JP2006222114A - 多層プリント配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ケーブル部を形成するために外層基板の一部分を除去する際に、内層基板上に設けたシールド層が外層基板側に転写して剥がれるのを防止する。
【解決手段】 シールド層40を有する一の基板(内層基板)30の上に接着部材50を介して他の基板(外層基板)60を積層したのち、前記他の基板60のケーブル部に対応する領域64に開口部3aを設けたフィルム3を前記他の基板60の外側に配置し、前記開口部3aを設けたフィルム3の外側から前記一の基板30と前記接着部材50と前記他の基板60とを積層プレスして、前記多層部に対応する領域65において前記一の基板30と前記接着部材50と前記他の基板60とを一体化する。これにより、他の基板60のケーブル部に位置する領域64を除去するとき、シールド層40が外層基板60の前記除去部分64に転写することを防止できる。
【選択図】 図1
【解決手段】 シールド層40を有する一の基板(内層基板)30の上に接着部材50を介して他の基板(外層基板)60を積層したのち、前記他の基板60のケーブル部に対応する領域64に開口部3aを設けたフィルム3を前記他の基板60の外側に配置し、前記開口部3aを設けたフィルム3の外側から前記一の基板30と前記接着部材50と前記他の基板60とを積層プレスして、前記多層部に対応する領域65において前記一の基板30と前記接着部材50と前記他の基板60とを一体化する。これにより、他の基板60のケーブル部に位置する領域64を除去するとき、シールド層40が外層基板60の前記除去部分64に転写することを防止できる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、ケーブル部上にシールド層を有する多層プリント配線基板の製造方法に関する。
フレキシブル部にシールド層を設けた多層プリント配線基板の製造手順としては、例えば以下に示すものがある。
(1)両面銅張積層板の回路形成を行ったのち、回路の上にカバーレイを接着して内層基板を形成する。
(2)カバーレイ上の所定の位置にシールド層を形成する。
(3)内層基板の両面に接着シートを介して外層基板を積層する。
(4)層間導通のための穴を開け、基板の表面および穴の内面に銅メッキを施す。
(5)最外層の回路形成を行い、さらに最外層回路の上に絶縁層を設ける。
(6)シールド層の上の外層基板を除去する。
(1)両面銅張積層板の回路形成を行ったのち、回路の上にカバーレイを接着して内層基板を形成する。
(2)カバーレイ上の所定の位置にシールド層を形成する。
(3)内層基板の両面に接着シートを介して外層基板を積層する。
(4)層間導通のための穴を開け、基板の表面および穴の内面に銅メッキを施す。
(5)最外層の回路形成を行い、さらに最外層回路の上に絶縁層を設ける。
(6)シールド層の上の外層基板を除去する。
シールド層を有する配線基板の従来例として、特許文献1〜9に記載のものがある。
特許文献1では、屈曲性を損なわずにシールド層を保護するため、厚さ5μm以下のシールド層の上に、接着剤層を介して固定絶縁層を設けている。
特許文献2では、アース回路の上面に設けられた導通用孔に導電性接着剤を充填し、アース回路とシールド電極層とをスルーホール導通構造により電気的に接続している。
特許文献3では、回路の上に、第1カバーレイとシールド層と第2カバーレイとをこの順で設けている。
特許文献4では、導体回路上に接着剤層および金属薄膜層をこの順で設け、導体回路と金属薄膜層との間を導電性ペーストによって電気的に接続している。
特許文献5では、アース回路上に開口部を有する絶縁樹脂層を設け、前記開口部内に金属メッキ層を設け、絶縁樹脂層の上に導電被覆層と絶縁樹脂層とをこの順で設けている。
特許文献6では、絶縁ベース層の両面に回路を設け、各面の回路の上方部位にそれぞれ外部シールド層を形成している。
特許文献7では、回路配線パターンの露出面を覆うように絶縁樹脂薄膜を設け、さらにその上にシールド層を設けている。
特許文献8では、フレックスリジッド多層配線板において、スルーホールの位置を避けて導電性塗料を塗布することにより、シールド層を形成している。
特許文献9では、フレックスリジッド多層板において、可撓部の回路厚みを硬質板部の回路厚みよりも薄くしている。
特開平5−3395号公報
特開平6−224587号公報
特開平7−122882号公報
特開平7−283579号公報
特開平11−177192号公報
特開2002−176231号公報
特開2004−119604号公報
特開平7−79089号公報
特開平7−106766号公報
特許文献1では、屈曲性を損なわずにシールド層を保護するため、厚さ5μm以下のシールド層の上に、接着剤層を介して固定絶縁層を設けている。
特許文献2では、アース回路の上面に設けられた導通用孔に導電性接着剤を充填し、アース回路とシールド電極層とをスルーホール導通構造により電気的に接続している。
特許文献3では、回路の上に、第1カバーレイとシールド層と第2カバーレイとをこの順で設けている。
特許文献4では、導体回路上に接着剤層および金属薄膜層をこの順で設け、導体回路と金属薄膜層との間を導電性ペーストによって電気的に接続している。
特許文献5では、アース回路上に開口部を有する絶縁樹脂層を設け、前記開口部内に金属メッキ層を設け、絶縁樹脂層の上に導電被覆層と絶縁樹脂層とをこの順で設けている。
特許文献6では、絶縁ベース層の両面に回路を設け、各面の回路の上方部位にそれぞれ外部シールド層を形成している。
特許文献7では、回路配線パターンの露出面を覆うように絶縁樹脂薄膜を設け、さらにその上にシールド層を設けている。
特許文献8では、フレックスリジッド多層配線板において、スルーホールの位置を避けて導電性塗料を塗布することにより、シールド層を形成している。
特許文献9では、フレックスリジッド多層板において、可撓部の回路厚みを硬質板部の回路厚みよりも薄くしている。
上記の手順(1)〜(6)に従って多層プリント配線基板を製造する際、従来の方法では、図4(a)に示すように、外層基板60のうちシールド層40上に位置する部分64を除去するとき、内層基板30上に設けたシールド層40の一部42が外層基板60の除去部分64に転写して、内層基板30上のシールド層40に欠陥41が生じることがあった。その結果、シールド層40のシールド特性が低下するおそれがある。
しかしながら、上述の特許文献中には、図4(b)に示すようなシールド層40の転写に対処する方法は特に知られていない。
とりわけ特許文献1〜7は単層板に関するものである。単層板では、全ての回路形成が終わった後にシールド層の加工ができるため、製造工程中にシールド層の保護等を考慮する必要がなく、シールド層の転写の問題も見当たらない。
しかしながら、上述の特許文献中には、図4(b)に示すようなシールド層40の転写に対処する方法は特に知られていない。
とりわけ特許文献1〜7は単層板に関するものである。単層板では、全ての回路形成が終わった後にシールド層の加工ができるため、製造工程中にシールド層の保護等を考慮する必要がなく、シールド層の転写の問題も見当たらない。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ケーブル部を形成するために外層基板の一部分を除去する際に、内層基板上に設けたシールド層が外層基板側に転写して剥がれるのを防止できる多層プリント配線基板の製造方法を提供することを課題とする。
前記課題を解決するため、本発明は、ケーブル部および多層部を有し、前記多層部は、前記ケーブル部を構成する一の基板の前記ケーブル部を除く領域の少なくとも片面に接着部材を介して他の基板が積層されてなり、前記ケーブル部は前記一の基板上にシールド層を有する多層プリント配線基板の製造方法であって、
前記一の基板のうち前記ケーブル部に対応する領域にシールド層を形成するシールド層形成工程と、
前記ケーブル部に対応する領域および前記多層部に対応する領域を有する他の基板を、接着部材を介して前記シールド層を設けた一の基板の上に積層する基板積層工程と、
前記ケーブル部に対応する領域に開口部を設けたフィルムを前記他の基板の外側に配置し、前記開口部を設けたフィルムの外側から前記一の基板と前記接着部材と前記他の基板を積層プレスして、前記多層部に対応する領域において前記一の基板と前記接着部材と前記他の基板とを一体化する積層プレス工程と、
前記他の基板の前記ケーブル部に対応する領域に位置する部分を除去する基板除去工程とを特徴とする多層プリント配線基板の製造方法を提供する。
前記一の基板のうち前記ケーブル部に対応する領域にシールド層を形成するシールド層形成工程と、
前記ケーブル部に対応する領域および前記多層部に対応する領域を有する他の基板を、接着部材を介して前記シールド層を設けた一の基板の上に積層する基板積層工程と、
前記ケーブル部に対応する領域に開口部を設けたフィルムを前記他の基板の外側に配置し、前記開口部を設けたフィルムの外側から前記一の基板と前記接着部材と前記他の基板を積層プレスして、前記多層部に対応する領域において前記一の基板と前記接着部材と前記他の基板とを一体化する積層プレス工程と、
前記他の基板の前記ケーブル部に対応する領域に位置する部分を除去する基板除去工程とを特徴とする多層プリント配線基板の製造方法を提供する。
本発明においては、前記開口部を設けたフィルムの開口部の開口幅から、前記他の基板の前記ケーブル部に対応する領域の幅を減じた差が、±0mm以上、+5mm以下であることが好ましい。また、前記開口部を設けたフィルムの厚さは、160μm以上であることが好ましい。
本発明によれば、一の基板(内層基板)と他の基板(外層基板)とを積層プレスで一体化するときの圧力がケーブル部に伝わらないようにすることができるので、積層プレス中、他の基板とシールド層との間の隙間を維持することができる。従って、他の基板へのシールド層の転写が発生せず、欠陥のないシールド層を有する多層プリント配線基板を製造することができる。
以下、最良の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
本形態例では、ケーブル部を構成する一の基板の両面に他の基板が一層ずつ積層されており、「一の基板」を内層基板、「他の基板」を外層基板という場合がある。なお、本発明においては、多層部は、一の基板の片面に他の基板を一層又は複数層積層したものとして構成することもできる。あるいは、一の基板の両面に他の基板を一層又は複数層積層したものとして構成することもできる。
本形態例では、ケーブル部を構成する一の基板の両面に他の基板が一層ずつ積層されており、「一の基板」を内層基板、「他の基板」を外層基板という場合がある。なお、本発明においては、多層部は、一の基板の片面に他の基板を一層又は複数層積層したものとして構成することもできる。あるいは、一の基板の両面に他の基板を一層又は複数層積層したものとして構成することもできる。
以下、図1,図2に示すように、内層基板30の両面に外層基板60,60が積層され、内層基板30として2層の導電層12,13を有するフレキシブル配線板(FPC:Flexible Printed Circuit)を用い、外層基板60として2層の導電層62,63を有するリジッド配線板(RPC:Rigid Printed Circuit)を用いた6層の多層プリント配線基板7を例にとって製造方法を説明する。
この多層プリント配線基板7は、内層基板30の両面にシールド層40が設けられたケーブル部7aと、内層基板30の両面に、接着部材50を介して外層基板60が積層された多層部7bとを有し、多層部7bがケーブル部7aの両端部(図2(f)の左右両側)に設けられた構成となっている。
なお、本発明では、内層基板30は、フレキシブル配線板でもリジッド配線板でもよい。また、外層基板60は、フレキシブル配線板でもリジッド配線板でもよい。多層プリント配線基板の層数や各層の厚み、構成等も、特に限定されるものではない。
なお、内層基板30にフレキシブル配線板を用いた場合、フレキシブルなケーブル部7aを構成できるので好ましい。さらに、外層基板60にリジッド配線板を用いた場合、ケーブル部7aがフレキシブルで、多層部7bがリジッドであるリジッド−フレックス多層基板を構成することができる。
なお、本発明では、内層基板30は、フレキシブル配線板でもリジッド配線板でもよい。また、外層基板60は、フレキシブル配線板でもリジッド配線板でもよい。多層プリント配線基板の層数や各層の厚み、構成等も、特に限定されるものではない。
なお、内層基板30にフレキシブル配線板を用いた場合、フレキシブルなケーブル部7aを構成できるので好ましい。さらに、外層基板60にリジッド配線板を用いた場合、ケーブル部7aがフレキシブルで、多層部7bがリジッドであるリジッド−フレックス多層基板を構成することができる。
図1は、本発明の多層プリント配線基板の製造方法における基板一体化工程を説明する図面であり、(a)は基板一体化工程を行う装置の組み込み例を示す概略構成図、(b)は開口部を有するフィルムの一例を示す平面図、(c)は内層基板と接着部材と外層基板とを積層プレスする様子を示す部分拡大断面図である。
図3(a)はスリットを入れる前の外層基板の一例を示す断面図、図3(b)はスリットを入れた後の外層基板の一例を示す断面図である。
なお、図1〜図3は発明を説明するための模式図であり、寸法の尺度や形状等は、必ずしも実物と一致していない。
図3(a)はスリットを入れる前の外層基板の一例を示す断面図、図3(b)はスリットを入れた後の外層基板の一例を示す断面図である。
なお、図1〜図3は発明を説明するための模式図であり、寸法の尺度や形状等は、必ずしも実物と一致していない。
本形態例の多層プリント配線基板の製造方法について説明する。
まず、図2(a)に示すように、ポリイミド等の樹脂からなるフレキシブル基材11の両面に銅箔12、13が積層された銅張積層板10(CCL:Copper−Clad Laminate)を用意し、これに不図示の回路を形成する。
次に、図2(b)に示すように、銅張積層板10の各銅箔12、13面上にそれぞれカバーレイ20,20を積層する。ここでは、カバーレイ20として、ポリイミド等の樹脂からなるフレキシブル基材21の片面に接着剤層22を設けたものを用い、銅箔12、13と接着剤層22とを重ね合わせて熱プレス等によって貼り合わせる。
これにより、内層基板30となるフレキシブル基板(内層FPC)が得られる。
まず、図2(a)に示すように、ポリイミド等の樹脂からなるフレキシブル基材11の両面に銅箔12、13が積層された銅張積層板10(CCL:Copper−Clad Laminate)を用意し、これに不図示の回路を形成する。
次に、図2(b)に示すように、銅張積層板10の各銅箔12、13面上にそれぞれカバーレイ20,20を積層する。ここでは、カバーレイ20として、ポリイミド等の樹脂からなるフレキシブル基材21の片面に接着剤層22を設けたものを用い、銅箔12、13と接着剤層22とを重ね合わせて熱プレス等によって貼り合わせる。
これにより、内層基板30となるフレキシブル基板(内層FPC)が得られる。
次に、図2(c)に示すように、内層基板30のうちケーブル部に対応する領域にシールド層40を形成する(シールド層形成工程)。
シールド層40の構成としては特に限定されるものではないが、例えば、内層基板30の直上に銀ペースト層を設け、その上にカーボンブラック層をコーティングした二層構造のものが好適に用いられる。シールド層40の形成方法としては、塗布、スパッタ、エアーブロー(吹き付け)等が挙げられる。なお、シールド層40は、多層部に対応する領域側に若干はみ出していてもよい。
シールド層40の構成としては特に限定されるものではないが、例えば、内層基板30の直上に銀ペースト層を設け、その上にカーボンブラック層をコーティングした二層構造のものが好適に用いられる。シールド層40の形成方法としては、塗布、スパッタ、エアーブロー(吹き付け)等が挙げられる。なお、シールド層40は、多層部に対応する領域側に若干はみ出していてもよい。
次に、図2(d)に示すように、ケーブル部に対応する領域64と多層部に対応する領域65を有する外層基板60を、接着部材(接着シート)50を介して内層基板30上に積層する(基板積層工程)。
ここで接着部材50は、外層基板60のうち多層部に対応する領域65のみを内層基板30に貼着するように、多層部に対応する領域65の範囲内に設けられる。外層基板60のうちケーブル部に対応する領域64には、内層基板30との間に隙間(空間)51が設けられる。
ここで接着部材50は、外層基板60のうち多層部に対応する領域65のみを内層基板30に貼着するように、多層部に対応する領域65の範囲内に設けられる。外層基板60のうちケーブル部に対応する領域64には、内層基板30との間に隙間(空間)51が設けられる。
また、外層基板60は、図3(a)に示すように、電気絶縁性のリジッド基材61の両面に銅箔等の導電層62、63を設けてなるリジッド配線板(RPC)から形成されたものであり、基板積層工程に先立ち、このRPCを加工して、図3(b)に示すように、ケーブル部に対応する領域64と多層部に対応する領域65との境界となる位置にスリット66を形成したものである。
なお、基板積層工程の前工程でスリット66の代わりにハーフカット溝を設け(第1の溝形成工程)、さらに後工程(ケーブル部64の除去工程よりは前の工程)で前記ハーフカット溝に接続するように外層基板60の反対側から浅く溝を形成して(第2の溝形成工程)、外層基板60を貫通するスリットを完成させるようにしてもよい。
なお、基板積層工程の前工程でスリット66の代わりにハーフカット溝を設け(第1の溝形成工程)、さらに後工程(ケーブル部64の除去工程よりは前の工程)で前記ハーフカット溝に接続するように外層基板60の反対側から浅く溝を形成して(第2の溝形成工程)、外層基板60を貫通するスリットを完成させるようにしてもよい。
次に、図1(a)および図1(c)に示すように、内層基板30と接着部材50と外層基板60とを積層プレスして、多層部に対応する領域65において内層基板30と接着部材50と外層基板60とを一体化する(積層プレス工程)。
この基板一体化工程において熱プレスは、例えば図1(a)に示すように、内層基板30と接着部材50と外層基板60との積層体1の両面の外側に、離型フィルム2、開口部3aを有するフィルム3、クッション4、ステンレス鋼(SUS)等からなる金属板5、熱板6をこの順に重ね合わせ、上下方向に加圧とともに加熱して行う。但し、離型フィルム2とクッション4については、使用しない場合があったり、複数のものを組み合わせる場合もあり、特に限定するものではない。
この基板一体化工程において熱プレスは、例えば図1(a)に示すように、内層基板30と接着部材50と外層基板60との積層体1の両面の外側に、離型フィルム2、開口部3aを有するフィルム3、クッション4、ステンレス鋼(SUS)等からなる金属板5、熱板6をこの順に重ね合わせ、上下方向に加圧とともに加熱して行う。但し、離型フィルム2とクッション4については、使用しない場合があったり、複数のものを組み合わせる場合もあり、特に限定するものではない。
前記フィルム3は、図1(b)および図1(c)に示すように、外層基板60のケーブル部に対応する領域64に開口部3aを有する。フィルム3は、熱プレス条件に耐えるものであれば、その材質は特に限定されないが、例えばプラスチックフィルムを用いることができる。特に、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリアミド(ナイロン)など、耐熱性に優れるものが好ましい。
熱プレスの際は、フィルム3の開口部3aが、外層基板60のケーブル部に対応する領域64の上下に対応するように位置合わせする。これにより、フィルム3の開口部3aによって形成される空間のため、積層プレス時の圧力が外層基板60のケーブル部に対応する領域64に伝わることがなくなる。この結果、積層プレス中にシールド層40と外層基板60との間の隙間51が維持され、シールド層40が外層基板60のケーブル部に対応する領域64に貼り付くことを防止することができる。
熱プレスの際は、フィルム3の開口部3aが、外層基板60のケーブル部に対応する領域64の上下に対応するように位置合わせする。これにより、フィルム3の開口部3aによって形成される空間のため、積層プレス時の圧力が外層基板60のケーブル部に対応する領域64に伝わることがなくなる。この結果、積層プレス中にシールド層40と外層基板60との間の隙間51が維持され、シールド層40が外層基板60のケーブル部に対応する領域64に貼り付くことを防止することができる。
フィルム3の開口部3aの開口幅Bが、外層基板60のケーブル部に対応する領域64の幅Aよりも大きい場合、フィルム3の開口部3aと外層基板60のケーブル部に対応する領域64との位置合わせが容易になり、好ましい。しかし、開口部3aの開口幅Bがケーブル部64の幅Aに比べて大きすぎると、クッション4がフィルム3の開口部3aを通して離型フィルム2まで到達し、外層基板60のケーブル部に対応する領域64に圧力が伝わるようになるおそれがある。この観点から、フィルム3の開口部3aの開口幅Bからケーブル部64の幅Aを減じた差は、±0mm以上、+5mm以下であることが好ましい。また、フィルム3の開口部3a内に空間を確保するためには、フィルム3は十分な厚さを有することが好ましい。具体的には、厚さが160μm以上のものが好ましい。
熱プレス後、外層基板60に対して層間導通のための穴あけと銅メッキを行い、外層回路(図示略)の形成を行う。さらに図2(e)に示すように、外層基板60の外側の導電層62の上にレジスト70を形成する。
次に、図2(f)に示すように、外層基板60のケーブル部に対応する領域の部分64を除去する(基板除去工程)。本発明によれば、積層プレス中、外層基板60とシールド層40との間に隙間51を維持することができるので、基板除去工程において外層基板60へのシールド層40の転写が発生しない。このため、欠陥のないシールド層40を有する多層プリント配線基板7を製造することができる。
ゆえに、ケーブル部が備える配線の電気的な絶縁性が十分に確保されるとともに、外部環境の変化(例えば温度や湿度の変化)による影響や外部環境に存在する電磁波の影響も十分に回避できる。よって、本発明は、ケーブル部の配線を流れる電気信号の高精度化や高品質化をもたらし、さらには電気信号の安定性向上にも寄与する。
次に、図2(f)に示すように、外層基板60のケーブル部に対応する領域の部分64を除去する(基板除去工程)。本発明によれば、積層プレス中、外層基板60とシールド層40との間に隙間51を維持することができるので、基板除去工程において外層基板60へのシールド層40の転写が発生しない。このため、欠陥のないシールド層40を有する多層プリント配線基板7を製造することができる。
ゆえに、ケーブル部が備える配線の電気的な絶縁性が十分に確保されるとともに、外部環境の変化(例えば温度や湿度の変化)による影響や外部環境に存在する電磁波の影響も十分に回避できる。よって、本発明は、ケーブル部の配線を流れる電気信号の高精度化や高品質化をもたらし、さらには電気信号の安定性向上にも寄与する。
本試験例では、図1,図2に示す方法により、ケーブル部7aおよび多層部7bを有する多層プリント配線基板7を製造した。
銅張積層板10としては、フレキシブル基材11が厚さ25μmのポリイミドからなり、両面の銅箔12,13の厚さが18μmであり、フレキシブル基材11と銅箔12,13とが厚さ10μmの接着剤(図示略)によって貼着されたものを用いた。
カバーレイ20としては、厚さ25μmのポリイミドからなるフレキシブル基材21の片面に厚さ25μmの接着剤層22が設けられたものを用いた。
シールド層40としては、銀ペースト層(約8μm)の上にカーボンブラック層(約8μm)をコーディングしたものを用いた。
接着部材50としては、厚さ40μmの接着シートを用いた。
外層基板60としては、リジッド基材61が厚さ100μmのガラスエポキシ(ガラス繊維を編み込み、エポキシ樹脂で固めたもの)からなり、両面の銅箔62,63の厚さが18μmであるリジッドプリント基板を用いた。
銅張積層板10としては、フレキシブル基材11が厚さ25μmのポリイミドからなり、両面の銅箔12,13の厚さが18μmであり、フレキシブル基材11と銅箔12,13とが厚さ10μmの接着剤(図示略)によって貼着されたものを用いた。
カバーレイ20としては、厚さ25μmのポリイミドからなるフレキシブル基材21の片面に厚さ25μmの接着剤層22が設けられたものを用いた。
シールド層40としては、銀ペースト層(約8μm)の上にカーボンブラック層(約8μm)をコーディングしたものを用いた。
接着部材50としては、厚さ40μmの接着シートを用いた。
外層基板60としては、リジッド基材61が厚さ100μmのガラスエポキシ(ガラス繊維を編み込み、エポキシ樹脂で固めたもの)からなり、両面の銅箔62,63の厚さが18μmであるリジッドプリント基板を用いた。
図1において、積層プレスの際に用いる開口部3aを有するフィルム3として、厚さの異なるポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意した。フィルム3の厚さは、表1に示すように、25μm、50μm、100μm、120μm、140μm、160μm、180μm、200μmの8通りに設定した。
フィルム3の開口部3aの開口幅Bから外層基板60のケーブル部64の幅Aを減じた差(B−A)は、表1に示すように、+0mm、+1mm、+3mm、+5mm、+10mmの5通りに設定を変えた。
それぞれの条件について多層プリント配線基板7を製造し、シールド層40の転写の有無および程度により評価した。その結果を表1に示す。表1において、○印はシールド層40の転写が無いことを、△印は軽微な転写があることを、×印は顕著な転写があることを示す。
フィルム3の開口部3aの開口幅Bから外層基板60のケーブル部64の幅Aを減じた差(B−A)は、表1に示すように、+0mm、+1mm、+3mm、+5mm、+10mmの5通りに設定を変えた。
それぞれの条件について多層プリント配線基板7を製造し、シールド層40の転写の有無および程度により評価した。その結果を表1に示す。表1において、○印はシールド層40の転写が無いことを、△印は軽微な転写があることを、×印は顕著な転写があることを示す。
表1に示す結果から分かるように、開口部3aを有するフィルム3の厚さが厚くなるほど、また、開口部3aの開口幅Bからケーブル部64の幅Aを減じた差(B−A)が狭くなるほど、転写が起こりにくくなる傾向が見られた。これは、基板の上方のクッション4がプレス圧力によってフィルム3の開口部3aへと押し込まれたとき、フィルム3が厚くなるほど、また、開口部3aの開口幅Bが狭くなるほど、押し込まれたクッション4が基板側へ到達しにくくなるためと考えられる。従って、開口部3aを設けたフィルム3の厚さは160μm以上であり、開口部3aの開口幅Bからケーブル部64の幅Aを減じた差(B−A)が+5mm以下であることが望ましい。
本発明は、フレキシブルなケーブル部にシールド層を有する種々のリジッド−フレックス多層プリント配線基板等の製造に利用することができる。フレキシブル部は、リジッド部を接続する配線を備えたケーブル部として利用することができる。
A…ケーブル部の幅、B…フィルムの開口部の開口幅、3…フィルム、3a…開口部、7…多層プリント配線基板、7a…ケーブル部、7b…多層部、30…一の基板(内層基板)、40…シールド層、50…接着部材、60…他の基板(外層基板)、64…他の基板(外層基板)のケーブル部に対応する領域(除去部分)、65…他の基板(外層基板)の多層部に対応する領域。
Claims (3)
- ケーブル部および多層部を有し、前記多層部は、前記ケーブル部を構成する一の基板の前記ケーブル部を除く領域の少なくとも片面に接着部材を介して他の基板が積層されてなり、前記ケーブル部は前記一の基板上にシールド層を有する多層プリント配線基板の製造方法であって、
前記一の基板のうち前記ケーブル部に対応する領域にシールド層を形成するシールド層形成工程と、
前記ケーブル部に対応する領域および前記多層部に対応する領域を有する他の基板を、接着部材を介して前記シールド層を設けた一の基板の上に積層する基板積層工程と、
前記ケーブル部に対応する領域に開口部を設けたフィルムを前記他の基板の外側に配置し、前記開口部を設けたフィルムの外側から前記一の基板と前記接着部材と前記他の基板を積層プレスして、前記多層部に対応する領域において前記一の基板と前記接着部材と前記他の基板とを一体化する積層プレス工程と、
前記他の基板の前記ケーブル部に対応する領域に位置する部分を除去する基板除去工程とを特徴とする多層プリント配線基板の製造方法。 - 前記開口部を設けたフィルムの開口部の開口幅から、前記他の基板の前記ケーブル部に対応する領域の幅を減じた差が、±0mm以上、+5mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線基板の製造方法。
- 前記開口部を設けたフィルムの厚さが160μm以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の多層プリント配線基板の製造方法。
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2005
- 2005-02-08 JP JP2005031504A patent/JP2006222114A/ja not_active Withdrawn
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