JP2006215224A - 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 電気光学装置において、電気光学装置用基板上のドライバ実装領域には、ドライバと接続される接続用端子と、ダミー端子又は位置合わせマークと、を備え、ドライバ実装領域又はその近傍には、複数の配線パターンの一部を利用して、当該複数の配線パターンの形成状態を検証するための検査領域を備え、ダミー端子又は位置合わせマークが、検査領域における複数の配線パターンのピッチ間隔と一致するように分割してある。
【選択図】 図3
Description
かかる液晶装置において、それぞれの画素における液晶材料を駆動させるために、ドライバICを基板上に実装するとともに、当該ドライバICから出力される駆動信号を、基板上に形成された複数の配線パターンを介して、それぞれの電極に供給している。
ただし、近年、画素設計の高精細化に伴い、配線パターンのピッチ間隔が小さくなってきている一方、検査に使用するプローブにおける複数の検査ピンのピッチ間隔を小さくすることにも限界があるため、ドライバICの実装領域周辺等、ピッチ間隔が比較的大きい直線状部を利用して、プローブ検査をする必要がある。すなわち、複数の検査ピンをそれぞれ一つの配線パターンに正確に接触させることができず、ショート等が発生していないにもかかわらず、誤判定されてしまうことを防ぐ必要がある。
すなわち、図16に示すように、ドライバ実装領域613又はその近傍において、ドライバICとの接続用端子617が存在しない箇所にダミー端子619を形成したり、ACFの配置位置を決めるための位置合わせマーク627を形成したりする場合がある。かかるダミー端子や位置合わせマークは、製造工程の効率化の関係上、画像表示に使用される接続用端子と同時工程で、同じ導電性材料を用いて形成されている。したがって、プローブがそれらのダミー端子等に乗り上げた場合には、当該ダミー端子を介して、複数のプローブ間に電流が流れ、ショート等の誤判定をするという問題があった。
すなわち、本発明は、プローブが当該ダミー端子等に乗り上げた場合であっても、ショート等の誤判定がされることを防止して、プローブ検査を正確に行うことができる電気光学装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、そのような電気光学装置の製造方法、及びそのような電気光学装置を備えた電子機器を提供することである。
すなわち、ダミー端子を所定のピッチ間隔で分割することにより、プローブ検査をする際に複数の検査ピンが当該ダミー端子に乗り上げた場合であっても、ダミー端子を介して複数の検査ピン間に電流が流れることがないために、誤判定を防止することができる。したがって、配線パターンにおけるショートや断線等の形成不良を正確に検知することができるため、そのような形成不良が発生していないにもかかわらず、不良品と判定することがなくなり、電気光学装置の製造効率を著しく向上させることができる。
なお、ドライバ実装領域の近傍とは、ドライバ実装領域の周辺領域であって、その端部からドライバ実装領域までの距離が、プローブ検査に用いるプローブの長さ未満となる程度に近接している領域を意味するものとする。
すなわち、位置合わせマークを所定のピッチ間隔で分割することにより、プローブ検査をする際に複数の検査ピンが当該位置合わせマークに乗り上げた場合であっても、位置合わせマークを介して複数の検査ピン間に電流が流れることがないために、誤判定を防止することができる。したがって、配線パターンにおけるショートや断線等の形成不良を正確に検知することができるため、そのような形成不良が発生していないにもかかわらず、不良品と判定することがなくなり、電気光学装置の製造効率を著しく向上させることができる。
このように構成することにより、製造工程の増加を防ぎつつ、プローブ検査を正確に実施することができる電気光学装置を提供することができる。
このように構成することにより、ドライバ実装領域を利用してプローブ検査を行うことができるために、他の領域に配線パターンの検査領域を設ける必要がなくなり、基板張出部、ひいては電気光学装置用基板の外形の小型化を図ることができる。
このように構成することにより、検査領域の端部付近の配線パターンに対してプローブ検査をする際に、プローブが傾いて、一部の検査ピンと配線パターンとの接触が不十分となることを防止して、プローブ検査を正確に実施することができる。
このように構成することにより、複数の検査ピンを有するプローブを、一方向に移動させることによって、容易に配線パターンの形成不良の有無を検証することができる。
すなわち、ダミー端子又は位置合わせマークを所定のピッチ間隔で分割することにより、プローブの検査ピンがダミー端子や位置合わせマーク上に乗り上げた場合であっても、誤判定することがなくなり、配線パターンの形成不良を正確に検証できる。したがって、配線パターンの形成不良に起因した表示不良の発生の少ない電気光学装置を効率的に製造することができる。また、逆に、プローブ検査における誤判定がなくなるために、配線パターンの形成不良がないにもかかわらず、不良品と判定することがなくなり、製造効率を著しく向上させることができる。
すなわち、配線パターンに対するプローブ検査を正確に行うことができる電気光学装置を備えているために、配線パターンの形成不良に起因した表示不良の発生率が低い電子機器を効率的に提供することができる。
本発明の第1実施形態は、複数の配線パターン及び当該配線パターンに対して電気的に接続されるドライバを備えた電気光学装置用基板と、当該電気光学装置用基板に保持された電気光学材料と、を含む電気光学装置である。
かかる電気光学装置は、電気光学装置用基板上のドライバ実装領域には、ドライバと接続される接続用端子と、当該接続用端子の高さと等しい高さであって、画像表示には使用されないダミー端子と、を備え、
ドライバ実装領域又はその近傍には、複数の配線パターンの一部を利用して、当該複数の配線パターンの形成状態を検証するための検査領域を備え、
ダミー端子が、検査領域における複数の配線パターンのピッチ間隔と一致するように分割してあることを特徴とする。
以下、図1〜図10を適宜参照しながら、本発明の第1実施形態の電気光学装置について、ドライバが実装されるとともにスイッチング素子としてのTFD素子(Thin Film Diode)を備えた素子基板と、対向するカラーフィルタ基板と、を含む液晶装置を例に採って説明する。ただし、本発明の電気光学装置は、TFD素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置に限定されるものではなく、TFT素子(Thin Film Transistor)を備えた液晶装置や、パッシブマトリクス型の液晶装置であっても構わない。
なお、それぞれの図において、同じ符号を付したものは同一の部材を示しており、適宜説明を省略する。
まず、図1及び図2を参照して、本発明に係る第1実施形態の液晶装置10の基本構造、すなわち、セル構造や配線等について具体的に説明する。ここで、図1は、本実施形態に係る液晶装置10の概略斜視図であり、図2は、図1中のEE断面を矢印方向に見た概略断面図である。なお、図1及び図2中、下側の面が画像表示面であって、矢印Wの方向から画像を視認することができる。
かかる液晶装置10は、スイッチング素子として、二端子型非線形素子であるTFD素子69を用いたアクティブマトリクス型構造を有する素子基板60を備えた液晶装置10であって、図示しないものの、バックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて適宜取付けられて使用される。
また、液晶装置10は、ガラス基板等を基体61とする素子基板60と、同様にガラス基板等を基体31とするカラーフィルタ基板30と、が対向配置されるとともに接着剤等のシール材23を介して貼り合わせられている。また、素子基板60と、カラーフィルタ基板30とが形成する空間であって、シール材23の内側部分に対して、開口部23aを介して液晶材料21を注入した後、封止材25にて封止されてなるセル構造を備えている。すなわち、素子基板60と、カラーフィルタ基板30との間に液晶材料21が充填されている。
このように構成された液晶装置10において、ドライバIC91からの駆動用信号を、データ線65及びTFD素子69を介して画素電極33に出力するとともに、走査信号を、引回し配線66を介して走査電極33に出力する。そして、電圧が印加された画素の液晶材料21に電界が発生するため、当該画素における液晶材料21中を、光を通過させ、又は通過させないようにでき、表示領域全体として文字、図形等の画像を表示させることができる。
また、かかるカラーフィルタ基板30は、基本的に、ガラス基板等からなる基体31上に、遮光膜39と、着色層37と、透明樹脂層40と、走査電極33と、が順次積層されて構成されている。また、走査電極33上には、液晶材料の配向性を制御するための配向膜45を備えるとともに、走査電極33等が形成されている面とは反対側の面に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板(1/4波長板)47及び偏光板49が配置されている。
なお、カラーフィルタ基板が、半透過反射型又は反射型の液晶装置に使用される基板である場合には、例えば、カラーフィルタ基板30上の遮光膜39の下層に、所定形状にパターニングされたアルミニウム膜等からなる光反射膜が形成されている。
かかる着色層37の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
また、走査電極33の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜45が全面的に形成されている。かかる配向膜は、ラビング処理をするなどして、液晶材料の配向性を制御するための部材である。
(1)基本構成
また、素子基板60は、基本的に、ガラス基板等からなる基体61と、画素電極63と、データ線65と、引回し配線(図示せず)と、スイッチング素子としてのTFD素子69と、から構成されている。また、画素電極63上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜75が形成されている。さらに、基体61の外面には、位相差板(1/4波長板)77及び偏光板79が配置されている。そして、素子基板60における基板張出部60T上には、データ線65や引回し配線(図示せず)に対して電気的に接続されるようにドライバIC91が実装されている。
かかる素子基板60において、データ線65は、ストライプ状に配列された複数の配線からなり、それぞれのデータ線65の間には、画素電極63がマトリクス状に配置されている。また、当該画素電極63は、後述するTFD素子69を介して、データ線65と電気的に接続されている。そして、データ線65は、一端側が基板張出部60T上に実装されたドライバIC91に対して電気的に接続されており、ドライバIC91からの駆動用信号を画素電極33に対して出力できるように構成されている。
かかるデータ線65は、製造工程の簡略化の観点から、後述するTFD型素子の形成と同時に形成されるため、例えば、タンタル層、酸化タンタル層、及びクロム層が順次形成されて構成されている。また、画素電極63は、ITO(インジウムスズ酸化物)やIZO(インジウム亜鉛酸化物)等の透明導電材料を用いて形成されている。
また、二個のTFD素子は、データ線65と、画素電極63との間に介在するように形成され、反対のダイオード特性を有する第1のTFD素子及び第2のTFD素子から構成してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、印加する電圧波形として、正負対称なパルス波形を使用することができ、液晶装置等における液晶材料の劣化を防止することができるためである。すなわち、液晶材料の劣化を防止するために、ダイオードスイッチング特性が、正負方向において対称的であることが望まれ、二個のTFD素子を逆向きに直列接続することにより、正負対称なパルス波形を使用することができるためである。
かかる引回し配線66は、タンタル層、酸化タンタル層、及びクロム層等の金属材料や、ITO(インジウムスズ酸化物)、IZO(インジウム亜鉛酸化物)等の透明導電材料を用いて形成することができる。
次に、素子基板における、ドライバ実装領域を含む基板張出部の拡大平面図を図4に示す。
かかるドライバ実装領域13における、ドライバICとデータ線65との接続箇所や、ドライバICと引回し配線66との接続箇所には、導電性の材料からなる接続用端子17を備えている。かかる接続用端子17は、例えば、15μmの高さのバンプからなり、基板上において、データ線65や引回し配線66に対して接続されるとともに、ドライバICの端子と電気的に接続される。
かかる接続用端子を構成する導電性の材料としては、例えば、銀やアルミニウム等の金属材料や、ITO(インジウムスズ酸化物)やIZO(インジウム亜鉛酸化物)等の透明導電材料とすることができる。ここで、本実施形態の液晶装置は透過型の液晶装置であり、素子基板上には、アルミニウムや銀からなる部材が形成されていないことから、製造工程の簡略化や、製造コストの低減の観点から、ITO等の画素電極と同じ材料を用いて形成されていることが好ましい。
また、ドライバ実装領域13又は当該ドライバ実装領域13に近接する領域には、素子基板60の製造段階で、データ線65や引回し配線66におけるショートや断線等の形成不良の有無を検証するための検査領域15を備えている。かかる検査領域15においては、素子基板60の製造段階で、データ線65及び引回し配線66の形成後に、複数の検査ピンを有するプローブを用いて検査が行われる。そのために、それぞれのデータ線65や引回し配線66において、0.5〜1.0mm程度の長さの直線状部11が、例えば、50μm程度のピッチ間隔で形成されている。
より具体的には、プローブ検査とは、図13(a)〜(c)に示すように、検査領域におけるデータ線や引回し配線の直線状部11のピッチ間隔の二倍の間隔で配置された複数の検査ピン22を有する二つのプローブ21を用いて、異なるプローブ21を一本おきに接触させつつ、検査領域上をスライドさせて行われる。また、データ線や引回し配線においてショート等が生じている場合には、それら二つのプローブ21の間に電流が流れるために、形成不良の有無を検証することができる。そして、かかる検査に使用されるプローブの構造上、複数の検査ピンの間隔を狭くすることにも限界があるために、複数のデータ線や引回し配線において、所定間隔で配列された直線状部が形成された領域を確保する必要がある。
一方、引回し配線66に関しても、データ線65と同様、ドライバICとの接続用端子17から、ドライバ実装領域13の存在する辺に対して垂直方向に延びる両方の辺側まで配線される途中に、データ線65における直線状部11と平行(ドライバ実装領域13が存在する辺と垂直方向)に配置された直線状部11を設けてある。したがって、引回し配線66についても、ドライバ実装領域13とカラーフィルタ基板30との間の領域において、所定のピッチ間隔で配列された直線状部11を形成して、プローブ検査を実施することができる。
なお、ドライバ実装領域の近傍とは、ドライバ実装領域の周辺領域であって、その端部からドライバ実装領域までの距離が、プローブ検査に用いるプローブの長さ未満となる程度に近接している領域を意味するものとする。
また、ドライバ実装領域には、接続用端子の高さと等しい高さであって、画像表示には使用されないダミー端子を備えている。かかるダミー端子としては、例えば、ドライバICとの接続用端子が存在しない領域に形成され、ドライバICを実装する際に、ドライバIC側のダミーバンプと接合されるなどして、ドライバIC実装時の水平安定性を確保するための端子が含まれる。また、別の例としては、ドライバICにおける端子と接続されるとともに、素子基板上の配線パターンとも接続されてはいるものの、製造される液晶装置の機能あるいは構造上、電極には接続されておらず、画像表示には使用されない端子が含まれる。また、かかるダミー端子は、製造工程の簡略化や製造コストの低減の観点から、接続用端子と同じ導電性材料を用いて形成されていることが好ましい。
そして、本実施形態の液晶装置においては、図5(a)〜(b)に示すように、かかるダミー端子19が、上述したデータ線65や引回し配線66のプローブ検査をするための検査領域15における複数のデータ線や引回し配線の直線状部11のピッチ間隔と一致するように分割してあることを特徴としている。すなわち、導電性材料を用いて、かかるダミー端子19を形成した場合であっても、プローブ検査を行う際に、プローブがダミー端子上に乗り上げて、ショート等の誤判定がされることを防止するためである。
一方、本発明にかかる液晶装置は、ダミー端子19を、検査領域におけるデータ線や引回し配線の直線状部11のピッチ間隔と一致させて分割してあるために、図6(b)に示すように、ダミー端子19上にプローブ21が乗り上げた場合であっても、誤判定されることがなくなる。したがって、データ線や引回し配線に形成不良が生じているかを正確に判定することができるようになる。
また、上述の図5(b)の例で言えば、データ線65に対応する接続用端子17が、ドライバICの長辺に沿って配列されているとともに、引回し配線66に対応する接続用端子17が、ドライバICの短辺に沿って配列され、ダミー端子19が、当該接続用端子17と隣接する箇所に配置されている。また、ドライバ実装領域15の近傍に、データ線65及び引回し配線66の一部を、所定のピッチ間隔で配列された直線状部11とした検査領域15が設けられている。そして、接続用端子17と隣接する箇所に設けられたダミー端子19は、当該検査領域15におけるデータ線65や引回し配線66の直線状部11のピッチ間隔と一致するように分割してある。したがって、ドライバ実装領域13の近傍の検査領域15でプローブ検査を行う際に、ダミー端子19上にプローブが乗り上げた場合であっても、ダミー端子19を介して複数の検査ピン間に電流が流れることがなくなる。
この理由は、プローブ検査を実施する際に、プローブが傾いて、検査ピンとデータ線や引回し配線との接触が不十分となることを防止するためである。
より具体的には、分割されたダミー端子をこのように配置していない場合には、プローブ検査において、検査領域の端部付近のデータ線や引回し配線を検査する際に、図8(a)に示すように、プローブ21が傾いて、一部の検査ピン22とデータ線や引回し配線の直線状部11との接触が不十分となって、プローブ検査を正確に実施できなくなる。
一方、分割されたダミー端子を、所定位置に配置した場合には、図8(b)に示すように、ダミー端子19側の検査ピン22も当該ダミー端子19と接触し、プローブ21が傾くことを防止して、プローブ検査を正確に行うことができるようになる。そして、このような場合においても、ダミー端子19が検査ピン22のピッチ間隔と一致して分割されているために、ダミー端子19を介して、複数の検査ピン22間に電流が流れて誤判定されることがなくなる。
本発明の第2実施形態は、複数の配線パターン及び当該配線パターンに対して電気的に接続されるドライバを備えた電気光学装置用基板と、当該電気光学装置用基板に保持された電気光学材料と、を含む電気光学装置である。
かかる電気光学装置は、電気光学装置用基板上のドライバ実装領域には、ドライバと接続される接続用端子と、ドライバ及び接続用端子を導電圧着するための異方性導電フィルムの配置位置を規定する位置合わせマークと、を備え、
ドライバ実装領域又はその近傍には、複数の配線パターンの一部を利用して、当該複数の配線パターンの形成状態を検証するための検査領域を備え、
位置合わせマークが、検査領域における複数の配線パターンのピッチ間隔と一致するように分割してあることを特徴とする。
以下、第2実施形態の電気光学装置について、第1実施形態の電気光学装置と同様のTFD素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置を例に採って説明する。ただし、第1実施形態の液晶装置と共通する基本構造等については説明を省略し、構成の異なる素子基板を中心に説明する。
第2実施形態の液晶装置に使用される素子基板の基本構成や、ドライバ実装領域における接続用端子及び検査領域については、第1実施形態の液晶装置に使用される素子基板と同様とすることができる。
また、言うまでもなく、第1実施形態で説明したダミー端子と、第2実施形態で説明する位置合わせマークとが、同時に素子基板上に形成されていても構わない。
次に、第2実施形態の液晶装置に使用される素子基板における、ドライバ実装領域を含む基板張出部の拡大平面図を図9に示す。
かかるドライバ実装領域13には、トライバIC及び接続用端子を導電圧着するための異方性導電フィルム(ACF)の配置位置を規定する位置合わせマーク27を備えている。かかる位置合わせマーク27は、素子基板60の製造段階において、ドライバICの実装不良を防止すべく、素子基板60上にACFを所定位置に正確に配置するために、ドライバICの角部に対応して形成されるマーク(ガイドマーク)である。また、かかる位置合わせマーク27についても、ダミー端子と同様、製造工程の簡略化や製造コストの低減の観点から、接続用端子と同じ材料を用いて形成されていることが好ましい。
そして、本実施形態の液晶装置においては、かかる位置合わせマークが、上述したデータ線65や引回し配線66に対してプローブ検査をするための検査領域15における複数のデータ線65や引回し配線66の直線状部11のピッチ間隔と一致するように分割してあることを特徴としている。すなわち、ダミー端子19を形成する場合と同様、導電性材料を用いて、かかる位置合わせマーク27を形成した場合であっても、プローブ検査を行う際に、プローブが位置合わせマーク上に乗り上げて、ショート等の誤判定がされることを防止するためである。したがって、データ線や引回し配線に形成不良が生じているかを正確に判定することができる。
この理由は、第1実施形態のダミー端子と同様、プローブ検査をする際に、プローブが傾いて、検査ピンとデータ線や引回し配線との接触が不十分となることを防止して、プローブ検査を正確に実施することができるようになるためである。
本発明の第3実施形態は、第1実施形態又は第2実施形態の電気光学装置の製造方法である。
かかる電気光学装置の製造方法は、電気光学装置用基板上に、導電性材料をパターニングして形成することにより、ドライバ実装領域に相当する領域又はその近傍に、形成される配線パターンの形成状態を検証するための検査領域としての直線状部を含む、複数の配線パターンを形成するための配線パターン形成工程と、
複数の配線パターンが形成された電気光学装置用基板上に、さらに導電性材料をパターニングして形成することにより、複数の配線パターンに対応させて、ドライバと接続される接続用端子を形成するとともに、
当該接続用端子の高さと等しい高さからなり、画像表示には使用されないダミー端子であって、検査領域における複数の配線パターンのピッチ間隔と一致するように分割されたダミー端子、又はドライバ及び接続用端子を導電圧着するための異方性導電フィルムの配置位置を規定する位置合わせマークを形成するための端子形成工程と、
検査領域における直線状部にプローブを接触させて、複数の配線パターンの形成状態を検証するための検査工程と、
を含むことを特徴とする。
以下、第3実施形態の電気光学装置の製造方法の一例として、所定のダミー端子及び位置合わせマークを備えた素子基板を含む液晶装置を製造する方法を、図11〜図13を適宜参照しながら説明する。
まず、図11(a)に示すように、カラーフィルタ基板の基材としてのガラス基板31上に、それぞれの画素間領域に対応させて、遮光膜39を形成する。かかる遮光膜は、例えば、金属膜を用いて遮光膜を形成する場合には、クロム(Cr)等の金属材料を蒸着法等によりガラス基板上に積層した後、所定のパターンに合わせてエッチング処理することにより形成することができる。
なお、かかる遮光膜は、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いて形成することもできる。その場合には、次の着色層の形成工程において、同時に形成することができる。
具体的には、まず、感光性樹脂材料中に顔料を混合させた着色材を、例えば、スピンコーター等の塗布装置を用いて基板上に均一に塗布して、着色材を含有する樹脂層を形成する。このとき、例えば、スピンコーターを用いた場合、600〜2,000rpmの回転数で、5〜20秒の塗布時間として、厚さ1〜10μmの樹脂層を形成することができる。
ここで、着色材を含有する樹脂層を構成する感光性樹脂材料の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
次いで、所定形状のパターンを有するフォトマスクを介して露光した後、現像剤を用いて現像することにより、所定の画素に対応させてパターニングされた着色層を形成する。
かかる露光及び現像処理を、色ごとに繰り返すことにより、R、G、Bそれぞれの色調を呈する着色層を形成することができる。
次いで、透明樹脂層上に、全面的にITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電材料からなる透明導電層を、例えば、スパッタリング法により形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを施し、図11(d)に示すように、所定のパターン形状の電極33を形成する。例えば、製造するカラーフィルタ基板が、本実施形態の液晶装置のようなTFD素子(Thin Film Diode)を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置や、パッシブマトリクス型の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板である場合には、複数の透明電極が並列したストライプ状にパターニングされる。また、製造するカラーフィルタ基板が、本実施形態の液晶装置のようなTFD素子(Thin Film Diode)を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板である場合には、表示領域一面に形成される面状電極となる。
次いで、図11(e)に示すように、透明電極33が形成された基板上において、それぞれのセル領域毎に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜45を形成することにより、カラーフィルタ基板30を製造することができる。
(1)TFD素子、及びデータ線等の形成
素子基板60は、まず、図12(a)に示すように、ガラス基板からなる基体61上に、素子第1電極71を形成する。この素子第1電極71は、例えば、タンタル合金から構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。このとき、素子第1電極71の形成前に、第2のガラス基板61に対する素子第1電極71の密着力を著しく向上させることができるとともに、第2のガラス基板61から素子第1電極71への不純物の拡散を効率的に抑制することができることから、基体61上に酸化タンタル(Ta2O5)等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。
次いで、再び、スパッタリング法等により、素子第1電極71を含む基板上に、全面的にクロム等の金属膜を形成し、それをフォトリソグラフィ法によって、パターニングすることにより、図12(c)に示すように、素子第2電極73、74を形成し、TFD素子とすることができる。
また、素子第2電極を形成する工程において、同時に、所定のパターンに合わせてパターニングすることにより、データ線65や引回し配線(図示せず)が形成される。このとき、ドライバ実装領域に相当する領域又はその近傍に、形成されるデータ線や引回し配線の形成状態を検証するための検査領域として用いられる直線状部を含むように、データ線や引回し配線を形成する。
次いで、図示しないものの、基板張出部に相当する領域に、すでに形成されたデータ線や引回し配線に対して電気的に接続させるように、後の工程で基板上に実装されるドライバICと接続される接続用端子を形成する。また、このとき同時に、当該接続用端子の高さと等しい高さからなり、画像表示には使用されないダミー端子であって、検査領域における複数のデータ線や引回し配線のピッチ間隔と一致するように分割されたダミー端子や、ドライバIC及び接続用端子を導電圧着するための異方性導電フィルム(ACF)の配置位置を規定する位置合わせマークを形成する。このとき、ダミー端子や位置合わせマークを、所定のピッチ間隔で分割して形成することにより、後のプローブ検査を実施する際に、正確な検査を行うことができるようになる。
かかる接続用端子やダミー端子、位置合わせマークは、Ag(銀)やAu(金)等の金属材料や、ITOやIZO等の透明導電材料を用いて、上述したのと同様に、パターニングして形成することができる。
なお、かかる接続用端子やダミー端子等の形成工程は、上述した画素電極の形成工程の後に実施される別工程として説明したが、製造工程の簡略化のため、画素電極を、ITOを用いて形成する際に、同時に、接続用端子やダミー端子等をすべて形成することが好ましい。
次いで、図12(e)に示すように、画素電極63等が形成された素子基板60上に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜75を形成することにより、素子基板60を製造することができる。
次いで、図示しないものの、カラーフィルタ基板又は素子基板のいずれか一方において、表示領域を囲むようにしてシール材を積層した後、他方の基板を重ね合わせて、加熱圧着することにより、カラーフィルタ基板及び素子基板を貼り合わせて、セル構造を形成する。
次いで、カラーフィルタ基板と素子基板とが貼り合わせられ、ドライバICが実装される前の液晶パネルに対して、図13(a)〜(c)に示すように、検査領域における直線状部11にプローブ21を接触させて、複数のデータ線や引回し配線の形成状態を検証する。すなわち、複数の検査ピン22を有する二つのプローブ21を、異なるプローブ21が一本おきに検査領域におけるデータ線や引回し配線の直線状部11に対して接触するようにスライドさせる。このとき、形成したデータ線や引回し配線に、ショート等の形成不良が生じている場合には、二つのプローブ21間に電流が流れるために、不良品を発見して抜き出すことができる。
また、本実施形態の液晶装置の製造方法であれば、画像表示には使用されないダミー端子や位置合わせマークを、検査領域におけるデータ線や引回し配線のピッチ間隔と一致させるように分割してあるために、当該ダミー端子等に起因するショート等を防いで、正確なプローブ検査を実施することができる。そのため、データ線や引回し配線にショートや断線等が生じていないにもかかわらず、不良品として誤判定してしまうことを防止することができる。
次いで、図示しないものの、不良品と判定されなかった液晶パネルのセル内に、シール材の一部に設けられた注入口から液晶材料を注入した後、封止材等により封止する。
また、素子基板上のドライバ実装領域に形成された位置合わせマークを利用して、所定位置に、ドライバICと接続用端子とを導電圧着させるための異方性導電フィルムを積層するとともに、ドライバICを載置、圧着させることにより、ドライバICを実装する。
その後、カラーフィルタ基板及び素子基板それぞれの外面に、位相差板(1/4λ板)及び偏光板を配置するとともに、バックライト等とともに筐体に組み込むことにより、液晶装置を製造することができる。
本発明に係る第4実施形態として、第1実施形態又は第2実施形態の液晶装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
また、表示情報出力源201は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ204によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路202に供給するように構成されていることが好ましい。
そして、本実施形態の電子機器であれば、所定のダミー端子や位置合わせマークを、検査領域におけるデータ線や引回し配線のピッチ間隔と一致させるように分割してある液晶装置を備えるために、それらの配線の形成不良の有無を正確に検査でき、表示不良の少ない電子機器とすることができる。
Claims (8)
- 複数の配線パターン及び当該配線パターンに対して電気的に接続されるドライバを備えた電気光学装置用基板と、当該電気光学装置用基板に保持された電気光学材料と、を含む電気光学装置において、
前記電気光学装置用基板上のドライバ実装領域には、前記ドライバと接続される接続用端子と、当該接続用端子の高さと等しい高さであって、画像表示には使用されないダミー端子と、を備え、
前記ドライバ実装領域又はその近傍には、前記複数の配線パターンの一部を利用して、当該複数の配線パターンの形成状態を検証するための検査領域を備え、
前記ダミー端子が、前記検査領域における前記複数の配線パターンのピッチ間隔と一致するように分割してあることを特徴とする電気光学装置。 - 複数の配線パターン及び当該配線パターンに対して電気的に接続されるドライバを備えた電気光学装置用基板と、当該電気光学装置用基板に保持された電気光学材料と、を含む電気光学装置において、
前記電気光学装置用基板上のドライバ実装領域には、前記ドライバと接続される接続用端子と、前記ドライバ及び接続用端子を導電圧着するための異方性導電フィルムの配置位置を規定する位置合わせマークと、を備え、
前記ドライバ実装領域又はその近傍には、前記複数の配線パターンの一部を利用して、当該複数の配線パターンの形成状態を検証するための検査領域を備え、
前記位置合わせマークが、前記検査領域における前記複数の配線パターンのピッチ間隔と一致するように分割してあることを特徴とする電気光学装置。 - 前記ダミー端子又は位置合わせマークが、前記接続用端子と同じ導電性材料からなることを特徴とする請求項1又は2のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 前記検査領域を前記ドライバ実装領域下に配置するために、前記複数の配線パターンが、前記接続用端子を越えて前記ドライバ実装領域下まで延設してあることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 前記ダミー端子又は位置合わせマークが、前記検査領域における配線パターンが連続して存在すると想定した場合における、当該想定した配線パターンの配置と一致するように配置されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 前記検査領域は、前記複数の配線パターンの直線状部を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 複数の配線パターン及び当該配線パターンに対して電気的に接続されるドライバを備えた電気光学装置用基板と、当該電気光学装置用基板に保持された電気光学材料と、を含む電気光学装置の製造方法において、
前記電気光学装置用基板上に、導電性材料をパターニングして形成することにより、前記ドライバ実装領域に相当する領域又はその近傍に、形成される配線パターンの形成状態を検証するための検査領域として用いられる直線状部を含む、前記複数の配線パターンを形成するための配線パターン形成工程と、
前記複数の配線パターンが形成された電気光学装置用基板上に、さらに導電性材料をパターニングして形成することにより、前記複数の配線パターンに対応させて、前記ドライバと接続される接続用端子を形成するとともに、
当該接続用端子の高さと等しい高さからなり、画像表示には使用されないダミー端子であって、前記検査領域における前記複数の配線パターンのピッチ間隔と一致するように分割されたダミー端子、又は前記ドライバ及び接続用端子を導電圧着するための異方性導電フィルムの配置位置を規定する位置合わせマークを形成するための端子形成工程と、
前記検査領域における前記直線状部にプローブを接触させて、前記複数の配線パターンの形成状態を検証するための検査工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載された電気光学装置を備えた電子機器。
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JP2005027276A JP2006215224A (ja) | 2005-02-03 | 2005-02-03 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 |
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Cited By (3)
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CN101667392B (zh) * | 2008-09-04 | 2013-02-13 | 索尼株式会社 | 图像显示装置 |
JP2013218126A (ja) * | 2012-04-10 | 2013-10-24 | Japan Display Inc | 表示装置 |
US12094099B2 (en) | 2020-11-19 | 2024-09-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Method for verifying detection ability of automatic optical inspection and display panel including inspection element group used therefor |
-
2005
- 2005-02-03 JP JP2005027276A patent/JP2006215224A/ja not_active Withdrawn
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