JP2006227199A - 光スイッチ、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン支持基板3cの平坦面上には、支持電極2を支点として可撓性の梁部1bと一体的に形成された可動部1が揺動可能に保持されており、その先端は、ミラー部6を配置するためのミラー台座10として形成されている。ミラー台座10の側面には、洗浄液排出用の凹凸部11が形成されており、光スイッチの洗浄工程後にミラー台座10底面とシリコン支持基板3c表面との間隙に介在する洗浄液は、その表面張力による毛細管現象により、ミラー台座10側面の凹凸部11へと排出されるため、結果としてスティクションの発生要因であるミラー台座10底面とシリコン支持基板3c表面との間に作用する洗浄液の表面張力が低減される。
【選択図】 図1
Description
工程(a):シリコン活性層3a、中間層3b、シリコン支持基板3cよりなるシリコン積層体(SOI基板)3のシリコン活性層3a表面全体にマスキング用の耐性膜7をスパッタリング等により形成する。耐性膜7は、例えばクロム(Cr)よりなり、シリコンの深異方性の反応性イオンエッチングとフッ酸(HF)に対して耐性のある膜である。
残存する前記シリコン活性層表面に第二のマスキングパターンを形成する第二のマスキング工程と、当該第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層をドライエッチングにより一定量除去する工程と、前記第二のマスキングパターンを除去する工程と、前記中間層をウェットエッチングにより一部を除いて除去する工程とを有し、前記第一のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングする工程の中で、前記台座部側面に前記凹凸部を同時に形成する光スイッチの製造方法とする。
前記第一のマスキングパターンを除去する工程と、前記中間層をウェットエッチングにより一部を除いて除去する工程とを有し、前記第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングにより除去する工程の中で、前記台座部側面に前記凹凸部を同時に形成す光スイッチの製造方法とする。
1a 櫛歯電極
1b 梁部
2 支持電極
3 シリコン積層体(SOI基板)
3a シリコン活性層
3b 中間層
3c シリコン支持基板
4 フレーム部
4a 対向電極
5 ミラー台座
6 ミラー部
7 耐性膜
7a 第一のマスキングパターン
7b 第二のマスキングパターン
7c 第一のマスキングパターン
7d 第一のマスキングパターン
10 ミラー台座
11 凹凸部
11a 階段状の凹凸部
11b 深い溝状の凹凸部
12 耐性膜(フォトレジスト)
12a 第二のマスキングパターン
20 下部構造体
20a 凹凸部
21 凹部
30 ミラー台座
30a 傾斜面
Claims (13)
- 少なくとも、
平坦面を有する基部と、
当該基部の平坦面上に固定された固定部を支点として可撓性の梁部を介し中空状態で保持された可動部と、
当該可動部の一端部に形成された台座部と、
当該台座部上に形成されたミラー部と、
前記可動部に駆動力を発生させる駆動力発生手段とで構成され、
前記可動部を前記基部の平坦面に沿って揺動させる光スイッチであって、
前記台座部側面には、当該台座部の底面にまで延びる凹凸部が形成されていることを特徴とする光スイッチ。 - 前記凹凸部は、少なくとも隣接する凹凸形状が互いに異なることを特徴とする請求項1に記載の光スイッチ。
- 前記基部平坦面の前記可動部底面と対向しない領域には、当該基部平坦面より一段下がった凹部が形成されていることを特徴とする請求項1、又は2に記載の光スイッチ。
- 少なくとも、
平坦面を有する基部と、
当該基部の平坦面上に固定された固定部を支点として可撓性の梁部を介し中空状態で保持された可動部と、
当該可動部の一端部に形成された台座部と、
当該台座部上に形成されたミラー部と、
前記可動部に駆動力を発生させる駆動力発生手段とで構成され、
前記可動部を前記基部の平坦面に沿って駆動させる光スイッチであって、
前記台座部側面には、当該台座部の側端部に向かう傾斜面が形成されていることを特徴とする光スイッチ。 - 前記台座部側面には、前記台座部の底面にまで延びる凹凸部が形成されていることを特徴とする請求項4に記載の光スイッチ。
- 前記凹凸部は、少なくとも隣接する凹凸形状が互いに異なることを特徴とする請求項5に記載の光スイッチ。
- 前記基部平坦面の前記可動部底面と対向しない領域には、当該基部平坦面より一段下がった凹部が形成されていることを特徴とする請求項4〜6の何れか一つに記載の光スイッチ。
- 平坦面を有する基部の当該平坦面上に固定された固定部を支点として可撓性の梁部を介し中空状態で保持された可動部を有すると共に、当該可動部の一端部にはミラー部が形成された台座部が設けられ、尚且つ当該台座部の側面には当該台座部底面にまで延びる凹凸部が形成された光スイッチの製造方法であって、
少なくとも、
中間層をシリコン支持基板とシリコン活性層とで挟持してなるシリコン積層体の前記シリコン活性層表面に第一のマスキングパターンを形成する第一のマスキング工程と、
当該第一のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングする工程と、
前記第一のマスキングパターンを除去する工程と、
残存する前記シリコン活性層表面に第二のマスキングパターンを形成する第二のマスキング工程と、
当該第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層をドライエッチングにより一定量除去する工程と、
前記第二のマスキングパターンを除去する工程と、
前記中間層をウェットエッチングにより一部を除いて除去する工程とを有し、
前記第一のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングする工程の中で、前記台座部側面に前記凹凸部を同時に形成することを特徴とする光スイッチの製造方法。 - 平坦面を有する基部の当該平坦面上に固定された固定部を支点として可撓性の梁部を介し中空状態で保持された可動部を有すると共に、当該可動部の一端部にはミラー部が形成された台座部が設けられ、尚且つ当該台座部の側面には当該台座部底面にまで延びる凹凸部が形成された光スイッチの製造方法であって、
少なくとも、
中間層をシリコン支持基板とシリコン活性層とで挟持してなるシリコン積層体の前記シリコン活性層表面に第一のマスキングパターンを形成する第一のマスキング工程と、
当該第一のマスキングパターンを被うように第二のマスキングパターンを形成する第二のマスキング工程と、
当該第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングにより除去する工程と、
前記第二のマスキングパターンを除去する工程と、
前記第二のマスキングパターンを除去することにより露出された前記第一のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン支持基板および前記シリコン活性層をドライエッチングにより一定量除去する工程と、
前記第一のマスキングパターンを除去する工程と、
前記中間層をウェットエッチングにより一部を除いて除去する工程とを有し、
前記第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングにより除去する工程の中で、前記台座部側面に前記凹凸部を同時に形成することを特徴とする光スイッチの製造方法。 - 平坦面を有する基部の当該平坦面上に固定された固定部を支点として可撓性の梁部を介し中空状態で保持された可動部を有すると共に、当該可動部の一端部にはミラー部が形成された台座部が設けられており、尚且つ当該台座部の側面には当該台座部底面にまで延びる凹凸部が形成され、更に前記基部平坦面の前記可動部底面と対向しない領域には、当該基部平坦面より一段下がった凹部が形成されている光スイッチの製造方法であって、
少なくとも、
中間層をシリコン支持基板とシリコン活性層とで挟持してなるシリコン積層体の前記シリコン活性層表面に第一のマスキングパターンを形成する第一のマスキング工程と、
当該第一のマスキングパターンを被うように第二のマスキングパターンを形成する第二のマスキング工程と、
当該第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングにより除去する工程と、
前記第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして露出領域の前記中間層をドライエッチングにより除去する工程と、
前記第二のマスキングパターンを除去する工程と、
前記第二のマスキングパターンを除去することにより露出された前記第一のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン支持基板および前記シリコン活性層をドライエッチングにより一定量除去する工程と、
前記第一のマスキングパターンを除去する工程と、
前記中間層の残存部分をウェットエッチングにより一部を除いて除去する工程とを有し、
前記第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングにより除去する工程の中で、前記台座部側面に前記凹凸部を同時に形成すると共に、
前記第二のマスキングパターンを除去することにより露出された前記第一のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン支持基板および前記シリコン活性層をドライエッチングにより一定量除去する工程の中で、前記基部平坦面の前記可動部底面と対向しない領域に、当該基部平坦面より一段下がった凹部を同時に形成することを特徴とする光スイッチの製造方法。 - 前記第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして露出領域の前記中間層をドライエッチングにより除去する工程と、前記第二のマスキングパターンを除去する工程とを互いに順番を入れ替え、前記第二のマスキングパターンを除去した後に、露出領域の前記中間層のみをドライエッチング、又はウェットエッチングにより選択的に除去することを特徴とする請求項10に記載の光スイッチの製造方法。
- 平坦面を有する基部の当該平坦面上に固定された固定部を支点として可撓性の梁部を介し中空状態で保持された可動部を有すると共に、当該可動部の一端部にはミラー部が形成された台座部が設けられており、尚且つ当該台座部側面には当該台座部の側端部に向かう傾斜面が形成され、更に前記基部平坦面の前記可動部底面と対向しない領域に、当該基部平坦面より一段下がった凹部が形成されている光スイッチの製造方法であって、
少なくとも、
中間層をシリコン支持基板とシリコン活性層とで挟持してなるシリコン積層体の前記シリコン活性層表面に第一のマスキングパターンを形成する第一のマスキング工程と、
当該第一のマスキングパターンを被うように第二のマスキングパターンを形成する第二のマスキング工程と、
当該第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングにより除去する工程と、
前記第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして露出領域の前記中間層をドライエッチングにより除去する工程と、
前記第二のマスキングパターンを除去する工程と、
前記第二のマスキングパターンを除去することにより露出された前記第一のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン支持基板および前記シリコン活性層をドライエッチングにより一定量除去する工程と、
前記第一のマスキングパターンを除去する工程と、
前記中間層の残存部分をウェットエッチングにより一部を除いて除去する工程とを有し、
前記第二のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン活性層を前記中間層が露出するまでドライエッチングにより除去する工程の中で、前記台座部側面に前記傾斜面を同時に形成すると共に、
前記第二のマスキングパターンを除去することにより露出された前記第一のマスキングパターンをエッチングマスクとして、露出領域の前記シリコン支持基板および前記シリコン活性層をドライエッチングにより一定量除去する工程の中で、前記基部平坦面の前記可動部底面と対向しない領域に、当該基部平坦面より一段下がった凹部を同時に形成することを特徴とする光スイッチの製造方法。 - 露出領域の前記中間層をドライエッチングにより除去する工程と、前記第二のマスキングパターンを除去する工程とを互いに順番を入れ替え、前記第二のマスキングパターンを除去した後に、露出領域の前記中間層のみをドライエッチング、又はウェットエッチングにより選択的に除去することを特徴とする請求項12に記載の光スイッチの製造方法。
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