JP2006220923A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】対向配置された2つの基板10,30と、2つの基板10,30間に形成され、2つの基板10,30間の間隔を設定する柱状スペーサ33と、2つの基板10,30間に充填された液晶層40と、一方の基板10と柱状スペーサ33との間に形成され、感光性樹脂を含む層間絶縁膜18とを有し、層間絶縁膜18には、柱状スペーサ33の設置部に、基板10,30間の間隔を調整する窪み18dが形成されている。
【選択図】図1
Description
図1は、本実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。
本実施形態では、反射表示部Ar1と柱状スペーサ設置部Ar3における反射電極19の表面位置を略一致させる場合の例である。
図8は、本実施形態に係る液晶表示装置の製造における工程断面図である。本実施形態では、第1実施形態における図4(b)の露光工程のみが異なる。
本実施形態では、透過表示部Ar2の透過部平面18bと、柱状スペーサ設置部Ar3の窪み18dの表面位置を略一致させる場合の例である。
図10は、本実施形態に係る液晶表示装置の製造における工程断面図である。本実施形態では、第1実施形態における図4(b)の露光工程のみが異なる。
本実施形態では、併用型の液晶表示装置を例に説明したが、反射型液晶表示装置あるいは透過型液晶表示装置にも本発明は適用可能である。また、本実施形態では、第2の基板30側に柱状スペーサ33を形成する例について説明したが、第1の基板10側に柱状スペーサ33を形成してもよい。また、本実施形態では、最下層の配線層である補助容量電極12により柱状スペーサ設置部Ar3を遮光する例について説明したが、さらなる多層配線の場合には、層間絶縁膜18の直下の配線層以外の配線層により遮光してもよい。また、本実施形態で挙げた材料や数値は一例であり、これに限定されるものではない。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
Claims (10)
- 対向配置された2つの基板と、
2つの前記基板間に介在し、2つの前記基板間の間隔を設定する柱状スペーサと、
2つの前記基板間に充填された液晶層と、
一方の前記基板と前記柱状スペーサとの間に形成され、感光性樹脂を含む層間絶縁膜と
を有し、
前記層間絶縁膜には、前記柱状スペーサの設置部に、前記基板間の間隔を調整する窪みが形成されている
液晶表示装置。 - 一方の前記基板と前記層間絶縁膜との間に複数の配線層が形成され、
前記層間絶縁膜の直下の配線層以外の配線層により、前記柱状スペーサの設置部が遮光された
請求項1記載の液晶表示装置。 - 前記層間絶縁膜の直下の配線層が、前記窪みの形成箇所を避けて形成された
請求項2記載の液晶表示装置。 - 柱状スペーサを介在させて2つの基板を対向配置させ、前記2つの基板間に液晶層を充填させる液晶表示装置の製造方法であって、
2つの前記基板を対向配置させる前に、
一方の前記基板上に感光性樹脂を含む層間絶縁膜を形成する工程と、
露光および現像により、前記柱状スペーサの設置部における前記層間絶縁膜に窪みを形成する工程と
を有する液晶表示装置の製造方法。 - 前記層間絶縁膜を形成する工程の後に、前記層間絶縁膜上に画素電極を形成する工程をさらに有する
請求項4記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記層間絶縁膜に窪みを形成する工程における露光と同時に、前記画素電極に対応する部位における層間絶縁膜を露光する
請求項5記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記画素電極は、反射電極を含み、
前記層間絶縁膜に窪みを形成する工程における露光と同時に、前記反射電極に対応する部位における前記層間絶縁膜を露光して、現像により前記反射電極に対応する部位における前記層間絶縁膜の表面に凹凸を形成する
請求項6記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記画素電極は、透明電極を含み、
前記層間絶縁膜に窪みを形成する工程における露光と同時に、前記透明電極に対応する部位における前記層間絶縁膜を露光して、現像により前記透明電極が形成される領域における前記層間絶縁膜の膜厚を調整する
請求項6記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1の基板上に層間絶縁膜を形成する工程の前に、複数の配線層を形成する工程を有し、
複数の前記配線層を形成する工程において、前記層間絶縁膜の直下の配線層以外の配線層により前記柱状スペーサの設置部を遮光する
請求項5記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記層間絶縁膜の直下の配線層を形成する工程において、前記窪みの形成箇所を避けて当該配線層を形成する
請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005034447A JP4934969B2 (ja) | 2005-02-10 | 2005-02-10 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2006220923A true JP2006220923A (ja) | 2006-08-24 |
JP4934969B2 JP4934969B2 (ja) | 2012-05-23 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005034447A Expired - Fee Related JP4934969B2 (ja) | 2005-02-10 | 2005-02-10 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4934969B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8023076B2 (en) | 2007-01-26 | 2011-09-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Transflective liquid crystal and manufacturing method thereof |
CN102819146A (zh) * | 2011-06-09 | 2012-12-12 | 株式会社日本显示器东 | 液晶显示装置 |
WO2021226750A1 (zh) * | 2020-05-09 | 2021-11-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板、显示面板、显示装置及显示面板的制造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1096955A (ja) * | 1996-09-24 | 1998-04-14 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
JP2002214624A (ja) * | 2001-01-23 | 2002-07-31 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
JP2003186022A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2004198921A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置及び電子機器 |
JP2005173268A (ja) * | 2003-12-11 | 2005-06-30 | Sharp Corp | 液晶表示パネル |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1096955A (ja) * | 1996-09-24 | 1998-04-14 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
JP2002214624A (ja) * | 2001-01-23 | 2002-07-31 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
JP2003186022A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2004198921A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置及び電子機器 |
JP2005173268A (ja) * | 2003-12-11 | 2005-06-30 | Sharp Corp | 液晶表示パネル |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8023076B2 (en) | 2007-01-26 | 2011-09-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Transflective liquid crystal and manufacturing method thereof |
CN102819146A (zh) * | 2011-06-09 | 2012-12-12 | 株式会社日本显示器东 | 液晶显示装置 |
CN102819146B (zh) * | 2011-06-09 | 2016-04-13 | 株式会社日本显示器东 | 液晶显示装置 |
WO2021226750A1 (zh) * | 2020-05-09 | 2021-11-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板、显示面板、显示装置及显示面板的制造方法 |
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