JP2007147949A - 電気光学装置、及び電気光学装置の検査方法、電気光学装置の製造方法、並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】配線の形成不良の検査を効率的かつ精度良く行うことができる電気光学装置、及び電気光学装置の検査方法、電気光学装置の製造方法、並びに、そのような電気光学装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】複数の異なる色の着色領域を有する複数の画素からなる表示領域と、複数の画素に対応して設けられた複数の配線を備えた基板と、を備えた電気光学装置であって、複数の配線における、複数の異なる色の画素に対応する配線群の端部位値をそれぞれの色ごとに異ならせてあることを特徴とする。
【選択図】図５

Description

本発明は、電気光学装置、及び電気光学装置の検査方法、電気光学装置の製造方法、並びに電子機器に関する。特に、配線の形成不良を効率的かつ精度良く検査するための電気光学装置、及び電気光学装置の検査方法、電気光学装置の製造方法、並びにそのような電気光学装置を備えた電子機器に関する。

従来、電気光学装置の一態様として、それぞれ電極が形成された一対の基板を対向配置するとともに、それぞれの電極の交差領域である複数の画素に印加する電圧を選択的にオン、オフさせることによって、当該画素領域の液晶材料を通過する光を変調させ、画像や文字等の像を表示させる、液晶装置が多用されている。このような液晶装置において、それぞれの画素領域における液晶材料を駆動させるために、ドライバＩＣやフレキシブル回路基板が基板上に実装されるとともに、ドライバＩＣ等から出力される駆動信号が、基板上に形成された複数の配線を介して、それぞれの電極に供給されている。

このような液晶装置の製造段階では、形成した複数の配線が、ショートや断線等の形成不良を生じていないかを確認するための検査が実施されている。かかる検査は、例えば、それぞれ複数の検査ピンを有するプローブや、導電ゴム等の導電性のコンタクトヘッドを有する検査治具を用いて行われている。

例えば、配線の断線の有無を確認する際には、複数の検査ピンを備えたプローブを用いて、複数の配線に対してそれぞれ検査ピンを接触させて電流を流したり、導電性のコンタクトヘッドを備えた検査治具を用いて、すべての配線に対して、いわゆるベタ状態で導電性のコンタクトヘッドを接触させて電流を流したりすることにより実施している。そして、全点灯させた表示面を確認して、点欠陥や線欠陥等の表示欠陥が発見されるかどうかによって、断線の有無を検証している。
また、配線間のショートの有無を確認する際には、例えば、複数の検査ピンを備えたプローブを用いて、複数の配線に対して、電流供給系統の異なる検査ピンを一本おきに接触させて、それぞれの系統ごとに電流を流すことにより行われている。そして、異なる系統のプローブ間に電流が流れるかどうかを見ることによって、配線間でのショートの有無を検証している。

このような配線の検査を行うことができる配線を備えた液晶装置として、検査の信頼性及び検査用接触コネクタと配線との接続信頼性の向上を図った液晶装置が開示されている。より具体的には、図１３に示すように、液晶表示領域を形成する電極５０９ａ、５０９ｂにつながる配線パターン（配線）５１５が形成された基板張出部５０４ｃの上にＩＣチップ５０３を実装して、配線パターン５１５とバンプ５２１とを導電接続する構造の液晶装置５０１であって、配線パターン５１５はバンプ５２１と接続する部分を越えてＩＣ実装領域Ｊの内部へ延びる延在部分５１５ｂを有し、それらの延在部分５１５ｂは少なくとも２つの群に分離して形成された液晶装置５０１が提案されている（特許文献１参照）。

また、コンタクトヘッドと信号入力端子との位置合わせに高いアライメント精度を必要とすることなく、ＲＧＢの色ごとの検査をも実現できる表示装置の検査方法が開示されている。より具体的には、図１４に示すように、信号入力端子６０１のセンター（±０μｍ）にコンタクトヘッド６０２が位置しているとき、コンタクトヘッド６０２のうち、Ａ１、Ｂ１及びＣ１の仮想ライン上に存在するコンタクトヘッド６０２が信号入力端子６０１へ良好にコンタクトしているので、Ａ１、Ｂ１及びＣ１の仮想ライン上に存在するコンタクトヘッド６０２のみの検査信号をＯＮにすることで、良好な点灯状態が実現できる表示装置の検査方法である（特許文献２参照）。
特開２００１−５０１６号公報 （特許請求の範囲、図１） 特開２０００−５５７８３号公報 （特許請求の範囲、図１）

しかしながら、特許文献１の液晶装置や特許文献２の表示装置の検査方法では、配線パターンの断線の有無を検証する場合に、色ごとに表示させて表示状態を確認することが困難であるため、検査精度が低下するおそれがあった。すなわち、すべての色の画素を点灯させ、白表示させた状態でのみ表示状態を確認する場合には、色ムラやシミ等の判別が比較的困難となる場合があった。また、色ムラやシミの存在が確認できたとしても、具体的にどの配線において断線が生じているかを判断することは困難であった。そのため、それぞれの色ごとに表示させるためには、それぞれの色の配線パターンごとに電流供給系統を異ならせた検査ピンやコンタクトヘッドを有する検査治具を用いるか、あるいは、所定の色に対応する配線の間隔に一致する間隔の複数の検査ピンを、それぞれの色ごとに、精度良く配線に接触させて行う必要があった。したがって、検査治具の構成が複雑化したり、検査工程の効率が低下したりするという問題があった。逆に言えば、それぞれの色ごとに表示をさせた上で検査を行いたい場合には、導電ゴム等のいわゆるベタ状態で全ての配線と接触するような、比較的簡易な構成の検査治具を用いることができなかった。

また、配線のショートの有無を検証するためには、隣接する配線にそれぞれ接触させる検査ピンやコンタクトヘッドの電流供給系統を異ならせる必要がある。したがって、いわゆるベタ状態で全ての配線と接触するような検査治具を用いることができない一方で、それぞれの配線に対応した検査ピンやコンタクトヘッドを有する検査治具を用いる場合には、検査治具の構成が複雑化するという問題があった。

そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、配線の端部位置を、対応する色ごとに異ならせて形成することにより、このような問題を解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、比較的簡易な構成の検査治具を用いて、複数の異なる色表示をさせながら、配線における断線及びショートの有無を効率的かつ精度良く検査することができる電気光学装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、このような電気光学装置を用いて、配線の断線及びショートの有無を効率的かつ精度良く検証することができる電気光学装置の検査方法及び電気光学装置の製造方法を提供することである。さらに、本発明は、このような電気光学装置を備えることにより、表示不良の少ない電子機器を提供することを目的とする。

本発明によれば、複数の異なる色の着色領域を有する複数の画素からなる表示領域と、複数の画素に対応して設けられた複数の配線を備えた基板と、を備えた電気光学装置であって、複数の配線における、複数の異なる色の画素に対応する配線群の端部位値をそれぞれの色ごとに異ならせてあることを特徴とする電気光学装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、複数の配線の端部位値を、対応する画素の色ごとに異ならせて配置することにより、端部位置の異なる配線ごとに検査治具を接触させて、複数の異なる色表示を容易に行うことができる。したがって、比較的簡易な構成の検査治具を用いた、効率的な検査を行うことができる。また、複数の異なる色表示をさせることができるため、配線の断線が生じている場合における、本来点灯するはずの画素の点灯不良や、配線のショートが生じている場合における、本来点灯するはずのない画素が点灯した状態を容易に識別でき、配線の形成状態を精度良く検証することができる。
よって、比較的簡易な構成の一つの検査治具を用いた場合であっても、複数の異なる色表示をさせながら、配線の断線及びショートの有無を効率的かつ精度良く検査することができる電気光学装置を提供することができる。

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、電気光学装置は、複数の端子が複数の配線にそれぞれ接続された半導体素子を備え、複数の配線は、半導体素子の実装領域の内部まで延設されるとともに、配線が延設された方向における端部位値を異ならせてあることが好ましい。
このように構成することにより、半導体素子の下部領域を利用して検査領域を形成することができ、端部位値を異ならせる場合であっても、検査領域が大きくなったり、電気光学装置の外形が大型化したりすることを防止することができる。

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、複数の配線の端部位置を、配線の形成状態を検査するために用いる検査治具の大きさに対応させて、複数の異なる色ごとに異ならせてあることが好ましい。
このように構成することにより、端部位置の異なる配線ごとに分けて、検査治具を容易に接触させることができる。

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、複数の配線の端部位値を、異なる色ごとに１２０〜１８０μｍの範囲内で異ならせてあることが好ましい。
このように構成することにより、一般的な構成の、いわゆるベタ状態で接触させることができるヘッドを有する検査治具を用いる場合に、基板の外形を過度に大型化することなく、端部位置の異なる配線ごとに分けて、検査治具を容易に接触させることができる。

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、電気光学装置が、実装領域に絶縁膜を備えていない構成の液晶装置であることが好ましい。
このように構成することにより、検査治具が複数の配線に対して接触しやすい構成の電気光学装置における、配線の形成状態を効率的かつ精度良く検査することができる。

また、本発明の別の態様は、複数の異なる色の着色領域を有する複数の画素からなる表示領域と、複数の画素に対応して設けられた複数の配線を備えた基板と、を備えた電気光学装置の検査方法であって、複数の異なる色の画素に対応する配線群の端部位値がそれぞれの色ごとに異なるように複数の配線を形成し、端部位値が異なる複数の配線に検査治具を接触させて、異なる色を順次表示させることにより、配線の形成状態を検査することを特徴とする電気光学装置の検査方法である。
すなわち、対応する画素の色ごとに端部位値を異ならせた配線を形成して、配線の形成状態の検査を行うことにより、複数の異なる色表示を容易に行うことができるため、配線の断線が生じている場合における、本来点灯するはずの画素の点灯不良や、配線のショートが生じている場合における、本来点灯するはずのない画素が点灯した状態を容易に識別できる。したがって、配線の形成状態を効率的かつ精度良く検証することができる。また、対応する画素の色ごとに端部位値を異ならせた配線を形成することにより、検査治具の過度な位置合わせ精度を必要としなくすることができる。
よって、配線のショート及び断線の有無等を、比較的簡易な構成の一つの検査治具を用いて効率的かつ精度良く検査することができる。

また、本発明の電気光学装置の検査方法を実施するにあたり、電気光学装置は、複数の端子が複数の配線にそれぞれ接続される半導体素子を実装する実装領域を備え、複数の配線を実装領域の内部まで延設させるとともに、配線を延設させた方向において端部位値を異ならせることが好ましい。
このように実施することにより、電気光学装置の外形を大型化することなく、端部位値を異ならせた配線を用いて配線の形成状態の検査を行うことができる。

また、本発明の電気光学装置の検査方法を実施するにあたり、検査治具は一系統の電流供給系統を備え、当該検査治具を端部位値が異なる配線ごとに順次接触させて検査を行うことが好ましい。
このように実施することにより、比較的簡易な構成の検査治具を用いて、複数の異なる色表示をさせることができるために、配線のショート及び断線の有無等を効率的に検査することができる。

また、本発明の電気光学装置の検査方法を実施するにあたり、検査治具は複数系統の電流供給系統を備え、当該検査治具を端部位値が異なる配線それぞれに接触させるとともに、複数の系統ごとに電流を供給して検査を行うことが好ましい。
このように実施することにより、配線に対して１回のみ検査治具を接触させた状態で、複数の異なる色表示をさせることができるため、配線のショート及び断線の有無等を効率的に検証することができる。

また、本発明の電気光学装置の検査方法を実施するにあたり、検査治具として、複数の配線に対して同時に接触させることができる導電ゴムからなるヘッドを備えた検査治具を用いることが好ましい。
このように実施することにより、検査治具の過度な配置精度を要求されることなく、検査治具と所望の配線とを容易に接触させることができるために、さらに効率的に配線の検査を実施することができる。

また、本発明のさらに別の態様は、複数の異なる色の着色領域を有する複数の画素からなる表示領域と、複数の画素に対応して設けられた複数の配線を備えた基板と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、複数の異なる色の画素に対応する配線群の端部位値がそれぞれの色ごとに異なるように複数の配線を形成する工程と、端部位値が異なる複数の配線に検査治具を接触させて、異なる色を順次表示させることにより、配線の形成状態を検査する工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
すなわち、配線の形成状態の検査を効率的かつ精度良く実施する検査工程を含むために、配線の形成不良に起因した表示不良の発生の少ない電気光学装置を、効率的に製造することができる。

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、電気光学装置は、複数の端子が複数の配線にそれぞれ接続された半導体素子を実装する実装領域を備え、複数の配線を実装領域の内部まで延設させるとともに、配線を延設させた方向において端部位値を異ならせることが好ましい。
このように実施することにより、配線の形成状態を精度良く検査できる一方、端部位値を異ならせて配線を形成した場合であっても、外形の大型化を防止した電気光学装置を効率的に製造することができる。

また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置を備えた電子機器である。
すなわち、配線のショート及び断線の有無等を効率的かつ精度良く検査することができる電気光学装置を備えているために、表示不良の発生の少ない電子機器とすることができる。

以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置、及び電気光学装置の検査方法、電気光学装置の製造方法、並びに電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。

［第１実施形態］
本発明の第１実施形態は、複数の異なる色の着色領域を有する複数の画素からなる表示領域と、複数の画素に対応して設けられた複数の配線を備えた基板と、を備えた電気光学装置である。かかる電気光学装置は、複数の配線における、複数の異なる色の画素に対応する配線群の端部位値をそれぞれの色ごとに異ならせてあることを特徴とする。

以下、図１〜図９を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の電気光学装置について、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えるとともに半導体素子（ドライバＩＣ）が実装された素子基板と、着色層を備えたカラーフィルタ基板とを含む液晶装置を例に採って説明する。
なお、それぞれの図中において、同じ符号を付したものは同一の部材を示しており、適宜説明を省略するとともに、各図中、一部の部材が省略されている場合がある。

１．基本構造
まず、図１〜図３を参照して、本発明に係る第１実施形態の液晶装置１０の基本構造、すなわち、セル構造や配線等について具体的に説明する。ここで、図１は、本実施形態に係る液晶装置１０の概略斜視図であり、図２は、図１中のＥＥ断面を矢印方向に見た概略断面図である。また、図３（ａ）〜（ｂ）は、液晶装置１０を表示面に対して垂直方向から眺めた場合の、カラーフィルタ基板３０及び素子基板６０の概略平面図である。なお、図１及び図２中、下方側の面が画像表示面であって、矢印Ｗの方向から画像を視認することができる。

かかる液晶装置１０は、スイッチング素子として、二端子型非線形素子であるＴＦＤ素子６９を用いたアクティブマトリクス型構造の液晶装置１０であって、図示しないものの、バックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて適宜取付けられて使用される。
また、液晶装置１０は、ガラス基板等を基体６１とする素子基板６０と、同様にガラス基板等を基体３１とするカラーフィルタ基板３０と、が対向配置されるとともに接着剤等のシール材２３を介して貼り合わせられている。また、素子基板６０と、カラーフィルタ基板３０とが形成する空間であって、シール材２３の内側部分に対して、開口部２３ａを介して液晶材料２１を注入した後、封止材２５にて封止されてなるセル構造を備えている。すなわち、素子基板６０と、カラーフィルタ基板３０との間に液晶材料２１が充填されている。

また、カラーフィルタ基板３０における基体３１の内面、すなわち、素子基板６０に対向する表面上には、ストライプ状に配列された複数の走査電極３３が形成されている。一方、素子基板６０における基体６１の内面、すなわち、カラーフィルタ基板３０に対向する表面上に、マトリクス状に配置された複数の画素電極６３が形成されている。そして、画素電極６３は、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子６９を介してデータ線６５に対して電気的に接続されるとともに、もう一方の走査電極３３は、導電性粒子を含むシール材２３を介して素子基板６０上の引回し配線６６に対して電気的に接続されている。このように構成された画素電極６３と走査電極３３との交差領域がマトリクス状に配列された複数の画素（以下、画素領域と称する場合がある。）を構成し、これら複数の画素の配列が、全体として表示領域Ａを構成することになる。

また、素子基板６０は、カラーフィルタ基板３０の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部６０Ｔを有し、この基板張出部６０Ｔ上には、データ線６５の一部、引回し配線６６の一部及び、独立して形成された複数の配線からなる外部接続用端子６７が形成されている。そして、データ線６５、引回し配線６６、及び外部接続用端子６７に電気的に接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵したドライバＩＣ９１が実装されている。
このように構成された液晶装置１０において、ドライバＩＣ９１からの駆動用信号を、データ線６５及びＴＦＤ素子６９を介して画素電極３３に出力するとともに、走査信号を、引回し配線６６を介して走査電極３３に出力する。そうすると、電圧が印加された画素の液晶材料２１に電界が発生するため、当該画素における液晶材料２１中を、光を通過させ、又は通過させないようにでき、表示領域全体として文字、図形等の画像を表示させることができる。

２．カラーフィルタ基板
カラーフィルタ基板３０は、図２に示すように、基本的に、ガラス基板等からなる基体３１上に、遮光膜３９と着色層３７と透明樹脂層４０と走査電極３３とが形成されて構成されている。また、走査電極３３上には、液晶材料の配向性を制御するための配向膜４５を備えるとともに、走査電極３３等が形成されている面とは反対側の面に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）４７及び偏光板４９が配置されている。
なお、カラーフィルタ基板が、半透過反射型又は反射型の液晶装置に使用される基板である場合には、例えば、カラーフィルタ基板３０上の遮光膜３９の下層に、所定形状にパターニングされたアルミニウム膜等からなる光反射膜３５を形成することができる。

ここで、遮光膜３９は、隣接する画素領域間において光の混色を防止して、コントラストに優れた画像表示を得るための膜である。このような遮光膜３９としては、例えば、クロム（Ｃｒ）やモリブテン（Ｍｏ）等の金属膜を遮光膜３９として使用したり、あるいは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いたりすることができる。さらに、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を重ね合わせることにより、遮光膜を形成することもできる。

また、着色層３７は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色剤を分散させることにより濃度調整をして、所定の色調を呈するものとされている。着色層３７の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。さらに、着色層は上述した異なる３色からなることに限られるものではなく、Ｒ、Ｒ、Ｇ、Ｂ等、４色以上からなる着色層であっても構わない。
本発明のカラーフィルタ基板に形成された着色層３７は、図４に示すように、例えば、ＲＧＢ等の色ごとにストライプ状に配列されている。

また、着色層３７上には、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの感光性樹脂材料からなる透明樹脂層４０が形成されているとともに、透明樹脂層４０の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる走査電極３３が形成されている。かかる走査電極は、図３（ａ）に示すように、一方向（Ｘ方向）に配列された画素からなる画素列ごとに、複数の透明電極３３が並列したストライプ状に構成されている。
また、走査電極３３の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜４５が全面的に形成されている。かかる配向膜は、ラビング処理をするなどして、液晶材料の配向性を制御するための部材である。

３．素子基板
（１）基本構成
素子基板６０は、図２に示すように、基本的に、ガラス基板等からなる基体６１と画素電極６３とデータ線６５と引回し配線（図示せず）とスイッチング素子としてのＴＦＤ素子６９とから構成されている。また、画素電極６３上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜７５が形成されている。さらに、基体６１の外面には、位相差板（１／４波長板）７７及び偏光板７９が配置されている。そして、素子基板６０における基板張出部６０Ｔ上には、データ線６５や引回し配線（図示せず）に対して電気的に接続されるようにドライバＩＣ９１が実装されている。

かかる素子基板６０は、図３（ｂ）に示すように、データ線６５は、ストライプ状に配列された複数の配線であり、それぞれのデータ線６５の間には、複数の画素電極６３がマトリクス状に配置されている。また、それぞれの画素電極６３は、後述するＴＦＤ素子６９を介して、データ線６５と電気的に接続されている。そして、データ線６５は、一端側が基板張出部６０Ｔ上に実装されたドライバＩＣ９１に対して電気的に接続されており、当該ドライバＩＣ９１からの駆動用信号を画素電極３３に対して出力できるように構成されている。
かかるデータ線６５は、製造工程の簡略化の観点から、後述するＴＦＤ型素子の形成と同時に形成されるため、例えば、タンタル層、酸化タンタル層、及びクロム層を順次形成して構成することができる。また、画素電極６３は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）やＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）等の透明導電材料を用いて形成されている。

また、データ線６５と画素電極６３とを電気的に接続するＴＦＤ素子６９は、一般的に、タンタル（Ｔａ）合金からなる素子第１電極、酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）からなる絶縁膜、及びクロム（Ｃｒ）からなる素子第２電極が順次積層されたサンドイッチ構造を有している。そして、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、素子第１電極及び素子第２電極の両端子間に印加されると導通状態となるアクティブ素子である。
また、二個のＴＦＤ素子は、データ線６５と、画素電極６３との間に介在するように形成され、反対のダイオード特性を有する第１のＴＦＤ素子及び第２のＴＦＤ素子から構成してあることが好ましい。この理由は、このように構成することにより、印加する電圧波形として、正負対称なパルス波形を使用することができ、液晶装置等における液晶材料の劣化を防止することができるためである。すなわち、液晶材料の劣化を防止するために、ダイオードスイッチング特性が、正負方向において対称的であることが望まれ、二個のＴＦＤ素子を逆向きに直列接続することにより、正負対称なパルス波形を使用することができるためである。

また、引回し配線６６は、ドライバ実装領域２６が存在する辺に対して垂直方向に延びる二辺に沿って形成されている。かかる引回し配線６６は、一端側において、対向するカラーフィルタ基板のそれぞれの走査電極と、シール材に含まれる導電性粒子を介して電気的に接続されている。また、他端側は、ドライバＩＣ９１に対して電気的に接続されており、ドライバＩＣ９１からの走査信号を走査電極に対して出力できるように構成されている。
かかる引回し配線６６は、タンタル層、酸化タンタル層、及びクロム層等の金属材料や、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）等の透明導電材料を用いて形成することができる。

（２）配線
次に、図５を参照して、素子基板６０の基板張出部６０Ｔにおける配線（データ線）６５の形状について詳細に説明する。図５は、基板張出部６０Ｔの拡大平面図である。
かかる基板張出部６０Ｔには、データ線６５や外部接続用端子６７が備えられている。
ここで、それぞれのデータ線６５は、対向するカラーフィルタ基板側に備えられたストライプ状の着色層によって規定される、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素等のいずれかに対応しているとともに、ドライバＩＣ９１との接続部１１を越えて実装領域２６の内部まで延設されている。そして、複数のデータ線６５は、対応する画素の色ごとに端部位値６５ｒ、６５ｇ、６５ｂを異ならせてあることを特徴とする。例えば、図５に示すデータ線６５は、Ｒ画素に対応したデータ線６５Ｒが最も長く延設され、次いで、Ｂ画素に対応したデータ線６５Ｂが長く延設されており、Ｇ画素に対応したデータ線６５Ｇが最も短く延設されている。

すなわち、対応する画素の色ごとに端部位値を異ならせることにより、検査治具の接触位置によって、表示させる色を変えることができる。例えば、図５に示す構成例では、すべての引回し配線に電流を供給しつつ、Ｒ画素に対応したデータ線６５Ｒの端部位置６５ｒに合わせて検査治具を接触させることにより、Ｒ画素のみが点灯するために、表示面は赤表示となる。また、すべての引回し配線に電流を供給しつつ、Ｂ画素に対応したデータ線６５Ｂの端部位置６５ｂに合わせて検査治具を接触させることにより、Ｒ画素及びＢ画素が点灯するために、表示面は紫色表示となる。また、すべての引回し配線に電流を供給しつつ、Ｇ画素に対応したデータ線６５Ｇの端部位置６５ｇに合わせて検査治具を接触させることにより、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素すべてが点灯するために、表示面は白表示となる。
したがって、従来のように、すべての画素を点灯させて白表示にした状態のみで検証する場合と比較して、データ線における断線やショートの有無等を判断しやすくすることができるとともに、より詳細な検査結果を得ることができる。

例えば、データ線に断線が生じている場合には、図６（ａ）に示すように、当該データ線６５Ｘと電気的に接続された画素電極６３によって構成される画素の一部が点灯せず、線欠陥となって現れる。このような線欠陥や点欠陥を、複数の異なる色表示をさせて検査することにより、色ムラやシミ等の判別が容易になるとともに、特に、断線を生じているデータ線を具体的に特定して、判定することができる。すなわち、図５に示す構成例において、端部位値が半導体素子との接続部１１よりも最も離れたデータ線６５Ｒの端部位置６５ｒから順に、三段階で検査治具を接触させた場合に、一段階目で線欠陥や色ムラ等が現れた場合には、データ線６５Ｒに断線が生じていると判定することができる。また、一段階目では色ムラ等が生じていなかったにもかかわらず二段階目で色ムラ等が現れた場合には、データ線６５Ｂに断線が生じていると判定することができる。さらに、その後の三段階目で初めて色ムラ等が現れた場合には、データ線６５Ｇに断線が生じていると判定することができる。したがって、断線が生じているデータ線を具体的に特定できるため、検査精度を向上させることができる。

また、データ線がショートしている場合には、図６（ｂ）に示すように、一部のデータ線６５Ｙに対して電流を供給した場合に、本来電流を供給しておらず、点灯するはずのない画素が点灯してしまう状態となって現れる。すなわち、隣接するデータ線の一方にのみ電流を供給することによりデータ線のショートを検出することができるのであるが、データ線の端部位値が、対応する色ごとに異なっていることにより、一部のデータ線に対してのみ電流を供給することが容易になる。したがって、隣接する、色の異なるデータ線間でのショートの有無を効率的かつ精度良く検査することができる。

さらに、一色の色に対応したデータ線のみ、あるいは、二色の色に対応したデータ線のみに対して、検査治具を容易に接触させることができることから、ショートの有無の検査を行う際にも、隣接するデータ線に対して、それぞれ電流供給系統が異なる検査治具ではなく、いわゆるベタ状態で接触させることができる簡易な構成の検査治具を使用することができる。そして、このような検査治具は、データ線や引回し配線の断線の有無を測定する際に用いることができる検査治具であるため、結局のところ、比較的簡易な構成の検査治具を一つのみ用いて、データ線や引回し配線の断線の有無及びショートの有無を同時工程で効率的に検査することができる。

より具体的には、従来の、端部位値がすべて等しいようなデータ線のショートの有無を検査する場合、図７に示すように、隣接するデータ線３６５ａ、３６５ｂに対してそれぞれ電流供給系統の異なる検査ピン３２０ａ、３２０ｂを接触させて、そのうちの一方３２０ａから電流を供給した場合に、他方の検査ピン３２０ｂに電流が伝わってくるかを見ることにより判定していた。したがって、検査ピンがそれぞれのデータ線に正確に接触していない場合には、検査結果の信頼性が低下してしまうため、検査ピンをデータ線に正確に接触させるべく、検査段階での作業効率が低下する原因となっていた。
さらに、検査効率の向上の観点から、配線の断線の有無を検証する際に、いわゆるベタ状態で複数の配線に接触させることができる検査治具を用いた場合であっても、配線のショートの有無を検証する際には、隣接する配線の電流供給系統を異ならせた検査治具を用いなければならなかった。したがって、断線の有無の検査とショートの有無の検査とで、異なる検査治具を使用する必要があり、工程数の増加や、使用する検査装置の増加につながっていた。

これに対し、本実施形態の液晶装置であれば、図８（ａ）に示すように、複数のデータ線６５に対してベタ状態で接触させることができる検査治具１５Ａを、端部位置の異なるデータ線ごとに順次接触させたり、図８（ｂ）に示すように、それぞれの端部位置に適合した複数のヘッド１５ｂ１〜１５ｂ３を備えた検査治具１５Ｂを、すべてのデータ線に対して接触させたりすることにより、比較的簡易な構成の検査治具を一つのみ用いて、ショートと断線の有無を同時工程で検証することができる。

また、図５に示すように、液晶装置が、複数の端子が複数の配線にそれぞれ接続された半導体素子を備える場合には、複数の配線は、半導体素子の実装領域の内部まで延設されるとともに、配線が延設された方向における端部位値を異ならせてあることが好ましい。
この理由は、半導体素子の下部領域を利用して検査領域を形成することができるために、対応する画素の色ごとに端部位値を異ならせる場合であっても、検査領域が大きくなったり、液晶装置の外形が大型化したりすることを防止することができるためである。

また、本実施形態の液晶装置において、データ線の端部位値を、対応する画素の色ごとに異ならせるにあたり、使用する検査治具の大きさに対応させて、端部位値を異ならせることが好ましい。この理由は、検査治具を接触させる際に、所望のデータ線のみに対して、より正確にかつ効率的に接触させることができるためである。
より具体的には、一般的に使用されている、導電ゴムのヘッドを用いた検査治具は、そのヘッド部分の短辺の延設方向に沿った長さが１５０μｍ程度であるため、データ線の延在方向に沿った方向の端部位置の間隔を、異なる色ごとに１２０〜１８０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。

また、カラーフィルタがＲＧＢの三色の色からなる場合に、データ線の端部位値を対応する画素の色ごとに異ならせるにあたり、Ｒ画素に対応したデータ線の端部位値を、ドライバＩＣとの接続部から最も遠くし、次いで、Ｂ画素に対応したデータ線の端部位値を遠くし、Ｇ画素に対応したデータ線の端部位値を最も近くすることが好ましい。
この理由は、一般的に、ＲＢＧの順に色度が高くなり、色の識別がしやすいために、色度が低い色ほど、単色に近い表示をさせて、色ムラやシミ等の有無の判断を容易にするためである。
なお、色度の高低の順序については、上述した順序はあくまでも一認識であり、これと異なる考えを否定するものではない。

また、本発明の電気光学装置は、本実施形態の液晶装置のようなＴＦＤ素子を備えた液晶装置や、スイッチング素子を備えていないパッシブマトリクス型の液晶装置であることが好ましい。すなわち、ドライバＩＣの実装領域に絶縁膜を備えていない構成の液晶装置であることが好ましい。
この理由は、これらの液晶装置は、基板張出部に形成された配線における、ドライバＩＣ等の実装部品と接続される端子部分以外の領域にも絶縁膜が設けられておらず、配線が基板表面に露出しているためである。したがって、通常の検査治具を用いて、所定の配線のみを選択して電流を供給することが困難であるためである。

これに対し、ＴＦＴ素子を備えた液晶装置である場合には、ＴＦＴ素子を形成するプロセスの都合上、基板張出部にも絶縁膜を形成することができるため、例えば、図９に示すように、配線６５の端部位置６５ａを変えることなく、絶縁膜１８に設ける開口１９の位置、すなわち、検査治具１５との接触位置を異ならせることによって、同様の効果を得ることができる。
ただし、言うまでもなく、本発明は、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置やパッシブマトリクス型の液晶装置に限定するものではなく、ＴＦＴ素子を備えた液晶装置であっても、半導体実装領域に絶縁膜を設けない場合等に適用することができる。

［第２実施形態］
本発明の第２実施形態は、複数の異なる色の着色領域を有する複数の画素からなる表示領域と、複数の画素に対応して設けられた複数の配線を備えた基板と、を備えた電気光学装置の製造方法である。
かかる電気光学装置の製造方法は、複数の配線を、複数の異なる色の画素に対応する配線群の端部位値をそれぞれの色ごとに異ならせて形成する工程と、端部位値が異なる複数の配線に検査治具を接触させて、異なる色を順次表示させることにより、配線の形成状態を検査する工程と、を含むことを特徴とする。
以下、本実施形態の電気光学装置の製造方法として、第１実施形態で説明したＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶装置の製造方法を例に採って説明する。

１．カラーフィルタ基板の製造工程
まず、カラーフィルタ基板の基体としてのガラス基板上に、それぞれの画素間領域に対応させて、遮光膜を形成する。かかる遮光膜は、例えば、金属膜を用いて遮光膜を形成する場合には、クロム（Ｃｒ）等の金属材料を蒸着法等によりガラス基板上に積層した後、所定のパターンに合わせてエッチング処理することにより形成することができる。
なお、かかる遮光膜は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）等の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いて形成することもできる。その場合には、以下の着色層の形成工程において、同時に形成することができる。

次いで、口述する素子基板に形成されるデータ線にそれぞれ対応した画素列ごとに、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの少なくとも一色の着色層をストライプ状に形成する。この画素列は、例えば、対向する素子基板と貼り合わせた際に、データ線の延設方向に沿った方向の画素列とすることができる。
具体的には、まず、感光性樹脂材料中に顔料を混合させた着色材を、例えば、スピンコーター等の塗布装置を用いて基板上に均一に塗布して、着色材を含有する樹脂層を形成する。このとき、例えば、スピンコーターを用いた場合、６００〜２，０００ｒｐｍの回転数で、５〜２０秒の塗布時間として、厚さ１〜１０μｍの樹脂層を形成することができる。次いで、所定形状のパターンを有するフォトマスクを介して露光した後、現像剤を用いて現像することにより、所定の画素に対応させてパターニングされた着色層を形成する。
かかる露光及び現像処理を、色ごとに繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれの色を呈する着色層を形成することができる。
着色材を含有する樹脂層を構成する感光性樹脂材料の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、着色層の色の数は上述した３色に限られるものではなく、Ｒ、Ｒ、Ｇ、Ｂ等、４色以上の着色層であっても構わない。

次いで、基板上に透明性の感光性樹脂材料を塗布した後、露光、現像することにより、透明樹脂層を形成する。かかる透明樹脂層の形成に用いる樹脂材料についても、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の公知のものを使用することができる。
次いで、透明樹脂層上に、全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電材料からなる透明導電層を、例えば、スパッタリング法により形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを施し、所定のパターン形状の電極３３を形成する。例えば、製造するカラーフィルタ基板が、本実施形態の液晶装置のようなＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置や、パッシブマトリクス型の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板である場合には、複数の透明電極が並列したストライプ状にパターニングされる。また、製造するカラーフィルタ基板が、本実施形態の液晶装置のようなＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板である場合には、表示領域一面に形成される面状電極となる。
次いで、透明電極３３が形成された基板上において、それぞれのセル領域ごとに、ポリイミド樹脂等からなる配向膜を形成することにより、カラーフィルタ基板を製造することができる。

（２）素子基板の製造工程
まず、ガラス基板からなる基体上に、素子第１電極を形成する。この素子第１電極は、例えば、タンタル合金から構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。このとき、素子第１電極の形成前に、ガラス基板に対する素子第１電極の密着力を著しく向上させることができるとともに、ガラス基板から素子第１電極への不純物の拡散を効率的に抑制することができることから、基体上に酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。

次いで、素子第１電極の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜を形成する。より具体的には、素子第１電極が形成された基板を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、素子第１電極との間に所定電圧を印加して、素子第１電極の表面を酸化させることができる。

次いで、再び、スパッタリング法等により、素子第１電極を含む基板上に、全面的にクロム等の金属膜を形成し、それをフォトリソグラフィ法によって、パターニングすることにより、素子第２電極を形成し、ＴＦＤ素子とすることができる。

また、このＴＦＤ素子を形成する工程において、同時に、所定のパターン形状にパターニングすることにより、単層あるいは複数層構造からなるデータ線や引回し配線、検査用パターンを形成することができる。このとき、図５に示すように、ドライバＩＣの実装領域２６に相当する領域において、半導体素子９１との接続箇所となる接続部１１を越えて、実装領域２６の内部まで延設するとともに、対応する画素の色ごとに端部位置６５ｒ、６５ｂ、６５ｇを異ならせてデータ線６５を形成する。すなわち、上述したように、カラーフィルタ基板において、着色層を、ＲＧＢを交互にストライプ状に形成した場合には、データ線６５の端部位値は、３本おきに同じ端部位置となるように形成される。

次いで、スパッタリング法等により、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物等）等の透明導電体材料からなる透明導電層を形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより、ＴＦＤ素子に対して電気的に接続された画素電極を形成する。

次いで、画素電極等が形成された素子基板上に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜を形成することにより、素子基板を製造することができる。

（３）液晶パネル形成工程
次いで、カラーフィルタ基板又は素子基板のいずれか一方において、表示領域を囲むようにしてシール材を積層した後、他方の基板を重ね合わせて、加熱圧着することにより、カラーフィルタ基板及び素子基板を貼り合わせて、セル構造を形成する。その後、シール材に設けた開口部から、基板間に対して液晶材料を注入した後、封止材により封止することにより液晶パネルを形成する。
なお、液晶材料の配置については、上述した、シール材の注入口を介して基板間に注入する方法以外に、あらかじめ枠状のシール材の内側領域に液晶材料を滴下した上で、対向基板と貼り合わせる方法であっても構わない。

（４）検査工程
次いで、ドライバＩＣが実装される前の液晶パネルにおける、複数のデータ線の少なくとも一部に対して検査治具を同時に接触させて、異なる色を順次表示させることにより、配線の形成状態を検査する。
例えば、図１０（ａ）〜（ｃ）に示すように、電流供給系統が一系統の検査治具１５Ａを、それぞれの端部位置６５ａ、６５ｂ、６５ｇごとに、相当するデータ線６５に接触させて検査を行うことができる。すなわち、まず、図１０（ａ）に示すように、端部位値が半導体素子との接続部１１から最も遠い位置のデータ線６５Ｒのみに対して検査治具を接触させる。このとき、対向基板側の走査電極に電気的に接続された引回し配線については、すべての引回し配線に対して電流を供給した状態にしておく。これによって、Ｒ画素のみが点灯するため、表示面には、赤表示がされる。ただし、データ線６５Ｒに断線が生じている場合には、一部の画素列が表示されない線欠陥や点欠陥となって現われるために、それらの断線の有無を容易に判断することができる。一方、データ線にショートが生じている場合には、一部の画素において、本来点灯しないはずのＢ画素やＧ画素が点灯するため、それらのショートの有無を容易に判断することができる。

次いで、図１０（ｂ）に示すように、端部位値が半導体素子との接続部１１から二番目に遠い位置のデータ線６５Ｂの端部位置６５ｂに対して検査治具１５Ａを接触させる。このとき、同様に、対向基板側の走査電極に導通された引回し配線については、すべての引回し配線に対して電流を供給した状態にしておく。これによって、Ｒ画素及びＢ画素が点灯するため、表示面には、紫表示がされる。ただし、データ線６５Ｂに断線が生じている場合には、一部の画素列が赤表示、あるいは全く表示されない状態の線欠陥や点欠陥となって現われるために、それらの断線の有無を容易に判断することができる。一方、データ線６５Ｂにショートが生じている場合には、一部の画素において、本来点灯しないはずのＧ画素が点灯するため、それらのショートの有無を容易に判断することができる。

次いで、図１０（ｃ）に示すように、端部位値が半導体素子との接続部１１から最も近い位置のデータ線６５Ｇの端部位置６５ｇに対して、すなわち、全てのデータ線６５Ｒ、６５Ｂ、６５Ｇと接触するように検査治具１５Ａを接触させる。このとき、同様に、対向基板側の走査電極に導通された引回し配線については、すべての引回し配線に対して電流を供給した状態にしておく。これによって、ＲＧＢすべての画素が点灯するため、表示面には、白表示がされる。ただし、データ線６５Ｇに断線が生じている場合には、一部の画素列が青表示、赤表示、又は紫表示、あるいは全く表示されない線欠陥や点欠陥となって現われるために、それらの断線の有無を容易に判断することができる。
なお、この段階では、すべての画素を点灯させるため、ショートの判定は困難であるものの、すでに行った二段階での検査においてすべてのショートを検知できることから、この段階でのショートの検証は省略することができる。

このように、対応する画素列の色ごとに端部位置を異ならせてデータ線を形成し、それらの端部位置ごとに対応させて検査治具を順次接触させることにより、白表示だけでなく、複数の色を表示させて、表示欠陥を確認することができる。したがって、断線やショートを生じているデータ線を具体的に特定でき、データ線における断線やショート等の形成不良を精度良く検証することができる。また、端部位値をこのように構成したデータ線を形成し検査を行うことにより、比較的簡易な構成の、いわゆるベタ状態で複数の配線に接触させることができる検査治具を用いることができるとともに、ショートの検査と断線の検査を同時工程で行うことができるために、検査効率を著しく向上させることができる。

また、別の検査方法として、図１１（ａ）〜（ｃ）に示すように、電流供給系統が三系統の検査治具１５Ｂを用いて、それぞれの系統に対応するヘッド１５ｂ１、１５ｂ２、１５ｂ３が、異なる端部位置に配置されるように、全てのデータ線６５Ｒ、６５Ｂ、６５Ｇに対して、検査治具１５Ｂを接触させて検査を行うこともできる。
すなわち、データ線６５Ｒ、６５Ｂ、６５Ｇの端部がそれぞれ位値する箇所に対応させて、電流供給系統を異ならせた複数のヘッド１５ｂ１、１５ｂ２、１５ｂ３を有する検査治具１５Ｂをデータ線６５に対して接触させ、それぞれの供給系統に対して順次に電流Ａを供給することにより、接触させるプロセスを一回のみにした上で、それぞれ、Ｒ画素のみの点灯、Ｒ画素及びＢ画素の点灯、ＲＧＢ全ての画素の点灯を行うことができる。したがって、上述した検査方法と同様に、配線の形成不良の検証を効率的にかつ精度良く行うことができる。

（５）組立工程等
次いで、配線の形成不良が検知されなかった液晶パネルのドライバ実装領域に形成された端子部分に対して、ドライバＩＣを、半田材料やＡＣＦ（異方性導電材料）等を用いて実装する。
その後、カラーフィルタ基板及び素子基板それぞれの外面に、位相差板（１／４λ板）及び偏光板を配置するとともに、バックライト等とともに筐体に組み込むことにより、液晶装置を製造することができる。

［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態として、第１実施形態の液晶装置を備えた電子機器について具体的に説明する。

図１２は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶装置に備えられた液晶パネル２０と、これを制御するための制御手段２００とを有している。また、図１２中では、液晶パネル２０を、パネル構造体２０ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２０ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段２００は、表示情報出力源２０１と、表示処理回路２０２と、電源回路２０３と、タイミングジェネレータ２０４とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源２０１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２０４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路２０２に供給するように構成されていることが好ましい。

また、表示処理回路２０２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２０ｂへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路２０ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路２０３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、配線の形成不良の検査を効率的かつ精度良く行うことができる液晶装置を備えるために、表示不良の少ない電子機器とすることができる。

本発明によれば、配線の形成不良の検査を効率的かつ精度良く実施でき、表示不良の少ない電気光学装置や電子機器を提供することができる。したがって、液晶装置等の電気光学装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を備えた装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）などに幅広く適用することができる。

第１実施形態の液晶装置の概略斜視図である。 第１実施形態の液晶装置の概略断面図である。 第１実施形態の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板及び素子基板の概略平面図である。 カラーフィルタ基板における着色層の配列を説明するために供する図である。 素子基板におけるドライバＩＣの実装領域の拡大平面図である。 配線の断線又はショートが生じた場合における表示状態を示す図である。 供給系統の異なる二つのプローブを用いたショートの検査方法を説明するために供する図である。 本実施形態にかかるデータ線の形態を用いて検査を行う方法について説明するために供する図である。 絶縁膜における開口部の位置を異ならせた状態を示す図である。 電流供給系統が一つの検査治具を用いて配線の形成状態の検査を行う方法を説明するために供する図である。 電流供給系統が異なる三つのヘッドを有する検査治具を用いて配線の形成状態の検査を行う方法を説明するために供する図である。 第３実施形態の電子機器の概略構成を示すブロック図である。 従来の液晶装置の構成を示す図である。 従来の表示装置の検査方法を説明するために供する図である。

符号の説明

１０：液晶装置、１１：接続部、１５・１５Ａ・１５Ｂ：検査治具、１５ｂ１・１５ｂ２・１５ｂ３：ヘッド、１８：絶縁膜、１９：開口、２１：液晶材料、２３：シール材、２６：ドライバ実装領域、３０：カラーフィルタ基板、３１：ガラス基板、３３：走査電極、３７：着色層、４１：樹脂層、４５：配向膜、６０：素子基板、６０Ｔ：基板張出部、６１：ガラス基板、６３：画素電極、６５：データ線、６５Ｒ：データ線（Ｒ）、６５Ｂ：データ線（Ｂ）、６５Ｇ：データ線（Ｇ）、６５ｒ・６５ｂ・６５ｇ：データ線の端部、６６：引回し配線、６９：ＴＦＤ素子、７５：配向膜、９１：ドライバＩＣ、９３：フレキシブル回路基板

Claims (13)

1. 複数の異なる色の着色領域を有する複数の画素からなる表示領域と、前記複数の画素に対応して設けられた複数の配線を備えた基板と、を備えた電気光学装置において、
   前記複数の配線における、前記複数の異なる色の画素に対応する配線群の端部位値をそれぞれの色ごとに異ならせてあることを特徴とする電気光学装置。
2. 前記電気光学装置は、複数の端子が前記複数の配線にそれぞれ接続された半導体素子を備え、前記複数の配線は、前記半導体素子の実装領域の内部まで延設されるとともに、前記配線が延設された方向における端部位値を異ならせてあることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記複数の配線の端部位置を、前記配線の形成状態を検査するために用いる検査治具の大きさに対応させて、前記複数の異なる色ごとに異ならせてあることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
4. 前記複数の配線の端部位値を、前記異なる色ごとに１２０〜１８０μｍの範囲内で異ならせてあることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記電気光学装置が、前記実装領域に絶縁膜を備えていない構成の液晶装置であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 複数の異なる色の着色領域を有する複数の画素からなる表示領域と、前記複数の画素に対応して設けられた複数の配線を備えた基板と、を備えた電気光学装置の検査方法において、
   前記複数の異なる色の画素に対応する配線群の端部位値がそれぞれの色ごとに異なるように前記複数の配線を形成し、
   前記端部位値が異なる前記複数の配線に検査治具を接触させて、異なる色を順次表示させることにより、前記配線の形成状態を検査することを特徴とする電気光学装置の検査方法。
7. 前記電気光学装置は、複数の端子が前記複数の配線にそれぞれ接続された半導体素子を実装する実装領域を備え、前記複数の配線を前記実装領域の内部まで延設させるとともに、前記配線を延設させた方向において端部位値を異ならせることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置の製造方法。
8. 前記検査治具は一系統の電流供給系統を備え、当該検査治具を前記端部位値が異なる配線ごとに順次接触させて前記検査を行うことを特徴とする請求項６又は７に記載の電気光学装置の検査方法。
9. 前記検査治具は複数系統の電流供給系統を備え、当該検査治具を前記端部位値が異なる配線それぞれに接触させるとともに、前記複数の系統ごとに電流を供給して前記検査を行うことを特徴とする請求項６又は７に記載の電気光学装置の検査方法。
10. 前記検査治具として、前記複数の配線に対して同時に接触させることができる導電ゴムからなるヘッドを備えた検査治具を用いることを特徴とする請求項６〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置の検査方法。
11. 複数の異なる色の着色領域を有する複数の画素からなる表示領域と、前記複数の画素に対応して設けられた複数の配線を備えた基板と、を備えた電気光学装置の製造方法において、
    前記複数の異なる色の画素に対応する配線群の端部位値がそれぞれの色ごとに異なるように、前記複数の配線を形成する工程と、
    前記端部位値が異なる前記複数の配線に検査治具を接触させて、異なる色を順次表示させることにより、前記配線の形成状態を検査する工程と、
    を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
12. 前記電気光学装置は、複数の端子が前記複数の配線にそれぞれ接続された半導体素子を実装する実装領域を備え、前記複数の配線を前記実装領域の内部まで延設させるとともに、前記配線を延設させた方向において端部位値を異ならせることを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法。
13. 請求項１〜５のいずれか一項に記載された電気光学装置を備えた電子機器。

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