにして熱圧着することを特徴とする高分子エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 基材、下部電極層、高分子発光媒体層、上部電極層、接着層、封止基材からなる高分子エレクトロルミネッセンス素子の製造において、基材1/下部電極層2/有機発光媒体層3を有する第一基材と上部電極層4/封止基材6を有する第二基材とを、該有機発光媒体層3と該上部電極層4を向かい合わせにして熱圧着する工程で、熱圧着の温度が該高分子発光媒体層のガラス転移温度以上であり、かつ、超音波を併用することを特徴とする請求項1記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 基材、下部電極層、高分子発光媒体層、上部電極層、接着層、封止基材からなる高分子エレクトロルミネッセンス素子の製造において、基材1/下部電極層2/有機発光媒体層3を有する第一基材と上部電極層4/封止基材6を有する第二基材とを、該有機発光媒体層3と該上部電極層4を向かい合わせにして熱圧着する工程で、大気に晒すことなく、真空中または不活性ガス中で熱圧着を行うことを特徴とする請求項1乃至請求項2の何れかに記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 請求項1乃至請求項3の何れかに記載の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする高分子エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記の封止基材が発光取出口となっていることを特徴とする請求項4記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記の高分子発光媒体層が、少なくとも、正孔輸送層と発光層をこの順に含むことを特徴とする請求項4乃至請求項5の何れかに記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記の発光層が、溶液状態において、150℃以上の沸点を有する溶媒を少なくとも含むことを特徴とする請求項4乃至請求項6の何れかに記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記の上部電極層が、アルカリ金属含有層と透明電極層からなることを特徴とする請求項4乃至請求項7の何れかに記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記の封止基材が、少なくともプラスチックフィルムからなることを特徴とする請求項4乃至8の何れかに記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子。
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